JPH0215363B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0215363B2 JPH0215363B2 JP26209786A JP26209786A JPH0215363B2 JP H0215363 B2 JPH0215363 B2 JP H0215363B2 JP 26209786 A JP26209786 A JP 26209786A JP 26209786 A JP26209786 A JP 26209786A JP H0215363 B2 JPH0215363 B2 JP H0215363B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- casting
- material layer
- thin
- mold
- pouring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
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- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 claims description 10
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- 235000013601 eggs Nutrition 0.000 claims 1
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Landscapes
- Producing Shaped Articles From Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は薄い陶磁器（薄胎）の製造法に関する
ものである。
ものである。
「従来の技術」
陶磁器の鋳込成形法では第６図に示すように鋳
込終了後排泥し、鋳込口を切つて数十分後に離型
するものであつた。しかしこのような方法で厚さ
0.8mm以下の薄い陶磁器（薄胎）の鋳込成形を行
うと、取扱い不良による厚みの不均等（たれ）、
早期乾操による亀裂、歪み及びそれによる焼成時
における歪み等を生じる。
込終了後排泥し、鋳込口を切つて数十分後に離型
するものであつた。しかしこのような方法で厚さ
0.8mm以下の薄い陶磁器（薄胎）の鋳込成形を行
うと、取扱い不良による厚みの不均等（たれ）、
早期乾操による亀裂、歪み及びそれによる焼成時
における歪み等を生じる。
「発明が解決しようとする問題点」
本発明は鋳込成形法による薄胎に厚みの不均
等、亀裂及び歪みの少い製品を得ることを目的と
するものである。
等、亀裂及び歪みの少い製品を得ることを目的と
するものである。
「問題点を解決するための手段」
本発明は薄胎の鋳込成形法において、石膏型本
体の上端開口部に逆漏斗状石膏鋳込口の下端を接
続して同鋳込口から鋳込及び排泥を行つた後、離
型前に鋳込材料層の上端部を上記石膏鋳込口の上
端部内周面から内側に若干分離変形させた状態で
離型し、その後離型した同材料層の不要部分を切
断除却することを特徴とする薄胎の製造法によつ
て構成される。
体の上端開口部に逆漏斗状石膏鋳込口の下端を接
続して同鋳込口から鋳込及び排泥を行つた後、離
型前に鋳込材料層の上端部を上記石膏鋳込口の上
端部内周面から内側に若干分離変形させた状態で
離型し、その後離型した同材料層の不要部分を切
断除却することを特徴とする薄胎の製造法によつ
て構成される。
「作用」
従つて逆漏斗状石膏鋳込口２から材料を本体１
及び同鋳込口２の上端部まで注入した後、同鋳込
口２から排泥すると、本体１及び鋳込口２の内面
に薄い材料層３が形成される。本体１内の材量層
３は上記逆漏斗状石膏鋳込口２を経て排泥される
ため厚みの不均等や垂れ等の現象は少く、逆漏斗
状の鋳込口２の内部に集中し本体１の内部には比
較的均等厚の材料層３が形成される。この状態に
おいて材料層３の上端部を鋳込口２の上端内周面
から手によつて中心部に向つて内側に若干分離変
形させると材料層３の開口端の周長又は口径が小
となる。そのため開口端の乾燥による縦方向の亀
裂（渕割れ）の発生がなくなる。そして材料層３
の硬化後これをろくろで回転し第５図に示すよう
に本体１の上端開口部水準から刃４で切断して焼
成（960℃）して素焼となし、その後釉薬をかけ
て1350℃で焼成して薄胎を形成するものである。
及び同鋳込口２の上端部まで注入した後、同鋳込
口２から排泥すると、本体１及び鋳込口２の内面
に薄い材料層３が形成される。本体１内の材量層
３は上記逆漏斗状石膏鋳込口２を経て排泥される
ため厚みの不均等や垂れ等の現象は少く、逆漏斗
状の鋳込口２の内部に集中し本体１の内部には比
較的均等厚の材料層３が形成される。この状態に
おいて材料層３の上端部を鋳込口２の上端内周面
から手によつて中心部に向つて内側に若干分離変
形させると材料層３の開口端の周長又は口径が小
となる。そのため開口端の乾燥による縦方向の亀
裂（渕割れ）の発生がなくなる。そして材料層３
の硬化後これをろくろで回転し第５図に示すよう
に本体１の上端開口部水準から刃４で切断して焼
成（960℃）して素焼となし、その後釉薬をかけ
て1350℃で焼成して薄胎を形成するものである。
「実施例」
コツプ類又は花瓶類等の石膏形本体１の上端開
口部に第１図及び第２図に示す逆漏斗状石膏鋳込
口２の下端を載置して接続し、これに材料を鋳込
口２の注入口水準まで注入して鋳込みを行つた後
