JPH02158124A - 現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、現像装置に関する。

（従来の技術） 一般に、半導体製造工程においては、半導体ウェハ等の
基板上に、フォトレジストを用いたフォトリソグラフ技
術により微細な回路パターンの転写を行う。すなわち、
いわゆるスピンコーティングによりフォトレジストを塗
布するレジスト塗布装置、加熱処理を行うベーキング装
置等によって半導体ウェハ等の表面にフォトレジスト膜
を被着し、所定パターンのマスクを介して露光を行った
後、現像装置によって現像を行い、所定のレジストパタ
ーンを形成し、このレジストパターンを用いて、例えば
エツチング、薄膜形成等により、所定の回路パターンを
形成する。

上述した半導体製造工程において、半導体ウェハ等の基
板の表面に被着されたフォトレジストの現像を行う現像
装置は、従来例えば次のように構成されている。

すなわち、現像装置には例えば真空チャックにより半導
体ウェハを保持するウェハ載置台が設けられており、こ
のウェハ載置台には、ウェハ載置台上に保持された半導
体ウェハを回転可能とする如く駆動機構が接続されてい
る。また、ウェハ載置台の上方には、所定の現像液、リ
ンス液等の処理液を供給するためのノズルが設けられて
いる。

そして、このノズルからウェハ載置台上に保持された半
導体ウェハに所定の現像液、リンス液等の処理液を供給
して所定の現像処理を行うとともに、駆動機構によって
半導体ウェハを回転させ、現像液、リンス液等の除去（
乾燥）を行うよう構成されている。

また、このような現像装置では、半導体ウェハの周囲を
囲み処理室を構成する如くいわゆるカップが設けられて
おり、半導体ウェハの回転に伴ってこのカップ内に飛散
した現像液、リンス液等の処理液はこのカップ下端に接
続された排出ラインによりドレンタンク等に排出される
よう構成されている。

（発明が解決しようとする課題） 上記説明の従来の現像装置では、例えば半導体ウェハを
偏心支持して高速回転させたり、反りのある半導体ウェ
ハが混在していると、吸着が不安定となり、ｔの状態で
高速回転させると半導体ウェハを破損させてしまう場合
がある。あるいはメンテナンス中に例えばねじ等の小物
品をカップ内に落としたような場合、これらの半導体ウ
ェハの破片およびねじ等の固形物が処理液を排出するた
めの排出ライン内に入り込み、排出ラインに詰まりが生
じる場合がある。

しかしながら、従来の現像装置では、上述したような詰
まりが生じた場合、例えば半導体ウェハの破片およびね
じ等の固形物を処理液の排出ライン内から除去すること
が困難で、その除去作業に時間を要するという問題があ
った。

本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもので
、処理液の排出ラインのメンテナンスを従来に較べて短
時間で容易に行うことのできる現像装置を提供しようと
するものである。

［発明の構成コ （課題を解決するための手段） すなわち本発明は、基板に処理液を供給し、該基板に被
着されたフォトレジストの現像を行う現像装置において
、前記処理液の排出ラインに、固形物の流入を制限する
６脱可能に構成されたフィルタ機構を設けたことを特徴
とする。

（作　用） 上記構成の本発明の現像装置では、処理液の排出ライン
に、固形物の流入を制限する着脱可能に構成されたフィ
ルタ機構が設けられている。したがって、例えば半導体
ウェハの破片およびねじ等の固形物は、このフィルタ機
構によって補足されるので、このフィルタ機構を取外し
て固形物を容易に短時間で除去することができる。

（実施例°） 以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。

現像装置１には、半導体ウェハ２の周囲を囲む如くカッ
プ３が設けられており、このカップ３内には、例えば真
空チャック等によって半導体ウェハ２を保持し、駆動機
構４によってこの半導体ウェハ２を回転可能に構成され
た載置台５が設けられている。

また、載置台５の上部には、半導体ウェハ２表面に所定
の処理液を供給すためのノズルとして例えば現像液供給
ノズル６とリンス液供給ノズル７が設けられており、カ
ップ３の底部には、カップ３内に飛散した現像液、リン
ス液等の処理液を排出するための処理液排出配管８とカ
ップ３内から排気を行うための排気配管９が接続されて
いる。

