JPH02156252A - 電子写真用感光体 - Google Patents
電子写真用感光体Info
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- JPH02156252A JPH02156252A JP30987888A JP30987888A JPH02156252A JP H02156252 A JPH02156252 A JP H02156252A JP 30987888 A JP30987888 A JP 30987888A JP 30987888 A JP30987888 A JP 30987888A JP H02156252 A JPH02156252 A JP H02156252A
- Authority
- JP
- Japan
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- layer
- protective layer
- charge retention
- titanate
- photoreceptor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14747—Macromolecular material obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- G03G5/14773—Polycondensates comprising silicon atoms in the main chain
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/142—Inert intermediate layers
- G03G5/144—Inert intermediate layers comprising inorganic material
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- Inorganic Chemistry (AREA)
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、電子写真感光体特に光導電層の表面に保護層
を有する電子写真感光体の改良に関する。
を有する電子写真感光体の改良に関する。
[従来の技術〕
従来、電子写真用感光体としては、導電性支持体上にセ
レンないしセレン合金を主体とする光導電層を設けたも
の、酸化亜鉛、酸化カドミウムなどの無機光導電材料を
バインダー中に分散させたもの、ポリ−N−ビニルカル
バゾールとトリニトロフルオレノンあるいはアゾ顔料な
どの有機光導電材料を用いたもの及び非晶質シリコンを
用いたもの等が一般に知られている。
レンないしセレン合金を主体とする光導電層を設けたも
の、酸化亜鉛、酸化カドミウムなどの無機光導電材料を
バインダー中に分散させたもの、ポリ−N−ビニルカル
バゾールとトリニトロフルオレノンあるいはアゾ顔料な
どの有機光導電材料を用いたもの及び非晶質シリコンを
用いたもの等が一般に知られている。
これらの感光体に対して長時間高画質を保つ信頼性の要
求を年々高まっている。しかし光導電層が露出している
場合、帯電過程のコロナ放電による損傷と複写プロセス
で受ける他部材との接触による物理的あるいは化学的な
損傷が感光体の寿命を損なう主な原因となっていた。
求を年々高まっている。しかし光導電層が露出している
場合、帯電過程のコロナ放電による損傷と複写プロセス
で受ける他部材との接触による物理的あるいは化学的な
損傷が感光体の寿命を損なう主な原因となっていた。
このような欠点を解消する方法として感光体表面に保護
層を設ける技術が知られている。具体的には感光層の表
面に有機フィルムを設ける方法(特公昭38−1544
8)、無機酸化物を設ける方法(特公昭43−1451
7)、接着層を設けた後絶縁層を積層する方法(特公昭
43−27591)、或いはプラズマCVD法・光CV
D il等によってa−3i層、a−9i:N:H層
、a−3i:O:H層等を積層する方法(特開昭57−
179859、特開閉59−58437)などが開示さ
れている。
層を設ける技術が知られている。具体的には感光層の表
面に有機フィルムを設ける方法(特公昭38−1544
8)、無機酸化物を設ける方法(特公昭43−1451
7)、接着層を設けた後絶縁層を積層する方法(特公昭
43−27591)、或いはプラズマCVD法・光CV
D il等によってa−3i層、a−9i:N:H層
、a−3i:O:H層等を積層する方法(特開昭57−
179859、特開閉59−58437)などが開示さ
れている。
しかしながらこれら保護層が電子写真的に高抵抗(10
”Ω・cm以上)なものであると、残留電位の増大、く
り返し時の蓄積等が問題となり、実用上好ましくない。
”Ω・cm以上)なものであると、残留電位の増大、く
り返し時の蓄積等が問題となり、実用上好ましくない。
上記欠点を補う技術として、保護層樹脂の組成により抵