排泥すると上記本体１及び鋳込口２の内面に附着
した材料から水分が吸収されて0.8mm以下の塑性
鋳込材料層３が形成される。この状態において鋳
込材料層３の上端部を手で内側に押して第１図第
３図及び第４図に示すように鋳込口２の上端内周
面から間隙ｔだけ内側に若干分離変形させるもの
である。間隙ｔは鋳込口２の上端内周に沿つて均
等間隙である必要はない。その後乾燥により材料
層３が硬化した後離型し、同材料層３をろくろに
載せて回転させ上記本体１の上縁部分から刃４で
切断しこれを960℃に焼成して素焼となし、さら
に釉薬を施して1350℃に焼成して薄胎を形成する
ことができる。薄胎の厚さは0.8mm以下であり、
鋳込口２の開口径はコツプ類で20〜40mm、花瓶類
で25〜60mmである。
口部に第１図及び第２図に示す逆漏斗状石膏鋳込
口２の下端を載置して接続し、これに材料を鋳込
口２の注入口水準まで注入して鋳込みを行つた後
排泥すると上記本体１及び鋳込口２の内面に附着
した材料から水分が吸収されて0.8mm以下の塑性
鋳込材料層３が形成される。この状態において鋳
込材料層３の上端部を手で内側に押して第１図第
３図及び第４図に示すように鋳込口２の上端内周
面から間隙ｔだけ内側に若干分離変形させるもの
である。間隙ｔは鋳込口２の上端内周に沿つて均
等間隙である必要はない。その後乾燥により材料
層３が硬化した後離型し、同材料層３をろくろに
載せて回転させ上記本体１の上縁部分から刃４で
切断しこれを960℃に焼成して素焼となし、さら
に釉薬を施して1350℃に焼成して薄胎を形成する
ことができる。薄胎の厚さは0.8mm以下であり、
鋳込口２の開口径はコツプ類で20〜40mm、花瓶類
で25〜60mmである。
「効果」
本発明は上述のように構成したので薄胎の鋳込
み及び排泥に際し上記本体１の内面部分に厚さむ
らや渕割れを生じるおそれがなく、薄胎製造歩留
及び品質を向上することができる。
み及び排泥に際し上記本体１の内面部分に厚さむ
らや渕割れを生じるおそれがなく、薄胎製造歩留
及び品質を向上することができる。
第１図は本発明の石膏型本体及び逆漏斗状石膏
鋳込口の組合せを示す正面図、第２図は第１図の
他の実施例の正面図、第３図は鋳込口部分の縦断
面図、第４図は第３図の平面図、第５図は切断状
態拡大図、第６図は従来の鋳込成形法の縦断面図
である。 １……石膏型本体、２……逆漏斗状石膏鋳込
口、３……鋳込材料層。
鋳込口の組合せを示す正面図、第２図は第１図の
他の実施例の正面図、第３図は鋳込口部分の縦断
面図、第４図は第３図の平面図、第５図は切断状
態拡大図、第６図は従来の鋳込成形法の縦断面図
である。 １……石膏型本体、２……逆漏斗状石膏鋳込
口、３……鋳込材料層。
Claims (1)
- １ 薄胎の鋳込成形法において、石膏型本体の上
端開口部に逆漏斗状石膏鋳込口の下端を接続して
同鋳込口から鋳込及び排泥を行つた後、離型前に
鋳込材料層の上端部を上記石膏鋳込口の上端部内
周面から内側に若干分離変形させた状態で離型
し、その後離型した同材料層の不要部分を切断除
去することを特徴とする薄胎の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26209786A JPS63115701A (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 | 薄胎の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26209786A JPS63115701A (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 | 薄胎の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63115701A JPS63115701A (ja) | 1988-05-20 |
| JPH0215363B2 true JPH0215363B2 (ja) | 1990-04-11 |
Family
ID=17370992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26209786A Granted JPS63115701A (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 | 薄胎の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63115701A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0566627U (ja) * | 1992-02-17 | 1993-09-03 | 三洋電機株式会社 | 液晶表示器 |
-
1986
- 1986-11-04 JP JP26209786A patent/JPS63115701A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0566627U (ja) * | 1992-02-17 | 1993-09-03 | 三洋電機株式会社 | 液晶表示器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63115701A (ja) | 1988-05-20 |
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