この排気配管９の流入口にも固形物の流入を阻止するた
めのフィルタ例えばステンレス製メツシュが着脱自在に
設けられている。

さらに、処理液排出配管８には、着脱可能に構成された
円筒状のフィルタ収容部１０が介挿されており、このフ
ィルタ収容部１０内には、例えばステンレス製のメツシ
ュ等からなるフィルタ１１が着脱自在に設けられている
。また、このフィルタ収容部１０内の底部には、処理液
排出配管８がこのフィルタ収容部１０内に突出する如く
接続されており、その周囲には例えばステンレス等から
環状に形成された受は皿１２が着脱自在に設けられてい
る。

一方、上記排気配管９には、材質例えばステンレスから
容器状に形成されたミストトラップ１３が介挿されてい
る。すなわち、このミストトラップ１３は、側部に接続
された排気配管９から排気することによって内部に図示
矢印の如く排気気体流を形成し、この排気気体中のミス
トを分離して下部に接続されたドレン配管１４からミス
ト成分を排出するよう構成されている。また、上記ミス
トトラップ１３に接続された入口側の排気配管９および
出口側の排気配管９には、それぞれ冷却機構として例え
ば冷却水循環機構１５が設けられており、排気配管９を
冷却することによって排気気体中のミストを効率良く分
離することができるよう構成されている。なお、出口側
の排気配管９、すなわちミストトラップ１３と図示しな
い排気装置とを接続する排気配管９は、ミストトラップ
１３の側面に対して、例えば水平方向に対して５度の角
度を持って上方に向かう如く接続されている。

これは、排気配管９内に付着したミストをミストトラッ
プ１３内に落下させ、ドレン配管１４から排出させるた
めである。

上記構成の現像装置１は、例えば、半導体ウェハにフォ
トレジストをスピンコーティングにより塗布するレジス
ト塗布装置、レジスト塗布後のレジスト膜から溶剤を揮
発させるためのベーキング処理を行うベーキング装置、
所定パターンのマスクを介して露光を行う露光装置、等
とともにレジスト処理装置等に配置される。

そして、フォトレジスト塗布、ベーキング処理、露光等
の処理を済ませた半導体ウェハ２を載置台５上に配置し
、現像液供給ノズル６から半導体ウェハ２上に所定の現
像液を供給し、所定時間現像を行った後、駆動機構４に
よって半導体ウェハ２を回転させて遠心力により現像液
を除去するとともに、リンス液供給ノズル７からリンス
液（例えば純水）を供給してリンスを行うことにより、
フォトレジストの現像を行う。

この時、処理に使用された現像液およびリンス液等の処
理液は、カップ３の底部から処理液排出配管８によって
一旦フィルタ収容部１０内に流入する。そして、フィル
タ１１を通過した後、受は皿１２内に落下し、この受は
皿１２内からオーバーフローする如く底部に接続された
処理液排出配管８によって排出され葛。

したがって、例えば誤操作により半導体ウェハ２を破損
させてしまったような場合、あるいはメンテナンス中に
例えばねじ等の小物品をカップ３内に落としたような場
合でも、これらの固形物は、フィルタ１１および受は皿
１２によって補足され、これらのフィルタ１１および受
は皿１２を洗浄することによって排出ラインから容易に
除去することができる。

なお、上記実施例では、フィルタ１１を処理液排出配管
８に介挿されたフィルタ収容部１０内に設けた例につい
て説明したが、例えば第２図および第３図示すように、
カップ３内に環状に構成されたステンレスメツシュ等か
らなるフィルタ１１ａを設けてもよい。

［発明の効果］ 上述のように、本発明の現像装置によれば、処理液の排
出ラインのメンテナンスを従来に較べて短時間で容易に
行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の現像装置の構成を示す図、
第２図は他の実施例の現像装置の構成を示す図、第３図
は第２図の現像装置のフィルタの構成を示す図である。 １・・・・・・現像装置、２・・・・・・半導体ウェハ
、３・・・・・・カップ、４・・・・・・駆動機構、５
・・・・・・載置台、６・・・・・・現像液供給ノズル
、７・・・・・・リンス液供給ノズル、８・・・・・・
処理液排出配管、９・・・・・・排気配管、１０・・・
・・・フィルタ収容部、１１・・・・・・フィルタ、１
２・・・・・・受は皿、１３・・・・・・ミストトラッ
プ、１４・・・・・・ドレン配管、１５・・・・・・冷
却水循環機構。 出願人　　　　　　東京エレクトロン株式会社出願人　
　　　　　チル九州株式会社 代理人　弁理士　　須　山　佐　− （ほか１名）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板に処理液を供給し、該基板に被着されたフォ
   トレジストの現像を行う現像装置において、前記処理液
   の排出ラインに、固形物の流入を制限する着脱可能に構
   成されたフィルタ機構を設けたことを特徴とする現像装
   置。