JPH02160543A - 複層被膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は各種基材上に形成される被膜であってとくに表
面硬度、反射防止性、透明性、耐久性、耐衝撃性の改良
された複層被膜に関するものである。

［従来技術］ 各種基材の保護、外観品質向上、表面機能付与に関し、
各種の被覆材を基材上にコーティングすることにより問
題を解決しようとする方法がこれまで広く行われており
その材料、コーティング方法に関し種々の提案がある。

一方かかる被覆材が静電気を帯電し、しばしば不都合を
生じる。例えばほこりが付着することによる汚れ易さ、
低湿度時における人体接触時の不快な電気火花、とくに
帯電による計器類、電子機器などにおける故障原因が挙
げられる。

これらの解決法と１．では、これまで各種の提案がなさ
れてきた。例えば界面活性剤などの制電性物質の被覆材
への添加、被覆材への塗布があるが、これらの帯電防止
性は一時的でありとくに被覆材へ添加した場合は被覆材
の耐水性を低下させるなどの悪影響がある。その他帯電
防止性を有する塗膜で高硬度のものなどの提案（特開昭
５４−１０９０８４号）もあるがこれらは最外層に主と
して帯電防止性を付与するためにその他の性能とのバラ
ンスの選択が困難である。

また、シリカゾルを被膜成分として含有せしめたハード
コート組成物についても特開昭５３−１１１３３６号公
報に開示されている。しかし、これでは充分な反射防止
性が得られなかった。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は各種の表面特性を有する被膜を広範囲に
選択することができ、とくに表面硬度、反射防止性、耐
久性、透明性、耐衝撃性などに優れ、さらに好ましくは
帯電防止性にも優れた複層被膜を提供することにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明は下層被膜が下記成分Ａを含有する組成物の硬化
によって得られるものであり、上層被膜が厚さ０．０１
μｍ〜１０μｍの被膜であることを特徴とする複層被膜
をその構成とするものである。

Ａ、平均粒子径１〜２００ｍμのシリカゾル。

および。

一般式Ｒ２Ｒ３ｂＳ　ｉ　　（ＯＲ’　）４−ｉ−ｂ４
−れる有機ケイ素化合物および／またはその加水分解物
。

ここでＲ２、Ｒ３は各々アルキル基、アルケニル基、ア
リル基、またはハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、メ
ルカプト基、メタクリルオキシ基ないしシアノ基を有す
る炭化水素基、Ｒ４は炭素数が１〜８のアルキル基、ア
リル基、アルコキシアルキル基、アシル基であり、ａお
よびｂは０または１であり、かつａ＋ｂは１または２で
ある。

ここで本発明でいう成分Ａとして示された平均粒子径１
〜２００ｍμのシリカゾルは、周知の方法で製造市販さ
れており、平均粒子径１〜２００ｍμのシリカを用いる
ことが必要であり、とくに５〜８０ｍμのシリカが好ま
しく用いられる。とくに上層との接着性、硬度あるいは
耐久性の向上に有効であり、一般に高分子量無水ケイ酸
を水またはアルコールなどの親水性溶媒に分散させたコ
ロイド溶液として用いられるものである。

また成分Ａには、上記シリカゾルとともに一般式Ｒ２Ｒ
３Ｓｉ　（ＯＲ４）　　　４−れるａ　　　ｂ　　　　
　　　　４−ａ−ｂ 有機ケイ素化合物および／またはその加水分解物が含有
される。

ここでＲ２、Ｒ３は各々アルキル基、アルケニル基、ア
リル基、またはハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、メ
ルカプト基、メタクリルオキシ基ないしシアノ基を有す
る炭化水素基、Ｒ４は炭素数が１〜８のアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、アシル基であり、ａおよびｂはＯ
または１であり、かつａ＋ｂは１または２である。

