JPH02163321A

JPH02163321A - 電磁鋼板の酸洗方法

Info

Publication number: JPH02163321A
Application number: JP63054771A
Authority: JP
Inventors: Akihiko Nishimoto; 昭彦西本; Yoshihiro Hosoya; 佳弘細谷; Kunikazu Tomita; 邦和冨田; Toshiaki Urabe; 俊明占部; Masaharu Jitsukawa; 実川　正治
Original assignee: NKK Corp; Nippon Kokan Ltd
Current assignee: JFE Engineering Corp
Priority date: 1988-03-10
Filing date: 1988-03-10
Publication date: 1990-06-22
Also published as: EP0357794B1; US5061321A; EP0357794A4; EP0357794A1; KR900700656A; JPH0472912B2; WO1989008729A1; KR920002997B1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は電磁鋼板の酸洗方法に関する。

〔従来の技術〕

電磁鋼板は、スラブを熱間圧延後、場合によって磁気特
性向上を目的とした熱延板焼鈍を行った後酸洗し、その
後、冷間圧延、仕上焼鈍を経ることにより製造される。

この種の鋼板は、その主要元素であるＳｉの含有に起因
して酸洗時の脱スケール性に劣ることが知られており、
このような脱スケール性を改善するため、例えば、特開
昭５４−７６４２２号、特開昭５６−３３４３６号、特
開昭６０−１３８０１４号等、種々の提案がなされてい
る。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、熱延板の酸洗に関しては、脱スケールとは別
に酸洗による粒界侵食という大きな問題がある。すなわ
ち、電磁鋼板を熱延後高温巻取すると鋼板の表層部が粒
界酸化を起こすが、脱スケール完了後も必要以上に酸洗
を続けると、この粒界酸化に起因して粒界が優先的に侵
食されてピット状に成長していき、これが次工程の冷間
圧延時に微小クラックの発生起点として働き、冷間圧延
後の表面性状を劣化させてしまう。

このような微小クラックの存在は、単に製品の外観上か
らその商品価値を下げるだけでなく。

仕上焼鈍時に表層に微細粒を生成させ、磁気特性、特に
鉄損の劣化をもたらし、また、絶縁皮膜の膜厚不均一の
要因になる等、種々の問題を生じさせる。

上述したような従来の提案はいずれも脱スケール性のみ
を問題としており、このような粒界侵食に着目して酸洗
条件等を規定したような提案は皆無と言ってよい。

本発明は、このような従来の問題しこ鑑み、熱延板の酸
洗条件を脱スケール性のみならず、従来では全く配慮さ
れていなかった粒界侵食の面からも適正化し、良好な脱
スケール性が得られ、しかも粒界侵食を適切に防止し得
る酸洗方法を提供せんとするものである。

〔課題を解決するための手段〕

Ｓｉ　：　０．２〜４．０すｔ％を含み、Ｓｉ：ｉｉ；
１．（ｈｔ％（７）場合ＣＴ≧２７０．６〔％Ｓｉ〕２　−４７５，９（％Ｓｉ
）　＋９１５．３Ｓｉ＞１．０ｗｔ％の場合ＣＴａ　５．０〔％Ｓｉ〕２−５０，１Ｃ％ＳＬ）　＋
　７５５．４但し、ＣＴＨ熱延巻取温度（℃）〔％Ｓｉ３　：　Ｓｉ含有量（すｔ％）を満足する温度
ＣＴで巻取られた熱延板または該巻取後熱延板焼鈍した
熱延板を塩酸酸洗するに際し、酸洗時間が下式を満足す
るよう酸洗することを特徴とする。

但し、〔％ＳＬ）　：熱延板中Ｓｉ含有量（ｗｔ％）ｔ
　：酸洗時間（秒）Ｔ　：酸洗液温度（Ｋ）Ｂ　　ニー０．４８（ＨＣｔｔ〕２＋１５．１（１１Ｃ
Ｉり＋５．０３但し、　（Ｈ（Ｊ）　：酸洗液のＨＣ１
濃度（すｔ′１）Ｑ　　：　　５３００ｃａｌ／ａ＋ｏ
ｌＲ：　１．９８６ｃａｌ／ｍｏｌ・に以下、本発明の詳細をその限定理由と１ともに説明する
。

本発明は、珪素鋼熱延板（巻取まま、または巻取後熱延
板焼鈍したものを含む。以下同様）をその粒界侵食を防
止する観点から所定の条件で酸洗するものである。

ところで、本発明者等による種々の実験の結果、粒界侵
食は鋼板中のＳｉ量と巻取温度が特定の範囲にある熱延
板に生じることが判った。そこで本発明は、その対象を
Ｓｉ量と巻取温度によって決まる特定の熱延板に限定す
る。

