JPH02160751A - 4−アミノフエノール誘導体 - Google Patents
4−アミノフエノール誘導体Info
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- JPH02160751A JPH02160751A JP63314792A JP31479288A JPH02160751A JP H02160751 A JPH02160751 A JP H02160751A JP 63314792 A JP63314792 A JP 63314792A JP 31479288 A JP31479288 A JP 31479288A JP H02160751 A JPH02160751 A JP H02160751A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はりボキシゲナーゼ阻害剤として有用な新規4−
アミノフェノール誘導体又はその塩に関する。
アミノフェノール誘導体又はその塩に関する。
(従来技術)
従来、リポキシゲナーゼ阻害活性を有する化合物として
は、例えば4−(2−(5−メチル)チアゾリルアミノ
)−2,3−ジーter t−ブチルフェノール(特開
昭62−67023号)及び3−メチル−4−ヒドロキ
シ−5−n−プロピル−7−フルオロベンゾフランの2
−エトキシカルボニル又は2−ベンジルオキシカルボニ
ル体(特開昭62−53980号)等が知られている。
は、例えば4−(2−(5−メチル)チアゾリルアミノ
)−2,3−ジーter t−ブチルフェノール(特開
昭62−67023号)及び3−メチル−4−ヒドロキ
シ−5−n−プロピル−7−フルオロベンゾフランの2
−エトキシカルボニル又は2−ベンジルオキシカルボニ
ル体(特開昭62−53980号)等が知られている。
また、これらの化合物は喘息等のアレルギー疾患の治療
又は予防に用い得ることが報告されている。
又は予防に用い得ることが報告されている。
(発明の構成及び効果)
本発明は次の一般式で示される新規4−アミノフェノー
ル誘導体又はその塩に関する。
ル誘導体又はその塩に関する。
(但し、R1及びR2は低級アルキル基、低級アルカノ
イル基又はシクロアルキル基、R3は水素原子又は低級
アルキル基、R4は低級アルキル基又はジフェニル低級
アルキル基で置換されていてもよい、ナフチル基、ナフ
チルオキシ基及び複素環式基から選ばれる基、Yは単結
合手、低級アルキレン基又は低級アルケニレン基を表す
。)で示される4−アミノフェノール誘導体又はその塩
。
イル基又はシクロアルキル基、R3は水素原子又は低級
アルキル基、R4は低級アルキル基又はジフェニル低級
アルキル基で置換されていてもよい、ナフチル基、ナフ
チルオキシ基及び複素環式基から選ばれる基、Yは単結
合手、低級アルキレン基又は低級アルケニレン基を表す
。)で示される4−アミノフェノール誘導体又はその塩
。
′ 本発明の目的物(1)及びその塩は優れたりボキシ
ゲナーゼ阻害作用を有し、抗アレルギー剤及び抗炎症剤
として有用な医薬化合物である。
ゲナーゼ阻害作用を有し、抗アレルギー剤及び抗炎症剤
として有用な医薬化合物である。
本発明の目的物の具体例としては、一般式(■)におい
て、R1及びR2が低級アルキル基、シクロアルキル基
又は低級アルカノイル基、R3が水素原子又は低級アル
キル基、R4が低級アルキル基又はジフェニル低級アル
キル基で置換されていてもよい、ナフチル基、ナフチル
オキシ基、ピロリル基、ピロリジル基、ピリジル基、ピ
ペリジル基、イミダゾリル基、ピペラジル基、フリル基
、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチ
エニル基、モルホリル基、チアゾリル基、チアゾリジニ
ル基、インドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベ
ンゾチエニル基又はベンゾチアゾリル基から選ばれる基
、Yが単結合手、低級アルキレン基又は低級アルケニレ
ン基である化合物があげられる。好ましい化合物として
は、R1及びR″が低級アルキル基又はシクロアルキル
基、R4がナフチル基、ナフチルオキシ基、N−低級ア
ルキルピロリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、N−
ジフェニル低級アルキルピペラジル基、フリル基、テト
ラヒドロフリル基、チエニル基、2−低級アルキルチエ
ニル基、モルホリノ基、チアゾリル基、インドリル基、
キノリル基、イソキノリル基又はベンゾチエニル基であ
るものかあげられ、更に好ましい化合物として?卦R’
及びR2が低級アルキル基、R′Jが水素原子、R4が
ナフチル基、N−低級アルキルピロリル基、ピリジル基
、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、2−
低級アルキルチエニル基、チアゾリル基、インドリル基
又はベンゾチエニル基であるものがあげられる。
て、R1及びR2が低級アルキル基、シクロアルキル基
又は低級アルカノイル基、R3が水素原子又は低級アル
キル基、R4が低級アルキル基又はジフェニル低級アル
キル基で置換されていてもよい、ナフチル基、ナフチル
オキシ基、ピロリル基、ピロリジル基、ピリジル基、ピ
ペリジル基、イミダゾリル基、ピペラジル基、フリル基
、テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチ
エニル基、モルホリル基、チアゾリル基、チアゾリジニ
ル基、インドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベ
ンゾチエニル基又はベンゾチアゾリル基から選ばれる基
、Yが単結合手、低級アルキレン基又は低級アルケニレ
ン基である化合物があげられる。好ましい化合物として
は、R1及びR″が低級アルキル基又はシクロアルキル
基、R4がナフチル基、ナフチルオキシ基、N−低級ア
ルキルピロリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、N−
ジフェニル低級アルキルピペラジル基、フリル基、テト
ラヒドロフリル基、チエニル基、2−低級アルキルチエ
ニル基、モルホリノ基、チアゾリル基、インドリル基、
キノリル基、イソキノリル基又はベンゾチエニル基であ
るものかあげられ、更に好ましい化合物として?卦R’
及びR2が低級アルキル基、R′Jが水素原子、R4が
ナフチル基、N−低級アルキルピロリル基、ピリジル基
、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、2−
低級アルキルチエニル基、チアゾリル基、インドリル基
又はベンゾチエニル基であるものがあげられる。
本発明に於いて、低級アルキル基、低級アルカノイル基
、シクロアルキル基、低級アルキレン基及び低級アルケ
ニレン基の例としては、それぞれ炭素数1〜4のアルキ
ル基、炭素数2〜5のアルカノイル基、炭素数3〜7の
シクロアルキル基、炭素数l〜4のアルキレン基及び炭
素数2〜4のアルケニレン基があげられる。
、シクロアルキル基、低級アルキレン基及び低級アルケ
ニレン基の例としては、それぞれ炭素数1〜4のアルキ
ル基、炭素数2〜5のアルカノイル基、炭素数3〜7の
シクロアルキル基、炭素数l〜4のアルキレン基及び炭
素数2〜4のアルケニレン基があげられる。
目的物(1)の塩としては、例えば、アルカリ金属塩(
例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等)、アルカリ土類
金属塩(例えば、カルシウム塩等)、アルミニウム塩の
如き塩基性塩があげられ、R4が含窒素複素環式基を含
む基である場合、目的物(I)は塩酸塩、臭化水素酸塩
、硫酸塩の如き無機酸付加塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ベ
ンゼンスルホン酸塩の如き有機酸付加塩とすることもで
きる。
例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等)、アルカリ土類
金属塩(例えば、カルシウム塩等)、アルミニウム塩の
如き塩基性塩があげられ、R4が含窒素複素環式基を含
む基である場合、目的物(I)は塩酸塩、臭化水素酸塩
、硫酸塩の如き無機酸付加塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ベ
ンゼンスルホン酸塩の如き有機酸付加塩とすることもで
きる。
本発明によれば、目的物(1)は、一般式(但し、ZO
は保護されていてもよい水酸基を表し、R1,Rt及び
R3は前記と同一意味を有する。) で示されるアニリン化合物又はその塩と一般式%式%(
) (但し、R4及びYは前記と同一意味を有する。)で示
されるカルボン酸化合物、その塩又はその反応性誘導体
とを縮合反応させ、20が保護された水酸基である場合
には、生成物から水酸基の保護基を除去して製すること
ができる。
は保護されていてもよい水酸基を表し、R1,Rt及び
R3は前記と同一意味を有する。) で示されるアニリン化合物又はその塩と一般式%式%(
) (但し、R4及びYは前記と同一意味を有する。)で示
されるカルボン酸化合物、その塩又はその反応性誘導体
とを縮合反応させ、20が保護された水酸基である場合
には、生成物から水酸基の保護基を除去して製すること
ができる。
又、目的物(1)のうち、Yが炭素数2以上の低級アル
キレン基である化合物は、一般式(但し、Yl は低級
アルケニレン基を表し、R1−R4は前記と同一意味を
有する。) で示される化合物を還元して製することもできる。
キレン基である化合物は、一般式(但し、Yl は低級
アルケニレン基を表し、R1−R4は前記と同一意味を
有する。) で示される化合物を還元して製することもできる。
さらに目的物(1)のうち、R4がピロリジル基、ピペ
リジル基、イミダゾリル基、ピペラジル基、ジフェニル
低級アルキル基置換ピペラジル基、モルホリル基又はチ
アゾリジニル基の如き置換又は非置換含窒素複素環式基
であってYがエチレン基である化合物は、一般式 %式% (但し、R1,R2及びR3は前記と同一意味を有する
。) で示されるアクリロイルアミノ化合物又はその塩に一般
式 %式%() (但し、R5は置換又は非置換含窒素複素環式基を表す
。) で示される化合物又はその塩を付加反応させて製するこ
ともできる。
リジル基、イミダゾリル基、ピペラジル基、ジフェニル
低級アルキル基置換ピペラジル基、モルホリル基又はチ
アゾリジニル基の如き置換又は非置換含窒素複素環式基
であってYがエチレン基である化合物は、一般式 %式% (但し、R1,R2及びR3は前記と同一意味を有する
。) で示されるアクリロイルアミノ化合物又はその塩に一般
式 %式%() (但し、R5は置換又は非置換含窒素複素環式基を表す
。) で示される化合物又はその塩を付加反応させて製するこ
ともできる。
原料化合物(II)における水酸基の保護基としては慣
用のものをいずれも用いることができ、例えば、置換又
は非置換フェニル低級アルキル基(例えば、ベンジル基
、p−メトキシヘンシル基)、置換又は非置換フェニル
低級アルコキシカルボニル基(例えば、ベンジルオキシ