かかる化合物の例としては、メチルトリメトキシシラン
、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシ
ラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリ
アセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチル
トリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキ
シシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリ
エトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−
クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセト
キシシラン、３．３．３−４−リフロロプロピルトリメ
トキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
トリメトキシエトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
トリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチル
トリエトキシシラン、メチルトリフエノキシシラン、ク
ロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエト
キシシラン、グリシトキシメチルトリメトキシシラン、
グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシド
キシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチ
ルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメ
トキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシ
ラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシド
キシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプ
ロボキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシエト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフエノキシ
シラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、
α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリ
シドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシ
ブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキ
シシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン
、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、（３，
４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラ
ン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエ
トキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル
）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシ
シクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−（３
，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシ
シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ルトリプトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）エチルトリメトキシエトキシシラン、β−（
３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリフエノキ
シシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プ
ロピルトリメトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシ
クロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、β−（３
，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシ
ラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチル
トリエトキシシランなどのトリアルコキシシラン、トリ
アジルオキシシランまたはトリフエノキシシラン類また
はその加水分解物およびジメチルジメトキシシラン、フ
ェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジェトキシシ
ラン、フェニルメチルジェトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメ
チルジェトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、
γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−メタクリロキシプロピルメチルジェトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジェトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルメチルジェトキシシラン、メチルビニルジメトキシシ
ラン、メチルビニルジェトキシシラン、グリシドキシメ
チルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチ
ルジェトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジ
メトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジェト
キシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシ
シラン、β−グリシドキシエチルメチルジェトキシシラ
ン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン
、α−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、
β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β
−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルメチルジメトキシエトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−
グリシドキシプロビルメチルジアセトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルエチルジェトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルビニルジェトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルフエニルジメトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルフエニルジエトキシシランなどジアルコキ
シシランまたはジアシルオキシシラン類がその例である
。

かかる下層被膜形成性組成物は基材に塗布され、加熱硬
化される。膜厚は１０ｍμ〜４μｍの間が好ましく、そ
れより厚いと被膜にクラックが発生するなどの問題が生
じ、また薄いと制電性の発現が不十分である。また下層
被膜のみでは爪などによる摩擦で容易に傷が発生しやす
いなどの問題があり、著しく耐久性に乏しいものである
。

下層被膜の上に塗布される上層被膜としては０゜０１μ
ｍ〜１０μｍの膜厚で所期の塗膜性能を発現する物質で
あれば良いのであるが各種アクリル樹脂、ウレタン樹脂
、エポキシ樹脂などが耐久性、美観、着色性などの観点
から好ましく、表面硬度を付与する目的には、一般式 ％式％ （ただし、ｌは１〜３、Ｒ５は炭素数１〜６のアルキル
基、アルコキシアルキル基、またはアリル基、Ｒｅはエ
ポキシ基を有する炭素数１０以下の有機基、Ｒ７は炭素
数１〜６のアルキル基、ビニール基、またはアリール基
である）で示される有機ケイ素化合物の加水分解物が好
ましい。これらの有機ケイ素化合物の具体的な代表例と
しては、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリ
シドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシ
エチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルト
リエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキ
シシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン
、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−
グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
エトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポ
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリフエノキシシラ
ン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−
グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシド
キシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチ
ルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシ
ラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ
−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、（３，４−
エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、
（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキ
シシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−（３，４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リブトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）エチルトリメトキシエトキシシラン、β−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリフエノキシシ
ラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピ
ルトリメトキシシラン、γ−（３゜４−エポキシシクロ
ヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、δ−（３，４
−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン
、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリ
エトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシ
シラン、グリシドキシメチルメチルジェトキシシラン、
α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−
グリシドキシエチルメチルジェトキシシラン、β−グリ
シドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシド
キシエチルメチルジェトキシシラン、α−グリシドキシ
プロビルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプ
ロピルメチルジェトキシシラン、β−グリシドキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピ
ルメチルジェトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメ
チルジェトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチ
ルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチ
ルジプトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルメチル
ジメトキシエトキシシラン、γ−グリシドキシプロビル
メチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロビル
エチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエ
チルジェトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニ
ルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニル
ジェトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフエニル
ジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフエニル
ジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジメチル
モノメトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルジメチ
ルモノエトキシシランなどが挙げられる。