抗を適正化する方法(特公昭52−24414)が知ら
れている。また、保護層を光導電層とする方法(特公昭
48−:38427 、特公昭43−18198 、特
公昭49−10258 、 U S P −29013
48)、保護層中に色素やルイス酸に代表される移動剤
を添加する方法(特公昭44−834 、特開昭53−
133444) 、或いは金属や金属酸化物微粒子の添
加により保護層の抵抗を制御する方法(特開昭53−3
338)等が提案されている。
抗を適正化する方法(特公昭52−24414)が知ら
れている。また、保護層を光導電層とする方法(特公昭
48−:38427 、特公昭43−18198 、特
公昭49−10258 、 U S P −29013
48)、保護層中に色素やルイス酸に代表される移動剤
を添加する方法(特公昭44−834 、特開昭53−
133444) 、或いは金属や金属酸化物微粒子の添
加により保護層の抵抗を制御する方法(特開昭53−3
338)等が提案されている。
しかし、後者の場合には保護層による光の吸収が生じて
感光層へ到達する光量が減少し、結果として感光体の感
度が低下するという間通が生じる場合がありこの観点か
ら、特開昭57−30846に提案されている様に平均
粒径0.3μ■以下の金属酸化物微粒子を抵抗制御とし
て保護層中に分散させることにより可視光に対し実質的
に透明にする方法がある。
感光層へ到達する光量が減少し、結果として感光体の感
度が低下するという間通が生じる場合がありこの観点か
ら、特開昭57−30846に提案されている様に平均
粒径0.3μ■以下の金属酸化物微粒子を抵抗制御とし
て保護層中に分散させることにより可視光に対し実質的
に透明にする方法がある。
上述の様な保護層を有した感光体は感度の低下も少なく
保護層の機械的強度が増し、摩耗に対しては耐久性が非
常に向上する。
保護層の機械的強度が増し、摩耗に対しては耐久性が非
常に向上する。
ところが複写機の中で長期に使用した場合、保護層と感
光層の間の密青性や帯電性が低下することが判明した。
光層の間の密青性や帯電性が低下することが判明した。
これらの問題点を改苫する手段として、保護層と感光層
との間に接着性を高めるための接着層や電荷注入を阻止
するための電荷保持層を設けることが提案されている。
との間に接着性を高めるための接着層や電荷注入を阻止
するための電荷保持層を設けることが提案されている。
これらの中間層として無機化合物を主成分として含有す
る中間層(特開昭57−30843)、有機高分子化合
物を主成分として含Hする中間層(特開昭57−308
44)、有機金属化合物を主成分として含有する中間層
(特開昭58−60748 、特開昭51!−1216
43、特開昭511−121045)等が開示されてい
るが低湿時には良好な画像が得られても、高湿時には解
像度が低下する現像がみられる。
る中間層(特開昭57−30843)、有機高分子化合
物を主成分として含Hする中間層(特開昭57−308
44)、有機金属化合物を主成分として含有する中間層
(特開昭58−60748 、特開昭51!−1216
43、特開昭511−121045)等が開示されてい
るが低湿時には良好な画像が得られても、高湿時には解
像度が低下する現像がみられる。
〔発明が解決しようとする課題]
前記保j層を有する感光体においては、電荷注入を阻止
するため電荷保持層を設けることが提案されている。こ
れらの電荷保持層として、無機化合物、有機高分子化合
物、有機金属化合物を主成分として含有する電荷保持層
が提案されているが、低湿時には良好な画像が得られて
も、高湿時には解像度が低下する現象がみられる。その
ためけい素樹脂を主成分として含有する電荷保持層を提
案したが、保護層をそのまま電荷保持層上に設けた場合
は、電荷保持層と保護層の接着力が充分でなく、複写枚
数がふえるにつけ、保護層の剥離が生じることが判明し
た。
するため電荷保持層を設けることが提案されている。こ
れらの電荷保持層として、無機化合物、有機高分子化合
物、有機金属化合物を主成分として含有する電荷保持層
が提案されているが、低湿時には良好な画像が得られて
も、高湿時には解像度が低下する現象がみられる。その
ためけい素樹脂を主成分として含有する電荷保持層を提
案したが、保護層をそのまま電荷保持層上に設けた場合
は、電荷保持層と保護層の接着力が充分でなく、複写枚
数がふえるにつけ、保護層の剥離が生じることが判明し
た。
そこで、本発明は、電荷保持層と保護層との接着性の改
善を計り、耐久性のある保護層を有する電子写真用感光
体を提供しようとするもので3ち る 。
善を計り、耐久性のある保護層を有する電子写真用感光
体を提供しようとするもので3ち る 。
[課題を解決するための手段]
本発明は、導電性支持体上に光導電層、電荷保持層、接
む層および表面保護層を順次積層した電子写真用感光体
において、電荷保持層がけい素樹脂からなり、かつ接着
層がアルミニウムカップリング剤およびチタネート系カ
ップリング剤のいずれかの硬化物からなる電子写真用感
光体である。