カルボニル基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル
基)、置換又は非置換フェニルスルホニル基(例えば、
フェニルスルホニル基、p−メトキシフェニルスルホニ
ル基)、低級アルカノイル基(例えば、アセチル基、プ
ロピオニル基)等を適宜用いることができる。また、化
合物(I[I)、(■)及び(1−a)の塩としてはア
ルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アルミニウム塩な
どを、化合物(V)の塩としては無機酸付加塩、有機酸
付加塩を適宜用いることができ、一方、化合物(n)の
塩としては上記塩基性塩及び酸付加塩のいずれをも用い
ることができる。
用のものをいずれも用いることができ、例えば、置換又
は非置換フェニル低級アルキル基(例えば、ベンジル基
、p−メトキシヘンシル基)、置換又は非置換フェニル
低級アルコキシカルボニル基(例えば、ベンジルオキシ
カルボニル基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル
基)、置換又は非置換フェニルスルホニル基(例えば、
フェニルスルホニル基、p−メトキシフェニルスルホニ
ル基)、低級アルカノイル基(例えば、アセチル基、プ
ロピオニル基)等を適宜用いることができる。また、化
合物(I[I)、(■)及び(1−a)の塩としてはア
ルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アルミニウム塩な
どを、化合物(V)の塩としては無機酸付加塩、有機酸
付加塩を適宜用いることができ、一方、化合物(n)の
塩としては上記塩基性塩及び酸付加塩のいずれをも用い
ることができる。
アミノフェノール化合物(Il)又はその塩とカルボン
酸化合物(I[r)又はその反応性誘導体との縮合反応
はペプチド合成の常法に従い実施することができる。例
えば、カルボン酸化合物(Il[)の反一応性誘導体を
用いる場合、当該縮合反応は適当な溶媒中、脱酸剤の4
在または非存在下に実施することができる。カルボン酸
化合物(nl)の反応性誘導体としては対応する酸ハラ
イド、混合酸無水物、活性エステルを、また脱酸剤とし
ては、例えば、水酸化アルカリ金属、炭酸アルカリ金属
、炭酸水素アルカリ金属、トリアルキルアミン、N、N
−ジアルキルアニリン、ピリジン及びN−アルキルモル
ホリンなどをいずれも好適に用いることができる。
酸化合物(I[r)又はその反応性誘導体との縮合反応
はペプチド合成の常法に従い実施することができる。例
えば、カルボン酸化合物(Il[)の反一応性誘導体を
用いる場合、当該縮合反応は適当な溶媒中、脱酸剤の4
在または非存在下に実施することができる。カルボン酸
化合物(nl)の反応性誘導体としては対応する酸ハラ
イド、混合酸無水物、活性エステルを、また脱酸剤とし
ては、例えば、水酸化アルカリ金属、炭酸アルカリ金属
、炭酸水素アルカリ金属、トリアルキルアミン、N、N
−ジアルキルアニリン、ピリジン及びN−アルキルモル
ホリンなどをいずれも好適に用いることができる。
一方、アミンフェノール化合物(II)又はその塩とカ
ルボン酸化合物(III)またはその塩との縮合反応は
例えば、縮合剤の存在下又は非存在下で実施することが
できる。縮合剤としては、例えばN、 N’−ジシク
ロへキシルカルボジイミド、N−シクロへキシル−N゛
−モルフォリノカルボジイミド、N−エチル−N″−(
3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミドなど慣用
の縮合剤をいずれも用いることができる。上記縮合反応
はいずれもジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン
、ジクロロメタン、酢酸エチル、アセトニトリルなどの
溶媒中、氷冷〜加温下で好適に進行する。
ルボン酸化合物(III)またはその塩との縮合反応は
例えば、縮合剤の存在下又は非存在下で実施することが
できる。縮合剤としては、例えばN、 N’−ジシク
ロへキシルカルボジイミド、N−シクロへキシル−N゛
−モルフォリノカルボジイミド、N−エチル−N″−(
3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミドなど慣用
の縮合剤をいずれも用いることができる。上記縮合反応
はいずれもジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン
、ジクロロメタン、酢酸エチル、アセトニトリルなどの
溶媒中、氷冷〜加温下で好適に進行する。
ZOが保護された水酸基である場合、つづく保護基の除
去は、当該保護基の種類に応じ、適宜常法にしたがって
実施することができる。
去は、当該保護基の種類に応じ、適宜常法にしたがって
実施することができる。
また、化合物(I−a)の還元反応は常法に従い実施す
ることができる。例えば、当該還元反応はラネーニッケ
ル、ラネーコバルト又はパラジウム系触媒の存在下、接
触還元によって実施でき、低級アルカノール中、水素化
ホウ素アルカリ金属を用いて実施することもできる。後
者の場合、必要とあれば粉末テルル、塩化ニッケル、塩
化コバルト、塩化銅、塩化パラジウム等の存在下に実施
してもよい。あるいは、該還元反応はアルカリ金属又は
マグネシウムと低級アルカノール、亜鉛と酸、リチウム
とアンモニア又はアミン、活性化ニッケルと水、ヒドラ
ジンと酸化剤を用いて行うこともできる。
ることができる。例えば、当該還元反応はラネーニッケ
ル、ラネーコバルト又はパラジウム系触媒の存在下、接
