JPH02148871A - エキシマレーザ発生装置 - Google Patents
エキシマレーザ発生装置Info
- Publication number
- JPH02148871A JPH02148871A JP63300888A JP30088888A JPH02148871A JP H02148871 A JPH02148871 A JP H02148871A JP 63300888 A JP63300888 A JP 63300888A JP 30088888 A JP30088888 A JP 30088888A JP H02148871 A JPH02148871 A JP H02148871A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wavelength
- laser
- laser light
- intensity
- oxygen gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/139—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
- H01S3/1392—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length by using a passive reference, e.g. absorption cell
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/136—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/137—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［ａ業上の利用分野］
本発明は、レーザ光、の波長制御手段を備えた［従来の
技術］ エキシマレーザ発生装置と、その装置において射出され
るレーザ光の波長制御装置の従来例を第３図に示す、当
図においてエキシマレーザを発生さ卦るレーザ媒質３１
２は、一対のミラー（全反射鏡３１１ａと部分透過鏡３
１１ｂ）からなる共振器によってはさまれており、波長
選択素子３１３もこの共振器内に設置されている。波長
選択素子３１３は、このレーザ媒１１ｔ、３１２から発
娠可能なレーザの波長帯域中から所定の波長のレーザ光
のみを選択して取り出すために設けられており、その選
択する波長を変化させることができる。
技術］ エキシマレーザ発生装置と、その装置において射出され
るレーザ光の波長制御装置の従来例を第３図に示す、当
図においてエキシマレーザを発生さ卦るレーザ媒質３１
２は、一対のミラー（全反射鏡３１１ａと部分透過鏡３
１１ｂ）からなる共振器によってはさまれており、波長
選択素子３１３もこの共振器内に設置されている。波長
選択素子３１３は、このレーザ媒１１ｔ、３１２から発
娠可能なレーザの波長帯域中から所定の波長のレーザ光
のみを選択して取り出すために設けられており、その選
択する波長を変化させることができる。
ところで、波長選択素子３１３は、例えばレーザ光によ
る熱やレーザ装置自身の振動等の叱すから、選択して取
り出す波長が変化してしまう場合がある。このため、こ
のレーザ装置では射出するレーザ光３１４の波長を所定
の波長に固定させるために、波長選択素子３１３が波長
コントローラ３１７で制御されており、そのコントロー
ラ３１７による制御量は波長モニター３１６からの信号
に依存する。
る熱やレーザ装置自身の振動等の叱すから、選択して取
り出す波長が変化してしまう場合がある。このため、こ
のレーザ装置では射出するレーザ光３１４の波長を所定
の波長に固定させるために、波長選択素子３１３が波長
コントローラ３１７で制御されており、そのコントロー
ラ３１７による制御量は波長モニター３１６からの信号
に依存する。
ここで、波長モニター３１６には、前記射出レーザ光３
１４の光軸上に設けられたビームスプリッタ−３１５に
より反射されたレーザ光の一部と、基準光源３１８から
の所定の波長を有する基準光とが入射するようになって
いる。
１４の光軸上に設けられたビームスプリッタ−３１５に
より反射されたレーザ光の一部と、基準光源３１８から
の所定の波長を有する基準光とが入射するようになって
いる。
この装置では、波長モニター３１６として分光器、ある
いは第２図に示す様なエタロン（波長選択素子の一つ）
を用いた分光カメラが使われており、前記の各々の入射
光は、凹レンズ６で拡げられてエタロン７に入る。この
エタロン７によって選択的に透過が許された波長の光の
