JPH0472912B2 - - Google Patents
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- JPH0472912B2 JPH0472912B2 JP63054771A JP5477188A JPH0472912B2 JP H0472912 B2 JPH0472912 B2 JP H0472912B2 JP 63054771 A JP63054771 A JP 63054771A JP 5477188 A JP5477188 A JP 5477188A JP H0472912 B2 JPH0472912 B2 JP H0472912B2
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- Japan
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- pickling
- hot
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- hcl
- rolled sheet
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
- C23G1/08—Iron or steel
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は電磁鋼板の酸洗方法に関する。
〔従来の技術〕
電磁鋼板は、スラブを熱間圧延後、場合によつ
て磁気特性向上を目的とした熱延板焼鈍を行つた
後酸洗し、その後、冷間圧延、仕上焼鈍を経るこ
とにより製造される。この種の鋼板は、その主要
元素であるSiの含有に起因して酸洗時の脱スケー
ル性に劣ることが知られており、このような脱ス
ケール性を改善するため、例えば、特開昭54−
76422号、特開昭56−33436号、特開昭60−138014
号等、種々提案がなされている。 〔発明が解決しようとする課題〕 ところが、熱延板の酸洗に関しては、脱スケー
ルとは別に酸洗による粒界侵食という大きな問題
がある。すなわち、電磁鋼板を熱延後高温巻取す
ると鋼板の表層部が粒界酸化を起こすが、脱スケ
ール完了後も必要以上に酸洗を続けると、この粒
界酸化に起因して粒界が優先的に侵食されてピツ
ト状に成長していき、これが次の工程の冷間圧延
時に微小クラツクの発生起点として働き、冷間圧
延後の表面性状を劣化させてしまう。このような
微小クラツクの存在は、単に製品の外観上からそ
の商品価値を下げるだけでなく、仕上焼鈍時に表
層に微細粒を生成させ、磁気特性、特に鉄損の劣
化をもたらし、また、絶縁皮膜の膜厚不均一の要
因になる等、種々の問題を生じさせる。 上述したような従来の提案はいずれも脱スケー
ル性のみを問題としており、このような粒界侵食
に着目して酸洗条件を規定したような提案は皆無
と言つてよい。 本発明は、このような従来の問題に鑑み、熱延
板の酸洗条件を脱スケール性のみならず、従来で
は全く配慮されていなかつた粒界侵食の面からも
適正化し、良好な脱スケール性が得られ、しかも
粒界侵食を適切に防止し得る酸洗方法を提供せん
とするものである。 〔課題を解決するための手段〕 Si：0.2〜4.0wt％を含み、 Si≦1.0wt％の場合 CT≧270.6〔％Si〕2−475.9〔％Si〕＋915.3 Si＞1.0wt％の場合 CT≧5.0〔％Si〕2−50.1〔％Si〕＋755.4 但し、CT：熱延巻取温度（℃） 〔％Si〕：Si含有量（wt％） を満足する温度CTで巻取られた熱延板または該
巻取後熱延板焼鈍した熱延板を塩酸酸洗するに際
し、酸洗時間が下式を満足するよう酸洗すること
を特徴とする。 0.48〔％Si〕＋0.59≦ｔ・Bexp（−Ｑ／RT） ≦0.24〔％Si〕＋4.00 但し、〔％Si〕：熱延板中Si含有量（wt％） ｔ：酸洗時間（秒） Ｔ：酸洗液温度(K) Ｂ：−0.48〔HCl〕2＋15.1〔HCl〕＋
5.03 但し、〔HCl〕：酸洗液のHCl濃度
