JPH02157687A - 空気浮上式テーブル - Google Patents
空気浮上式テーブルInfo
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- JPH02157687A JPH02157687A JP31248388A JP31248388A JPH02157687A JP H02157687 A JPH02157687 A JP H02157687A JP 31248388 A JP31248388 A JP 31248388A JP 31248388 A JP31248388 A JP 31248388A JP H02157687 A JPH02157687 A JP H02157687A
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- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 10
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 description 1
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
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- Machine Tool Units (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、半導体ウェーハに形成されたパターンの微少
位置ずれ等を測定するためにウェーハを支持して測定領
域を移動するウェーハステージなどを移動させる空気浮
上式テーブルに関する。
位置ずれ等を測定するためにウェーハを支持して測定領
域を移動するウェーハステージなどを移動させる空気浮
上式テーブルに関する。
(従来の技術と解決しようとする課題)従来のX・Yス
テージなどは、ボールねし等を用いてX−Yの2軸を直
交させた構造のものが多い。そのために2段重ねとなり
、背丈が高くなってしまう欠点があった。
テージなどは、ボールねし等を用いてX−Yの2軸を直
交させた構造のものが多い。そのために2段重ねとなり
、背丈が高くなってしまう欠点があった。
第3図(A)は従来のX−Yステージの原理を説明する
ための略図である。
ための略図である。
ガイドGFは両端で案内され、紙面に直角方向(y方向
)に移動させられるものとし、このガイドOFに重さW
lのステージ部Tが左右方向(X方向)に移動可能に案
内支持されているとする。
)に移動させられるものとし、このガイドOFに重さW
lのステージ部Tが左右方向(X方向)に移動可能に案
内支持されているとする。
ステージ部Tの重さがガイドGFにそのまま加わるため
、沈みが生じ、円滑・正確な移動を妨げている。
、沈みが生じ、円滑・正確な移動を妨げている。
またステージ部TがガイドGFのどの部分にあるかによ
り、ガイドGFの両端の分担する力が変わり、また同様
にたわみの量も変わる。そして、場所によりステージ部
Tの高さが変わるという問題があった。
り、ガイドGFの両端の分担する力が変わり、また同様
にたわみの量も変わる。そして、場所によりステージ部
Tの高さが変わるという問題があった。
ステージ部Tで半導体ウェーハ等を支持してつ工−ハ表
面の状態を顕微鏡などで観察しようとするときに、ステ
ージ部Tの高さが変わると、その都度焦点合わ廿をし直
す必要がおこり、好ましくない。
面の状態を顕微鏡などで観察しようとするときに、ステ
ージ部Tの高さが変わると、その都度焦点合わ廿をし直
す必要がおこり、好ましくない。
本発明の目的は、可動部自体を空気浮上させることによ
り、背丈を低くして、円滑・正確に移動させることがで
きる空気浮上式テーブルを提供することにある。
り、背丈を低くして、円滑・正確に移動させることがで
きる空気浮上式テーブルを提供することにある。
(課題を解決するための手段)
前記目的を達成するために、本発明による空気浮上式テ
ーブルは、定盤と、前記定盤に対する任意の方向の案内
のための2つの案内板からなる第1の枠と、2つの案内
板をもち前記第1の枠の各案内板に対する空気噴射対向
形スライドと前記定盤に対する重量バランス形の空気噴
射平面スライドをもつ第2の枠と、前記第2の枠の各案
内板に対する空気噴射対向形スライドと前記定盤に対す
る重量バランス形の空気噴射平面スライドをもつ移動ス
テージから構成されている。
ーブルは、定盤と、前記定盤に対する任意の方向の案内