これらの中でγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロビルトリエトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グシリ
ドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシド
キシプロビルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルメチルジメトキシエトキシシラン、β−（３
，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシ
ラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル
トリエートキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）エチルトリプロポキシシラン、β−（３，４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラン
、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリ
ットキシエトキシシランのエポキシ基含有有機ケイ素化
合物の加水分解物が本発明にとくに有効である。

これらの有機ケイ素化合物はキュア温度を下げ、硬化を
より進行させるために加水分解して使用する。加水分解
は純水または塩酸、酢酸あるいは硫酸などの酸性水溶液
を添加、撹拌することによって製造される。さらに純水
、あるいは酸性水溶液の添加量を調節することによって
加水分解の度合をコントロールすることも容易に可能で
ある。加水分解に際しては、アルコキシ基と等モル以上
、３倍モル以下の純水または酸性水溶液の添加が硬化促
進の点で特に好ましい。

加水分解に際しては、アルコール等が生成してくるので
無溶媒で加水分解することが可能であるが、加水分解を
さらに均一に行なう目的で有機ケイ素化合物と溶媒を混
合した後、加水分解を行うことも可能である。また目的
に応じて加水分解後のアルコール等を加熱および／また
は減圧下に適当量除去して使用することも可能であるし
、その後に適当な溶媒を添加することも可能である。こ
れらの溶媒としてはアルコール、エステル、エーテル、
ケトン、ハロゲン化炭化水素あるいはトルエン、キシレ
ンなどの芳香族炭化水素などの溶媒が挙げられる。また
これらの溶媒は必要の応じて２種以上の混合溶媒として
使用することも可能である。また、目的に応じて加水分
解反応を促進し、さらに予備縮合等の反応を進めるため
に室温以上に加熱することも可能であるし、予備縮合を
抑えるために加水分解温度を室温以下に下げて行うこと
も可能であることは言うまでもない。

また同様の目的で硬化触媒、硬化促進剤、架橋剤等の添
加も可能であり、これらの例としてはアルミニウムアル
コキシド、アルミニウムアセチルアセトネートなどのア
ルミニウム化合物、その他の金属錯化合物、イミダゾー
ル、有機酸無水物、各種アミン化合物などのエポキシ樹
脂硬化剤などが使用可能である。

さらに本発明において帯電防止性を高からしめる目的に
好適な例としては各種ケイ素のテトラアルコキシドおよ
びその縮重合物の加水分解物が挙げられる。具体的な例
としてはメチルシリケート、エチルシリケート、ｎ−プ
ロピルシリケート、ｉ−プロピルシリケート、ｎ−ブチ
ルシリケート、ｔ−ブチルシリケート、ｉ−ブチルシリ
ケートなどがある。

またこれらの上層被膜を形成するコーティング組成物は
、その目的に応じて二種以上混合して使用することも可
能である。

本発明は上記例にあるような上層被膜形成性組成物を適
当な溶剤に溶解または分散し、コーティング組成物とし
て成分Ａからなる下履被膜上に塗布して用いられる。被
膜の厚みは０．０１μｍ〜１０μｍ１好ましくは０．０
２μｍ〜５μｍとすることが適当である。すなわち、こ
れより厚くなると帯電防止性の向上が認められなくなる
。また薄いと十分な表面硬度が得られなくなるなどの問
題が生じる傾向にある。上層被膜は上記の条件を満たす
場合は２層以上から成ることもできる。