む層および表面保護層を順次積層した電子写真用感光体
において、電荷保持層がけい素樹脂からなり、かつ接着
層がアルミニウムカップリング剤およびチタネート系カ
ップリング剤のいずれかの硬化物からなる電子写真用感
光体である。
本発明に用いられる感光体の感光層としてSe、5e−
Te、AS2 Se3等のSe合金、ZnO,CdS、
CdSe等のII−VI族化合物の粒子を樹脂に分散さ
せたもの、ポリビニルカルバゾール等の有機光導電材料
、あるいはa −3i等が用いられる。
Te、AS2 Se3等のSe合金、ZnO,CdS、
CdSe等のII−VI族化合物の粒子を樹脂に分散さ
せたもの、ポリビニルカルバゾール等の有機光導電材料
、あるいはa −3i等が用いられる。
感光層の構成は特に制約がなく、単層でも電荷発生層と
電荷輸送層の積層であってもかまわない。
電荷輸送層の積層であってもかまわない。
本発明の電荷保持層に設けられるけい素樹脂は
(1)アルコキシ基含有ポリシロキサン(2)水酸基含
有ポリシロキサン (3)炭素原子に結合したアミノ基、イミノ基もしくは
ニトリル基を少なくとも1個とアルコキシ基が2乃至3
個結合したけい素原子を有する有機けい素化合物を主成
分とする組成物からなる。
有ポリシロキサン (3)炭素原子に結合したアミノ基、イミノ基もしくは
ニトリル基を少なくとも1個とアルコキシ基が2乃至3
個結合したけい素原子を有する有機けい素化合物を主成
分とする組成物からなる。
硬化した電荷保持層中のSi及び0の含有量は電荷保持
層全量に対して50〜88v【%の範囲、かつC,HS
Nの含6瓜は電荷保持層全量に対して、それぞれC:I
G〜30vL%、H: l〜1OvL96、N: l
〜l0wt%の範囲にあることが必要である。
層全量に対して50〜88v【%の範囲、かつC,HS
Nの含6瓜は電荷保持層全量に対して、それぞれC:I
G〜30vL%、H: l〜1OvL96、N: l
〜l0wt%の範囲にあることが必要である。
本発明の電荷保持層を形成するには上記各成分をリグロ
イン、ヘキサン等適当な溶剤に溶解させた溶液を光導電
層上に塗布後乾燥あるいは加熱硬化させれば良い。
イン、ヘキサン等適当な溶剤に溶解させた溶液を光導電
層上に塗布後乾燥あるいは加熱硬化させれば良い。
電荷保持層の膜厚は 1μm以下好ましくは0.5μm
以下が良い。
以下が良い。
本発明に用いられるアルミニウムカップリング剤として
は、アセトメトキシアルミニウムジイソプロピレート、
アセトメトキシアルミニウムジイソプロピレート、アセ
トプロポキシアルミニウムジイソプロピレート等が例示
できる。
は、アセトメトキシアルミニウムジイソプロピレート、
アセトメトキシアルミニウムジイソプロピレート、アセ
トプロポキシアルミニウムジイソプロピレート等が例示
できる。
また、本発明に用いられるチタネート系カップリング剤
としてはイソプロピルトリイソステアロイルチタネート
、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート
)チタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−
アミノエチル)チタネート、テトラオクチルビス(ジト
リデシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−
ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシ
ル)ホスファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロ
ホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジ
オクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イ
ソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピル
ジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピ
ルトリデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロ
ピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロ
ピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソ
プロピルトリクシルフェニルチタネート、テトライソプ
ロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート等が
例示できる。
としてはイソプロピルトリイソステアロイルチタネート
、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート
)チタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−