（wt％） Ｑ：5300cal／mol Ｒ：1.986cal／mol・Ｋ 以下、本発明の詳細をその限定理由とともに説
明する。 本発明は、珪素鋼熱延板（巻取まま、または巻
取後熱延板焼鈍したものを含む。以下同様）をそ
の粒界侵食を防止する観点から所定の条件で酸洗
するものである。 ところで、本発明者等による種々の実験の結
果、粒界侵食は鋼板中のSi量と巻取温度が特定の
範囲にある熱延板に生じることが判つた。そこで
本発明は、その対象をSi量と巻取温度によつて決
まる特定の熱延板に限定する。 第１図は、第１表の鋼Ａ〜Ｉを種々の巻取温度
の下に熱延した後、12％HCl、90℃の条件で100
秒間酸洗した熱延板の粒界侵食の有無を、Si量と
巻取温度CTとの関係で示したもので、これによ
れば粒界侵食の有無はSi量及び巻取温度で整理で
き、粒界侵食はSi≧0.2wt％の熱延板を図中ａ−
ｂ以上の巻取温度で巻取つた時に発生している。
これに対して、Si＜0.2wt％では850℃の高温巻取
でも、またSi≧0.2wt％であつても巻取温度がａ
−ｂ未満は、それぞれ12％HCl、90℃、100秒と
いう強酸洗でも粒界侵食は発生していない。熱延
巻取後、種々の条件で熱延板焼鈍を実施したもの
についても同様の結果が得られた。 そして、第１図で特定される粒界侵食を生じる
領域は、巻取温度CT（℃）及びSi含有量〔％Si〕
の関係で次のように表わせる。 Si≦1.0wt％の場合 CT≧270.6〔％Si〕2−475.9〔％Si〕＋915.3 …(1) Si＞1.0wt％の場合 CT≧5.0〔％Si〕2−50.1〔％Si〕＋755.4 …(2) そこで本発明では、対象をSi≧0.2wt％で且つ
上記(1)、(2)式を満足する熱延板に限定し、これに
ついて所定の条件で酸洗を行う。 なお、鋼板のSi量が4.0wt％を超えると、脆化
が著しく冷間圧延性に劣るため、対象とする熱延
板はSi：0.2〜4.0wt％のものとした。 本発明では以上のような熱延板を下記(3)式を満
足するよう酸洗する。 0.48〔％Si〕＋0.59≦ｔ・Bexp（−Ｑ／RT） ≦0.24〔％Si〕＋4.00 …(3) 但し、〔％Si〕：熱延板中Si含有量（wt％） ｔ：酸洗時間（秒） Ｔ：酸洗液温度(K) Ｂ：−0.48〔HCl〕2＋15.1〔HCl〕＋5.03 但し、〔HCl〕：酸洗液のHCl濃度
（wt％） Ｑ：5300cal／mol Ｒ：1.986cal／mol・Ｋ このような酸洗条件は以下のようにして規定さ
れた。 第２図は脱スケール性と粒界侵食に対するSi量
と酸洗時間の影響を調べたもので、第１表の鋼
Ｃ、Ｅ、Ｇ、Ｉを巻取温度780℃で熱延し、それ
らを11.8％HCl、85℃の酸洗液にて種々の時間酸
洗し、その表面性状を調べたものである。これに
よれば、酸洗時間が短いとスケールが残存し、一
方、酸洗時間が長いと粒界侵食が発生しており、
脱スケール完了と粒界侵食発生に対する臨界酸洗
時間ｔは、（）、（）の直線、すなわち、下記
Si量の一次式(4)、(5)で表わされる。 ｔ＝7.12〔％Si〕＋8.75 …(4) ｔ＝3.56〔％Si〕＋59.35 …(5) 第３図は、脱スケール性と粒界侵食に対する酸
洗温度と酸洗時間の影響を調べたもので、第１表
中の鋼Ｇ（Si：2.18wt％）の熱延板（CT＝780℃）
を11.8％HClの一定濃度の下に種々の温度で酸洗
し、その表面性状を調べたものである。これによ
れば、脱スケール完了と粒界侵食発生に対する臨
界酸洗寺間は、各々酸洗温度に関して下記のよう
なアレニウス型の式(6)、(7)により表わされる。 ｔ＝0.0141exp（5300／RT） …(6) ｔ＝0.0389exp（5300／RT） …(7) 第４図は、脱スケール性と粒界侵食に対する酸
洗液のHCl濃度と酸洗時間の影響を調べたもの
で、第１表中の鋼Ｇ（Si：2.18wt％）の熱延板
（CT＝780℃）を85℃の一定温度において種々の
HCl濃度で酸洗し、その表面性状を調べたもので
ある。これによれば、脱スケール完了と粒界侵食
発生に対する臨界酸洗時間は、HCl濃度に関し
て、HCl濃度の二次式Ｂをパラメータとして下式