のための2つの案内板からなる第1の枠と、2つの案内
板をもち前記第1の枠の各案内板に対する空気噴射対向
形スライドと前記定盤に対する重量バランス形の空気噴
射平面スライドをもつ第2の枠と、前記第2の枠の各案
内板に対する空気噴射対向形スライドと前記定盤に対す
る重量バランス形の空気噴射平面スライドをもつ移動ス
テージから構成されている。
(実施例)
本発明を図面等を参照して、さらに詳しく説明する。
第1図は本発明による空気浮上式テーブルの実施例を示
す斜視図である。
す斜視図である。
この実施例装置はガラスの定盤1の上に配置され動作さ
せられる。
せられる。
定盤1に対して、−組のY軸案内板20.20を支持枠
板25.25で支持した一体の固定枠(1)が形成され
ている。
板25.25で支持した一体の固定枠(1)が形成され
ている。
この枠の内部に一組のX軸案内板10.10を支持枠板
15.15で支持した一体の移動枠(II)が、前記固
定枠(1)内でY方向に移動可能に設けられている。
15.15で支持した一体の移動枠(II)が、前記固
定枠(1)内でY方向に移動可能に設けられている。
移動枠(n)の空気噴射対向形スライドは、支持枠板1
5.i5に関連してY軸拘束バッド21゜21の対が4
対設けられている。
5.i5に関連してY軸拘束バッド21゜21の対が4
対設けられている。
そして、各Y軸案内板20に対して2対ずつ設けられ、
各対はY軸案内板20をbiむように配置されている。
各対はY軸案内板20をbiむように配置されている。
また、各Y軸拘束パッド21に対応して移動枠(■)を
定盤1から浮上させるためのY軸浮上バッド22が設け
られている。
定盤1から浮上させるためのY軸浮上バッド22が設け
られている。
ウェーハステージ2とこれを支持し、その高さおよび回
転方向の位置を微調整するZθステージ3およびこのス
テージ3を支持するZθステージ基台9からなる移動ス
テージ(III)は、前記移動枠(n)内でX方向に移
動可能に設けられている。
転方向の位置を微調整するZθステージ3およびこのス
テージ3を支持するZθステージ基台9からなる移動ス
テージ(III)は、前記移動枠(n)内でX方向に移
動可能に設けられている。
ウェーハステージ2は被測定物を真空で吸着固定する真
空吸着面を持っている。
空吸着面を持っている。
移動ステージ(I[l)のZθステージ基台9にはX軸
拘束パッド11.11の対、4対からなる空気噴射対向
形スライドが設けられている。
拘束パッド11.11の対、4対からなる空気噴射対向
形スライドが設けられている。
そして、X軸拘束パッド11.11の対は各X軸案内板
10に対して2対ずつ設けられ、各対はX軸案内板10
を挿むように配置されている。
10に対して2対ずつ設けられ、各対はX軸案内板10
を挿むように配置されている。
X軸拘束パッド11.11は第2図に示されているよう
に図示しない圧力発生装置から適当な圧力PIが供給さ
れている。
に図示しない圧力発生装置から適当な圧力PIが供給さ
れている。
また、各X軸拘束パッド11に対応して移動ステージ(
IIりを定盤1から浮上させるためのX軸浮上パッド1
2が設けられており、このX軸浮上パッド12には、同
様に図示しない圧力発生装置から適当な圧力P2が供給
されている。
IIりを定盤1から浮上させるためのX軸浮上パッド1
2が設けられており、このX軸浮上パッド12には、同
様に図示しない圧力発生装置から適当な圧力P2が供給
されている。
移動枠(II)の空気噴射対向形スライドのY軸拘束パ
ッド21とY軸浮上バッド22にも、同様に図示しない
圧力発生装置から適当な圧力がそれぞれ供給されている
。
ッド21とY軸浮上バッド22にも、同様に図示しない
圧力発生装置から適当な圧力がそれぞれ供給されている
。
なお、移動ステージ([[)は図示しない牽引駆動装置
により移動枠(II)のX軸案内板10に沿って任意の
位置に移動させられる。
により移動枠(II)のX軸案内板10に沿って任意の
位置に移動させられる。
X軸案内板10にはX軸すニアスケール13が設けられ
ており、Zθステージ基台9にはリニアスケールヘッド
14が設けられており、移動ステージ(IIりの移動枠
(II)の位置(X座標)を読み取ることができる。
ており、Zθステージ基台9にはリニアスケールヘッド
14が設けられており、移動ステージ(IIりの移動枠
(II)の位置(X座標)を読み取ることができる。
また、移動枠(It)も図示しない牽引駆動装置により
固定枠<1)のY軸案内板20に沿って任意の位置に移
動させられる。
固定枠<1)のY軸案内板20に沿って任意の位置に移