触還元によって実施でき、低級アルカノール中、水素化
ホウ素アルカリ金属を用いて実施することもできる。後
者の場合、必要とあれば粉末テルル、塩化ニッケル、塩
化コバルト、塩化銅、塩化パラジウム等の存在下に実施
してもよい。あるいは、該還元反応はアルカリ金属又は
マグネシウムと低級アルカノール、亜鉛と酸、リチウム
とアンモニア又はアミン、活性化ニッケルと水、ヒドラ
ジンと酸化剤を用いて行うこともできる。
アクリロイルアミノ化合物(rV)と化合物(■)との
反応は、適当な溶媒(例えば、エタノール、テトラヒド
ロフラン、ジクロロメタン、クロロホルム、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド)中、加温下で好適
に実施することができる。
反応は、適当な溶媒(例えば、エタノール、テトラヒド
ロフラン、ジクロロメタン、クロロホルム、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド)中、加温下で好適
に実施することができる。
かくして得られた本発明の目的物(1)の遊離塩基又は
その塩は、5−リポキシゲナーゼ阻害活性、アレルギー
性疾患の症状を惹起する化学伝達物質であるS RS
−A (slow−reacting 5ubstan
sof anaphylaxis)合成阻害作用、ロイ
コトリエンC4生成阻害作用及びP A F (PIa
teleL Activa−1ing Factor
)誘発致死防護作用を示し、抗アレルギー剤及び抗炎症
剤として有用な医薬化合物である。
その塩は、5−リポキシゲナーゼ阻害活性、アレルギー
性疾患の症状を惹起する化学伝達物質であるS RS
−A (slow−reacting 5ubstan
sof anaphylaxis)合成阻害作用、ロイ
コトリエンC4生成阻害作用及びP A F (PIa
teleL Activa−1ing Factor
)誘発致死防護作用を示し、抗アレルギー剤及び抗炎症
剤として有用な医薬化合物である。
本発明の目的物(1)は遊離のまま又はその塩のいずれ
でも医薬用途に用いることができるが、とりわけ遊離の
形で用いるのが好ましい。
でも医薬用途に用いることができるが、とりわけ遊離の
形で用いるのが好ましい。
本発明の目的物([)又はその塩は経口的にも非経口的
にも投与することができる。非経口的に投与する場合の
剤型としては、例えば、注射剤、軟膏剤、エアゾール剤
等を、経口投与する場合の剤形としては、錠剤、カプセ
ル剤、顆粒剤、シロップ剤、乳剤、懸濁液剤等があげら
れる。
にも投与することができる。非経口的に投与する場合の
剤型としては、例えば、注射剤、軟膏剤、エアゾール剤
等を、経口投与する場合の剤形としては、錠剤、カプセ
ル剤、顆粒剤、シロップ剤、乳剤、懸濁液剤等があげら
れる。
目的物(1)又はその薬理的に許容しうる塩の投与量は
投与経路、患者の年齢、体重、状態及び疾患の種類など
によって異なるが、一般に0.3〜300■/kg/日
の範囲であるのが好ましい。
投与経路、患者の年齢、体重、状態及び疾患の種類など
によって異なるが、一般に0.3〜300■/kg/日
の範囲であるのが好ましい。
尚、上記反応の原料化合物のうち、アニリン化合物(I
I)は、例えば一般式 (但し、R1−R3及びZOは前記と同一意味を有する
。) で示されるフェノール化合物の4位を、常法により、ニ
トロ化あるいはニトロソ化し、さらに生成物を還元して
製することができる。ここに、R1及びR2の少なくと
も一つが低級アルカノイル基である化合物(Vl)は、
一般式 (但し、R目及びR21の少なくとも一つは水素原子、
他は低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、R3
及びZOは前記と同一意味を有する。)で示される化合
物をフリーデル−クラフッ反応の常法に従い低級アルカ
ノイル化して製することができる。また、アクリロイル
アミノ化合物(IV)は、アニリン化合物(■)とアク
リル酸又はその反応性誘導体とを、アニリン化合物(I
I)とカルボン酸化合物(1)又はその反応性誘導体と
の反応と同様の条件下で反応させることにより製するこ
とができる。
I)は、例えば一般式 (但し、R1−R3及びZOは前記と同一意味を有する
。) で示されるフェノール化合物の4位を、常法により、ニ
トロ化あるいはニトロソ化し、さらに生成物を還元して
製することができる。ここに、R1及びR2の少なくと
も一つが低級アルカノイル基である化合物(Vl)は、
一般式 (但し、R目及びR21の少なくとも一つは水素原子、
他は低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、R3
及びZOは前記と同一意味を有する。)で示される化合
物をフリーデル−クラフッ反応の常法に従い低級アルカ
ノイル化して製することができる。また、アクリロイル
アミノ化合物(IV)は、アニリン化合物(■)とアク
リル酸又はその反応性誘導体とを、アニリン化合物(I
I)とカルボン酸化合物(1)又はその反応性誘導体と
の反応と同様の条件下で反応させることにより製するこ
とができる。
実験例1
5−1ボキシ゛ −ゼ
ラットの培養好塩基球性白血病細胞株RBL−1細胞よ
り5−リポキシゲナーゼを含む酵素液を調製し、インド
メタシン・塩化カルシウム・アデノシン三リン酸及び被
検物質の存在下、放射性標識したアラキドン酸を基質と
して反応させた。反応液の一定量を薄層上にスポットし
て展開分離後、酵素反応産物5−HETE (5−ヒド
ロキシエイコサテトラエン酸)ii!ii分の放射活性
を測定することにより5−リポキシゲナーゼ活性の指標