第１図は、第１表の鋼Ａ−４を種々の巻取温度の下に熱
延した後、１２％ＨＩＪ、９０℃の条件で１００秒間酸
洗した熱延板の粒界侵食の有無を、　Ｓｉ量と巻取温度
ＣＴとの関係で示したもので、これによれば粒界侵食の
有無はＳｉ量及び巻取温度で整理でき、粒界侵食はＳｉ
２０，２ｗｔ％の熱延板を図中ａ−ｂ以上の巻取温度で
巻取った時に発生している。これに対して、Ｓｉ＜０．
２ｗｔ％では８５０℃の高温巻取でも、またＳｉ２０，
２ｗｔ％であっても巻取温度がａ−ｂ未満は、それぞれ
１２％ＨＣｉ！、９０℃、１００秒という強酸洗でも粒
界侵食は発生していない。熱延巻取後１種々の条件で熱
延板焼鈍を実施したものについても同様の結果が得られ
た。

そして、第１図で特定される粒界侵食を生じる領域は、
巻取温度ＣＴ（℃）及びＳｉ含有量〔％Ｓｉ）の関係で
次のように表わせる。

ＳｉＳ２　、　Ｏｖｔ％の場合ＣＴａ２７０．６（％Ｓｉ）’　−４７５，９（％Ｓｉ
）　＋９１５．３−　（１）Ｓｉ＞１．０ｗｔ％の場合ＣＴａ５．０Ｃ％５Ｌ）２−５０．１Ｃ％Ｓｉｌ　＋７
５５．４−　（２）そこで本発明では、対象をＳｉ２０
．２ｗｔ％で且つ上記（１）、（２）式を満足する熱延
板に限定し、これについて所定の条件で酸洗を行う。

なお、鋼板のＳｉ量が４　、０ｖｔ％を超えると、脆化
が著しく冷間圧延性に劣るため、対象とする熱延板はＳ
ｉ　：　０．２〜４．０ｗｔ％のちのとした。

本発明では以上のような熱延板を、下記（３）式を満足
するよう酸洗する。

但し、（％Ｓｉ）　：熱延板中ｓｉ含有量（’　ｔ％　
）Ｌ　：酸洗時間（秒）Ｔ　：酸洗液温度（Ｋ）Ｂ　　ニー０．４８（Ｈα〕２＋１５．１（ＨＣＪ、）
＋５．０３但り、０ｔＣｆｉ）：酸洗液ノＨｃｉ！濃度
（ｗｔ％）Ｑ　　：　　５３０Ｑｃａｌ／ｍｏｌＲ：　１．９８６ｃａｌ／ｍｏ？にこのような酸洗条件は以下のようにして規定された。

第２図は脱スケール性と粒界侵食に対するＳｉ量と酸洗
時間の影響を請人たもので、第１表のｆｌＷｃ、Ｅ、Ｇ
、Ｉを巻取温度７８０℃で熱延し、それらを１１．８％
Ｈα、８５℃の酸洗液にて種々の時間酸洗し、その表面
性状を調べたものである。

これによれば、酸洗時間が短いスケールが残存し、一方
、酸洗時間が長いと粒界侵食が発生しており、脱スケー
ル完了と粒界侵食発生に対する臨界酸洗時間ｔは、（Ｔ
）、（■）の直線、すなわち、下記Ｓｉ量の一次式（４
）、　（５）で表わされる。

ｔ　＝７．１２［％Ｓｉ］＋　８．７５　　・・・（４
）ｔ＝３゜５６〔％Ｓｉｌ＋５９．３５　　・・・（５
）第３図は、脱スケール性と粒界侵食に対する酸洗温度
と酸洗時間の影響を調べたもので、第１表中の鋼Ｇ　（
ＳＬ　：　２．１８すｔ％）の熱延板（ＣＴ　＝　７８
０℃）をＩｌ、８％ＨＣＩ！の一定濃度の下に種々の温
度で酸洗し、その表面性状を調べたものである。

これによれば、脱スケール完了と粒界侵食発生に対する
臨界酸洗時間は、各々酸洗温度に関して下記のようなア
レニウス型の式（６）、（７）により表わされる。

ｔ　＝　０．０１４１ｅｘｐ　（５３００／ＲＴ）　−
（６）ｔ　＝　０．０３８９ｅｘｐ（５３００／ＲＴ）
　−（７）第４図は、脱スケール性と粒界侵食に対する
酸洗液のＨ（Ｊ濃度と酸洗時間の影響を調べたもので、
第１図表中の１１Ｇ　（Ｓｉ　：　２．１８ｗｔ％）の
熱延板（ＣＴ＝７８０℃）を８５℃の一定温度において
種々のＨ（Ｊ濃度で酸洗し、その表面性状を調べたもの
である。これによれば、脱スケール完了と粒界侵食発生
に対する臨界酸洗時間は、）ＩＣＩ！濃度に関して、Ｈ
Ｃ！濃度の二次式Ｂをパラメータとして下式（８）、（
９）により表わされる。