アミノエチル)チタネート、テトラオクチルビス(ジト
リデシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−
ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシ
ル)ホスファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロ
ホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジ
オクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イ
ソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピル
ジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピ
ルトリデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロ
ピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロ
ピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソ
プロピルトリクシルフェニルチタネート、テトライソプ
ロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート等が
例示できる。
本発明の接着層を形成するには上記カップリング剤をリ
グロイン、ヘキサン等適当な溶媒に溶解させた溶液を電
荷保持層上に塗布後加熱硬化させれば良い。接着層の膜
厚はO11μ−以下、特に0.05μm以下が好適であ
る。
グロイン、ヘキサン等適当な溶媒に溶解させた溶液を電
荷保持層上に塗布後加熱硬化させれば良い。接着層の膜
厚はO11μ−以下、特に0.05μm以下が好適であ
る。
本発明に用いられる保護層としては有機高分子化合物に
有機化合物又は無機化合物などの導電制御剤を適当量添
加したものが用いられる。
有機化合物又は無機化合物などの導電制御剤を適当量添
加したものが用いられる。
具体的には有機化合物としてはアニオン系、カチオン系
、非イオン系の有機電解質など、無機化合物としては金
、銀、銅、ニッケル、アルミニウム等の金属、酸化亜鉛
、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、及び酸化ア
ンチモン金白°酸化スズ、酸化インジウム含H酸化スズ
などの金属酸化物が挙げられこれらの混合物も用いられ
る。
、非イオン系の有機電解質など、無機化合物としては金
、銀、銅、ニッケル、アルミニウム等の金属、酸化亜鉛
、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、及び酸化ア
ンチモン金白°酸化スズ、酸化インジウム含H酸化スズ
などの金属酸化物が挙げられこれらの混合物も用いられ
る。
膜厚は0.5〜30μ曙、好ましくは1−10μ謂であ
る。この厚さが0.5μm以下では保護層の機械的強度
が弱く、かつ耐摩耗性が小さく長期の使用に対して保護
層の効果がなくなり、30μ■以上では保護層中に電荷
が蓄積され、くり返し使用時に残留電位が増大する。
る。この厚さが0.5μm以下では保護層の機械的強度
が弱く、かつ耐摩耗性が小さく長期の使用に対して保護
層の効果がなくなり、30μ■以上では保護層中に電荷
が蓄積され、くり返し使用時に残留電位が増大する。
この保護層は上記けい素樹脂中に抵抗制御剤を混合もし
くは分散し、光導電層上にディッピングもしくはスプレ
ー塗布し、あるいはフィルム状にした後接着することに
より形成される。
くは分散し、光導電層上にディッピングもしくはスプレ
ー塗布し、あるいはフィルム状にした後接着することに
より形成される。
保護層の比抵抗はLX 10’−〜tx to14Ωc
mであり、好ましくはIX 1011− IX 10I
2ΩCIテある。比抵抗がIX 10”981m以下で
は電荷保持能力が低く、画像ボケが生じ、■×10I4
Ωe1以上では残留電位が大きく、地汚れが生じる。
mであり、好ましくはIX 1011− IX 10I
2ΩCIテある。比抵抗がIX 10”981m以下で
は電荷保持能力が低く、画像ボケが生じ、■×10I4
Ωe1以上では残留電位が大きく、地汚れが生じる。
導電性支持体としては導電体あるいは導電処理をした絶
縁体が用いられる。たとえばA1、Ni5Fe、Cu、
Auなどの金属あるいは合金、ポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリイミド、ガラス等の絶縁性基体上にAl
、Ag。
縁体が用いられる。たとえばA1、Ni5Fe、Cu、
Auなどの金属あるいは合金、ポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリイミド、ガラス等の絶縁性基体上にAl
、Ag。