とした。被検物質の5−リポキシゲナーゼ阻害活性は、
対照試験における反応を50%抑制する濃度IC6゜(
μM)で表示した。
り5−リポキシゲナーゼを含む酵素液を調製し、インド
メタシン・塩化カルシウム・アデノシン三リン酸及び被
検物質の存在下、放射性標識したアラキドン酸を基質と
して反応させた。反応液の一定量を薄層上にスポットし
て展開分離後、酵素反応産物5−HETE (5−ヒド
ロキシエイコサテトラエン酸)ii!ii分の放射活性
を測定することにより5−リポキシゲナーゼ活性の指標
とした。被検物質の5−リポキシゲナーゼ阻害活性は、
対照試験における反応を50%抑制する濃度IC6゜(
μM)で表示した。
(Biochimica et Biophysica
acta 795巻、458頁、(1984年)記載
のM、Furukawaらの方法〕実験結果は下記第1
表記載の通りである。
acta 795巻、458頁、(1984年)記載
のM、Furukawaらの方法〕実験結果は下記第1
表記載の通りである。
第 1 表
実験例2
旦エエILエンC
卵白アルブミンで感作したモルモットの肺を細片とし、
被検物質及びインドメタシンの存在下、卵白アルブミン
と反応させて生ずるロイコトリエンC4を溶媒抽出し、
ラジオイムノアッセイ法により定量した。被検物質のロ
イコトリエンC4生成阻害作用は、検体濃度10−’M
における阻害%で表示した。
被検物質及びインドメタシンの存在下、卵白アルブミン
と反応させて生ずるロイコトリエンC4を溶媒抽出し、
ラジオイムノアッセイ法により定量した。被検物質のロ
イコトリエンC4生成阻害作用は、検体濃度10−’M
における阻害%で表示した。
実験結果は下記第2表記載の通りである。
第2表
実験例3
PAP悸 −
マウス腹腔内に被検物質を投与し、30分後にLD91
1相当量のPAPを尾静脈より投与して、PAF投与投
与1稜 下記第3表の化合物は、30■/kgの投与で、生第3
表 実施例1 4−アミノ−2.6−ジメチルフェノール1。
1相当量のPAPを尾静脈より投与して、PAF投与投
与1稜 下記第3表の化合物は、30■/kgの投与で、生第3
表 実施例1 4−アミノ−2.6−ジメチルフェノール1。
5gのジクロロメタン30M1懸濁液にアルゴン気流下
、室温で炭酸水素ナトリウム979■の水30−溶液を
加え、撹拌下に2−フロイルクロリド1、71gを加え
る。混合物を5分間撹拌したのち、クロロホルム抽出す
る。抽出液を10%塩酸、ついで水で洗い、乾燥後濃縮
する。残渣をイソプロとルエーテルーイソブロビルアル
コールより再結晶して4−(2−フロイル)アミノ−2
,6−シメチルフエノール1.9gを得る。
、室温で炭酸水素ナトリウム979■の水30−溶液を
加え、撹拌下に2−フロイルクロリド1、71gを加え
る。混合物を5分間撹拌したのち、クロロホルム抽出す
る。抽出液を10%塩酸、ついで水で洗い、乾燥後濃縮
する。残渣をイソプロとルエーテルーイソブロビルアル
コールより再結晶して4−(2−フロイル)アミノ−2
,6−シメチルフエノール1.9gを得る。
M. p. 139.5〜141.0@CM a s
s (m/e);231. 136. 95uJoL I R v (cm−’);3370, 326
0. 162ON M R (DMSO−di)δ;2
,15(S,61f)、 6.64(m,LH)。
s (m/e);231. 136. 95uJoL I R v (cm−’);3370, 326
0. 162ON M R (DMSO−di)δ;2
,15(S,61f)、 6.64(m,LH)。
7、22(S,2H)、 7.85(bs,11量)
+ 8・、00(bs,III)実施例2 4−アミノ−2,6−ジメチルフェノール2。
+ 8・、00(bs,III)実施例2 4−アミノ−2,6−ジメチルフェノール2。
0gのテトラヒドロフラン10dtl液に、アルゴン雰
囲気下、イソニコチン酸1.97g及びブタノール40
0■を加える。ついで水冷下、ジシクロへキシルカルボ
ジイミド3.61gを加え、4時間攪拌する。析出晶を
ろ取し10%塩酸中に懸濁、クロロホルムで洗浄してジ
シクロヘキシル尿素を除く。水層を炭酸カリウムでp
H6とし、析出晶をろ取、クロロホルム−メタノールか
ら再結晶して4−インニコチノイルアミノ−2,6−シ
メチルフエノール1.95gを得る。
囲気下、イソニコチン酸1.97g及びブタノール40
0■を加える。ついで水冷下、ジシクロへキシルカルボ
ジイミド3.61gを加え、4時間攪拌する。析出晶を
ろ取し10%塩酸中に懸濁、クロロホルムで洗浄してジ
シクロヘキシル尿素を除く。水層を炭酸カリウムでp
H6とし、析出晶をろ取、クロロホルム−メタノールか
ら再結晶して4−インニコチノイルアミノ−2,6−シ
メチルフエノール1.95gを得る。
さらに、反応液から析出晶を除いたろ液を酢酸エチルで
希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄してブタ
ノールを除去する。ついで水洗乾燥後、溶媒を留去、残
渣をクロロホルム−メタノールから再結晶して4−イソ
ニコチノイルアミノ′−2,6−ジメチルフェノールを
さらに790■得る。
希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄してブタ
ノールを除去する。ついで水洗乾燥後、溶媒を留去、残
渣をクロロホルム−メタノールから再結晶して4−イソ
ニコチノイルアミノ′−2,6−ジメチルフェノールを
さらに790■得る。
M、p、243〜244 °C
M a s s (m/e);242.136[Rν
(cm−’);3400.3220.165ON
