JPH02156450A - 光磁気記録装置 - Google Patents

光磁気記録装置

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JPH02156450A
JPH02156450A JP30880888A JP30880888A JPH02156450A JP H02156450 A JPH02156450 A JP H02156450A JP 30880888 A JP30880888 A JP 30880888A JP 30880888 A JP30880888 A JP 30880888A JP H02156450 A JPH02156450 A JP H02156450A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、光磁気記録装置に関し、特に複数の磁性層を
備えた媒体を用いて、情報の重ね書きが可能な光磁気記
録装置に関する。
[従来の技術] 近年、高密度・大容量のメモリとしてレーザ光を用いた
光メモリ素子の研究および開発が急ピッチで行なわれて
いる。中でも、光磁気記録媒体は書き換えが可能な光メ
モリ素子として大いに期待されている。このような光磁
気記録媒体は、従来の磁気ヘツ°ドを使った磁気記録媒
体と比べて、高密度記録、非接触での記録・再生などが
可能であるという長所がある反面、記録前に一度記録部
分を消去しなければならない(一方向に着磁しなければ
ならない)という問題点があった。
一方、上記の問題点を解決し、重ね書きを可能とした光
磁気記録媒体及びこの媒体に記録を行なう装置が、特開
昭62−175948号公報等で提案されている。この
ような光磁気記録装置の一例を第1I図に示す。
第11図は、重ね書き可能な光磁気記録装置の構成を示
す概略図である。図中、14は、重ね書き可能な光磁気
ディスクを示す、このディスク14は、基板上に第1の
磁性層と、この第1の磁性層よりも高いキュリー温度及
び低い保磁力を有する第2の磁性層とを積層することに
よって構成される。
ディスク14は、スピンドルモータ15によって回転さ
れる。そして、まず、初期化磁界発生手段17によって
、第2の磁性層の磁化方向が揃えられる。その後、バイ
アス磁界発生手段18によって磁界が印加された状態で
、ディスク14に光源16より記録情報に応じて零でな
い2つの値の間で強度変調された光ビームを照射するこ
とによって、記録がなされる。
ここで、初期化磁界発生手段17及びバイアス磁界発生
手段18は、異なる位置に設けても構わないが、ディス
クを内包したカートリッジにこれらの手段を挿入する場
合等を考慮すると、第11図のように、光ビームの照射
位置に共通化して設けた方が構成が簡単である。この場
合には、ディスク14に印加される磁界の強度分布は、
第12図に示すように、光ビームの走査方向に沿って、
光ビーム被照射部Pを中心とした丘状になる。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、本来ならば、安定した記録な行なう為に
、バイアス磁界は初期化磁界より小さいのが望ましい、
従って、上記のようにこれらの発生手段を共通化した装
置では、バイアス磁界が大きすぎる為に、記録ビットの
周囲の記録温度に達していない部分までが磁化反転を起
こし、ビットの形状を乱して、記録ノイズを増大させる
問題点があった。
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決し、簡単
な構成で、情報の安定した重ね書きが可能な光磁気記録
装置を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 本発明の上記目的は、重ね書き可能な光磁気記録媒体に
記録情報に応じて零でない2つの値の間で強度変調され
た光ビームを照射する手段と、該光ビームを媒体に対し
て相対的に走査する手段と、前記媒体の光ビームが照射
される部分及びその近傍に磁界を印加する手段とから成
る光磁気記録装置において、 前記磁界印加手段が、前記媒体に、光ビームの走査方向
に沿ってビーム照射部よりも、そこから離れた部分の方
が高くなるような強度分布の磁界を印加するように構成
することによって達成される。