また本発明の方法に於いて、成分Ａを含有する複層被膜
およびその上にコーティングする上層被膜の厚み、材質
を適当に選択することによって、表面硬度、耐久性等の
向上の他に、基材の反射防止のみならず、反射増加の機
能を付与することも可能である。塗布された各種のコー
ティング組成物は段階的に加熱硬化および／または乾燥
することもできるし、下層の塗膜を予備硬化および／ま
たは乾燥した後、上層をコーティングし、加熱硬化およ
び／または乾燥することも可能である。加熱方法として
は熱風、赤外線などで行うことが可能である。また加熱
温度は適用される基材および使用されるコーティング組
成物によって決定されるべきであるが、通常は５０〜２
５０℃、より好ましくは６０〜２００℃が使用される。

下層塗膜での場合これより低温では硬化または乾燥が不
十分であり、またこれより高温になると熱分解などが起
って黄変などの問題点を生ずる。

上層被膜にあっては硬化性官能基、例えば重合、もしく
はプレポリマー中の２重結合などを利用して紫外線、電
子線、γ線などの放射線を用いて硬化させることもでき
る。

また、本発明の成分Ａには下記一般式 ％式％（） で示される化合物、その加水分解物および／またはこれ
らの縮重合したオリゴマないしポリマを添加することが
可能である。

ここでＭはＴｉ　（ＩＶ）、Ｓｉ　（ＩＶ）、Ｚｒ　（
ＴＶ）、ｍ＋ｎは１〜４の整数、ｍ、ｎは各々０．１．
２．３または４、ＲおよびＲ′は炭素数１〜１０のアル
キル基、アルコキシアルキル基、またはアシル基、Ｘは
Ｍ　’　ＣＯＣＨ２ＣＯＭ　２およびＭ３Ｃ０ＣＨ２Ｃ
００Ｍ’からなる群から選ばれた化合物から生ずる配位
子（ここでＭ’　、Ｍ２　、Ｍ３およびＭ４は炭素数６
以下のアルキル基）である。

かかるチタニウム、ケイ素およびジルコニウムの化合物
はこれらのアルコキシド、カルボン酸塩および／または
キレート化合物であって、これらの化合物は下層被膜形
成組成物中に被膜形成成分中にＭ　０２に換算して１０
．０重量％以上含有するに必要な置台まれていることが
好ましい。（ここでＭは先に定義した４価の元素を示す
）。

これらの量を含有することにより、充分な帯電防止性を
示すことが可能となる。

前記一般式で示される化合物の具体例としては例えば、
チタンテトラエトキシド、チタンテトラ−ｉ−プロポキ
シド、チタンテトラ−ｎ−プロポキシド、チタンテトラ
−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−５ｅｅ−ブトキシド
、チタンテトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシド、アルミニウム
トリエトキシド、アルミニウムトリーミープロポキシド
、アルミニウムトリブトキシド、ジルコニウムテトラエ
トキシド、ジルコニウムテトラ−ｉ−プロポキシド、ジ
ルコニウムテトラ−ｎ−プロポキシド、ジルコニウムテ
トラ−ｎ−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−５ｅｅ−
ブトキシド、ジルコニウムテトラ−１ｅｒ１−ブトキシ
ド、メチルシリケート、エチルシリケート、ｎ−プロピ
ルシリケート、ｉ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシ
リケート、５ｅｃ−ブチルシリケートおよびｔ−ブチル
シリケートなどのアルコレート化合物、ジ−イソプロポ
キシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジブトキシ
チタニウムビスアセチルアセトネート、ジ−エトキシチ
タニウムビスアセチルアセトネート、トリーｎ−ブトキ
シジルコニウムモノエチルアセトアセテート、ジルコニ
ウムモノブトキシトリスアセチルアセトネート、ジルコ
ニウムジブトキシビスアセチルアセトネート、ジルコニ
ウムトリブトキシアセチルアセトネート、ジルコニウム
モノブトキシトリスエチルアセトアセテート、ジルコニ
ウムブトキシビスエチルアセトアセテートなどのキレー
ト化合物などが挙げられる。