みが、凸レンズ８によってその焦点面上に同心円状の多
ｆｆ１（干渉）リングを形成する。この焦点面にはＣＣ
Ｄ、又はＰＣＤ等のリニアイメージセンサ９が配置され
、前記多重リングの位置に対応して光電信号のピークを
有する一次元情報が得られるようになっている。このピ
ーク位置の変位がレーザ光の波長の変化に対応するので
、この位置変化を波長コントローラ３１７で読み取り、
その結果から波長選択素子３１３にフィードバックをか
けてレーザ発振可能な波長を選択修正し、このレーザ装
置から射出されるレーザ光３１４の波長を所定の絶対値
−固定させることができるようになっている。
いは第２図に示す様なエタロン（波長選択素子の一つ）
を用いた分光カメラが使われており、前記の各々の入射
光は、凹レンズ６で拡げられてエタロン７に入る。この
エタロン７によって選択的に透過が許された波長の光の
みが、凸レンズ８によってその焦点面上に同心円状の多
ｆｆ１（干渉）リングを形成する。この焦点面にはＣＣ
Ｄ、又はＰＣＤ等のリニアイメージセンサ９が配置され
、前記多重リングの位置に対応して光電信号のピークを
有する一次元情報が得られるようになっている。このピ
ーク位置の変位がレーザ光の波長の変化に対応するので
、この位置変化を波長コントローラ３１７で読み取り、
その結果から波長選択素子３１３にフィードバックをか
けてレーザ発振可能な波長を選択修正し、このレーザ装
置から射出されるレーザ光３１４の波長を所定の絶対値
−固定させることができるようになっている。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら上記のような従来の技術では、波長モニタ
ー３１６に用いるエタロン７が、例えばそのエタロン７
に入射するレーザ光による加熱や周囲温度や気圧の変化
、さらに装置全体のｍ城的振動等により選択する波長の
シフトを起こし、その結果、波長モニター３１６から長
時間にわたって安定した信顆性の高いデータを採るのが
困難であるという問題があり、このためこのレーザ装置
から射出されるレーザ光の波長の安定性が悪いという問
題があった。
ー３１６に用いるエタロン７が、例えばそのエタロン７
に入射するレーザ光による加熱や周囲温度や気圧の変化
、さらに装置全体のｍ城的振動等により選択する波長の
シフトを起こし、その結果、波長モニター３１６から長
時間にわたって安定した信顆性の高いデータを採るのが
困難であるという問題があり、このためこのレーザ装置
から射出されるレーザ光の波長の安定性が悪いという問
題があった。
さらに、レーザ光の波長を一定の絶対値に安定させる制
御を行うために、レーザ発生装置以外に基準光源が必要
であるという問題点もあった。
御を行うために、レーザ発生装置以外に基準光源が必要
であるという問題点もあった。
本発明は、以上の様な従来の問題点に鑑みてなされたも
ので、長時間使用しても安定で信顆性の高い高分解能の
波長モニターを与えることにより、射出するレーザ光の
波長の安定性が高いエキシマレーザ装置を得ることを目
的とする。
ので、長時間使用しても安定で信顆性の高い高分解能の
波長モニターを与えることにより、射出するレーザ光の
波長の安定性が高いエキシマレーザ装置を得ることを目
的とする。
［課題を解決するための手段］
上記問題点の解決の為に本発明にかかるエキシマレーザ
発生装置は、制御信号を得てレーザ光の波長を変化させ
る波長変化手段を備えたエキシマレーザ発生装看におい
て、酸素ガスが封入されたレーザ光吸収セルと、前記レ
ーザ発生装置から射出されるレーザ光の一部を前記吸収
セルに透過させる光学要素と、前記レーザ光吸収セルへ
入射する入射レーザ光の強度と、前記レーザ光吸収セル
から出射する透過レーザ光の強度とを比較して、両者の
差が最も大きくなるような制御信号を前記波長変化手段
に与える制御手段とを備えたことを特徴とする。
発生装置は、制御信号を得てレーザ光の波長を変化させ
る波長変化手段を備えたエキシマレーザ発生装看におい
て、酸素ガスが封入されたレーザ光吸収セルと、前記レ
ーザ発生装置から射出されるレーザ光の一部を前記吸収
セルに透過させる光学要素と、前記レーザ光吸収セルへ
入射する入射レーザ光の強度と、前記レーザ光吸収セル
から出射する透過レーザ光の強度とを比較して、両者の
差が最も大きくなるような制御信号を前記波長変化手段
に与える制御手段とを備えたことを特徴とする。
［作 用］
上記のように本発明は、制御信号を得てレーザ光の発振
波長を変化させる波長変化手段を備えたエキシマレーザ
発生装置であって、酸素ガスが封入されたレーザ光吸収
セルを備えている。
波長を変化させる波長変化手段を備えたエキシマレーザ
発生装置であって、酸素ガスが封入されたレーザ光吸収