[実施例] 以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
第1図は、本発明の光磁気記録装置の一実施例を示す概
略図である0本実施例では、記録とともに、記録された
情報の再生も可能な構成を示した。図中、Iは円盤状の
光磁気記録媒体(光磁気ディスク)、2はこのディスク
lを回転させるスピンドルモータ、3はディスクlに光
ビーム19を照射する光ヘッドである。光ヘッド3は半
導体レーザ等から成るレーザ光源4.コリメータレンズ
5.ビームスプリッタ6、対物レンズ7、センサーレン
ズ9.検光子8及び光検出器lOを内蔵し、不図示の機
構によって、矢印Rで示すディスク半径方向に移動する
。また対物レンズ7は、光検出器によって周知の方法で
検出される制御信号に従って光軸方向及び光軸に垂直な
方向に移動し、所謂、オートトラッキング(AT)及び
オートフォーカシング(AF)を行なう、レーザ光源4
は、不図示のレーザ駆動回路によって駆動され、記録情
報に応じて、零でない2つの値の間で強度変調された光
ビーム19を射出する。
ディスクlを挟んで光ヘッド3と対向する位置には、R
方向にディスクの記録領域と同等の長さを有する磁界発
生手段11が設けられ、ディスク1の光ビーム19が照
射される部分及びその近傍に磁界を印加する。
第2図は、上記磁界発生手段11の光ビーム走査方向に
沿った断面図である0図中、12は、中央突出部12a
とその両側の側方突出部とを備えたヨークで、中央突出
部12aがディスクlの光ビーム照射位置に対向するよ
うに配されている。そして、ディスク移動方向りに、こ
の中央突出部12aの後方には、永久磁石13が設けら
れている。また、この永久磁石13は、後方に行く程、
厚さが厚いくさび状に形成されている。これら中央突出
部12a及び永久磁石13の回りにはコイル14が巻か
れている。
情報の記録時には、コイル14に電流が流され、磁界発
生手段11は、ディスクlに磁界を印加する。この際、
発生する磁界は永久磁石13の周辺で最も強くなる。従
って、ディスク1上における磁界強度分布は、第3図に
示すように、光ビーム走査方向に沿って、ビーム照射位
置P0よりも、そこから離れた位置P+の方が高くなる
6本発明、この位置P、の磁界によって、後述するよう
にディスクの第2磁性屡の初期化を行なうものである。
尚、第3図において、横軸は光ビーム走査方向に沿った
ディスク上の位置、縦軸は磁束密度を表わす。
ここで、位置P1における初期化磁界HEの強度は、後
述する第2磁性層の保磁力と該第2の磁性層が第1の磁
性層から受ける交換結合力との和よりも大きくする必要
があることから、1〜2にOeとされるのが望ましい、
一方、位置P0におけるバイアス磁界Haの強度は、0
.1〜0.6 K Osの範囲に設定されるのが好まし
い、これは、磁界強度が、0.1KOe以下では、記録
ビットの形成が不十分となり、0.6に00以上では前
述のように記録ノイズが増加かるからである。
以下に、本発明の装置による情報記録のブセロスを説明
する。
第4図は、本発明に使用される光磁気記録媒体の構成例
を示す略断面図である。光磁気ディスクlは、ガラス或
いはプラスチック等から成る透光性の基板20上に、5
isN4等の誘電体から成る下弓き層21、第1磁性層
22及び第2磁性層23を順次積層して構成されている
。また第2磁性M23上には、更に5iJn等の誘電体
から成る保護層24が形成され、接着層25を介して保
護プレート26に張り合されている。
第1磁性層22は低いキュリー温度(TL)と室温にお
ける高い保持力(HH)を有し、第2磁性層23は高い
キュリー温度(TH)と室温における低い保磁力(HL
)を有する。また第2の磁性層23はT、、とTHとの
間に補償温度(TcoMP)を有している。ここで、「
高い」、「低い」とは、両磁性層を比較した場合の相対
的な関係を表わす。
これらの関係を図に示すと第5図のようになる。
第5図において、C1及びC2は夫々第1及び第2磁性
層の特性を示す。また、これらの磁性層は交換結合して
いる。
通常は第1磁性層22のTLは70〜180℃、HHは
、3〜15にOe、第2磁性WI23ノT)Iは100
〜400℃、Hlは0.3〜2KOe程度の範囲内にす
るとよい。
各磁性層の材料には、垂直磁気異方性を示し且つ磁気光
学効果を呈するものが利用できるが、GoCo、 Gd