(8)、(9)により表わされる。 ｔ＝2825／Ｂ …(8) ｔ＝7808／Ｂ …(9) 但し、Ｂ＝−0.48〔HCl〕2＋15.1〔HCl〕＋
5.03 また、第２図に関して述べたと同様の調査を
CT＝730℃材（鋼Ｃは除く）とCT＝850℃材につ
いても行つたが、第２図と同様の結果が得られ、
巻取温度CTが第１図のａ−ｂ以上であれば臨界
酸洗時間に対する巻取温度の影響は特に認められ
なかつた。 そして、以上の(4)〜(9)式から、脱スケールが完
了し且つ粒界侵食を生じない適正酸洗時間ｔにつ
いて上記(3)式が導かれる。すなわち、ｔ・Bexp
（−5300／RT）の値が0.48〔％Si〕＋0.59未満では
酸洗が不十分でスケールが残存し、また、0.24
〔％Si〕＋4.00を超えると粒界侵食が生じてしま
う。 なお、インヒビターは鋼板地鉄の腐食抑制効果
に加え、粒界侵食に対しても抑制効果を有するた
め、酸洗液中に添加することが可能である。この
場合、インヒビターはHClの添加量に対し、
0.2wt％以上添加しないと十分な効果得られない
が、1.0wt％超では効果が飽和するだけでなく、
酸洗速度が低下してしまう。 〔実施例〕 第１表の鋼Ｂ、Ｄ、Ｆ、Ｈのスラブを1200℃に
加熱後、仕上温度930℃で板厚2.0mmに熱延し、酸
洗後、熱延板の表面性状を調査した。その結果
（脱スケール性及び粒界侵食の有無）を酸洗条件
とともに第２表に示す。 これによれば、酸洗時間が本発明の範囲にあれ
ば脱スケール性は完了し、しかも粒界侵食は発生
していない。これに対し、酸洗時間が本発明範囲
より短い場合には、スケール残存が、また長い場
合には粒界侵食が生じている。
て磁気特性向上を目的とした熱延板焼鈍を行つた
後酸洗し、その後、冷間圧延、仕上焼鈍を経るこ
とにより製造される。この種の鋼板は、その主要
元素であるSiの含有に起因して酸洗時の脱スケー
ル性に劣ることが知られており、このような脱ス
ケール性を改善するため、例えば、特開昭54−
76422号、特開昭56−33436号、特開昭60−138014
号等、種々提案がなされている。 〔発明が解決しようとする課題〕 ところが、熱延板の酸洗に関しては、脱スケー
ルとは別に酸洗による粒界侵食という大きな問題
がある。すなわち、電磁鋼板を熱延後高温巻取す
ると鋼板の表層部が粒界酸化を起こすが、脱スケ
ール完了後も必要以上に酸洗を続けると、この粒
界酸化に起因して粒界が優先的に侵食されてピツ
ト状に成長していき、これが次の工程の冷間圧延
時に微小クラツクの発生起点として働き、冷間圧
延後の表面性状を劣化させてしまう。このような
微小クラツクの存在は、単に製品の外観上からそ
の商品価値を下げるだけでなく、仕上焼鈍時に表
層に微細粒を生成させ、磁気特性、特に鉄損の劣
化をもたらし、また、絶縁皮膜の膜厚不均一の要
因になる等、種々の問題を生じさせる。 上述したような従来の提案はいずれも脱スケー
ル性のみを問題としており、このような粒界侵食
に着目して酸洗条件を規定したような提案は皆無
と言つてよい。 本発明は、このような従来の問題に鑑み、熱延
板の酸洗条件を脱スケール性のみならず、従来で
は全く配慮されていなかつた粒界侵食の面からも
適正化し、良好な脱スケール性が得られ、しかも
粒界侵食を適切に防止し得る酸洗方法を提供せん
とするものである。 〔課題を解決するための手段〕 Si：0.2〜4.0wt％を含み、 Si≦1.0wt％の場合 CT≧270.6〔％Si〕2−475.9〔％Si〕＋915.3 Si＞1.0wt％の場合 CT≧5.0〔％Si〕2−50.1〔％Si〕＋755.4 但し、CT：熱延巻取温度（℃） 〔％Si〕：Si含有量（wt％） を満足する温度CTで巻取られた熱延板または該
巻取後熱延板焼鈍した熱延板を塩酸酸洗するに際
し、酸洗時間が下式を満足するよう酸洗すること
を特徴とする。 0.48〔％Si〕＋0.59≦ｔ・Bexp（−Ｑ／RT） ≦0.24〔％Si〕＋4.00 但し、〔％Si〕：熱延板中Si含有量（wt％） ｔ：酸洗時間（秒） Ｔ：酸洗液温度(K) Ｂ：−0.48〔HCl〕2＋15.1〔HCl〕＋