M R(D耶04i)δ:2.16(S、6H)、 7
.30(S、211)。
(cm−’);3400.3220.165ON
M R(D耶04i)δ:2.16(S、6H)、 7
.30(S、211)。
7.82(dd、 1.8 と4.5Hz、21+)、
8.73(dd、、1.8と4.5H11z、211
) 実施例3 水金下に2−チエニルカルボン酸128■をアセトニト
リル3−に溶解し、トリエチルアミン303■、次いで
ジエチルホスホロクロリデート207■を加え、30分
撹拌したのち、4−アミノ−2,6−ジニチルフエノー
ル201■を加え室温で反応する。反応終了後、氷片を
加え、次いで5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、析
出する結晶をろ取し、イソプロピルエーテルで洗浄後、
残渣を酢酸エチルから再結晶して、4−(2−チエニル
カルボニル)アミノ−2,6−ジニチルフエノール15
0■を白色結晶として得る。
8.73(dd、、1.8と4.5H11z、211
) 実施例3 水金下に2−チエニルカルボン酸128■をアセトニト
リル3−に溶解し、トリエチルアミン303■、次いで
ジエチルホスホロクロリデート207■を加え、30分
撹拌したのち、4−アミノ−2,6−ジニチルフエノー
ル201■を加え室温で反応する。反応終了後、氷片を
加え、次いで5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、析
出する結晶をろ取し、イソプロピルエーテルで洗浄後、
残渣を酢酸エチルから再結晶して、4−(2−チエニル
カルボニル)アミノ−2,6−ジニチルフエノール15
0■を白色結晶として得る。
M、p、190〜191.5 ’C
M a s s (ta/e): 275.111uj
ol I Rv (c+w−’); 34B0.330
0.163ON M R(DMSO−d、)δ;1.1
5(t、 7.311z、 6H)、 2.59(q、
?、3flz、 411)、 7.18(dd、 3
.7 and 5Hz、 IH)+ 7.28(s、
2H)、 7.77(dd、 1.1 and 5,0
1lz。
ol I Rv (c+w−’); 34B0.330
0.163ON M R(DMSO−d、)δ;1.1
5(t、 7.311z、 6H)、 2.59(q、
?、3flz、 411)、 7.18(dd、 3
.7 and 5Hz、 IH)+ 7.28(s、
2H)、 7.77(dd、 1.1 and 5,0
1lz。
1)1)、 7.96(dd、 1.1 and
3.7)12. IJI)実施例4〜30 対応する原料化合物を実施例〜3のいずれがと同様に処
理して下記第4〜6表記載の化合物を得る。
3.7)12. IJI)実施例4〜30 対応する原料化合物を実施例〜3のいずれがと同様に処
理して下記第4〜6表記載の化合物を得る。
第4表
第5表
第 6 表
実施例31
トランス−4−(3−(2−フリル)アクリロイルコア
ミノ−2,6−シメチルフエノール2゜5gをエタノー
ル30IR1、テトラヒドロフラン3〇−中、10%パ
ラジウム−炭素1.og存在下に常温常圧にて接触還元
する。還元終了後パラジウム−炭素を濾去、濾液より溶
媒を留去したのち残香をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー〔溶媒;クロロホルム−メタノール(20:1)
)で精製して4− (3−(2−テトラヒドロフリル)
プロピオニルコアミノ−2,6−シメチルフエノール1
.62を得る。
ミノ−2,6−シメチルフエノール2゜5gをエタノー
ル30IR1、テトラヒドロフラン3〇−中、10%パ
ラジウム−炭素1.og存在下に常温常圧にて接触還元
する。還元終了後パラジウム−炭素を濾去、濾液より溶
媒を留去したのち残香をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー〔溶媒;クロロホルム−メタノール(20:1)
)で精製して4− (3−(2−テトラヒドロフリル)
プロピオニルコアミノ−2,6−シメチルフエノール1
.62を得る。
M、 p、 88.5〜90.0°0cM a s
s (m/e);263. 179. 137NMR
(CDCh) δ;2.18(S、68)、 1.
5−2.Hm、6)l)、2.45(t、711z、2
11)、 3.5−4.1(m、311)、 7.
04(S、211)実施例32 トランス−4−(3−(2−ナフチル)アクリロイルコ
アミノ−2,6−シメチルフエノールを実施例31と同
様に処理して4− (3−(2−ナフチル)プロピオニ
ルコアミノ−2,6−シメチルフエノールを得る。
s (m/e);263. 179. 137NMR
(CDCh) δ;2.18(S、68)、 1.
5−2.Hm、6)l)、2.45(t、711z、2
11)、 3.5−4.1(m、311)、 7.
04(S、211)実施例32 トランス−4−(3−(2−ナフチル)アクリロイルコ
アミノ−2,6−シメチルフエノールを実施例31と同
様に処理して4− (3−(2−ナフチル)プロピオニ
ルコアミノ−2,6−シメチルフエノールを得る。
M、 p、165〜166.5 ”C(酢酸エチル
−ヘキサン) M a s s (m/e):319(M’ )、 1
37N M R(DMSO−d、)δ:2.13(S、
611)、 2.65(t、811z。
−ヘキサン) M a s s (m/e):319(M’ )、 1
37N M R(DMSO−d、)δ:2.13(S、
611)、 2.65(t、811z。
211)、 3.08(t、8Hz、211)、 7.