Au等の金属あるいはIn20i、5n02等の導電+
オ料の薄膜を形成したもの、導電処理をした紙等が例示
できる。
オ料の薄膜を形成したもの、導電処理をした紙等が例示
できる。
また導電性支持体の形状は特に制約はなく必要に応じて
板状、ドラム状、ベルト状のものが用いられる。
板状、ドラム状、ベルト状のものが用いられる。
[実施例]
以下本発明を実施例並びに比較例によって説明する。
実施例1
アルミニウム素管(80svφX340m5L)を前処
理(洗浄)を施した後、真空蒸着装置内にセットしAs
25ei合金を支持体上の膜厚が60μ劇になるように
下記条件で抵抗加熱蒸着を行い光導電層を作製した。
理(洗浄)を施した後、真空蒸着装置内にセットしAs
25ei合金を支持体上の膜厚が60μ劇になるように
下記条件で抵抗加熱蒸着を行い光導電層を作製した。
蒸着条件
真空度 3 X to’ Torr
支持体温度 200℃
ボート温度 450℃
次にこの光導電層上に中間形成液、すなわち、アルコキ
シ基含有ポリシロキサンと水酸基含有ポリシロキサンと
炭素原子に結合したアミノ基を少なくとも1個とアルコ
キシが2〜3個結合したけい素原子を有する有機けい素
化合物を主成分とするけい素樹脂(東しシリコーン社製
、A Y 42−441)のりグロイン溶液(固形分5
%)を膜厚が0.2μmになるように塗布し、120℃
、1時間で乾燥し電荷保持層を作製した。
シ基含有ポリシロキサンと水酸基含有ポリシロキサンと
炭素原子に結合したアミノ基を少なくとも1個とアルコ
キシが2〜3個結合したけい素原子を有する有機けい素
化合物を主成分とするけい素樹脂(東しシリコーン社製
、A Y 42−441)のりグロイン溶液(固形分5
%)を膜厚が0.2μmになるように塗布し、120℃
、1時間で乾燥し電荷保持層を作製した。
さらにこの上に下記に示す条件で接着層を作製し塗布後
120℃、1時間で乾燥硬化させた。
120℃、1時間で乾燥硬化させた。
接着層形成液
アセトエトキシアルミニウム
ジイソプロピレート(味の索社製^L−M)1重量部
ヘキサン 99重量部さらにこの上
にスチレン−メタクリル酸−アクリル酸−N−メチロー
ルアクリルアミド樹脂液(固形分40wt%)30重量
部と酸化アンチモンtowt%含有酸化スズ粉末lO重
量部とトルエン20!Ii量部、n−ブタノール2重量
部混合溶媒を加え、ボールミルにて72時間分散した分
散液を浸漬塗布し120℃で30分乾燥し、約5μの保
護層を設けた。
にスチレン−メタクリル酸−アクリル酸−N−メチロー
ルアクリルアミド樹脂液(固形分40wt%)30重量
部と酸化アンチモンtowt%含有酸化スズ粉末lO重
量部とトルエン20!Ii量部、n−ブタノール2重量
部混合溶媒を加え、ボールミルにて72時間分散した分
散液を浸漬塗布し120℃で30分乾燥し、約5μの保
護層を設けた。
この電荷保持層の組成を分析した結果
Si及びOの含有量 87.8vt%
Cの含有量22 、7 v t%
Hの含有jl 5.8vt%Nの含有量
3.7vt% であった。
3.7vt% であった。
実施例2
アルミニウム木管(80mIIφX 34GssL)を
前処理(洗浄)を施した後、真空蒸着装置内にセットし
As2Se3合金を支持体上の膜厚がBθμ■になるよ
うに下記条件で抵抗加熱蒸着を行い光導電層を作製した
。
前処理(洗浄)を施した後、真空蒸着装置内にセットし
As2Se3合金を支持体上の膜厚がBθμ■になるよ
うに下記条件で抵抗加熱蒸着を行い光導電層を作製した
。
蒸着条件
真空度 3X 10”6 Torr
支持体温度 200℃
ボート温度 450℃
次にこの光導電層上に中間形成液、すなわち、アルコキ
シ基含有ポリシロキサンと水酸基含有ポリシロキサンと
炭素原子に結合したアミノ基を少なくとも1個とアルコ
キシが2〜3個結合したけい素原子を6する有機けい素
化合物を主成分とするけい素樹脂(東しシリコーン社製
、A Y 42−441)のりグロイン溶液(固形分5
%)を膜厚が0,2μ−になるように塗布し、120℃
、1時間で乾燥し電荷保持層を作製した。
シ基含有ポリシロキサンと水酸基含有ポリシロキサンと
炭素原子に結合したアミノ基を少なくとも1個とアルコ
キシが2〜3個結合したけい素原子を6する有機けい素
化合物を主成分とするけい素樹脂(東しシリコーン社製
、A Y 42−441)のりグロイン溶液(固形分5
%)を膜厚が0,2μ−になるように塗布し、120℃
、1時間で乾燥し電荷保持層を作製した。
さらにこの上に下記に示す条件で接着層を作製し塗布後
120℃、1時間で乾燥硬化させた。
120℃、1時間で乾燥硬化させた。
接着層形成液
イソプロピルトリイソステアロイル
チタネート(味の索社製KRTTS)
1重量部
へキサン 99重量部さらにこの上
にスチレン−メタクリル酸−アクリル−N−メチロール
アクリルアミド樹脂液(固形分40νt%)30重量部
と酸化アンチモン10wt%含a酸化スズ粉末IO重量
部と適当量の溶媒を加え、ボールミルにて72時間分散
した分散液を浸漬塗/1iL120℃で30分乾燥し、
約5μの保護層を設けた。