5.03 但し、〔HCl〕：酸洗液のHCl濃度
（wt％） Ｑ：5300cal／mol Ｒ：1.986cal／mol・Ｋ 以下、本発明の詳細をその限定理由とともに説
明する。 本発明は、珪素鋼熱延板（巻取まま、または巻
取後熱延板焼鈍したものを含む。以下同様）をそ
の粒界侵食を防止する観点から所定の条件で酸洗
するものである。 ところで、本発明者等による種々の実験の結
果、粒界侵食は鋼板中のSi量と巻取温度が特定の
範囲にある熱延板に生じることが判つた。そこで
本発明は、その対象をSi量と巻取温度によつて決
まる特定の熱延板に限定する。 第１図は、第１表の鋼Ａ〜Ｉを種々の巻取温度
の下に熱延した後、12％HCl、90℃の条件で100
秒間酸洗した熱延板の粒界侵食の有無を、Si量と
巻取温度CTとの関係で示したもので、これによ
れば粒界侵食の有無はSi量及び巻取温度で整理で
き、粒界侵食はSi≧0.2wt％の熱延板を図中ａ−
ｂ以上の巻取温度で巻取つた時に発生している。
これに対して、Si＜0.2wt％では850℃の高温巻取
でも、またSi≧0.2wt％であつても巻取温度がａ
−ｂ未満は、それぞれ12％HCl、90℃、100秒と
いう強酸洗でも粒界侵食は発生していない。熱延
巻取後、種々の条件で熱延板焼鈍を実施したもの
についても同様の結果が得られた。 そして、第１図で特定される粒界侵食を生じる
領域は、巻取温度CT（℃）及びSi含有量〔％Si〕
の関係で次のように表わせる。 Si≦1.0wt％の場合 CT≧270.6〔％Si〕2−475.9〔％Si〕＋915.3 …(1) Si＞1.0wt％の場合 CT≧5.0〔％Si〕2−50.1〔％Si〕＋755.4 …(2) そこで本発明では、対象をSi≧0.2wt％で且つ
上記(1)、(2)式を満足する熱延板に限定し、これに
ついて所定の条件で酸洗を行う。 なお、鋼板のSi量が4.0wt％を超えると、脆化
が著しく冷間圧延性に劣るため、対象とする熱延
板はSi：0.2〜4.0wt％のものとした。 本発明では以上のような熱延板を下記(3)式を満
足するよう酸洗する。 0.48〔％Si〕＋0.59≦ｔ・Bexp（−Ｑ／RT） ≦0.24〔％Si〕＋4.00 …(3) 但し、〔％Si〕：熱延板中Si含有量（wt％） ｔ：酸洗時間（秒） Ｔ：酸洗液温度(K) Ｂ：−0.48〔HCl〕2＋15.1〔HCl〕＋5.03 但し、〔HCl〕：酸洗液のHCl濃度
（wt％） Ｑ：5300cal／mol Ｒ：1.986cal／mol・Ｋ このような酸洗条件は以下のようにして規定さ
れた。 第２図は脱スケール性と粒界侵食に対するSi量
と酸洗時間の影響を調べたもので、第１表の鋼
Ｃ、Ｅ、Ｇ、Ｉを巻取温度780℃で熱延し、それ
らを11.8％HCl、85℃の酸洗液にて種々の時間酸
洗し、その表面性状を調べたものである。これに
よれば、酸洗時間が短いとスケールが残存し、一
方、酸洗時間が長いと粒界侵食が発生しており、
脱スケール完了と粒界侵食発生に対する臨界酸洗
時間ｔは、（）、（）の直線、すなわち、下記
Si量の一次式(4)、(5)で表わされる。 ｔ＝7.12〔％Si〕＋8.75 …(4) ｔ＝3.56〔％Si〕＋59.35 …(5) 第３図は、脱スケール性と粒界侵食に対する酸
洗温度と酸洗時間の影響を調べたもので、第１表
中の鋼Ｇ（Si：2.18wt％）の熱延板（CT＝780℃）
を11.8％HClの一定濃度の下に種々の温度で酸洗
し、その表面性状を調べたものである。これによ
れば、脱スケール完了と粒界侵食発生に対する臨
界酸洗寺間は、各々酸洗温度に関して下記のよう
なアレニウス型の式(6)、(7)により表わされる。 ｔ＝0.0141exp（5300／RT） …(6) ｔ＝0.0389exp（5300／RT） …(7) 第４図は、脱スケール性と粒界侵食に対する酸
洗液のHCl濃度と酸洗時間の影響を調べたもの
で、第１表中の鋼Ｇ（Si：2.18wt％）の熱延板
（CT＝780℃）を85℃の一定温度において種々の
HCl濃度で酸洗し、その表面性状を調べたもので