Fe、 TbFe、 DyFe、 GdTbFe、 T
bDyFe。
TbFeCo、 GdTbCo、 GdTbFeCo等
の希土類元素と遷移金属元素との非晶質磁性合金が好ま
しい。
第6図は、前述の媒体を用いた記録の様子を示したもの
である。図中22が第1磁性層、23が第2磁性層を示
す。44a〜44gの各々は、両磁性層の磁化の状態を
示す、記録過程中、ビーム照射部から離れた位置で、保
磁力HLの第2磁性層を一方向に磁化するのに充分で保
磁力HHの第1m性層の磁化の向きを反転させることの
ない大きさの初期化磁界H7が下方に印加されていて、
さらに、ビーム照射部において第2磁性層への記録を助
けるバイアス磁界H,が下方に印加されている。
記録過程をその過程に従って説明する前に、その理解の
助けとなるように、まず、44a〜44gにより表わさ
れる状態の概要及び各状態間の移行過程の様子等につい
て説明しておく。
44aと44gは室温における2値の記録状態を示して
いて、レーザー光による加熱によって、44b 、 4
4c 、 44dと温度が上昇する。44bと44f、
44cと44eはほぼ同じ温度での別の状態を示してい
る0図中、→は温度に対して可逆的な磁化過程を示し、
−や−は非可逆的な磁化過程を示す。また、44bと4
4c、あるいは44eと44fの間には、第2磁性屡の
補償温度が存在する。第6図の例では、第1磁性層が希
土類格子磁化優勢であって、第2磁性暦も希土類格子磁
化優勢の場合を示している。この場合には、両層間の交
換相互作用によって両層の磁化が平行な44gが安定状
態であり、反平行である44aが不安定状態であって、
この不安定状態44aでは界面磁壁が存在する。ただし
、磁界零でも不安定状態を保持することが可能であるよ
うに、第2ifl性層の保磁力を調整する必要がある。
室温状態(44a、 44g)では保磁力の小さい第2
磁性層の磁化は外部磁界HEによって常に図で下向きと
なっている。
次に記録過程をその過程に従って説明する。
44aの状態から温度を上げると、第5図に示すように
第1磁性層の保磁力が低下し、第2磁性層の保磁力が大
きくなる。すると、交換相互作用により両層の磁化が平
行になろうとするために、第1磁性層の磁化が反転し4
4bのように下を向く、この状態から温度を下げると、
磁化状態が変化しないまま冷え、44gの状態に移る。
44gの状態から温度を上げ、44bの状態になった後
、温度を下げてもやはり44gの状態に移る。即ち、4
4bの温度に相当するレーザーパワーの印加によって、
44aの状態も44gの状態もすべて44gの状態に移
る。
次に、44bの状態からさら温度を上げ、第2ffl性
暦の補償温度Tcovpを越して44cの状態になると
、第2磁性層の磁化が可逆的に反転する。さらに温度を
上げると第2磁性層の保磁力が小さくなり、バイアス磁
界H,により44dの如く反転する。この状態から温度
を下げると磁化状態が変化しないまま冷えTCOIIF
を越すと第2Mi性層の磁化が可逆的に反転する。その
前後で、交換相互作用により第1磁性層の磁化が上向き
に生じ、そのまま室温にまで冷え、第2m性層が再び小
さな保磁力となり、外部磁界HEにより反転する。ただ
し、この際には第1Iiii性層の保持力は大きいので
、外部磁界Htによっては反転せず、記録状態を保持し
ている。即ち、44dの温度に相当するレーザーパワー
の印加によって44aの状態も44gの状態もすべて4
4aの状態に移る。
従って、異なるレーザーパワーの印加によって異なる磁
化状態を取ることができ、即ちこれは重ね書きが実現し
たことになる。
第7図の例では第11itl性暦が遷移金属副格子磁化
優勢で、第2磁性層が希土類副格子磁化優勢の場合を示
している。この場合には、両層間の交換相互作用によっ
て、両層の磁化が反平行な45aが安定状態であり、平
行である45gが不安定状態であって、この不安定状態
45gでは界面壁が存在する。第6図の場合と同様、4
5bの温度に相当するレーザーパワーの印加によって、
45aの状態も45gの状態もすべて45aの状態に移
り、45dの温度に相当するレーザーパワーの印加によ
って、45aの状態も45gの状態もすべて45gの状
態に移る。従って、やはり異なるレーザーパワーの印加
によって異なる磁化状態を取ることができる。即ち、こ