セルを備えている。
ここで、酸素ガスがエキシマレーザの発振波長帯域中に
吸収スペクトル線を有することは、Ｒ６に。
吸収スペクトル線を有することは、Ｒ６に。
Ｓ ａ−ｎ ｄ ｅ ｒ氏らの論文（Ａｐｐｌｉｅｄ
ｒ’ｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ。
ｒ’ｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ。
Ｖｏｌ、３０．Ｎｏ、３ 、ｐｐ、１５０−１５２ （
＋９７７） ）や島内みどり氏の論文（Ｊａｐａｎｅｓ
ｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓ
ｉｃｓ。
＋９７７） ）や島内みどり氏の論文（Ｊａｐａｎｅｓ
ｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓ
ｉｃｓ。
Ｖｏｌ、２０．Ｎｏ、７．９ｐ、Ｌ４７３−Ｌ４７６
（１９８１） ）などから知られており、発振可能なエ
キシマレーザ光の利得強度が最も大きい波長付近に特に
強い吸収スペクトル線を有するため、その吸収スペクト
ルと同じ波長の狭帯域化レーザ光が酸素ガス中を通過す
ると、透過後のレーザ光の強度の減少は著しい。
（１９８１） ）などから知られており、発振可能なエ
キシマレーザ光の利得強度が最も大きい波長付近に特に
強い吸収スペクトル線を有するため、その吸収スペクト
ルと同じ波長の狭帯域化レーザ光が酸素ガス中を通過す
ると、透過後のレーザ光の強度の減少は著しい。
ここで、ＫｒＦエキシマレーザの発振波長帯域中におけ
る、酸素ガスの線吸収スペクトルによる酸素ガス透過レ
ーザ光の強度変化の状態を第４図に示す、同図において
、縦軸は酸素ガス透過レーザ光の強度であり、横軸はそ
のレーザ光の波長である。ＫｒＦエキシマレーザにおい
ては、そのレーザ光の強度が強い波長帯領域（例えば２
４８３．６２人、２４８４．２５人等）に吸収線が存在
している。
る、酸素ガスの線吸収スペクトルによる酸素ガス透過レ
ーザ光の強度変化の状態を第４図に示す、同図において
、縦軸は酸素ガス透過レーザ光の強度であり、横軸はそ
のレーザ光の波長である。ＫｒＦエキシマレーザにおい
ては、そのレーザ光の強度が強い波長帯領域（例えば２
４８３．６２人、２４８４．２５人等）に吸収線が存在
している。
そこで、このような酸素ガスの吸収線によるエキシマレ
ーザ光の酸素ガス透過前後の強度差を利用して、エキシ
マレーザ発生装置から射出される狭帯域化レーザ光の一
部を取り出して前記レーザ光吸収セルを透過させ、その
透過前後のレーザ光の強度を比較することにより、両者
の差が最も大きくなるように狭帯域化レーザ光の中心波
長の制御を行えば、レーザ光の波長は酸素ガス吸収線ス
ペクトルと同調され、常に一定の波長となって射出され
る。
ーザ光の酸素ガス透過前後の強度差を利用して、エキシ
マレーザ発生装置から射出される狭帯域化レーザ光の一
部を取り出して前記レーザ光吸収セルを透過させ、その
透過前後のレーザ光の強度を比較することにより、両者
の差が最も大きくなるように狭帯域化レーザ光の中心波
長の制御を行えば、レーザ光の波長は酸素ガス吸収線ス
ペクトルと同調され、常に一定の波長となって射出され
る。
このため、レーザ発生装置から射出されるレーザ光の一
部を前記吸収セルに透過させる光学要素を備えたことに
より、前記吸収セルにレーザ光を入射させている。
部を前記吸収セルに透過させる光学要素を備えたことに
より、前記吸収セルにレーザ光を入射させている。
そして、前記レーザ光吸収セルへ入射する入射レーザ光
の強度と、前記レーザ光吸収セルから出゛射する透過レ
ーザ光の強度とを比較して、両者の差が最も大きくなる
ような制御信号を前記波長変化手段に与える制御手段と
を備えている。
の強度と、前記レーザ光吸収セルから出゛射する透過レ
ーザ光の強度とを比較して、両者の差が最も大きくなる
ような制御信号を前記波長変化手段に与える制御手段と
を備えている。
ここで、前記吸収セルに入射する狭帯域化レーザ光の波
長と酸素ガスの吸収線とがズしている場合には、前記入
射及び透過レーザ光の強度差は殆どないが、レーザ光の
波長を変化させて酸素ガスの吸収線と重なり始めると、
透過レーザ光の強度が低下しはじめ、吸収線の中心位置
にレーザの波長が完全に重なると透過レーザ光の強度は
最小あるいは極小となる。
長と酸素ガスの吸収線とがズしている場合には、前記入
射及び透過レーザ光の強度差は殆どないが、レーザ光の
波長を変化させて酸素ガスの吸収線と重なり始めると、
透過レーザ光の強度が低下しはじめ、吸収線の中心位置