ある。これによれば、脱スケール完了と粒界侵食
発生に対する臨界酸洗時間は、HCl濃度に関し
て、HCl濃度の二次式Ｂをパラメータとして下式
(8)、(9)により表わされる。 ｔ＝2825／Ｂ …(8) ｔ＝7808／Ｂ …(9) 但し、Ｂ＝−0.48〔HCl〕2＋15.1〔HCl〕＋
5.03 また、第２図に関して述べたと同様の調査を
CT＝730℃材（鋼Ｃは除く）とCT＝850℃材につ
いても行つたが、第２図と同様の結果が得られ、
巻取温度CTが第１図のａ−ｂ以上であれば臨界
酸洗時間に対する巻取温度の影響は特に認められ
なかつた。 そして、以上の(4)〜(9)式から、脱スケールが完
了し且つ粒界侵食を生じない適正酸洗時間ｔにつ
いて上記(3)式が導かれる。すなわち、ｔ・Bexp
（−5300／RT）の値が0.48〔％Si〕＋0.59未満では
酸洗が不十分でスケールが残存し、また、0.24
〔％Si〕＋4.00を超えると粒界侵食が生じてしま
う。 なお、インヒビターは鋼板地鉄の腐食抑制効果
に加え、粒界侵食に対しても抑制効果を有するた
め、酸洗液中に添加することが可能である。この
場合、インヒビターはHClの添加量に対し、
0.2wt％以上添加しないと十分な効果得られない
が、1.0wt％超では効果が飽和するだけでなく、
酸洗速度が低下してしまう。 〔実施例〕 第１表の鋼Ｂ、Ｄ、Ｆ、Ｈのスラブを1200℃に
加熱後、仕上温度930℃で板厚2.0mmに熱延し、酸
洗後、熱延板の表面性状を調査した。その結果
（脱スケール性及び粒界侵食の有無）を酸洗条件
とともに第２表に示す。 これによれば、酸洗時間が本発明の範囲にあれ
ば脱スケール性は完了し、しかも粒界侵食は発生
していない。これに対し、酸洗時間が本発明範囲
より短い場合には、スケール残存が、また長い場
合には粒界侵食が生じている。
【表】
【表】
＊ 本発明での酸洗時間の範囲
〔発明の効果〕 以上述べた本発明によれば、表面性状に優れた
電磁鋼板を、特別な手間やコスト上昇なしに酸洗
時間を適正化するだけで製造することができ、高
い経済的効果を得ることができる。また、表面性
状が良好であることから、仕上焼鈍時に表層細粒
層ができず、このため、磁気特性、特に鉄損に優
れ、しかも絶縁皮膜の均一性の高い製品を提供す
ることができる。
〔発明の効果〕 以上述べた本発明によれば、表面性状に優れた
電磁鋼板を、特別な手間やコスト上昇なしに酸洗
時間を適正化するだけで製造することができ、高
い経済的効果を得ることができる。また、表面性
状が良好であることから、仕上焼鈍時に表層細粒
層ができず、このため、磁気特性、特に鉄損に優
れ、しかも絶縁皮膜の均一性の高い製品を提供す
ることができる。
第１図は熱延板の粒界侵食の有無をSi量と巻取
温度CTとの関係で示したものである。第２図は
脱スケール性と粒界侵食に対するSi量と酸洗時間
の影響を調べたものである。第３図は、脱スケー
ル性と粒界侵食に対する酸洗温度と酸洗時間の影
響を調べたものである。第４図は脱スケール性と
粒界侵食に対する酸洗液のHCl濃度と酸洗時間の
影響を調べたものである。
温度CTとの関係で示したものである。第２図は
脱スケール性と粒界侵食に対するSi量と酸洗時間
の影響を調べたものである。第３図は、脱スケー
ル性と粒界侵食に対する酸洗温度と酸洗時間の影
響を調べたものである。第４図は脱スケール性と
粒界侵食に対する酸洗液のHCl濃度と酸洗時間の
影響を調べたものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ Si：0.2〜4.0wt％を含み、 Si≦1.0wt％の場合 CT≧270.6〔％Si〕2−475.9〔％Si〕＋915.3 Si＞1.0wt％の場合 CT≧5.0〔％Si〕2−50.1〔％Si〕＋755.4 但し、CT：熱延巻取温度（℃） 〔％Si〕：Si含有量（wt％） を満足する温度CTで巻取られた熱延板または該
巻取後熱延板焼鈍した熱延板を塩酸酸洗するに際
し、酸洗時間が下式を満足するよう酸洗すること