れは重ね書きが実現したことになる。
第8図乃至第1O図は、夫々本発明の装置に適用される
磁界発生手段の変形例を示す略断面図である。第8図の
例では、磁石27とディスクlとの距離を、光ビーム1
9の走査方向に沿って、ビーム照射部から離れるに従っ
て、近づけることによって、第3図の如き強度分布の磁
界を得るものである。
一方、第9図の例では磁石28の形状をくさび形とし、
ビームの被照射部分からビーム走査方向に離れるに従っ
て、くさびが厚くなるようにしている。また、第10図
のように、ビーム走査方向に材質の異なる磁石29及び
30を接着剤で貼り合わせて並べ、ビーム照射部よりも
、そこから離れた位置でより強い磁界がディスクに印加
されるようにしても良い、第1O図の例では、これらの
磁石は光ヘツド側に配され、比較的弱い磁石29には、
光ビーム19が透過する孔が開けられている。また、前
述の説明では初期化磁界Hzとバイアス磁界Haの方向
は同一の場合を示したが、これらの方向が反対の場合(
第2の磁性層がTt、とToの間に補償温度を有さない
場合)には、第1O図のように磁石29及び30の磁極
の向きを反対とすれば良い。
本発明は、以上説明した実施例の他にも、種々の応用が
可能である0例えば、実施例では媒体の初期化を光ビー
ム照射位置の後方で行ったが、前方で行なう、即ち、ビ
ーム走査方向にビーム照射部よりもその前方で高くなる
ような強度分布な有する磁界を発生するように構成する
ようにしても良い、また、媒体の形状もディスク状に限
らず、テープ状、カード状の媒体を扱う装置にも適用が
可能である。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明は、重ね書き可能な光磁気
記録装置において、媒体の光ビームが照射される部分及
びその近傍に光ビームの走行方向に沿ってビーム照射部
よりも、そこから離れた部分の方が高くなるような強度
分布を有する磁界を印化する手段を設けることによって
、安定した記録が可能である。また、光ヘッドに近い位
置で媒体に近づけたり遠ざけたり出来る為、装置構成が
簡単で、特にカートリッジに内包された媒体を扱う装置
に適している。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の光磁気記録装置の一実施例を示す概略
図、第2図は第1図の装置における磁界発生手段の構成
を示す略断面図、 第3図は第1図の装置における磁界強度分布を示す図、 第4図は本発明に用いる光磁気記録媒体の構成例を示す
略断面図、 第5図は第4図の磁性層の温度による保磁力の変化を示
す図、 第6図及び第7図は夫々本発明の装置を用いた記録プロ
セスを説明する為の図、 第8図乃至第1O図は夫々本発明の装置に適用される磁
界発生手段の変形例を示す略断面図、第1!図は従来の
光磁気記録装置の構成を示す概略図、 第12図は第11図の装置における磁界強度分布を示す
図である。 1・・・光磁気ディスク、 2・・・スピンドルモータ、 3・・・光ヘッド、  11・・・磁界発生手段、12
・・・ヨーク、    13・・・永久磁石、14・・
・コイル、    19・・・光ビーム。 第1図 第3図 !IA2図 第4図 第5図 2&稟 m6図 第11図 第12図 九ビーム克jヒ町向 yA8図 手続補正書 (自発) 平成 9月29日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)重ね書き可能な光磁気記録媒体に記録情報に応じ
    て零でない2つの値の間で強度変調された光ビームを照
    射する手段と、該光ビームを媒体に対して相対的に走査
    する手段と、前記媒体の光ビームが照射される部分及び
    その近傍に磁界を印加する手段とから成る光磁気記録装
    置において、前記磁界印加手段は、前記媒体に、光ビー
    ムの走査方向に沿ってビーム照射部よりも、そこから離
    れた部分の方が高くなるような強度分布の磁界を印加す
    ることを特徴とする光磁気記録装置。
JP63308808A 1987-12-08 1988-12-08 光磁気記録装置 Expired - Fee Related JPH0786984B2 (ja)

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