動させられる。
Y軸案内板20にはY軸すニアスケール23が設けられ
ており、固定枠(1)にはリニアスケールヘッド24が
設けられており、移動枠(n)の固窓枠(1)に対する
位置(Y座標)を読み取ることができるように構成され
ている。
ており、固定枠(1)にはリニアスケールヘッド24が
設けられており、移動枠(n)の固窓枠(1)に対する
位置(Y座標)を読み取ることができるように構成され
ている。
第3図(B)を参照して、固定枠(I)、移動枠(■)
、移動ステージ(III)の相互の力の関係を説明する
。
、移動ステージ(III)の相互の力の関係を説明する
。
本発明による空気浮上式テーブルの移動枠(n)は両端
の重量バランス形の空気噴射平面スライドにより定盤1
(OR)に対して浮上させられ、固定枠(1)に対
しては、空気噴射対向形スライドで対面させられている
。
の重量バランス形の空気噴射平面スライドにより定盤1
(OR)に対して浮上させられ、固定枠(1)に対
しては、空気噴射対向形スライドで対面させられている
。
そして、移動ステージ(III)は空気浮上させられて
いる限り、どの位置にあっても移動枠(fl)、固定枠
(1)に力を及ぼすことはない。
いる限り、どの位置にあっても移動枠(fl)、固定枠
(1)に力を及ぼすことはない。
(発明の効果)
以上詳しく説明したように、本発明による空気浮上式テ
ーブルは、移動ステージが浮上させられ、かつ交叉する
2方向の任意の位置にガイド手段と非接触で移動可能に
構成されている。
ーブルは、移動ステージが浮上させられ、かつ交叉する
2方向の任意の位置にガイド手段と非接触で移動可能に
構成されている。
したがって、検査の対象を任意の位置に2次元移動させ
るX−Y移動テーブル等に利用できる。
るX−Y移動テーブル等に利用できる。
従来のX−Y移動テーブルは、XとYの2軸を直交させ
る構造のため、2段重ねとなり、背丈が高くなってしま
う欠点があった。本発明による移動ステージは直接定盤
で空気浮上支持されることになり、背丈を大きくする必
要はない。
る構造のため、2段重ねとなり、背丈が高くなってしま
う欠点があった。本発明による移動ステージは直接定盤
で空気浮上支持されることになり、背丈を大きくする必
要はない。
また、従来のX−Y移動テーブルはステージ部の重さが
ガイドにそのまま加わるため、沈みが生じ、円滑・正確
に動くことを妨げる可能性があった。本発明ではそのよ
うな問題は完全に解決される。
ガイドにそのまま加わるため、沈みが生じ、円滑・正確
に動くことを妨げる可能性があった。本発明ではそのよ
うな問題は完全に解決される。
また、ガイドに対して被案内部を、空気噴射対向形スラ
イド形式で対応させである。
イド形式で対応させである。
したがって、可動部の摩擦もなく、円滑・正確に動かす
ことができ、高精度な位置決めができる。
ことができ、高精度な位置決めができる。
前述のように本発明による空気浮上式の移動テーブルは
テーブルの高さの誤差は少な(、円滑・正確な移動が可
能であるから、前述した半導体ウェーハの表面を顕微鏡
で観察するような半導体ウェーハの微少位置ずれ測定装
置に利用できる。
テーブルの高さの誤差は少な(、円滑・正確な移動が可
能であるから、前述した半導体ウェーハの表面を顕微鏡
で観察するような半導体ウェーハの微少位置ずれ測定装
置に利用できる。
第1図は本発明による空気浮上式テーブルの実施例を示
す斜視図である。 第2図は前記実施例の空気噴射対向形スライドと重量バ
ランス形平面スライドの構造を示す断面図である。 第3図は従来のX・Y移動テーブルと本発明による空気
浮上式X−Y移動テーブルの原理を比較して示した略図
である。 ■・・・第1の枠(固定枠) ■・・・第2の枠(移動枠) ■・・・移動ステージ ト・・定盤 2・・・ウェーハステージ 3・・・Zθステージ 9・・・Zθステージ基台 10・・・X軸案内板 11・・・X軸拘束バッド 12・・・X軸浮上バッド 13・・・X軸すニアスケール 4・・・X軸すニアスケールヘッド 5・・・支持枠板 O・・・Y軸案内板 1・・・Y軸拘束パッド 2・・・Y軸浮上バンド 3・・・Y軸すニアスケール 4・・・Y軸すニアスケールヘッド 5・・・支持枠板
す斜視図である。 第2図は前記実施例の空気噴射対向形スライドと重量バ
ランス形平面スライドの構造を示す断面図である。 第3図は従来のX・Y移動テーブルと本発明による空気
浮上式X−Y移動テーブルの原理を比較して示した略図