本発明の基材としては、特に限定されるものではないが
、液状コーティングの観点から、ガラス、プラスチック
材料がと（に有効な結果を与える。

上記のプラスチック材料としてはポリメチルメタクリレ
ートおよびその共重合体、ポリカーボネート、ジエチレ
ングリコールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）、
ポリエステルとくにポリエチレンテレフタレート、およ
び不飽和ポリエステル、アクリロニトリル−スチレン共
重合体、塩化ビニル、ポリウレタン、エポキシ樹脂など
が好ましい。

また、ガラスにも好ましく用いることができる。

さらに被覆材料で被覆された上記のプラスチック、ガラ
スなどの基材にも好ましく適用できる。

とくに本発明の下層被膜のさらに下層にある被膜材料に
よって付着性、硬度、耐薬品性、耐久性、発色性などの
諸物性を向上させることができる。

さらにこれらのコーティング組成物中には塗布作業性を
向上させるための平滑性、消泡剤、被膜改良剤としての
紫外線吸収剤、酸化防止剤の他、防曇性を付与する意味
で各種の界面活性剤などの添加剤を用いることができる
。また塗布作業にあたっではこれらの組成物は通常揮発
性溶媒に希釈して塗布される。溶媒°として用いられる
ものは、とくに限定されないが、使用にあたっては組成
物の安定性、基材に対する濡れ性、揮発性などを考慮し
て決められるべきである。また溶媒は１種のみならず２
種以上の混合物として用いることも可能である。

これらの溶剤の中には、とくに下層被膜形成性のコーテ
ィング組成物の安定化に有用なものもあり、例えば炭素
数８以下のアルコール類、エチレングリコールないしは
ジエチレングリコールのモノアルキルエーテル類、アセ
チルアセトンなどのジケトン類、アセト酢酸エチルなど
のケトエステル類などがとくにチタン、ジルコニウムな
どのアルコキシド、キレート化合物に対して有効である
。

ここでコーティング組成物とは通常の塗布作業が適用で
きる範囲の粘度を有する組成物であって適用温度で１０
ポイズ以下、好ましくは１ポイズ以下のものが用いられ
る。すなわち、これより高い粘度を有するコーティング
組成物は、均一な被膜を得ることが困難である。塗布方
法としては通常のコーティング作業で用いられる方法が
可能であるが薄膜の膜厚コントロールの観点からはカー
テンフロー塗装、浸漬塗装、スピン塗装などが好ましい
、。

これらの材料は、眼鏡、カメラなどの光学用レンズ、各
種表示装置用カバーとくにＣＲＴ用前面前面板装鉄板な
どにその効果を発揮する。

また各種の塗布にあたっては各種の化学処理、たとえば
熱水浸漬、溶媒浸漬、酸化還元剤処理、酸、アルカリ処
理など、物理処理、例えば低温プラズマ処理、コロナ放
電処理、紫外線照射などを各々と接する層に適用するこ
とで付着性、ぬれ性を向上させることもできる。

［実施例］ 以下実施例により本発明の詳細な説明するが、本発明は
これに限定されるものではない。

実施例１ （１）下層コーティング組成物の調製 （ａ）　　γ−グリシドキシプロピルメチルジェトキシ
シラン加水分解物の調製 γ−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン５０
ｇを撹拌下で液温を１０℃にコントロールしながら０．
０５規定塩酸水溶液７．３ｇを滴下混合して、加水分解
物を得た。

（ｂ）　コーティング組成物の調製 前記（１）、　　（ａ）で調製した加水分解物を１゜６
ｇ１メタ−ノール分散コロイド状シリカ５ｇ１メチルイ
ソブチルケトン１８２．５ｇおよびアルミニウムアセチ
ルアセトネート０．１３ｇを添加し、均一になるまで撹
拌する。その後、撹拌下でテトラ−ｎ−ブチルチタネー
ト１０．８ｇを添加してコーティング組成物を得た。