11(S、211)、 7.39〜1゜90(m、88
) 実施例33 トランス−4−C3−(2−フリル)アクリロイルコア
ミノ−2,6〜ジメチルフエノール2゜3g、水素化ホ
ウ素ナトリウム2.6g、粉末テルル3.2gの混合物
をエタノール100−中1.5時間攪拌上還流する。冷
却後、不溶物を濾去し、濾液を濃縮する。残渣を酢酸2
0m1に溶解し、水で希釈する。析出品を濾取して4−
(3−(2−フリル)プロピオニルコアミノ−2,6
−シメチルフエノールを2.15g得る。
11(S、211)、 7.39〜1゜90(m、88
) 実施例33 トランス−4−C3−(2−フリル)アクリロイルコア
ミノ−2,6〜ジメチルフエノール2゜3g、水素化ホ
ウ素ナトリウム2.6g、粉末テルル3.2gの混合物
をエタノール100−中1.5時間攪拌上還流する。冷
却後、不溶物を濾去し、濾液を濃縮する。残渣を酢酸2
0m1に溶解し、水で希釈する。析出品を濾取して4−
(3−(2−フリル)プロピオニルコアミノ−2,6
−シメチルフエノールを2.15g得る。
M、p、121〜123’C
M a s s (m/e);259.137I Rv
(cm−’);3430.3260.163O
NMR(口MSO−db) δ ;2.11(S、6
11)、 2.55(t、711z。
(cm−’);3430.3260.163O
NMR(口MSO−db) δ ;2.11(S、6
11)、 2.55(t、711z。
2H)、 2.89(t、7Hz、2H)、 6.08
(m、111)、 6.33(m、1N)、 7.09
(S、211)、 7.47(m、l1l)実施例34
及び35 対応原料化合物を実施例33・と同様に処理して第7表 実施例36 (1)4−アミノ−2,6−シメチルフエノール及びア
クリル酸クロリドを実施例1と同様に処理して4−アク
リロイルアミノ−2,6−シメチルフエノールを得る。
(m、111)、 6.33(m、1N)、 7.09
(S、211)、 7.47(m、l1l)実施例34
及び35 対応原料化合物を実施例33・と同様に処理して第7表 実施例36 (1)4−アミノ−2,6−シメチルフエノール及びア
クリル酸クロリドを実施例1と同様に処理して4−アク
リロイルアミノ−2,6−シメチルフエノールを得る。
M、P、 210.5〜213℃
(2)上記illの生成物573+ng、4−(ジフェ
ニルメチル)ピペラジン1.01gをエタノール15m
1中60’Cで3時間反応させる。反応液を減圧濃縮し
、残渣を酢酸エチル−ヘキサンより再結晶して4−(3
−(4’−(ジフェニルメチル)ピペラジノコプロピオ
ニル)アミノ−2,6−シメチルフエノールを定量的に
得る。
ニルメチル)ピペラジン1.01gをエタノール15m
1中60’Cで3時間反応させる。反応液を減圧濃縮し
、残渣を酢酸エチル−ヘキサンより再結晶して4−(3
−(4’−(ジフェニルメチル)ピペラジノコプロピオ
ニル)アミノ−2,6−シメチルフエノールを定量的に
得る。
M、9.178〜180’C
M a s s (m/e);443.167、137
N M R(DMSO−d6)δ;2.12(S、61
1)、 2.36〜2.59(m、1211)、 4.
26(S、IH)、 7.08〜7.47(m、 12
11)実施例37及び38 対応原料化合物を実施例36と同様に処理して第8表 参考例1 (1)2−n−プロピルフェノール50gの塩化メチレ
ン溶液にトリエチルアミンを加え、さらに、水冷下、ア
セチルクロリドの塩化メチレン溶液を加え、撹拌したの
ち、洗浄、乾燥、溶媒を留去する。残渣にクロロベンゼ
ン、ついで塩化アルミニウムを加え還流する。冷却後、
反応液に木片を加え、10%水酸化ナトリウム水溶液で
アルカリ性とし、室温で撹拌、アルミニウムコンプレッ
クスを分解する。ついで、10%塩酸でpH4としたの
ち、エーテルで抽出し、洗浄、乾燥後、減圧濃縮する。
N M R(DMSO−d6)δ;2.12(S、61
1)、 2.36〜2.59(m、1211)、 4.
26(S、IH)、 7.08〜7.47(m、 12
11)実施例37及び38 対応原料化合物を実施例36と同様に処理して第8表 参考例1 (1)2−n−プロピルフェノール50gの塩化メチレ
ン溶液にトリエチルアミンを加え、さらに、水冷下、ア
セチルクロリドの塩化メチレン溶液を加え、撹拌したの
ち、洗浄、乾燥、溶媒を留去する。残渣にクロロベンゼ
ン、ついで塩化アルミニウムを加え還流する。冷却後、
反応液に木片を加え、10%水酸化ナトリウム水溶液で
アルカリ性とし、室温で撹拌、アルミニウムコンプレッ
クスを分解する。ついで、10%塩酸でpH4としたの
ち、エーテルで抽出し、洗浄、乾燥後、減圧濃縮する。
残渣をシリカゲルカラムで分離精製して、6−アセチル
−2−(n−プロピル)フェノール30.1gを油状物
として得る。
−2−(n−プロピル)フェノール30.1gを油状物
として得る。
(2)硝酸銅(II) ・3水和物を無水酢酸と室温
で撹拌し、コンプレックスを作る。一方、上記(1)で
得られた生成物14gの無水酢酸溶液に、水冷下、上記
コンプレックスを加える。室温で撹拌したのち、氷水中
に注加し、酢酸エチル抽出、洗浄、乾燥後、溶媒を留去
する。残渣をシリカゲルカラムで精製して、6−アセチ
ル−4−ニトロ−2−(n−プロピル)フェノールlO
gを油状物として得る。
で撹拌し、コンプレックスを作る。一方、上記(1)で
得られた生成物14gの無水酢酸溶液に、水冷下、上記
コンプレックスを加える。室温で撹拌したのち、氷水中
に注加し、酢酸エチル抽出、洗浄、乾燥後、溶媒を留去
する。残渣をシリカゲルカラムで精製して、6−アセチ
ル−4−ニトロ−2−(n−プロピル)フェノールlO
gを油状物として得る。
(3)上記(1)で得られた生成物10gのエタノール
溶液に、塩化スズ・2水和物を加え、還流する。
溶液に、塩化スズ・2水和物を加え、還流する。
冷却後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エ
チル抽出し、洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣を塩酸
塩にして、6−アセチル−4−アミノ−2−(n−プロ
ピル)フェノール・塩酸塩8゜7gを得る。
チル抽出し、洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣を塩酸
塩にして、6−アセチル−4−アミノ−2−(n−プロ
ピル)フェノール・塩酸塩8゜7gを得る。
m、p、217〜219℃ (分解)
参考例2
+112.3.6−)リメチルフェノール6.8g、酢
酸、ジメチルポルムアミド、水の混合物に、水冷下、亜
硝酸ナトリウム水溶液を滴下し、同温で撹拌したのち、
析出晶をろ取、乾燥後、イソプロピルエーテル−n−ヘ
