JPH02160342A

JPH02160342A - イメージ管

Info

Publication number: JPH02160342A
Application number: JP31377688A
Authority: JP
Inventors: Katsuyoshi Yamamoto; 勝義山本
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1988-12-14
Filing date: 1988-12-14
Publication date: 1990-06-20

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［発明の目的］（産業上の利用分野）この発明は放射線像、或いは光学像増強用などのイメー
ジ管に係り、特にその出力面の改良に関する。

（従来の技術）従来、例えばＸ線像増強イメージ管は次のように構成さ
れている。即ち、真空外囲器内の入力側には入力窓に沿
って入力面が設けられ、出力側には陽極と出力面が設け
られている。更に、真空外囲器内の側壁に沿って、入力
面と陽極との間には集束電極が配設されている。

この場合、出力面は、真空外囲器とは別に設けたガラス
基板の電子ビーム入射側に出力蛍光体層が形成され、出
射側に反射防止膜が形成されている。又、ガラス基板と
して真空外囲器の後部を直接使・用している場合もある
。

動作時には、例えばＸ線管から発射されたＸ線が被写体
を透過した後、真空外囲器の入力窓から入力面に入射す
る。そして、この入力面の入力、蛍光体層で光に変換さ
れ、光電面で電子に変換される。そして、電子レンズを
構成する陽極と集束電極により加速・集束された電子ビ
ームは、出力面で可視像に変換される。この可視光像を
フィルムやＴＶカメラによって撮影し、Ｘ線診断を行な
うことが出来る。

ところで、出力面は光学部品として透過率を向上させる
ために、所定の波長帯で反射防止を行ない透過率の向上
を図るが、その役目をするのが上記の反射防止膜である
。この反射防止膜は、用途上からも膜硬度の高いもの、
又、は耐自然環境であることが要求され、非金属多層膜
或いは誘電体多層膜からなっている。

（発明が解決しようとする課題）上記のような従来のイメージ管においては、出力面の蛍
光体層を付着する製造工程で、反射防止膜が付着された
ガラス基板を蛍光体塗布に先立って弗酸等で洗浄する酸
処理工程において、従来の反射防止膜は耐えられないも
のであった。又、それを可能とする耐酸性の反射防止膜
は、これまで出現しなかった。或いは又、イメージ管の
製造においてガラスと金属のシーリングが行なわれる場
合も、反射防止膜を付けた状態で洗浄が行なわれる。こ
のため、反射防止膜付きの出力面は、耐酸性の機能が重
視されねばならない。

この発明は、上記従来の課題を解決したもので、ガラス
基板に形成された反射防止膜の耐酸性を向上させたイメ
ージ管を提供することを目的とする。

［発明の構成］（課題を解決するための手段）この発明は、反射防止膜が、少なくとも酸素化合物質層
を含む下地層と、この下地層を覆う弗素化合物質からな
る表面層が、ガラス基板側から順次形成されてなるイメ
ージ管である。

即ち、ガラス基板上に形成された反射防止膜は、酸液に
接触する表面層に弗素化合物質を用いることに・より、
耐酸性の向上を図っている。しかし、光学薄膜としての
弗素化合物質の膜厚は、１０００人にも満たないもので
あり、且つ非晶質で核成長した膜である。従って、耐酸
性の固有物質が効果を発揮しないことになる。

この発明は、この効果を発揮せしめるものであり、表面
層に弗素化合物質を成膜した後に、その下地層として高
屈折率物質を用いる。なんとなれば、光学薄膜蒸着にお
いて、蒸着中のモニター反射率曲線でｎｄ−λ。／４を
満足する時の極値を得て、成膜するためである。そして
、反射防止膜として、膜の形成後、弗素化合物質の結晶
質化、又は下地層も同様、酸素化合物質の結晶質化、或
いは安定化を図るために、大気中で焼成する工程で補う
ことである。

又、イメージ管の出力光は、約５２５ｎｍに最大感度を
持つようにしているが、この波長で高透過率を有する膜
構成となっている。

（作用）この発明によれば、出力面の製造工程における酸処理に
おいても、反射防止膜が損傷を受けることがない。

（実施例）以下、図面を参照して、この発明の一実施例を詳細に説
明する。

この発明によるイメージ管は、第１図に示すように構成
され、真空外囲器１内の入力側には入力窓１ａに沿って
入力面２が設けられ、出力側には陽極３と出力面歪が設
けられている。更に、真空外囲器１の側壁に沿って、入
力面２と陽極３との間には集束電極５が配設されている
。

この場合、出力面±は拡大図に示すように構成され、符
号６はガラス基板である。このガラス基板６は、電子線
及びＸ線に耐えると共に紫外線領域を阻止出来るガラス
例えばダークガラスにして、５０〜６０％の透過率を有
している。

このガラス基板６の電子入射側には、出力蛍光体層７が
形成されている。この出力蛍光体層７上には、Ａｌ１か
らなる光反射膜８が形成されている。

更に、ガラス基板６の光出射側には、光を反射する反７
射防止膜９が形成されている。

この発明における反射防止膜付は、従来とは異なり、ガ
ラス基板６側から順に第１層１０．第２層１１、第３層
１２が積層して形成されてなっており、第１層１０と第
２層１１が下地層で、第３層１２が表面層となっている
。