である。 ■・・・第1の枠(固定枠) ■・・・第2の枠(移動枠) ■・・・移動ステージ ト・・定盤 2・・・ウェーハステージ 3・・・Zθステージ 9・・・Zθステージ基台 10・・・X軸案内板 11・・・X軸拘束バッド 12・・・X軸浮上バッド 13・・・X軸すニアスケール 4・・・X軸すニアスケールヘッド 5・・・支持枠板 O・・・Y軸案内板 1・・・Y軸拘束パッド 2・・・Y軸浮上バンド 3・・・Y軸すニアスケール 4・・・Y軸すニアスケールヘッド 5・・・支持枠板
Claims (1)
- 定盤と、前記定盤に対する任意の方向の案内のための2
つの案内板からなる第1の枠と、2つの案内板をもち前
記第1の枠の各案内板に対する空気噴射対向形スライド
と前記定盤に対する重量バランス形の空気噴射平面スラ
イドをもつ第2の枠と、前記第2の枠の各案内板に対す
る空気噴射対向形スライドと前記定盤に対する重量バラ
ンス形の空気噴射平面スライドをもつ移動ステージから
構成した空気浮上式テーブル。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31248388A JPH065310B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 空気浮上式テーブル |
| US07/431,171 US5022619A (en) | 1988-12-09 | 1989-10-26 | Positioning device of table for semiconductor wafers |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31248388A JPH065310B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 空気浮上式テーブル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02157687A true JPH02157687A (ja) | 1990-06-18 |
| JPH065310B2 JPH065310B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=18029755
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31248388A Expired - Lifetime JPH065310B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 空気浮上式テーブル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH065310B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007216349A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ステージ装置 |
| JP2009241193A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Xyステージ装置 |
| CN109014457A (zh) * | 2018-08-13 | 2018-12-18 | 中国纺织科学研究院有限公司 | 一种用于加工喷丝板的气浮导向定位装置 |
-
1988
- 1988-12-09 JP JP31248388A patent/JPH065310B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007216349A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ステージ装置 |
| JP2009241193A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Xyステージ装置 |
| CN109014457A (zh) * | 2018-08-13 | 2018-12-18 | 中国纺织科学研究院有限公司 | 一种用于加工喷丝板的气浮导向定位装置 |
| CN109014457B (zh) * | 2018-08-13 | 2024-03-26 | 中国纺织科学研究院有限公司 | 一种用于加工喷丝板的气浮导向定位装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH065310B2 (ja) | 1994-01-19 |
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