にスチレン−メタクリル酸−アクリル−N−メチロール
アクリルアミド樹脂液(固形分40νt%)30重量部
と酸化アンチモン10wt%含a酸化スズ粉末IO重量
部と適当量の溶媒を加え、ボールミルにて72時間分散
した分散液を浸漬塗/1iL120℃で30分乾燥し、
約5μの保護層を設けた。
この電荷保持層の組成を分析した結果
Si及びOの含1−5量87.8vL%Cの含h 量2
2.7vt% Hの含有量 5.8vL%Nの含有量
3.7vt% であった。
2.7vt% Hの含有量 5.8vL%Nの含有量
3.7vt% であった。
実施例3
接む層形成液を下記の様にかえた他は実施例1と全く同
様にして感光体を作製した。
様にして感光体を作製した。
接着層形成液
イソプロピルトリス(ジオクチル
パイロホスフェート)チタネート
(味の索社製KR388) 1重量部へキサン
99重量部比較例1 接着層を形成しない他は実施例1と全く同様にして比較
用の感光体を作製した。
99重量部比較例1 接着層を形成しない他は実施例1と全く同様にして比較
用の感光体を作製した。
上記のようにして得た本発明の感光体と比較用の感光体
の接着性を評価した。
の接着性を評価した。
接着性は一1O℃〜70℃のヒートサイクルを30回行
い保護膜の接着性をごばん目剥離試験によって評価した
。評価結果を表1に示す。なお、ニ゛ばん目剥離試験方
法は、感光肩上に中間層と保護層を形成したサンプル上
に直交する縦横11本ずつの・L行線を1mIIの間隔
で引いて、1ea+ 2の中に100個のます目ができ
るようにごばん目状の切り傷をつける。次にごばん目を
覆うようにメンディングテープを貼りつけゆっくりと引
きはがす。以上の試験を行い、100個のごばん目の内
剥眉せずに残っているごばん目の数を評価する。
い保護膜の接着性をごばん目剥離試験によって評価した
。評価結果を表1に示す。なお、ニ゛ばん目剥離試験方
法は、感光肩上に中間層と保護層を形成したサンプル上
に直交する縦横11本ずつの・L行線を1mIIの間隔
で引いて、1ea+ 2の中に100個のます目ができ
るようにごばん目状の切り傷をつける。次にごばん目を
覆うようにメンディングテープを貼りつけゆっくりと引
きはがす。以上の試験を行い、100個のごばん目の内
剥眉せずに残っているごばん目の数を評価する。
表 1
この結果より本発明は接着力の優れた保護層を有する感
光体であることがわかる。
光体であることがわかる。
[発明の効果]
本発明によれば、電荷保持層と保護層の接着力が改とさ
れるので、保護層の剥離のない耐久性のある感光体が得
られる。
れるので、保護層の剥離のない耐久性のある感光体が得
られる。
Claims (1)
- 導電性支持体上に光導電層、電荷保持層、接着層および
表面保護層を順次積層した電子写真用感光体において、
電荷保持層がけい素樹脂からなり、かつ接着層がアルミ
ニウムカップリング剤およびチタネート系カップリング
剤のいずれかの硬化物からなることを特徴とする電子写
真用感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30987888A JPH02156252A (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30987888A JPH02156252A (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 電子写真用感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02156252A true JPH02156252A (ja) | 1990-06-15 |
Family
ID=17998390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30987888A Pending JPH02156252A (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02156252A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04247461A (ja) * | 1991-02-01 | 1992-09-03 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体の製造方法 |
-
1988
- 1988-12-09 JP JP30987888A patent/JPH02156252A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04247461A (ja) * | 1991-02-01 | 1992-09-03 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体の製造方法 |
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