そして、第１層１ｏはガラス基板への付着性が優れ且つ
所定の分光透過特性が得られる物質例えばＡＤ２０ｓか
らなり、光学的膜厚が４分の１波長だけ形成されている
。又、第２層１１は酸素化合物質例えばＺｒＯ２からな
り、光学的膜厚が２分の１波長だけ形成されている。又
、第３層１２は耐酸性を有する弗素化合物質例えばＭｇ
Ｆ、からなり、光学的膜厚が４分の１波長だけ形成され
ている。

次に、この反射防止膜旦の製造方法について述べる。

先ず、ガラス基板６の光出射側に、付着性が優れ且つ所
定の分光特性が得られる物質例えばＡｇ２０ｉを蒸着し
、第１層１０を形成する。

次に、この第１層１０上に、酸素化合物質例えばＺｒＯ
□を蒸着し、第２層１１を形成する。

次に、このｆｆ１２層１１上に、耐酸性を有する弗素化
合物質例えばＭｇＦ２を蒸着し、第３層１２を形成する
。

最後に、上記のように反射防止膜旦を形成後、大気中に
おいて温度５００℃で１時間の焼成を行なう。

このようにして得られた出力固止は、イメージ管製造工
程における酸処理の真空還元をも防ぎ、光学特性の安定
化も図れる。

尚、焼成温度は、好ましくは４００〜５５０℃の範囲が
良く、４００℃以下では焼成が不十分であり、耐酸性が
十分に得られない。又、５５０℃以上では、反射防止膜
９に亀裂が発生し品い。

（変形例）上記実施例では、反射防止膜が３層構造の場合について
説明したが、次のような２層、３層、５層、７層構造で
もよく、上記実施例と同様効果が得られる。

即・ち、２層構造の場合は、第１層の下地層がＡｌ２Ｏ
５からなり、第２層の表面層がＭｇＦ。

からなっている。

上記実施例とは異なる３層構造の場合は、第１層がＡＮ
　２０ｉからなり、第２層がＴｉＯ□からなり、両者で
下地層が構成される。この下地層を覆う第３層の表面層
が、ＭｇＦ２からなっている。

５層構造の場合は、第１層がＡｌ２Ｏ５又は５ｉｎ２か
らなり、第２層がＺｒＯ２又はＭｇＦ２からなり、第４
層がＺｒＯ□又はＴｉＯ２からなり、これらで下地層が
構成される。

この下地層を覆う第５層の表面層が、ＭｇＦ２からなっ
ている。

７層構造の場合は、第１層がＡｌ２０ｉ又はＳ　ｉ　Ｏ
２からなり、第２層がＺｒＯ２又はＴｉＯ２からなり、
第３層がＡｆ１２０ｓ又はＳｉＯ□からなり、第４層が
ＺｒＯ２又はＴｉｅ２からなり、第５層がＡｌ２Ｏ３又
はＳｉＯ２からなり、第６層がｚ「０２又はＴｉｅ、か
らなり、これらで下地層が構成される。

この下地層を覆う第７層の表面層が、ＭｇＦ２からなっ
ている。

尚、上記の場合、各化合物の屈折率は下記の通りである
。

ＡＮ２０３・・・・・・・・・１．６Ｓｉｎ２・・・・・・・・・１．４６ＭｇＦ２・・・・・・・・・１，３８ＺｒＯ２・・・・・・・・・２．６ＴｉＯ□・・・・・・・・・２．１更に、第１層は５ｉｎ２でもよいが、これは耐酸性が著
しく弱いので、上記のように５層構造以上の第１層とし
てしか実用出来ない。

Ｃ発明の効果〕この発明によれば、反射防止膜が少なくとも酸素化合物
質層を含む下地層と、この下地層を覆う弗素化合物質か
らなる表面層とからなっているので、出力面の製造工程
で、反射防止膜が付着されたガラス基板を弗酸等で洗浄
する酸処理においても、反射防止膜が損傷を受けるこ古
がなく、この結果・、反射防止膜としての役目を十分に
果たすことが出来、透過率も若干向上する。

尚、数値的には、輝度が１．２倍になり、コントラスト
は若干改善された。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例に係るイメージ管を示す概
略断面図及び要部拡大図である。１・・・真空外囲器、２・・・入力面、３・・・陽極、
４・・・出力面、５・・・集束電極、６・・・ガラス基
板、７山出力蛍光体層、８・・・反射膜、９・・・反射
防止膜、１゜−。・・・第１層（下地層）、１１・・・第２層（下地層）
、１２・・・第３層（表面層）。出願人代理人　　弁理士　鈴江武彦

Claims

【特許請求の範囲】真空外囲器の出力側に出力面が設けられ、この出力面は
ガラス基板の電子入射側に出力蛍光体層が形成され、光
出射側に反射防止膜が形成されてなるイメージ管におい
て、上記反射防止膜は、少なくとも酸素化合物質層を含む下
地層と、この下地層を覆う弗素化合物質からなる表面層
が、上記ガラス基板側から順次形成されてなることを特
徴とするイメージ管。