ｔ　＝　２８２５／Ｂ　　　　　　・・・（８）ｔ　＝
　７８０８／Ｂ　　　　　　・・・（９）但し、Ｂ＝−
０，４８Ｃ）１α〕２す１５．１（）Ｉα）＋５．０３
また、第２図に関して述べたと同様の調査をＣＴ　＝　
７３０℃材（鋼Ｃは除く）とＣＴ　＝　８５０℃材につ
いても行ったが、第２図と同様の結果が得られ、巻取温
度ＣＴが第１図のａ−ｂ以上であれば臨界酸洗時間に対
する巻取温度の影響は特に認められなかった。

そして、以上の（４）〜（９）式から、脱スケールが完
了し且つ粒界侵食を生じない適正酸洗時間ｔについて上
記（３）式が導かれる。すなわち、ｔ　−Ｂｅｘｐ（−
５３００／ＲＴ）の値が０．４８（％Ｓｉ）＋０．５９
未満では酸洗が不十分でスケールが残存し、また、０．
２４ＣＸＳｉｌ　＋４．００を超えると粒界侵食が生じ
てしまう６なお、インヒビターは鋼板地鉄の腐食抑制効果に加え、
粒界侵食に対しても抑制効果を有するため、酸洗液中に
添加することが可能である。

この場合、インヒビターはＨｃｉ！の添加量に対し、０
．２ｗｔ％以上添加しないと十分な効果得られないが、
１．Ｏｗｔ％超では効果が飽和するだけでなく、酸洗速
度が低下してしまう。

〔実施例〕

第１表の鋼Ｂ、Ｄ、Ｆ、Ｈのスラブを１２００℃に加熱
後、仕上温度９３０℃で板厚２．Ｏｍｍに熱延し。

酸洗後、熱延板の表面性状を調査した。その結果（脱ス
ケール性及び粒界侵食の有無）を酸洗条件とともに第２
表に示す。

これによれば、酸洗時間が本発明の範囲にあれば脱スケ
ールは完了し、しかも粒界侵食は発生していない。これ
に対し、酸洗時間が本発明範囲より短い場合にはスケー
ル残存が、また長い場合には粒界侵食が生じている。

第　　１　　表（讐ｔ％）〔発明の効果〕以上述べた本発明によれば、表面性状に優れた電磁鋼板
を、特別な手間やコスト上昇なしに酸洗時間を適正化す
るだけで製造することができ、高い経済的効果を得るこ
とができる。また、表面性状が良好であることから、仕
上焼鈍時に表層細粒層ができず、このため、磁気特性、
特に鉄損に優れ、しかも絶縁皮膜の均一性の高い製品を
提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は熱延板の粒界侵食の有無をＳｉ量と巻取温度Ｃ
Ｔとの関係で示したものである。第２図は脱スケール性
と粒界侵食に対するＳｉ量と酸洗時間の影響を調べたも
のである。第３図は、脱スケール性と粒界侵食に対する
酸洗温度と酸洗時間の影響を調べたものである。第４図
は脱スケール性と粒界侵食に対する酸洗液のＨＣｊｌ濃
度と酸洗時間の影響を調べたものである。第図１．０Ｑ３．０（％）（１）　　　ｔ＝７１２５ｉ　＋８．７５（［［）　　
ｔ＝３．５６５ｉ　＋５９．３５第図第図醒麓液温度丁じＯフ洛散１／ｌ［ＨＣｆｆｉ］（ｗｔ％）４゜＋００＋２０蚊洸″Ｒ渦度丁の芒寂１／丁（Ｋ　）

Claims

【特許請求の範囲】Ｓｉ：０．２〜４．０ｗｔ％を含み、Ｓｉ≦１．０ｗｔ％の場合ＣＴ≧２７０．６〔％Ｓｉ〕＾２−４７５．９〔％Ｓｉ
〕＋９１５．３Ｓｉ＞１．０ｗｔ％の場合ＣＴ≧５．０〔％Ｓｉ〕＾２−５０．１〔％Ｓｉ〕＋７
５５．４但し、ＣＴ：熱延巻取温度（℃）〔％Ｓｉ〕：Ｓｉ含有量（ｗｔ％）を満足する温度ＣＴで巻取られた熱延板または該巻取後
熱延板焼鈍した熱延板を塩酸酸洗するに際し、酸洗時間
が下式を満足するよう酸洗することを特徴とする電磁鋼
板の酸洗方法。０．４８〔％Ｓｉ〕＋０．５９≦Ｔ・−Ｂｅｘｐ（−Ｑ
／ＲＴ）≦０．２４〔％Ｓｉ〕＋４．００但し、〔％Ｓ
ｉ〕：熱延板中Ｓｉ含有量（ｗｔ％）ｔ：酸洗時間（秒
）Ｔ：酸洗液温度（Ｋ）Ｂ：−０．４８〔ＨＣｌ〕〕＋１５．１〔ＨＣｌ〕＋５
．０３但し、〔ＨＣｌ〕：酸洗液のＨＣｌ濃度（ｗｔ％
）Ｑ：５３００ｃａｌ／ｍｏｌＲ：１．９８６ｃａｌ／ｍｏｌ・Ｋ