にレーザの波長が完全に重なると透過レーザ光の強度は
最小あるいは極小となる。
このため、吸収セルの入射レーザ光強度と透過レーザ光
強度とを比較して常に最も大きな差を生じるように波長
変化手段を制御していれば、このレーザ装置からの射出
レーザ光の波長に変化が生じた場合には、レーザ光の波
長が吸収線スペクトルと同調するような制御が行われ、
レーザ光の出力自体が変化した場合でも波長は変化せず
、酸素ガスの吸収線と同じ値にレーザ光の波長を固定さ
せるごとが可能となる。
強度とを比較して常に最も大きな差を生じるように波長
変化手段を制御していれば、このレーザ装置からの射出
レーザ光の波長に変化が生じた場合には、レーザ光の波
長が吸収線スペクトルと同調するような制御が行われ、
レーザ光の出力自体が変化した場合でも波長は変化せず
、酸素ガスの吸収線と同じ値にレーザ光の波長を固定さ
せるごとが可能となる。
加えて、物質の吸収スペクトル線の中心値は固定値であ
り、温度等の外的条件により変化しないため、例えば長
時間の使用等を行っても常に安定した波長のレーザ光が
得られるエキシマレーザ発生装置となフている。
り、温度等の外的条件により変化しないため、例えば長
時間の使用等を行っても常に安定した波長のレーザ光が
得られるエキシマレーザ発生装置となフている。
［実施例］
本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第１図は、本発明の一実施例に係るレーザ発生装置及び
レーザ光の波長制御系を示す、同図において、１は、酸
素ガス１０が封入されたレーザ光吸収セルであり、第３
図に示す従来例と同様なエキシマレーザ発生装置から射
出されたレーザ光１４の一部がビームスプリッタ−１５
により反射されて入射する。この吸収セル１には、前記
入射レーザ光の光軸上に入射窓５ａ及び射出窓５ｂが設
けられており、入射窓５ａの直前にはビームスプリッタ
−４が配設されている。
レーザ光の波長制御系を示す、同図において、１は、酸
素ガス１０が封入されたレーザ光吸収セルであり、第３
図に示す従来例と同様なエキシマレーザ発生装置から射
出されたレーザ光１４の一部がビームスプリッタ−１５
により反射されて入射する。この吸収セル１には、前記
入射レーザ光の光軸上に入射窓５ａ及び射出窓５ｂが設
けられており、入射窓５ａの直前にはビームスプリッタ
−４が配設されている。
このビームスプリッタ−４により反射された入射レーザ
光の一部と、ビームスプリッタ−４を透過−して吸収セ
ルｌに入射し、この吸収セル１内の酸素ガス中を透過し
たレーザ光とは、各々フォトダイオード２並びに３へ入
射する。フォトダイオード２および３は、各々入射した
レーザ光の強度に対応する信号を出力し、これらの信号
は各々波長コントローラ１７に転送される。
光の一部と、ビームスプリッタ−４を透過−して吸収セ
ルｌに入射し、この吸収セル１内の酸素ガス中を透過し
たレーザ光とは、各々フォトダイオード２並びに３へ入
射する。フォトダイオード２および３は、各々入射した
レーザ光の強度に対応する信号を出力し、これらの信号
は各々波長コントローラ１７に転送される。
波長コントローラ１７では、フォトダイオード２の出力
値をフォトダイオード３の出力値で割算し、この割算し
た値が最大（極大）になるような制御信号を波長変化手
段に出力する。
値をフォトダイオード３の出力値で割算し、この割算し
た値が最大（極大）になるような制御信号を波長変化手
段に出力する。
木実施例では、レーザ発生装置の波長選択素子であるエ
タロン１３のレーザ入射角度を調整して透過波長９１Ｆ
の値を変化させることによりレーザ光の発振波長を変化
させている為、前記制御信号によりエタロン１３の角度
が動かされ、そのエタロン１３による選択波長、即ちこ
のレーザ装置から射出するレーザ光１４の波長が酸素ガ
スの吸収線と同調するようになっている。
タロン１３のレーザ入射角度を調整して透過波長９１Ｆ
の値を変化させることによりレーザ光の発振波長を変化
させている為、前記制御信号によりエタロン１３の角度
が動かされ、そのエタロン１３による選択波長、即ちこ
のレーザ装置から射出するレーザ光１４の波長が酸素ガ
スの吸収線と同調するようになっている。
ここで、例えばＫｒＦエキシマレーザを用いる場合には
、その発振波長帯域中における酸素ガスの吸収線スペク
トルのうちの１本のスペクトル値、例えば２４８３．６
２人を利用して、予め波長コントローラ１７によりエタ
ロン１３等を調整してレーザ光の波長をこの値に設定す
ると、このレーザ装置から射出するレーザ光の波長はこ
の値に固定される。
、その発振波長帯域中における酸素ガスの吸収線スペク
トルのうちの１本のスペクトル値、例えば２４８３．６