を特徴とする電磁鋼板の酸洗方法。 0.48〔％Si〕＋0.59≦ｔ・Bexp（−Ｑ／RT） ≦0.24〔％Si〕＋4.00 但し、〔％Si〕：熱延板中Si含有量（wt％） ｔ：酸洗時間（秒） Ｔ：酸洗液温度(K) Ｂ：−0.48〔HCl〕2＋15.1〔HCl〕＋
5.03 但し、〔HCl〕：酸洗液のHCl濃度
（wt％） Ｑ：5300cal／mol Ｒ：1.986cal／mol・Ｋ
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63054771A JPH02163321A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | 電磁鋼板の酸洗方法 |
| US07/425,179 US5061321A (en) | 1988-03-10 | 1989-03-09 | Pickling method for electrical steel bands |
| DE1989603459 DE68903459T2 (de) | 1988-03-10 | 1989-03-09 | Verfahren zum beizen von elektrofeinblechen. |
| PCT/JP1989/000260 WO1989008729A1 (fr) | 1988-03-10 | 1989-03-09 | Procede de decapage d'une feuille d'acier electrique |
| EP89903228A EP0357794B1 (en) | 1988-03-10 | 1989-03-09 | Process for pickling electrical steel sheet |
| KR8971759A KR920002997B1 (en) | 1988-03-10 | 1989-09-25 | Process for pickling electrical steel sheet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63054771A JPH02163321A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | 電磁鋼板の酸洗方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02163321A JPH02163321A (ja) | 1990-06-22 |
| JPH0472912B2 true JPH0472912B2 (ja) | 1992-11-19 |
Family
ID=12980031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63054771A Granted JPH02163321A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | 電磁鋼板の酸洗方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5061321A (ja) |
| EP (1) | EP0357794B1 (ja) |
| JP (1) | JPH02163321A (ja) |
| KR (1) | KR920002997B1 (ja) |
| WO (1) | WO1989008729A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT407755B (de) * | 1998-07-15 | 2001-06-25 | Andritz Patentverwaltung | Verfahren zum beizen von edelstahl |
| FR2807957B1 (fr) * | 2000-04-21 | 2002-08-02 | Vai Clecim | Procede et installation de laminage a froid |
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