キサンから再結晶して2゜3.6−1−リフチル−4−
二トロソフェノール7.56gを得る。
酸、ジメチルポルムアミド、水の混合物に、水冷下、亜
硝酸ナトリウム水溶液を滴下し、同温で撹拌したのち、
析出晶をろ取、乾燥後、イソプロピルエーテル−n−ヘ
キサンから再結晶して2゜3.6−1−リフチル−4−
二トロソフェノール7.56gを得る。
m、 p、 181−183℃ (分解)(2)上記
t1)で得られた生成物5.0gのエタノール溶液に1
0%塩酸及び鉄粉を加え、還流したのち、ろ過する。ろ
液をアルカリ性下、酢酸エチル抽出し、洗浄後、塩酸塩
とし、濃縮、さらにエーテルで洗浄して、2,3.6−
1リメチル−4−アミノフェノール・塩酸塩3.7gを
得る。
t1)で得られた生成物5.0gのエタノール溶液に1
0%塩酸及び鉄粉を加え、還流したのち、ろ過する。ろ
液をアルカリ性下、酢酸エチル抽出し、洗浄後、塩酸塩
とし、濃縮、さらにエーテルで洗浄して、2,3.6−
1リメチル−4−アミノフェノール・塩酸塩3.7gを
得る。
m、p、303℃ (分解)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R^1及びR^2は低級アルキル基、低級アル
カノイル基又はシクロアルキル基、R^3は水素原子又
は低級アルキル基、R^4は低級アルキル基又はジフェ
ニル低級アルキル基で置換されていてもよい、ナフチル
基、ナフチルオキシ基及び複素環式基から選ばれる基、
Yは単結合手、低級アルキレン基又は低級アルケニレン
基を表す。)で示される4−アミノフェノール誘導体又
はその塩。 2、R^4が低級アルキル基又はジフェニル低級アルキ
ル基で置換されていてもよい、ナフチル基、ナフチルオ
キシ基、ピロリル基、ピロリジル基、ピリジル基、ピペ
リジル基、イミダゾリル基、ピペラジル基、フリル基、
テトラヒドロフリル基、チエニル基、テトラヒドロチエ
ニル基、モルホリル基、チアゾリル基、チアゾリジニル
基、インドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベン
ゾチエニル基又はベンゾチアゾリル基から選ばれる基で
ある請求項1記載の4−アミノフェノール誘導体又はそ
の塩。 3、R^1及びR^2が低級アルキル基又はシクロアル
キル基、R^4がナフチル基、ナフチルオキシ基、N−
低級アルキルピロリル基、ピリジル基、イミダゾリル基
、N−ジフェニル低級アルキルピペラジル基、フリル基
、テトラヒドロフリル基、チエニル基、2−低級アルキ
ルチエニル基、モルホリル基、チアゾリル基、インドリ
ル基、キノリル基、イソキノリル基又はベンゾチエニル
基である請求項2記載の4−アミノフェノール誘導体又
はその塩。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63314792A JPH02160751A (ja) | 1988-12-13 | 1988-12-13 | 4−アミノフエノール誘導体 |
| US07/445,059 US5047555A (en) | 1988-12-13 | 1989-12-04 | 4-aminophenol derivatives and processes for preparing the same |
| CA002004843A CA2004843A1 (en) | 1988-12-13 | 1989-12-07 | 4-aminophenol derivatives and processes for preparing the same |
| EP89403469A EP0374048B1 (en) | 1988-12-13 | 1989-12-13 | 4-Aminophenol derivatives and processes for preparing the same |
| AT89403469T ATE110068T1 (de) | 1988-12-13 | 1989-12-13 | 4-aminophenol-derivate und verfahren zu ihrer herstellung. |
| ES89403469T ES2062078T3 (es) | 1988-12-13 | 1989-12-13 | Derivados 4-aminofenol y procedimientos para la preparacion de los mismos. |
| DE68917569T DE68917569T2 (de) | 1988-12-13 | 1989-12-13 | 4-Aminophenol-Derivate und Verfahren zu ihrer Herstellung. |
| KR1019890018483A KR970001069B1 (ko) | 1988-12-13 | 1989-12-13 | 4-아미노페놀 유도체 및 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63314792A JPH02160751A (ja) | 1988-12-13 | 1988-12-13 | 4−アミノフエノール誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02160751A true JPH02160751A (ja) | 1990-06-20 |
Family
ID=18057650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63314792A Pending JPH02160751A (ja) | 1988-12-13 | 1988-12-13 | 4−アミノフエノール誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02160751A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010038803A1 (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 持田製薬株式会社 | 2-インドールアクリルアミド類縁体 |
-
1988
- 1988-12-13 JP JP63314792A patent/JPH02160751A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010038803A1 (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 持田製薬株式会社 | 2-インドールアクリルアミド類縁体 |
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