２人を利用して、予め波長コントローラ１７によりエタ
ロン１３等を調整してレーザ光の波長をこの値に設定す
ると、このレーザ装置から射出するレーザ光の波長はこ
の値に固定される。
また、例えばＡｒＦエキシマレーザを用いる場合には、
その吸収線のうち例えば１９３２．８人等を利用すれば
よい。
その吸収線のうち例えば１９３２．８人等を利用すれば
よい。
これらの吸収線の波長は、レーザ発振波長−７ｌｌ：
ｉｄ中でレーザ光の利得が最も大きい波長付近にあり、
酸素ガス透過後のレーザ光強度の減少が著しく、透過前
後のレーザ光強度の比較が容易に行えるため測定誤差が
少ない。
ｉｄ中でレーザ光の利得が最も大きい波長付近にあり、
酸素ガス透過後のレーザ光強度の減少が著しく、透過前
後のレーザ光強度の比較が容易に行えるため測定誤差が
少ない。
さらに、このレーザ装置から射出するレーザ光１４の波
長を変更するためには、当初に選択する吸収線を別のも
のとするか、あるいは酸素ガスとして吸収線スペクトル
の位蓋（波長）が異なる酸素の同位体を用いることもで
きる。
長を変更するためには、当初に選択する吸収線を別のも
のとするか、あるいは酸素ガスとして吸収線スペクトル
の位蓋（波長）が異なる酸素の同位体を用いることもで
きる。
加えて本実施例では、波長選択素子としてエタロン１３
を用いているが、例えばグレーティングその他の波長選
択手段を用いてもよい。
を用いているが、例えばグレーティングその他の波長選
択手段を用いてもよい。
また、波長変化手段として、エタロンの角度変化の外エ
タロンギャップの気圧変化等の手段を用いたものでもよ
い。
タロンギャップの気圧変化等の手段を用いたものでもよ
い。
〔発明の効果］
以上の様に本発明によれば、エキシマレーザ発生装置に
おいて、例えば長時間の使用等をしても非常に波長の安
定したレーザ光が得られるという効果がある。
おいて、例えば長時間の使用等をしても非常に波長の安
定したレーザ光が得られるという効果がある。
このため、例えばリソグラフィ等の発振波長の値が変化
しない狭帯域レーザ光を必要とする光学装置の光源とし
て特に有効である。
しない狭帯域レーザ光を必要とする光学装置の光源とし
て特に有効である。
さらに、酸素ガスやその酸素ガスを封入するレーザ光吸
収セル、並びにレーザ光の強度比較およびレーザ光波長
制御等の手段を行う装置等は、従来例に比べて簡単で安
価な光学系及び制御系で作成できるという利点がある。
収セル、並びにレーザ光の強度比較およびレーザ光波長
制御等の手段を行う装置等は、従来例に比べて簡単で安
価な光学系及び制御系で作成できるという利点がある。
加えて、従来のような基準光源を必要とせず、このよう
な基準光源がなくても所定値に固定された波長の値を検
知することができる。
な基準光源がなくても所定値に固定された波長の値を検
知することができる。
このため、このエキシマレーザ装置から射出されるレー
ザ光を用いた微細加工装置等の光学設計上にも有効であ
る。
ザ光を用いた微細加工装置等の光学設計上にも有効であ
る。
第１図は、本発明の一実施例に係るレーザ光吸収セルと
レーザ光の波長制御手段の一部を示す構成図、 第２図は、従来のエタロン分光カメラの枯成を示す説明
図であり、右端の線図は焦点面上にできる干渉パターン
の同心円多重リングを直径方向に切ったときの光強度変
化を示す、 第３図は、従来のレーザ発生装置及びそのレーザ光の波
長制御装置の一例を示す構成図、第４図は、ＫｒＦエキ
シマレーザの発振スペクトル中の酸素の吸収ライン、お
よびこのレーザ光の酸素ガス透過後の強度を示す線図（
発明者自身が測定したもの）である。 ［主要部分の符号の説明］ ｌ・・・レーザ光吸収セル、２・・・フォトダイオード
（入射側）、３・・・フォトダイオード（出射側）、４
・・・ビームスプリッタ−１５ａ・・・吸収セル入射側
窓、５ｂ・・・吸収セル出射側窓、１ｏ・・・酸素ガス
、６・・・凹レンズ、７・・・エタロン、８・・・凸レ
ンズ、９・・・リニアイメージセンサ− １１ａ・・・全反射ミラー １１ｂ・・・レーザ出力ミ
ラー １２・・・レーザ媒質、１３・・・波長選択素子
、１４・・・レーザ光軸、１５・・・ビームスプリッタ
−！６・・・波長モニター １７波長コントローラ、１
８・・・基準光源。 代理人 弁理士 佐 藷 正 年 第 図 第５図 ５反しエコンへＢ−フハ 第２図
レーザ光の波長制御手段の一部を示す構成図、 第２図は、従来のエタロン分光カメラの枯成を示す説明
図であり、右端の線図は焦点面上にできる干渉パターン
の同心円多重リングを直径方向に切ったときの光強度変
化を示す、 第３図は、従来のレーザ発生装置及びそのレーザ光の波