■　上層コーティング組成物の調製 前記（１）（ａ）で調製した加水分解物２９．４ｇ。

シリコーン系界面活性剤０．２３ｇ、ｎ−プロピルアル
コール４１９．５ｇおよびアルミニウムアセチルアセト
ネー）０．９ｇを添加し、均一になるまで十分撹拌して
コーティング組成物を得た。

■）　塗布およびキュア まず前項（１）で調製したコーティング組成物を用いて
、カセイソーダ水溶液に浸漬後、洗浄したジエチレング
リコールビスアリルカーボネート重合体レンズ（直径７
５閲、厚み２．　１ｍｍ、　ＣＲ−３９プラルンズ）に
浸漬法で塗布した。塗布条件は引き上げ速度１０ｃｍ／
分であり、塗布したレンズは８０℃の熱風乾燥機で１時
間加熱キュアした。

この後前項■で調製したコーティング組成物を用いて、
下層と同様にして、下層上にコーティングした。塗布し
たレンズは８０℃で２時間加熱キュアした。

（４）　　試験結果 得られた複層被膜を有するレンズの性能は、下記の方法
に従って試験を行った。結果は、第１表に示す。

（イ）外観 肉眼にてその透明性、着色性、クラックの有無を観察し
た。

（ロ）全光線透過率 ５Ｍ−３カラーコンピユーター（スガ試験機社製）を用
いて測定した。

（ハ）硬度 ＃００００のスチールウールを用い複数被膜上をこすり
、傷付き具合を判定した、判定基準は、 Ａ・・・強くこするとわずかに傷が発生するＢ・・・弱
いこすりで容易に傷が発生する。

仁）密着性 複層被膜上に１ｍｍ間隔のＣＲ−３９プラルンズに達す
るゴバン目を１００個入れて、セロハン粘着テープ（商
品名“セロテープ”ニチバン社製）を強く貼りつけ、９
０度方向に急速にはがし、塗膜剥離の有無を調べた。

（ホ）染色性 赤、青、黄からなる分散染料を用い、９３℃１５分の条
件で染色を行った。染色性としては（ロ）と同様の装置
を用いて測定した。

（へ）帯電防止性 ２０℃６５％ＲＨの条件下に１晩放置後、複層被膜上に
鹿皮でこすり灰の付着具合で判定した。

Ａ・・・灰が付着しない Ｂ・・・灰が付着する ［発明の効果］ 本発明によって、各種の表面特性を有する被膜を広範囲
に選択することができ、”とくに表面硬度、反射防止性
、耐久性、透明性、耐衝撃性など、さらに好ましくは帯
電防止性にすぐれた複層被膜を提供することができる。

特許出願人　東　し　株　式　会　社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）基材表面に塗布された複層被膜であって、下層被
   膜が下記成分Ａを含有する組成物の硬化によって得られ
   るものであり、上層被膜が厚さ０．０１μｍ〜１０μｍ
   の被膜であることを特徴とする複層被膜。 Ａ、平均粒子径１〜２００ｍμのシリカゾル、および、 一般式Ｒ＾２＿ａＲ＾３＿ｂＳｉ（ＯＲ＾４）＿４＿−
   ＿ａ＿−＿ｂで表される有機ケイ素化合物および／また
   はその加水分解物。 ここでＲ＾２、Ｒ＾３は各々アルキル基、アルケニル基
   、アリル基、またはハロゲン基、エポキシ基、アミノ基
   、メルカプト基、メタクリルオキシ基ないしシアノ基を
   有する炭化水素基、Ｒ＾４は炭素数が１〜８のアルキル
   基、アルコキシアルキル基、アシル基であり、ａおよび
   ｂは０または１であり、かつａ＋ｂは１または２である
   。