長制御装置の一例を示す構成図、第４図は、ＫｒＦエキ
シマレーザの発振スペクトル中の酸素の吸収ライン、お
よびこのレーザ光の酸素ガス透過後の強度を示す線図（
発明者自身が測定したもの）である。 ［主要部分の符号の説明］ ｌ・・・レーザ光吸収セル、２・・・フォトダイオード
（入射側）、３・・・フォトダイオード（出射側）、４
・・・ビームスプリッタ−１５ａ・・・吸収セル入射側
窓、５ｂ・・・吸収セル出射側窓、１ｏ・・・酸素ガス
、６・・・凹レンズ、７・・・エタロン、８・・・凸レ
ンズ、９・・・リニアイメージセンサ− １１ａ・・・全反射ミラー １１ｂ・・・レーザ出力ミ
ラー １２・・・レーザ媒質、１３・・・波長選択素子
、１４・・・レーザ光軸、１５・・・ビームスプリッタ
−！６・・・波長モニター １７波長コントローラ、１
８・・・基準光源。 代理人 弁理士 佐 藷 正 年 第 図 第５図 ５反しエコンへＢ−フハ 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 制御信号を得てレーザ光の波長を変化させる波長変化
手段を備えたエキシマレーザ発生装置において、 酸素ガスが封入されたレーザ光吸収セルと、前記レーザ
発生装置から射出されるレーザ光の一部を前記吸収セル
に透過させる光学要素と、 前記レーザ光吸収セルへ入射する入射レーザ光の強度と
、前記レーザ光吸収セルから出射する透過レーザ光の強
度とを比較して、両者の差が最も大きくなるような制御
信号を前記波長変化手段に与える制御手段とを備えたエ
キシマレーザ発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63300888A JP2737181B2 (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | エキシマレーザ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63300888A JP2737181B2 (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | エキシマレーザ発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02148871A true JPH02148871A (ja) | 1990-06-07 |
| JP2737181B2 JP2737181B2 (ja) | 1998-04-08 |
Family
ID=17890330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63300888A Expired - Lifetime JP2737181B2 (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | エキシマレーザ発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2737181B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02238685A (ja) * | 1989-03-13 | 1990-09-20 | Agency Of Ind Science & Technol | エキシマレーザ装置 |
| WO1999001890A1 (fr) * | 1997-07-03 | 1999-01-14 | Hamamatsu Photonics K.K. | Tube a decharge et procede de calibrage de longueur d'ondes laser en utilisant ce tube |
| EP0995243A4 (en) * | 1997-07-18 | 2005-04-06 | Cymer Inc | WAVELENGTH REFERENCE FOR EXCIMER LASER |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5852891A (ja) * | 1981-09-24 | 1983-03-29 | Japan Radio Co Ltd | レ−ザの周波数安定化装置 |
| JPH01272175A (ja) * | 1987-12-15 | 1989-10-31 | Lumonics Inc | エクサイマ・レーザ |
-
1988
- 1988-11-30 JP JP63300888A patent/JP2737181B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5852891A (ja) * | 1981-09-24 | 1983-03-29 | Japan Radio Co Ltd | レ−ザの周波数安定化装置 |
| JPH01272175A (ja) * | 1987-12-15 | 1989-10-31 | Lumonics Inc | エクサイマ・レーザ |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02238685A (ja) * | 1989-03-13 | 1990-09-20 | Agency Of Ind Science & Technol | エキシマレーザ装置 |
| WO1999001890A1 (fr) * | 1997-07-03 | 1999-01-14 | Hamamatsu Photonics K.K. | Tube a decharge et procede de calibrage de longueur d'ondes laser en utilisant ce tube |
| EP0995243A4 (en) * | 1997-07-18 | 2005-04-06 | Cymer Inc | WAVELENGTH REFERENCE FOR EXCIMER LASER |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2737181B2 (ja) | 1998-04-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5373515A (en) | Laser wavelength controlling apparatus | |
| US4914662A (en) | Laser wavelength stabilization | |
| US4975919A (en) | Laser wavelength control apparatus | |
| US5404366A (en) | Narrow band excimer laser and wavelength detecting apparatus | |
| US6160831A (en) | Wavelength calibration tool for narrow band excimer lasers | |
| JP2836566B2 (ja) | 波長安定化狭帯域エキシマレーザ装置 | |
| KR920009706B1 (ko) | 레이저장치 | |
| US6396582B1 (en) | Wavelength reference for laser | |
| JP2631569B2 (ja) | 波長検出装置 | |
| US4991178A (en) | Laser apparatus | |
| JPS61501882A (ja) | レ−ザ−ダイオ−ドでの周波数及び出力調節 | |
| US4249140A (en) | Closed loop resonator feedback system | |
| JPH03155691A (ja) | レーザ光の安定化方法及びレーザ装置 | |
| JPH04211108A (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
| JP2737181B2 (ja) | エキシマレーザ発生装置 | |
| JPH057031A (ja) | 波長検出装置 | |
| JPH02306679A (ja) | レーザの波長制御装置 | |
| JPH0797672B2 (ja) | レーザー光軸調整装置 | |
| US20020021432A1 (en) | Method and instrument for measuring vacuum ultraviolet light beam, method of producing device and optical exposure apparatus | |
| JP3013376B2 (ja) | レーザ装置 | |
| JPS6442877A (en) | Excimer laser wavelength band narrowing device | |
| JP2572235B2 (ja) | 波長制御装置 | |
| JP2614768B2 (ja) | 波長検出装置 | |
| JPS6329758A (ja) | 露光装置用光源 | |
| JPH01205487A (ja) | レーザ装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |