JPH02164548A - 基質上の接着フルオロシラン層の形成方法および上記層をもつインクジェット記録ヘッド - Google Patents
基質上の接着フルオロシラン層の形成方法および上記層をもつインクジェット記録ヘッドInfo
- Publication number
- JPH02164548A JPH02164548A JP1269266A JP26926689A JPH02164548A JP H02164548 A JPH02164548 A JP H02164548A JP 1269266 A JP1269266 A JP 1269266A JP 26926689 A JP26926689 A JP 26926689A JP H02164548 A JPH02164548 A JP H02164548A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- fluorosilane
- group
- wettability
- silane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 31
- XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N fluorosilane Chemical compound [SiH3]F XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 44
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 42
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 25
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 9
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 78
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 21
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 8
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 3
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 5
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 abstract 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 24
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 16
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 14
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 12
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 9
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 7
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 4
- WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)CO WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 3
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 235000009161 Espostoa lanata Nutrition 0.000 description 2
- 240000001624 Espostoa lanata Species 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229940089951 perfluorooctyl triethoxysilane Drugs 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- AVYKQOAMZCAHRG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F AVYKQOAMZCAHRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 2-hexoxyethanol Chemical compound CCCCCCOCCO UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 241001505295 Eros Species 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000011437 continuous method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002687 intercalation Effects 0.000 description 1
- 238000009830 intercalation Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 238000002454 metastable transfer emission spectrometry Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1606—Coating the nozzle area or the ink chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/042—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen, and oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2379/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
- C08J2379/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08J2379/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2427/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
- C08J2427/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08J2427/12—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2483/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
- C08J2483/04—Polysiloxanes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分膏)
本発明は基質表面上にフルオロシラン接着層をつけるこ
とによる湿潤性の減少法および上記層で被覆された表面
をもつインクジェット記録ヘッドに関する。
とによる湿潤性の減少法および上記層で被覆された表面
をもつインクジェット記録ヘッドに関する。
(従来の技術)
インクジェット記録法は記ji液(即ちインク)がイン
クジェット記録ヘッドから紙の様な受容表面に液状で噴
射され液滴が表面に沈着し印刷される方法である。
クジェット記録ヘッドから紙の様な受容表面に液状で噴
射され液滴が表面に沈着し印刷される方法である。
この1方法は一般に連続法とよばれるが、電気的にチャ
ージされたインク液滴流がつ(られろがチャージは連続
振動装置によって調節される。それぞれ電気チャージが
調節された液滴は受容面、例えば紙面に噴射され、液滴
の飛行経路は液滴がとおる1対の傷内WaS間に電場を
付与することによって調節される。
ージされたインク液滴流がつ(られろがチャージは連続
振動装置によって調節される。それぞれ電気チャージが
調節された液滴は受容面、例えば紙面に噴射され、液滴
の飛行経路は液滴がとおる1対の傷内WaS間に電場を
付与することによって調節される。
他の方法は一般にドロップオンデマンド法ともいうが圧
電気振動子がインクジェット記録ヘッド上にあり電気記
録信号付与によって機械的に振動する。
電気振動子がインクジェット記録ヘッド上にあり電気記
録信号付与によって機械的に振動する。
一般に記録ヘッドにはオリフィスに開いているインク用
細パイプがある。オリフィス周囲の面はパイプと同じ材
料でよく、又はオリフィスはパイプの末端についている
オリフィス板とよばれろ板状でもよくまたパイプとちが
った材料でもよい。本発明の目的にはオリフィス板があ
ればそれは記録ヘッドの1部を成すと考えられる。
細パイプがある。オリフィス周囲の面はパイプと同じ材
料でよく、又はオリフィスはパイプの末端についている
オリフィス板とよばれろ板状でもよくまたパイプとちが
った材料でもよい。本発明の目的にはオリフィス板があ
ればそれは記録ヘッドの1部を成すと考えられる。
いずれの場合もヘッド表面の少なくとも1部がインクに
使う溶媒に対し湿潤性が小さいで、とが望ましいのであ
る。ある場合にはまた表面の他の部分はよい溶媒湿潤性
をもっことも望ましい。例えばあるヘッド仕様では、操
作における信頼性問題をさけろため表面の少なくとも1
部はインクによって本質的に濡れないでいて、少なくと
も他の部分は湿潤性でいて例えば他成分がヘッド表面に
付着できるとよい。1の態様においてオリフィス周囲面
が金属、セラミックス又はプラスチックスの様なある非
ガラス質材料でできている場合、インクが表面を濡らし
オリフィスをとりまくプールをつくる結果間層がおこる
。このプールはプリンターの正常運転を妨げ長時間連続
運転を阻止する。
使う溶媒に対し湿潤性が小さいで、とが望ましいのであ
る。ある場合にはまた表面の他の部分はよい溶媒湿潤性
をもっことも望ましい。例えばあるヘッド仕様では、操
作における信頼性問題をさけろため表面の少なくとも1
部はインクによって本質的に濡れないでいて、少なくと
も他の部分は湿潤性でいて例えば他成分がヘッド表面に
付着できるとよい。1の態様においてオリフィス周囲面
が金属、セラミックス又はプラスチックスの様なある非
ガラス質材料でできている場合、インクが表面を濡らし
オリフィスをとりまくプールをつくる結果間層がおこる
。このプールはプリンターの正常運転を妨げ長時間連続
運転を阻止する。
したがってオリフィス周囲部分である記録ヘッド表面の
少なくとも1部が液体によって、特にインクによって、
又は特にインク製造用溶媒によってたやすく濡れない種
処理する必要があり、この要閃解決のため多くの研究が
なされている。
少なくとも1部が液体によって、特にインクによって、
又は特にインク製造用溶媒によってたやすく濡れない種
処理する必要があり、この要閃解決のため多くの研究が
なされている。
例えば米国特許筒4.555.062号、第4.632
.906号および第4.343.013号およびヨーロ
ッパ特許出願第0177316A、0092229A、
0092230Aおよび0121623Aを参照された
い。
.906号および第4.343.013号およびヨーロ
ッパ特許出願第0177316A、0092229A、
0092230Aおよび0121623Aを参照された
い。
水又はインク製造用の他の溶媒による表面の湿潤性フル
オ四化合物の被覆膜によって減少できろことば知られて
いる。
オ四化合物の被覆膜によって減少できろことば知られて
いる。
しかし金属、セラミックス又はプラスチックスの様な非
ガラス質物質表間にフルオロ化合物応用の従来の提案は
いくつかの欠点があることが知られている。例えばPT
FEはある好ましい溶媒に対し望む非i!1iil¥!
!性をもたずある表面に結合しにくい。一方ミクロサー
キットリー(s+1eroeireuitry)に使用
する種類のふっ素化重合体膜は十分強く付着せず、ふい
てヘッドを清浄にする普通の方法でとれ易い。この膜の
例は3M発売の5C−271、Nye発売のナイバーお
よびモンテジソン発売のギャリデンがある。
ガラス質物質表間にフルオロ化合物応用の従来の提案は
いくつかの欠点があることが知られている。例えばPT
FEはある好ましい溶媒に対し望む非i!1iil¥!
!性をもたずある表面に結合しにくい。一方ミクロサー
キットリー(s+1eroeireuitry)に使用
する種類のふっ素化重合体膜は十分強く付着せず、ふい
てヘッドを清浄にする普通の方法でとれ易い。この膜の
例は3M発売の5C−271、Nye発売のナイバーお
よびモンテジソン発売のギャリデンがある。
米国特許筒4.643.948号はインクジェット記録
ヘッド表面の部分ふっ素化アルキルシランと過ふっ素化
アルカンによる被覆法を発表している。しかし被覆に記
載の唯一の方法には無線周波数グロー放電がある。
ヘッド表面の部分ふっ素化アルキルシランと過ふっ素化
アルカンによる被覆法を発表している。しかし被覆に記
載の唯一の方法には無線周波数グロー放電がある。
IBM Teehnieal Disclosure
Bulletins、 Vol、23.1980年6月
klB1983年6月虱1;および1983年8月No
、 3 Aおよび米国特許筒4.368.476号は記
録ヘッド面をフルオロシリコン化合物の稀溶液に浸漬し
てその化合物で面を処理する方法を記載している。しか
しある膜は非湿潤性を示すが、その非ガラス質面、特に
プラスチックス回への付着性がよ(ないことが知られて
いる。
Bulletins、 Vol、23.1980年6月
klB1983年6月虱1;および1983年8月No
、 3 Aおよび米国特許筒4.368.476号は記
録ヘッド面をフルオロシリコン化合物の稀溶液に浸漬し
てその化合物で面を処理する方法を記載している。しか
しある膜は非湿潤性を示すが、その非ガラス質面、特に
プラスチックス回への付着性がよ(ないことが知られて
いる。
もちろんえらばれた表面層もインク溶媒に耐えねばなら
ず、これはグリコール又はグリコールエーテル種の様な
今や好まれているある溶媒の場合特殊問題を生じている
。例えば日本特許公開74−31767号からプラスチ
ックス表面にシリコンオキサイド膜を真空被覆した後フ
ルオロシラン膜をつけることが知られている。しかしか
くえられた生成膜表面が好ましいインク溶媒との接着で
ひびが入ることがわかっている。
ず、これはグリコール又はグリコールエーテル種の様な
今や好まれているある溶媒の場合特殊問題を生じている
。例えば日本特許公開74−31767号からプラスチ
ックス表面にシリコンオキサイド膜を真空被覆した後フ
ルオロシラン膜をつけることが知られている。しかしか
くえられた生成膜表面が好ましいインク溶媒との接着で
ひびが入ることがわかっている。
望む非湿潤性を与える膜はまた基質によく付着し摩擦に
耐えかつインクジェット印刷用インクに使われる溶媒に
耐えねばならない。基質が非ガラス質、特にプラスチッ
クス材料である場合付着は特殊問題となる。
耐えかつインクジェット印刷用インクに使われる溶媒に
耐えねばならない。基質が非ガラス質、特にプラスチッ
クス材料である場合付着は特殊問題となる。
米国特許筒3.953.115号はプラスチックオプサ
ルミック(opthalmic)な基質上にビニルトリ
(低級アルコキシ)シランの1部加水分解された溶液を
使用する光学的に明らかに耐摩耗性接着膜形成法を記載
している。米国特許筒4゜006.271号はポリカー
ボネートに加水分解されたC1−2アルキルトリ (低
級アルコキシ)シラン溶液を付与している。
ルミック(opthalmic)な基質上にビニルトリ
(低級アルコキシ)シランの1部加水分解された溶液を
使用する光学的に明らかに耐摩耗性接着膜形成法を記載
している。米国特許筒4゜006.271号はポリカー
ボネートに加水分解されたC1−2アルキルトリ (低
級アルコキシ)シラン溶液を付与している。
(発明の開示)
本発明は特にインクに使われる様な種々の溶媒に対しよ
い非湿潤性を示しまたインクジェット記録ヘッドのジェ
ットオリフィス周囲面形成に使う様なプラスチックス又
は他の非ガラス質無機材料に対しよく付着しかつよい耐
摩耗性と溶媒に対する耐性を示す被膜形成法を提供する
。
い非湿潤性を示しまたインクジェット記録ヘッドのジェ
ットオリフィス周囲面形成に使う様なプラスチックス又
は他の非ガラス質無機材料に対しよく付着しかつよい耐
摩耗性と溶媒に対する耐性を示す被膜形成法を提供する
。
本発明によりインクFllliがヘッドのジェットオリ
フィスから記録用材料に噴射される様なインクジェット
記録ヘッドが提供されるが、その場合ジェットオリフィ
ス周囲のヘッドの少なくとも1部表面がプラスチックス
又は非ガラス質無機物質より成りかつ表面の湿潤性を減
少するフルオロシラン層で被覆されておりまた上記表面
に付着している硬化シロキサンより成る第1層は上記表
面と上記フルオロシラン層の中間にありまた上記フルオ
ロシラン層はシリコン原子に結合しt1少なくとも1の
加水分解性基をもつ少なくとも1のフルオロシランから
えられたものである。
フィスから記録用材料に噴射される様なインクジェット
記録ヘッドが提供されるが、その場合ジェットオリフィ
ス周囲のヘッドの少なくとも1部表面がプラスチックス
又は非ガラス質無機物質より成りかつ表面の湿潤性を減
少するフルオロシラン層で被覆されておりまた上記表面
に付着している硬化シロキサンより成る第1層は上記表
面と上記フルオロシラン層の中間にありまた上記フルオ
ロシラン層はシリコン原子に結合しt1少なくとも1の
加水分解性基をもつ少なくとも1のフルオロシランから
えられたものである。
“フルオロシラン”とはシリコン原子に結合している少
なくとも1のふっ素化有機基をもつシリコン化合物を意
味する。
なくとも1のふっ素化有機基をもつシリコン化合物を意
味する。
“非ガラス質”とはガラス以外の物質を意味する。
またプラスチックス又は非ガラス質無機物質の表面にフ
ルオロシラン層をつけることによる上記表面の湿潤性減
少法も提供されろ。
ルオロシラン層をつけることによる上記表面の湿潤性減
少法も提供されろ。
上記方法は
(1)上記表面上に硬化したシロキサンより成る接着第
1層をつくり、かつ (2)上記第111上にシリコン原子に結合している少
なくとも1の加水分解性基および同じく結合しており第
2層に非湿潤性を与える様な少なくとも1のふっ素含有
有機基をもつ少なくとも1のフルオロシランより成る第
2層をつけろ方法よ抄成る。
1層をつくり、かつ (2)上記第111上にシリコン原子に結合している少
なくとも1の加水分解性基および同じく結合しており第
2層に非湿潤性を与える様な少なくとも1のふっ素含有
有機基をもつ少なくとも1のフルオロシランより成る第
2層をつけろ方法よ抄成る。
本発明はまたインク液滴がヘッドのジェットオリフィス
から記録用物質の方へ噴射する様なインクジェット記録
ヘッドの表面がよい溶媒湿潤性をもつ少なくとも1の領
域と溶媒湿潤性のわるい少なくとも1の領域をもちかつ
上記後者領域が硬化シロキサンより成る中間層によって
表面に結合したフルオロシラン層より成るインクジェッ
ト記録ヘッドも提供するのである。
から記録用物質の方へ噴射する様なインクジェット記録
ヘッドの表面がよい溶媒湿潤性をもつ少なくとも1の領
域と溶媒湿潤性のわるい少なくとも1の領域をもちかつ
上記後者領域が硬化シロキサンより成る中間層によって
表面に結合したフルオロシラン層より成るインクジェッ
ト記録ヘッドも提供するのである。
本発明は金属又はセラミックスの様な種々の非ガラス質
無機物表面に付与できるが、プラスチックス材料表面に
付与すると特に便利である。この表面例にはアクリル系
、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ
エーテル、エーテルケトンおよびポリオレフィン、例え
ばポリエチレンがある。しかし第1と第2層をレーザー
−アブラタブル(laser−ablatible)に
できそれによってヘッド表面の湿潤性が本発明によって
減少した後にインクジェット記録ヘッド内のオリフィス
形成ができかくてオリフィス製造に必要な工程数を減少
できるので、本発明はレーザー−アブラタブルなプラス
チックス材料処理に特に重要である。
無機物表面に付与できるが、プラスチックス材料表面に
付与すると特に便利である。この表面例にはアクリル系
、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ
エーテル、エーテルケトンおよびポリオレフィン、例え
ばポリエチレンがある。しかし第1と第2層をレーザー
−アブラタブル(laser−ablatible)に
できそれによってヘッド表面の湿潤性が本発明によって
減少した後にインクジェット記録ヘッド内のオリフィス
形成ができかくてオリフィス製造に必要な工程数を減少
できるので、本発明はレーザー−アブラタブルなプラス
チックス材料処理に特に重要である。
本発明の方法で表面が処理できるプラスチックス材料は
普通プラスチックスと共に使われる有機および(又は)
無機充填物の様な添加剤を含んでもよい。しかしその表
面自体は本質的に、実質的に完全にプラスチック物質で
あることが好ましい。
普通プラスチックスと共に使われる有機および(又は)
無機充填物の様な添加剤を含んでもよい。しかしその表
面自体は本質的に、実質的に完全にプラスチック物質で
あることが好ましい。
接着硬化シロキサン石は表面をシランで被覆し膜のシラ
ン分子を連結させる。即ちシランを重合させろ様、5i
−0−8i結合を発達させて硬化させる様膜を処理して
えられろ。
ン分子を連結させる。即ちシランを重合させろ様、5i
−0−8i結合を発達させて硬化させる様膜を処理して
えられろ。
一般にこれはシランとしてシリコン原子に結合している
加水分解性基と非加水分解性有機基をもつ化合物を選び
、少なくもいくらかの加水分解性基を加水分解して5i
−OH基どした後これを対応する基と又は層中の他の分
子の81原子に結合している加水分解性基、例えばアル
コキシ基と反応させてS i −0−S i結合を形成
させてでき、水又は他の縮合副成物の損失を伴う。
加水分解性基と非加水分解性有機基をもつ化合物を選び
、少なくもいくらかの加水分解性基を加水分解して5i
−OH基どした後これを対応する基と又は層中の他の分
子の81原子に結合している加水分解性基、例えばアル
コキシ基と反応させてS i −0−S i結合を形成
させてでき、水又は他の縮合副成物の損失を伴う。
通常シランは溶液状で応用され、その溶媒は例えば揮発
によって除去されろ。
によって除去されろ。
望む接着硬化シロキサン層をえるためにはシリコン原子
に結合している基の1以外は全部加水分解性基であると
好ましい。加水分解生成物は適当に溶媒をえらべば容易
に溶媒と共に除去できろアルコールであるから加水分解
性基はアルコキシ基からえらべば好ましい。炭素原子3
までをもつアルコキシ基が最もよい。
に結合している基の1以外は全部加水分解性基であると
好ましい。加水分解生成物は適当に溶媒をえらべば容易
に溶媒と共に除去できろアルコールであるから加水分解
性基はアルコキシ基からえらべば好ましい。炭素原子3
までをもつアルコキシ基が最もよい。
シロキサン層形成にえらばれろシランのSi原子に結合
している他の基の性質は少なくとも1部被覆される表面
の性質による。第1層と表面間の結合は化学的であり、
例えばシラン中の活性基と被覆された表面中の反応性基
の反応によるものであり、又はそれはバンプワールの結
合(即ちダイポール−ダイポール結合)、水素結合又は
π−π結合の様な物理化学的かもしれない。例えば基質
がベンゼン又は他の芳香族又は偽芳香族環の残基をもつ
重合体、例えば芳香族ポリアミド、芳香族ポリエーテル
−エーテル−ケトンおよび芳香族ポリカーボネートであ
りまた基質への接着がπ−π結合によってできろ場合、
シランはα、β−エチレン的不飽和基、例えばアリル基
をもつ少なくとも1の基をもつ。また例えば基質表面が
OH基をもち水素結合による適当な接着ができろ場合、
シランは活性又はツエレウイチノフ水素原子をもつ少な
くとも1の基、例えば第1又は第2級アミノアルキルの
様な基をもっとよい。
している他の基の性質は少なくとも1部被覆される表面
の性質による。第1層と表面間の結合は化学的であり、
例えばシラン中の活性基と被覆された表面中の反応性基
の反応によるものであり、又はそれはバンプワールの結
合(即ちダイポール−ダイポール結合)、水素結合又は
π−π結合の様な物理化学的かもしれない。例えば基質
がベンゼン又は他の芳香族又は偽芳香族環の残基をもつ
重合体、例えば芳香族ポリアミド、芳香族ポリエーテル
−エーテル−ケトンおよび芳香族ポリカーボネートであ
りまた基質への接着がπ−π結合によってできろ場合、
シランはα、β−エチレン的不飽和基、例えばアリル基
をもつ少なくとも1の基をもつ。また例えば基質表面が
OH基をもち水素結合による適当な接着ができろ場合、
シランは活性又はツエレウイチノフ水素原子をもつ少な
くとも1の基、例えば第1又は第2級アミノアルキルの
様な基をもっとよい。
したがって本発明の好ましい態様によればシランは式二
YSi(Oa):、(但し各Rはアルキル基をあられし
かつYは非加水分解性1価有機基をあられす)を満足す
る。Yは飽和又は非飽和1価炭化水素基又はその置換銹
導体がよい。化合物の利用性と合成容易性およびコスト
からYは一般に特に炭素原子l乃至6をもつアルキル又
はアルケニル基およびそれらの置換誘導基で各置換基が
ハロゲン、アルコキシおよび第1級、第2級又は第3級
アミノからえらばれたものである様な基からえらばれる
。この基の例にはメチル、エチノ呟アリル、メタリル、
γ−アミノプロピル、γ−メヂルアξノプロビル、γ−
ジメチルアミノプロピルおよびメトキシエチルがある。
YSi(Oa):、(但し各Rはアルキル基をあられし
かつYは非加水分解性1価有機基をあられす)を満足す
る。Yは飽和又は非飽和1価炭化水素基又はその置換銹
導体がよい。化合物の利用性と合成容易性およびコスト
からYは一般に特に炭素原子l乃至6をもつアルキル又
はアルケニル基およびそれらの置換誘導基で各置換基が
ハロゲン、アルコキシおよび第1級、第2級又は第3級
アミノからえらばれたものである様な基からえらばれる
。この基の例にはメチル、エチノ呟アリル、メタリル、
γ−アミノプロピル、γ−メヂルアξノプロビル、γ−
ジメチルアミノプロピルおよびメトキシエチルがある。
基質面への接着と#4摩耗性の特によい組合せは接着硬
化シロキサン膜に使用したシランが第1級、第2級又は
第3級アミノアルキル基をもっシラン混合物、好ましく
は第1、第2および第3級アミノアルキルトリアルドキ
シシランからえらばれた第1シラン少なくとも1および
好ましくはアルキルとアルコキシ基が各々R素原子3ま
でをもつアルキルトリアルコキシシランからえらばれた
第2シラン少なくと61の混合物より成る場合にえられ
る。多量のアルギルトリアルコキシシランと少量のアミ
ノアルキルトリアルコキシシラン、例えば前者75乃至
60重量%とtIk者25乃至40重量%の混合物から
特によい結果かえられる。適当な化合物例はメチルトリ
エトキシレランおよびγ−アミノプロピルトリエトキシ
シランである。
化シロキサン膜に使用したシランが第1級、第2級又は
第3級アミノアルキル基をもっシラン混合物、好ましく
は第1、第2および第3級アミノアルキルトリアルドキ
シシランからえらばれた第1シラン少なくとも1および
好ましくはアルキルとアルコキシ基が各々R素原子3ま
でをもつアルキルトリアルコキシシランからえらばれた
第2シラン少なくと61の混合物より成る場合にえられ
る。多量のアルギルトリアルコキシシランと少量のアミ
ノアルキルトリアルコキシシラン、例えば前者75乃至
60重量%とtIk者25乃至40重量%の混合物から
特によい結果かえられる。適当な化合物例はメチルトリ
エトキシレランおよびγ−アミノプロピルトリエトキシ
シランである。
しかしシロキサン層のレーザー−アブラタビリティーが
重要な場合、硬化したシロキサン層中に除去を助けろ光
吸収性分子を入れる又はよい光吸収性をもっシランから
又はこの性質をもっシランを含むシラン混合物からシロ
キサン層を生成することが好ましい。望む特性をもっシ
ランの例はアリル基又はメタリル基の様な脂肪族炭素−
炭素不飽和基をもつものがある。故に本発明の実施態様
においてアルキルトリアルコキシシランのいくつか又は
すべてをアルケニルトリアルコキシシラン、例丸ばアリ
ルトリエトキシシランで置換できろ。
重要な場合、硬化したシロキサン層中に除去を助けろ光
吸収性分子を入れる又はよい光吸収性をもっシランから
又はこの性質をもっシランを含むシラン混合物からシロ
キサン層を生成することが好ましい。望む特性をもっシ
ランの例はアリル基又はメタリル基の様な脂肪族炭素−
炭素不飽和基をもつものがある。故に本発明の実施態様
においてアルキルトリアルコキシシランのいくつか又は
すべてをアルケニルトリアルコキシシラン、例丸ばアリ
ルトリエトキシシランで置換できろ。
シロキサン層生成に使うシラン又はシラン混合物はつづ
いて1硬化を促進する様それを基質に応用する前少なく
とも1部加水分解されるとよい。これは例えばシラン溶
液を水上においてできろ。加水分解は稀酸によ−)で促
進される。
いて1硬化を促進する様それを基質に応用する前少なく
とも1部加水分解されるとよい。これは例えばシラン溶
液を水上においてできろ。加水分解は稀酸によ−)で促
進される。
シラン又はシラン混合物を溶液として用いる場合どんな
溶媒又は溶媒混合物でも使用できろ。低沸点溶媒を使用
すれば容易に蒸発除去できるのでよい。しかし溶媒除去
割合が高すぎろと層にストレスを生じねれ易い。したが
って少割合のティル溶媒を含むとよい。
溶媒又は溶媒混合物でも使用できろ。低沸点溶媒を使用
すれば容易に蒸発除去できるのでよい。しかし溶媒除去
割合が高すぎろと層にストレスを生じねれ易い。したが
って少割合のティル溶媒を含むとよい。
厚さ数妃クロン以下、例えば001乃至10ミクロンの
好ましい硬化シロキサンをえる1方法はシラン溶液にス
ピン被覆法を行うことである。溶媒除去と硬化は加熱で
できる。硬化層がシリコン原子に結合した遊離水酸基、
即ち5i−OH基をもっとよい。これは第2層の結合を
促進すると考えられるからである。これは例えば少なく
とも加熱最終段階を水蒸気の存在で行えばできる。しか
しこれは重要ではない。
好ましい硬化シロキサンをえる1方法はシラン溶液にス
ピン被覆法を行うことである。溶媒除去と硬化は加熱で
できる。硬化層がシリコン原子に結合した遊離水酸基、
即ち5i−OH基をもっとよい。これは第2層の結合を
促進すると考えられるからである。これは例えば少なく
とも加熱最終段階を水蒸気の存在で行えばできる。しか
しこれは重要ではない。
故に硬化シロキサン層生成の好ましい1方法はシランの
少なくとも1部が加水分解されている様なシラン溶液で
表面をスピン被覆した後被覆面を加熱して溶媒を除去し
シランを硬化させて接着膜をえろ方法である。
少なくとも1部が加水分解されている様なシラン溶液で
表面をスピン被覆した後被覆面を加熱して溶媒を除去し
シランを硬化させて接着膜をえろ方法である。
硬化シラン層はフルオロシラン層を基質に付着させるほ
かに他の利点もある。その1つは表面の平面化を助けて
最終フルオ四シラン被覆製品表面の非湿潤特性向上とな
るのである。
かに他の利点もある。その1つは表面の平面化を助けて
最終フルオ四シラン被覆製品表面の非湿潤特性向上とな
るのである。
他は好ましいプラスチックスポリイミドの表面の場合そ
れは製品の耐久性および耐引っかき性を改善し機械的処
理耐性を高めろ。
れは製品の耐久性および耐引っかき性を改善し機械的処
理耐性を高めろ。
この方法の第2工程にわいて少なくと61のフルオロシ
ランよりえた層が硬化シロキサン層に応用される。この
工程の使用に適したフルオロシランはシリコン原子に結
合した少なくとも1の加水分解性基と同じくシリコン原
子に結合して8り層に望む非湿潤性を与える少なくとも
1のふっ素含有有機基をもつものから選ばれる。
ランよりえた層が硬化シロキサン層に応用される。この
工程の使用に適したフルオロシランはシリコン原子に結
合した少なくとも1の加水分解性基と同じくシリコン原
子に結合して8り層に望む非湿潤性を与える少なくとも
1のふっ素含有有機基をもつものから選ばれる。
1のM様においてフルオロシランは式:%式%
((Hし上式中mとnは整数であり、mは1又(ま2で
あり、nは少なくとも2であり、かつ臘とnの合計は4
であり、各R2はふっ素含有有機基でありまた各R3は
加水分解性基である)で示されろものからえらぶことが
できる。好ましい加水分解性基はアルコキシであり、特
に炭素原子1乃至3をもつものが最もよい。
あり、nは少なくとも2であり、かつ臘とnの合計は4
であり、各R2はふっ素含有有機基でありまた各R3は
加水分解性基である)で示されろものからえらぶことが
できる。好ましい加水分解性基はアルコキシであり、特
に炭素原子1乃至3をもつものが最もよい。
mはl又は2であるが、―が2の場合非湿潤性の改良が
できるとは思われず、反対に第1層への接着がよオ〕く
なる。したがって論は1でありnは3であるとよい。
できるとは思われず、反対に第1層への接着がよオ〕く
なる。したがって論は1でありnは3であるとよい。
フルオロシラン層によって与えられる非湿潤性はR2の
性質の関数となり易い。一般にR2の末端部、即ちR2
のSi原子に結合しているR2の他端における又は他端
の方へのR2の部分のふり化度増加と共に抗湿潤性はよ
くなる。R2は末端部分に少なくとも1のCF、基をも
つと好ましい。
性質の関数となり易い。一般にR2の末端部、即ちR2
のSi原子に結合しているR2の他端における又は他端
の方へのR2の部分のふり化度増加と共に抗湿潤性はよ
くなる。R2は末端部分に少なくとも1のCF、基をも
つと好ましい。
ふっ素原子が結合している基はどんな有機基でもよいが
一般に飽和基、例えばアルキル、アルコキシアルキル又
はアルキルカルボキシアルキル基がよい。
一般に飽和基、例えばアルキル、アルコキシアルキル又
はアルキルカルボキシアルキル基がよい。
例えばR2は構造式;
%式%)
(上式中容XばF又はCF、をあられし、Zは2価原子
又は−〇−の様な基をあられしまたχと2の各々はゼロ
又は正整数でありyはゼロ又は1である)をもつ。各C
F2基のふっ素原子の1又は2息−トは必要ならば一〇
F3基で置換できろ。
又は−〇−の様な基をあられしまたχと2の各々はゼロ
又は正整数でありyはゼロ又は1である)をもつ。各C
F2基のふっ素原子の1又は2息−トは必要ならば一〇
F3基で置換できろ。
特定例は CF3(CF2)9(CR2)2−CF3(
CF2)、 (CR2)2− CF、 (CF2)、 (CR2)2−CF’3 (C
F2)、0(CH2)2−(CF、12CF O(CR
2)、 −(CF、)、CCF20 CH,CR2−R
2および(又は)R3基の1又は2以上を他の1価原子
又は基で置換できる。もちろへ分子は少なくとも1のふ
っ素含有基と少なくとも1の加水分解性基をもちまた上
記他の基は悪影響を与える程加水分解を妨げ又は層の非
m潤性に逆影響を与えないものとする。
CF2)、 (CR2)2− CF、 (CF2)、 (CR2)2−CF’3 (C
F2)、0(CH2)2−(CF、12CF O(CR
2)、 −(CF、)、CCF20 CH,CR2−R
2および(又は)R3基の1又は2以上を他の1価原子
又は基で置換できる。もちろへ分子は少なくとも1のふ
っ素含有基と少なくとも1の加水分解性基をもちまた上
記他の基は悪影響を与える程加水分解を妨げ又は層の非
m潤性に逆影響を与えないものとする。
この修正法によればフルオロシランは式:%式%
(上式中R2とR3は上に定義したとおりであり、各R
4は非加水分解性原子又はR2以外の基であり、lは1
又は2であり、口は少なくとも1であり、pは01又は
2であり、m+n+p=4とする。またR4は上記他の
1価原子又は基をあられす;この原子又は基の例はFで
ある)で示される。
4は非加水分解性原子又はR2以外の基であり、lは1
又は2であり、口は少なくとも1であり、pは01又は
2であり、m+n+p=4とする。またR4は上記他の
1価原子又は基をあられす;この原子又は基の例はFで
ある)で示される。
フルオロシラン層はフルオロシラン蒸気から真空沈着に
よって生成でき、最良接着には低湿度に保つことが望ま
しいとわかった。またそれは適当溶媒中の溶液状でつけ
ることができ、溶媒は蒸発除去できる。
よって生成でき、最良接着には低湿度に保つことが望ま
しいとわかった。またそれは適当溶媒中の溶液状でつけ
ることができ、溶媒は蒸発除去できる。
シロキサン層へのフルオロシラン層接着は加水分解性基
R3の反応によると信じられる。第1層が5i−OH基
を含む場合第2層加熱は第2層の加水分解性基R3と第
1pmの5i−0部1基間の化学反応を促進し両層を化
学結合させる。
R3の反応によると信じられる。第1層が5i−OH基
を含む場合第2層加熱は第2層の加水分解性基R3と第
1pmの5i−0部1基間の化学反応を促進し両層を化
学結合させる。
実際の化学結合が起こるにしろ起こらないにしろとにか
く最適接着をえるには第2層を第1層と接触させ加熱す
るとよい。
く最適接着をえるには第2層を第1層と接触させ加熱す
るとよい。
第2層厚さが5ミクロン又はそれ以下であれば最良結果
かえられる。5ミクロン以上では抗湿潤性はあまり又は
全く改良されず、反対に鴎か数分子、例えば1又は2分
子厚さの層でよい結果がえられる。
かえられる。5ミクロン以上では抗湿潤性はあまり又は
全く改良されず、反対に鴎か数分子、例えば1又は2分
子厚さの層でよい結果がえられる。
本発明によるインクジェット記録ヘッドの使用に適する
インク溶媒にはアルコール(例えばイソプロピルアルコ
ール)、ハロゲン化有機化合物(例えば1.1.1−ト
リクロロエタン)、芳香族炭化水素(例えばキシレン)
、ケトン(例丸ばアセトン)、水およびナフテン系およ
びパラフィン系炭化水素型溶媒およびそれらの混合物(
例えば市販の溶媒、ビスツ47)並びにジーおよびトリ
ープロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールブチルエーテルおよびジエチレングリコール
ブチルエーテルの様なアグレッシブグリコール8よびグ
リコールエーテル溶媒がある。
インク溶媒にはアルコール(例えばイソプロピルアルコ
ール)、ハロゲン化有機化合物(例えば1.1.1−ト
リクロロエタン)、芳香族炭化水素(例えばキシレン)
、ケトン(例丸ばアセトン)、水およびナフテン系およ
びパラフィン系炭化水素型溶媒およびそれらの混合物(
例えば市販の溶媒、ビスツ47)並びにジーおよびトリ
ープロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールブチルエーテルおよびジエチレングリコール
ブチルエーテルの様なアグレッシブグリコール8よびグ
リコールエーテル溶媒がある。
本発明を実施例おJ:び付図について更に例証する。
図1は本発明により非湿潤性膜をつけたインクジェット
記録ヘッドの概略断面図である。
記録ヘッドの概略断面図である。
図2はリシーディング(receding)角測定用装
置の概略図である。
置の概略図である。
図3は図2の装置を用いリシーディング角測定を示す概
略図である。
略図である。
図1のカプト> (Kapton)ポリアミドのインク
ジェット記録ヘッド2の1部にインク管6zこ開いてい
るオリフィス4と硬化シロキサンの接着第1層10とフ
ルオロシランの第2層12より成る一般に8で示される
非湿潤性膜がある。
ジェット記録ヘッド2の1部にインク管6zこ開いてい
るオリフィス4と硬化シロキサンの接着第1層10とフ
ルオロシランの第2層12より成る一般に8で示される
非湿潤性膜がある。
非湿潤性膜8はAとBの2段階でできている。第1段A
の残留遊離OH基をもつ薄い硬化シロキサン層はカプト
ンポリアミド面上に溶液から生成された。第2段Bのフ
ルオロシランはシロキづン層10と化学的に結合し非湿
潤性表面を生成した。下記記述において特に断わらない
限り部はすべて容量基準である。
の残留遊離OH基をもつ薄い硬化シロキサン層はカプト
ンポリアミド面上に溶液から生成された。第2段Bのフ
ルオロシランはシロキづン層10と化学的に結合し非湿
潤性表面を生成した。下記記述において特に断わらない
限り部はすべて容量基準である。
(A) シロキサン膜の生成
清浄ガラス容器中でメチルトリエトキシシラン(MTE
S)1375部を0.01N HCI 12.5部お
よび無水エタノール12.5部と混合し少なくとも3時
間放置してMTESを部分加水分解させた。
S)1375部を0.01N HCI 12.5部お
よび無水エタノール12.5部と混合し少なくとも3時
間放置してMTESを部分加水分解させた。
犬な溶液15部、酢酸025部、エチレングリコールモ
ノヘキシルエーテル2部およびアミノプロピルトリエト
キシシラン25部から被覆用溶液をつくφ直ちに2ミク
ロンフィルタ−をとおして濾過した。濾過生成物は30
分乃至1時間の寿命をもっていた。
ノヘキシルエーテル2部およびアミノプロピルトリエト
キシシラン25部から被覆用溶液をつくφ直ちに2ミク
ロンフィルタ−をとおして濾過した。濾過生成物は30
分乃至1時間の寿命をもっていた。
カプトンポリアミド板試料をイソプロパツールを使い清
浄とした後スピン被覆法で溶液を被覆し厚さ05乃至2
ミクロンの膜をつけた。膜を風乾した後50℃で30分
焼き次いで45℃、相対湿度95%で30分処理しtコ
。
浄とした後スピン被覆法で溶液を被覆し厚さ05乃至2
ミクロンの膜をつけた。膜を風乾した後50℃で30分
焼き次いで45℃、相対湿度95%で30分処理しtコ
。
B) フルオロシラン層の生成
アルミニウム箔張りの大金属皿にIH,IH,2H,2
Hパーフルオロオクチルトリエトキシシラン(PFOT
ES)300部を入れデシケータ−の底におき段階(A
)のシロキサン膜つきカプトンポリアミド板をデシケー
タ−上部に棚としておき各シロキサン膜面が自由露出状
態とした。
Hパーフルオロオクチルトリエトキシシラン(PFOT
ES)300部を入れデシケータ−の底におき段階(A
)のシロキサン膜つきカプトンポリアミド板をデシケー
タ−上部に棚としておき各シロキサン膜面が自由露出状
態とした。
容器内を10分間50 torr排気し乾燥窒素で平常
室圧とし更に10分間50 torr真空とし相対湿度
を10%以下とした。
室圧とし更に10分間50 torr真空とし相対湿度
を10%以下とした。
デシケータ−を閉じ真空ポンプからはなし180℃に熱
しであるオーブン中で2時間加熱t&15分間冷ました
。冷ましながら真空ポンプに接続し真空とした後乾燥窒
素ガスで室圧とし試料をとり出した。
しであるオーブン中で2時間加熱t&15分間冷ました
。冷ましながら真空ポンプに接続し真空とした後乾燥窒
素ガスで室圧とし試料をとり出した。
試料がインクジェット記録ヘッド製造用に適するか否か
検討のため下記の多数試験を行った。
検討のため下記の多数試験を行った。
インク溶媒に関する非湿潤性は下記試験法により図2と
3に図示する装置を用いて測定する様なリシーディング
接触角から評価した。上記装置はABとBC寸法が各3
0mの金属試料ホルダー20、開口端24とフリ一端2
6をもつポリプロピレン管22、移動顕微鏡28および
試験される膜面32と両面接着テープ片34をもつ試料
30より成る。移動顕微鏡28の接眼片36はクロスヘ
ヤ(eross hair)計数線をもち、その1アー
ム38は接眼片の外部ケーシング上にマークをっけ並ん
でいろ(図3)。目盛り40は接眼片36の円筒体のま
わりに刻まれている。
3に図示する装置を用いて測定する様なリシーディング
接触角から評価した。上記装置はABとBC寸法が各3
0mの金属試料ホルダー20、開口端24とフリ一端2
6をもつポリプロピレン管22、移動顕微鏡28および
試験される膜面32と両面接着テープ片34をもつ試料
30より成る。移動顕微鏡28の接眼片36はクロスヘ
ヤ(eross hair)計数線をもち、その1アー
ム38は接眼片の外部ケーシング上にマークをっけ並ん
でいろ(図3)。目盛り40は接眼片36の円筒体のま
わりに刻まれている。
ポリエチレン!r22はえらばれた溶媒で1部満たされ
、金属ホルダー20中の試料30の膜面32の上部2H
に開口端24が固定され吊下がっている様な位置にある
。フリ一端26はクランプ中に上下に動く様な位置にあ
る。管22の介在する長さは図のとおF)S形にされて
いる。管22のフリ一端26が上下にしずかに動くにつ
れ液42滴を表面32上に押出しまたそれを吸い込むこ
ともできる。
、金属ホルダー20中の試料30の膜面32の上部2H
に開口端24が固定され吊下がっている様な位置にある
。フリ一端26はクランプ中に上下に動く様な位置にあ
る。管22の介在する長さは図のとおF)S形にされて
いる。管22のフリ一端26が上下にしずかに動くにつ
れ液42滴を表面32上に押出しまたそれを吸い込むこ
ともできる。
液滴は拡散した光源(図示されていない)を用い凝視入
射角において照らされる。液滴とその反射像は移動ff
J(ffiil!で見られる。本体に対し接眼片を回転
し接眼片上の外部マーク位置をみることによってクロス
ヘヤのアーム38位置の角測定ができる。
射角において照らされる。液滴とその反射像は移動ff
J(ffiil!で見られる。本体に対し接眼片を回転
し接眼片上の外部マーク位置をみることによってクロス
ヘヤのアーム38位置の角測定ができる。
新しくつくった試料30を試料支持台に両面テープ34
でとりつけ、管22のフリ一端26をしずかに上げて管
22中の液を表面32上数E’Jメーターの距離に流れ
させる。液位置が安定して落ち付くのを待ち管22のフ
リ一端26をしずかに下げて液を管内に吸い込ませ液滴
を表面から撤収する。
でとりつけ、管22のフリ一端26をしずかに上げて管
22中の液を表面32上数E’Jメーターの距離に流れ
させる。液位置が安定して落ち付くのを待ち管22のフ
リ一端26をしずかに下げて液を管内に吸い込ませ液滴
を表面から撤収する。
液滴が撤収位置で安定し落ち付いたときリシーディング
角は液滴42(図3)表面と液滴、表面間の接触点にお
ける試料面との間の角として測定されろ。実際液滴42
角とその反射像の角44が測定される。クロスへヤの交
差点が液滴と試料表面間の接触点上にある様に顕微鏡を
おくことにより、クロスヘヤのマークしたアーム38を
先ず液滴表面と並べ(図3の位置y)次にその表面の像
と並べ(図3の位置X)る様回転して測定できる。βを
Xと7間の角とすればリシーディング角α=90+β/
2である。
角は液滴42(図3)表面と液滴、表面間の接触点にお
ける試料面との間の角として測定されろ。実際液滴42
角とその反射像の角44が測定される。クロスへヤの交
差点が液滴と試料表面間の接触点上にある様に顕微鏡を
おくことにより、クロスヘヤのマークしたアーム38を
先ず液滴表面と並べ(図3の位置y)次にその表面の像
と並べ(図3の位置X)る様回転して測定できる。βを
Xと7間の角とすればリシーディング角α=90+β/
2である。
一般に150°又はそれ以内のリシーディング角が適当
と考えられる。
と考えられる。
液としてトリプロピレングリコールモノメチルエーテル
(TPM)を使い、130°のリシーディング接触角が
被覆試料面の非m潤性の優秀性を示した。
(TPM)を使い、130°のリシーディング接触角が
被覆試料面の非m潤性の優秀性を示した。
試料表面に溶媒(TPM)中に浸漬した綿塊をすりつけ
て耐摩耗性を検べた。表面の非湿潤性は1000回往復
jIi擦後もなお明らかであった。例えばカプトンポリ
アミド試料をネイバーおよびガリデンの様な専売膜で被
覆した場合浸漬綿塊で1乃至10回摩擦後に非湿潤性は
失われた。
て耐摩耗性を検べた。表面の非湿潤性は1000回往復
jIi擦後もなお明らかであった。例えばカプトンポリ
アミド試料をネイバーおよびガリデンの様な専売膜で被
覆した場合浸漬綿塊で1乃至10回摩擦後に非湿潤性は
失われた。
膜付きカプトンポリアミド試料はそれ自体約180°曲
げてもねれ目が出来ずプラスチックスへの膜のよい接着
を示している。
げてもねれ目が出来ずプラスチックスへの膜のよい接着
を示している。
試料を対応溶媒に浸漬して溶媒耐性を検べた。下記溶媒
:アセトン、水、ジエチレングリコール、トリプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、パラフィンおよびヴ
イスタ′47の各々に少なくとも14日間浸漬後にもひ
び割れその他溶媒による変化は認められなかった。
:アセトン、水、ジエチレングリコール、トリプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、パラフィンおよびヴ
イスタ′47の各々に少なくとも14日間浸漬後にもひ
び割れその他溶媒による変化は認められなかった。
フルオロシランとしてIH,IH,2H,2H−パーフ
ルオロドデシルトリエトキシシランを使用し上記と同様
の結果もえられた。
ルオロドデシルトリエトキシシランを使用し上記と同様
の結果もえられた。
比較のためネイバーおよびガリデンの様な専売非湿潤性
膜をつけたカプトンポリアミド試料を試験した処置様の
溶媒を使って僅か2〜3時間内に溶媒による変化があら
れれな。
膜をつけたカプトンポリアミド試料を試験した処置様の
溶媒を使って僅か2〜3時間内に溶媒による変化があら
れれな。
インクジェット記録へラドオリフィス板は被rII板を
望む大きさに切りそれにレーザーでインクのとおり路を
つけてつくった。
望む大きさに切りそれにレーザーでインクのとおり路を
つけてつくった。
オリフィス板の表面の1部(単数又は複数)に湿潤部分
を望むならば、被覆前に板に印をつけることができろ。
を望むならば、被覆前に板に印をつけることができろ。
本発明の1形態において、プラスチックス又は非ガラス
質無機物質の表面にフルオロシラン層を接着することに
よるその表面の湿潤性減少法が提供される。上記方法は
(1)上記表面に硬化したシロキサンより成る第1IB
を接着し、かつ (2)上記第1層上に少なくとも1の加水分解性基およ
び層に非湿潤性を与える少なくとも1のふっ素含有有機
基が結合しているシリコン原子をもつ少なくとも1のフ
ルオロシランからえられた第2層をつける ことより成る。
質無機物質の表面にフルオロシラン層を接着することに
よるその表面の湿潤性減少法が提供される。上記方法は
(1)上記表面に硬化したシロキサンより成る第1IB
を接着し、かつ (2)上記第1層上に少なくとも1の加水分解性基およ
び層に非湿潤性を与える少なくとも1のふっ素含有有機
基が結合しているシリコン原子をもつ少なくとも1のフ
ルオロシランからえられた第2層をつける ことより成る。
本発明の方法の好ましい特徴は次のとおりである:工程
(1)はシリコン原子に結合している加水分解性基と非
加水分解性有機基をもつ少なくとも1のシランで上記表
面を被覆しえた膜を処理して表面に接着した硬化シロキ
サン層とすることより成り;シランは式: YSi(O
R)、(但し各Rはアルキル基でありかつYは非加水分
解性飽和又は不飽和1価炭化水素基又はその置換誘導体
でありアルキル、アルケニルおよびアルコキシ基および
各置換基がハロゲン、アルコキシおよび第1級、第2級
又は第3級アミノからえらばれた様なそれらのW’ll
誘導体からえらばれたものとする)で示され;上記の少
なくども1のシランは第1級、第2級又は第3級のアミ
ノアルキル基をもつシランを含む混合物より成り;上記
混合物はアルキルトリアルコキシシランとアルケニルト
リアルコキシシランからえらばれた少なくとも1のシラ
ンおよび第1G、第2級又は第3級アミノアルキルトリ
アルコキシシランからえらばれた少なくとも1のシラン
より成り;上記少なくとも1のシランはそれが表面につ
けられる前に少なくとも1部加水分解されており; 上記の少なくとも1のシランは溶液からつけられできた
膜は溶媒除去処理され; 上記溶液はスピン被覆法でつけられ; 加水分解性フルオロシランは式: %式% (mは1又は2であり、nは少なくとも1であり、pは
O2l又は2であり、m+n+p=4であり、各R2は
ふっ素含有有機基であり、各R3は加水分解性基であり
また各R4は非加水分解性原子又はR2以外の基である
)で示され;Iは1であり・nば3であり、pばOであ
り1各R3は炭素原子1乃至3をもつアルコキシ基であ
り;各R2は式: X3C(CF2)、、−(Z)。
(1)はシリコン原子に結合している加水分解性基と非
加水分解性有機基をもつ少なくとも1のシランで上記表
面を被覆しえた膜を処理して表面に接着した硬化シロキ
サン層とすることより成り;シランは式: YSi(O
R)、(但し各Rはアルキル基でありかつYは非加水分
解性飽和又は不飽和1価炭化水素基又はその置換誘導体
でありアルキル、アルケニルおよびアルコキシ基および
各置換基がハロゲン、アルコキシおよび第1級、第2級
又は第3級アミノからえらばれた様なそれらのW’ll
誘導体からえらばれたものとする)で示され;上記の少
なくども1のシランは第1級、第2級又は第3級のアミ
ノアルキル基をもつシランを含む混合物より成り;上記
混合物はアルキルトリアルコキシシランとアルケニルト
リアルコキシシランからえらばれた少なくとも1のシラ
ンおよび第1G、第2級又は第3級アミノアルキルトリ
アルコキシシランからえらばれた少なくとも1のシラン
より成り;上記少なくとも1のシランはそれが表面につ
けられる前に少なくとも1部加水分解されており; 上記の少なくとも1のシランは溶液からつけられできた
膜は溶媒除去処理され; 上記溶液はスピン被覆法でつけられ; 加水分解性フルオロシランは式: %式% (mは1又は2であり、nは少なくとも1であり、pは
O2l又は2であり、m+n+p=4であり、各R2は
ふっ素含有有機基であり、各R3は加水分解性基であり
また各R4は非加水分解性原子又はR2以外の基である
)で示され;Iは1であり・nば3であり、pばOであ
り1各R3は炭素原子1乃至3をもつアルコキシ基であ
り;各R2は式: X3C(CF2)、、−(Z)。
−(CH2)ニー f式中釜XはF又はcF3であり、
Zは2価原子又は基であり、各χおよび2はゼロ又は正
整数でありまたyはゼロ又は1である)をもち;R4は
Fであり;この方法により処理されろ表面はインクジェ
ット記録ヘッドのジェットオリフィス周囲の部分であり
、オリフィスは膜生成前又は後につくられる;表面上に
つくられた硬化シロキサン層はシリコン原子に結合して
いる遊離水酸基をもちまた少なくとも1のフルオロシラ
ンからできている層は上記水酸基との反応によって硬化
シロキサン層に化学的に結合している; 上記遊離水酸基は水蒸気存在におけるシロキサン層硬化
の少なくとも最終段階を行ってえられる;上記フルオロ
シラン層はフルオロシラン蒸気から真空蒸着によってっ
けりれろ;上記フルオロシラン層はシロキサン層と接し
て加熱されるこの方法によって処理されろ表面はポリア
ミド、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリエー
テル−エーテル−ケトンからえらばれたプラスチックス
より成る。
Zは2価原子又は基であり、各χおよび2はゼロ又は正
整数でありまたyはゼロ又は1である)をもち;R4は
Fであり;この方法により処理されろ表面はインクジェ
ット記録ヘッドのジェットオリフィス周囲の部分であり
、オリフィスは膜生成前又は後につくられる;表面上に
つくられた硬化シロキサン層はシリコン原子に結合して
いる遊離水酸基をもちまた少なくとも1のフルオロシラ
ンからできている層は上記水酸基との反応によって硬化
シロキサン層に化学的に結合している; 上記遊離水酸基は水蒸気存在におけるシロキサン層硬化
の少なくとも最終段階を行ってえられる;上記フルオロ
シラン層はフルオロシラン蒸気から真空蒸着によってっ
けりれろ;上記フルオロシラン層はシロキサン層と接し
て加熱されるこの方法によって処理されろ表面はポリア
ミド、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリエー
テル−エーテル−ケトンからえらばれたプラスチックス
より成る。
本発明の他の形態においてインク液滴がヘッドのジェッ
トオリフィスから記録用物質の方へ噴射される様なイン
クジェット記録ヘッドが提供され、そのヘッド表面は少
なくとも1部分溶媒濡れのよい部分と少なくとも1部分
溶媒濡れのわるい部分をもち、わるい部分は硬化シロキ
サンより成る中間層によって表面に結合したフルオロシ
ラン層より成る。
トオリフィスから記録用物質の方へ噴射される様なイン
クジェット記録ヘッドが提供され、そのヘッド表面は少
なくとも1部分溶媒濡れのよい部分と少なくとも1部分
溶媒濡れのわるい部分をもち、わるい部分は硬化シロキ
サンより成る中間層によって表面に結合したフルオロシ
ラン層より成る。
更に本発明の他の形態において、インク液滴がヘッドの
ジェットオリフィスから記録用物質に噴射されるインク
ジェット記録ヘッドが提供され、ジェットオリフィス周
囲のヘッドの少なくとも1部表面がプラスチックス又は
非ガラス質無機物質より成りまた上記表面が表面の湿潤
性を減少ずろフルオロシラン層で被覆されており、かつ
上記表面に接着している硬化シロキサンより成る第1層
は上記表面と上記フルオロシラン層の間に介在しまた上
記フルオロシラン層はシリコン原子に結合している少な
くとも1の加水分解性基をもつ少なくとも1の加水分解
性フルオロシランからえられたものである。
ジェットオリフィスから記録用物質に噴射されるインク
ジェット記録ヘッドが提供され、ジェットオリフィス周
囲のヘッドの少なくとも1部表面がプラスチックス又は
非ガラス質無機物質より成りまた上記表面が表面の湿潤
性を減少ずろフルオロシラン層で被覆されており、かつ
上記表面に接着している硬化シロキサンより成る第1層
は上記表面と上記フルオロシラン層の間に介在しまた上
記フルオロシラン層はシリコン原子に結合している少な
くとも1の加水分解性基をもつ少なくとも1の加水分解
性フルオロシランからえられたものである。
インクジェット記録ヘッドの好ましい特徴は次のとおり
である: 上記硬化シロキサンは式: Y S r (OR)3
(式中釜Rはアルキル基であり、Yは非加水分解性1価
飽和又は不飽和炭化水素基又はその置換誘導体であり、
アルキルおよびアルケニルおよびそれらのハロゲン、ア
ルコキシおよび第1級、第2級又(よ第3級アミノから
えらばれた置換基で置換された誘導体からえらばれたも
のである)で示される少なくとも1のシランからえらば
れたものであり;上記少なくとも1のシランは第1級、
第2級又は第3級アミノアルキル基をもっシランを含む
混合物より成り; 上記少なくとも1のシランはアルキルトリアルコキシシ
ランとアルケニルトリアルコキシシランからえらばれた
少なくとも1のシランおよび少なくとも1の第1級、第
2級又は第3級アミノアルキルトリアルコキシシランよ
り成り;フルオロシランは式: RSiRR’ (但し−は1又は2であり、nは少なくとも1であり、
pは0.1又は2であり、かっm+n+p=4であり、
各R2は五つ素含有有機基であり、各R3は加水分解性
基でありかつ各R4は非加水分解性原子又はR2以外の
基である)で示され;例えば■は1であり、かつnは3
であり;各R3は炭素原子1乃至3をもつアルコキシ基
であり;各R2は式、 X3C(CF2)。
である: 上記硬化シロキサンは式: Y S r (OR)3
(式中釜Rはアルキル基であり、Yは非加水分解性1価
飽和又は不飽和炭化水素基又はその置換誘導体であり、
アルキルおよびアルケニルおよびそれらのハロゲン、ア
ルコキシおよび第1級、第2級又(よ第3級アミノから
えらばれた置換基で置換された誘導体からえらばれたも
のである)で示される少なくとも1のシランからえらば
れたものであり;上記少なくとも1のシランは第1級、
第2級又は第3級アミノアルキル基をもっシランを含む
混合物より成り; 上記少なくとも1のシランはアルキルトリアルコキシシ
ランとアルケニルトリアルコキシシランからえらばれた
少なくとも1のシランおよび少なくとも1の第1級、第
2級又は第3級アミノアルキルトリアルコキシシランよ
り成り;フルオロシランは式: RSiRR’ (但し−は1又は2であり、nは少なくとも1であり、
pは0.1又は2であり、かっm+n+p=4であり、
各R2は五つ素含有有機基であり、各R3は加水分解性
基でありかつ各R4は非加水分解性原子又はR2以外の
基である)で示され;例えば■は1であり、かつnは3
であり;各R3は炭素原子1乃至3をもつアルコキシ基
であり;各R2は式、 X3C(CF2)。
−(Z)、−(CH2)、 −(但L X if F又
はCF3であり、Zは2価原子又は基であり、Xおよび
2はゼロ又は正整数でありかつyはゼロ又は1である)
で示され;R4はFである:上記フルオロシラン層は上
記硬化シロキサン層に化学的に結合しており;ヘッド表
面はプラスチックス材料より成る。
はCF3であり、Zは2価原子又は基であり、Xおよび
2はゼロ又は正整数でありかつyはゼロ又は1である)
で示され;R4はFである:上記フルオロシラン層は上
記硬化シロキサン層に化学的に結合しており;ヘッド表
面はプラスチックス材料より成る。
図1は本発明による非湿潤性膜をもつインクジェット記
録ヘッドの概略断面図である。 図2はリレーディング角測定装置の概略図である。 図3は図2の装置を用いリレーディング角測定を示す図
である。 2・・・・・インクジェット記録ヘッド、 4・・・
・・オリフィス、5・・・・・・インク管、 8・・
・・・・非湿潤性膜、 10・・・・・シロキサン層
、 12・・・・・・フルオロシラン層、 20・
・・・・・ホルダー22・・・・・ポリエチレン管、
30・・・・・・試料。 同
録ヘッドの概略断面図である。 図2はリレーディング角測定装置の概略図である。 図3は図2の装置を用いリレーディング角測定を示す図
である。 2・・・・・インクジェット記録ヘッド、 4・・・
・・オリフィス、5・・・・・・インク管、 8・・
・・・・非湿潤性膜、 10・・・・・シロキサン層
、 12・・・・・・フルオロシラン層、 20・
・・・・・ホルダー22・・・・・ポリエチレン管、
30・・・・・・試料。 同
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(1)プラスチックス又は非ガラス質無機物質より
成る表面上に硬化したシロキサンより成る接着第1層を
形成し、次いで (2)上記第1層上に少なくとも1の加水分解性基およ
び該層に非湿潤性を与える少なくとも1のふっ素含有有
機基が結合しているシリコン原子をもつ少なくとも1の
フルオロシランからえられた第2層をつける ことを特徴とするプラスチックス又は非ガラス質無機物
質より成る表面上に接着フルオロシラン層を有する表面
の湿潤性減少方法。 2、インクジェット記録ヘッドの表面が溶媒濡れのよい
少なくとも1部分と溶媒濡れのわるい少なくとも1部分
をもちかつ後者部分が硬化シロキサンより成る中間層に
より表面に接着したフルオロシラン層より成ることを特
徴とするインク液滴がヘッドのジェットオリフィスから
記録用物質上に噴射される型のインクジェット記録ヘッ
ド。 3、インク液滴がヘッドジェットオリフィスから記録用
物質上に噴射され、ジェットオリフィス周囲のヘッドの
少なくとも1部表面がプラスチックス又は非ガラス質無
機物質より成りかつ上記表面がその湿潤性を減少するフ
ルオロシラン層で被覆されている型のインクジェット記
録ヘッドにおいて、上記表面に接着された硬化シロキサ
ンより成る第1層が上記表面と上記フルオロシラン層の
間に介在し上記フルオロシラン層はシリコン原子に結合
している少なくとも1の加水分解性基をもつ少なくとも
1のフルオロシランからえられたものであることを特徴
とするインクジェット記録ヘッド。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB888824436A GB8824436D0 (en) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | Method of forming adherent fluorosilane layer on substrate & ink jet recording head containing such layer |
| GB8906380.4 | 1989-03-20 | ||
| GB898906380A GB8906380D0 (en) | 1988-10-19 | 1989-03-20 | Method of forming adherent fluorosilane layer on a substrate and ink jet recording head containing such a layer |
| GB8824436.3 | 1989-03-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02164548A true JPH02164548A (ja) | 1990-06-25 |
| JP2678507B2 JP2678507B2 (ja) | 1997-11-17 |
Family
ID=26294531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1269266A Expired - Fee Related JP2678507B2 (ja) | 1988-10-19 | 1989-10-18 | 基質上の接着フルオロシラン層の形成方法および上記層をもつインクジェット記録ヘッド |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5010356A (ja) |
| EP (1) | EP0367438B1 (ja) |
| JP (1) | JP2678507B2 (ja) |
| CA (1) | CA1329341C (ja) |
| DE (1) | DE68912879T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04331785A (ja) * | 1991-04-30 | 1992-11-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水・防汚性石材 |
Families Citing this family (57)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2207908T3 (es) * | 1988-10-31 | 2004-06-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Cabezal para chorros de tinta y metodo para la fabricacion del mismo, placa con oberturas de descarga para el cabezal y su metodo de fabricacion y aparato para chorros de tinta con cabezal para chorros de tinta. |
| US5682187A (en) * | 1988-10-31 | 1997-10-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing an ink jet head having a treated surface, ink jet head made thereby, and ink jet apparatus having such head |
| GB8906379D0 (en) * | 1989-03-20 | 1989-05-04 | Am Int | Providing a surface with solvent-wettable and solvent-non wettable zones |
| US5212496A (en) * | 1990-09-28 | 1993-05-18 | Xerox Corporation | Coated ink jet printhead |
| US5136310A (en) * | 1990-09-28 | 1992-08-04 | Xerox Corporation | Thermal ink jet nozzle treatment |
| US5175568A (en) * | 1990-10-24 | 1992-12-29 | Ricoh Company, Ltd. | Process and apparatus for forming image on novel recording medium |
| US5240774A (en) * | 1990-10-25 | 1993-08-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fluorocarbon-based coating film and method of manufacturing the same |
| USRE38752E1 (en) * | 1990-10-25 | 2005-07-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Method of manufacturing a fluorocarbon-based coating film |
| JP2678399B2 (ja) * | 1990-11-07 | 1997-11-17 | 株式会社リコー | 記録方法 |
| JP2637869B2 (ja) * | 1990-12-10 | 1997-08-06 | 松下電器産業株式会社 | 吸着単分子膜及びその製造方法 |
| EP0492545B1 (en) * | 1990-12-25 | 1998-03-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Transparent substrate with monomolecular film thereon and method of manufacturing the same |
| EP0493747B1 (en) * | 1990-12-25 | 1996-07-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Anti-contaminating adsorbed film and method of manufacturing the same |
| JPH0577423A (ja) * | 1991-09-24 | 1993-03-30 | Canon Inc | インクジエツト記録ヘツド |
| US5218381A (en) * | 1992-04-28 | 1993-06-08 | Xerox Corporation | Hydrophobic coating for a front face of a printhead in an ink jet printer |
| DE69304252T2 (de) * | 1992-05-27 | 1997-01-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Verfahren zur Herstellung eines chemisch adsorbierten Filmes |
| JP3196796B2 (ja) * | 1992-06-24 | 2001-08-06 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録ヘッドのノズル形成方法 |
| GB9321786D0 (en) * | 1993-10-22 | 1993-12-15 | Xaar Ltd | Droplet deposition apparatus |
| GB9400036D0 (en) * | 1994-01-04 | 1994-03-02 | Xaar Ltd | Manufacture of ink jet printheads |
| DE4407839A1 (de) * | 1994-03-09 | 1995-09-14 | Eastman Kodak Co | Verfahren zur Beeinflußung des Benetzungswinkels der Düsenaustrittsfläche von Tintendruckköpfen |
| SG83635A1 (en) * | 1994-08-30 | 2001-10-16 | Xaar Ltd | Coating, coating composition and method of forming coating |
| JPH09132657A (ja) * | 1995-09-04 | 1997-05-20 | Canon Inc | 基材の表面処理方法及び該方法を用いたインクジェット記録ヘッドの製造方法 |
| DE19539789A1 (de) * | 1995-10-26 | 1997-04-30 | Merck Patent Gmbh | Mittel und Verfahren zur Herstellung von wasserabweisenden Beschichtungen auf optischen Substraten |
| CA2230584A1 (en) * | 1996-06-28 | 1998-01-08 | Pelikan Produktions Ag | Hydrophobic coating for ink jet printing heads |
| US6243112B1 (en) | 1996-07-01 | 2001-06-05 | Xerox Corporation | High density remote plasma deposited fluoropolymer films |
| EP0825028A1 (en) * | 1996-08-22 | 1998-02-25 | Océ-Technologies B.V. | Hot-melt ink-jet printhead |
| EP0825025A1 (en) * | 1996-08-22 | 1998-02-25 | Océ-Technologies B.V. | Hot-melt ink-jet printhead |
| US5901425A (en) | 1996-08-27 | 1999-05-11 | Topaz Technologies Inc. | Inkjet print head apparatus |
| JP2000280481A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-10-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
| US6302523B1 (en) | 1999-07-19 | 2001-10-16 | Xerox Corporation | Ink jet printheads |
| DE19937325B4 (de) * | 1999-08-10 | 2008-05-21 | Erlus Aktiengesellschaft | Verfahren zur Hydrophobierung von Oberflächen grobkeramischer Dachziegel und grobkeramischer Dachziegel mit einer ein Kapillargefüge aufweisenden hydrophobierten Oberfläche |
| JP3652185B2 (ja) * | 1999-10-05 | 2005-05-25 | キヤノン株式会社 | 液体吐出装置 |
| US6296344B1 (en) * | 1999-12-22 | 2001-10-02 | Eastman Kodak Company | Method for replenishing coatings on printhead nozzle plate |
| US6364456B1 (en) * | 1999-12-22 | 2002-04-02 | Eastman Kodak Company | Replenishable coating for printhead nozzle plate |
| GB0000368D0 (en) | 2000-01-07 | 2000-03-01 | Xaar Technology Ltd | Droplet deposition apparatus |
| US6341842B1 (en) | 2000-05-03 | 2002-01-29 | Lexmark International, Inc. | Surface modified nozzle plate |
| SE0003293D0 (sv) * | 2000-09-15 | 2000-09-15 | Aamic Ab | Dispensing nozzle |
| DE10100384A1 (de) * | 2001-01-05 | 2002-07-11 | Degussa | Verfahren zur Modifizierung der Funktionalität von organofunktionellen Substratoberflächen |
| US6938986B2 (en) * | 2002-04-30 | 2005-09-06 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Surface characteristic apparatus and method |
| US6808745B2 (en) * | 2002-08-22 | 2004-10-26 | Eastman Kodak Company | Method of coating micro-electromechanical devices |
| JP2004167415A (ja) * | 2002-11-21 | 2004-06-17 | Nikken Toso Kogyo Kk | 撥液性皮膜で被覆されたノズルおよびその形成方法 |
| AU2003304346A1 (en) * | 2003-07-22 | 2005-02-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet head and its manufacture method |
| US7758158B2 (en) * | 2003-07-22 | 2010-07-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet head and its manufacture method |
| JP4248347B2 (ja) * | 2003-09-03 | 2009-04-02 | 富士フイルム株式会社 | 皮膜形成用組成物、反射防止膜、偏光板、画像表示装置及び防汚性コーティング組成物及び防汚性物品 |
| JP4377186B2 (ja) * | 2003-09-24 | 2009-12-02 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録ヘッド、及びインクジェット記録装置 |
| JP4424954B2 (ja) * | 2003-09-24 | 2010-03-03 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録ヘッド及びインクジェット記録装置 |
| US20050276933A1 (en) * | 2004-06-14 | 2005-12-15 | Ravi Prasad | Method to form a conductive structure |
| US20050276911A1 (en) * | 2004-06-15 | 2005-12-15 | Qiong Chen | Printing of organometallic compounds to form conductive traces |
| US7655275B2 (en) * | 2004-08-02 | 2010-02-02 | Hewlett-Packard Delopment Company, L.P. | Methods of controlling flow |
| US7709050B2 (en) * | 2004-08-02 | 2010-05-04 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Surface treatment for OLED material |
| ATE485538T1 (de) * | 2005-01-21 | 2010-11-15 | Canon Kk | Tintenstrahlaufzeichnungskopf, herstellungsverfahren dafür und zusammensetzung für tintenstrahlaufzeichnungskopf |
| TWI295632B (en) * | 2005-01-21 | 2008-04-11 | Canon Kk | Ink jet recording head, producing method therefor and composition for ink jet recording head |
| US8042908B2 (en) * | 2007-07-27 | 2011-10-25 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Fluid ejector device |
| US8136922B2 (en) * | 2009-09-01 | 2012-03-20 | Xerox Corporation | Self-assembly monolayer modified printhead |
| US9440468B2 (en) * | 2014-08-20 | 2016-09-13 | Oce-Technologies B.V. | Method of measuring a wetting property of a nozzle plate |
| US9321269B1 (en) * | 2014-12-22 | 2016-04-26 | Stmicroelectronics S.R.L. | Method for the surface treatment of a semiconductor substrate |
| US20170210129A1 (en) * | 2016-01-27 | 2017-07-27 | Tomohiro Tamai | Nozzle plate, liquid discharge head, liquid discharge device, liquid discharge apparatus, and method of making nozzle plate |
| CN111748277B (zh) * | 2019-03-26 | 2022-03-11 | 山东工业陶瓷研究设计院有限公司 | 一种透微波防潮涂层及其制备方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5689569A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-20 | Canon Inc | Ink jet recording head |
| JPS6040254A (ja) * | 1983-08-16 | 1985-03-02 | 旭硝子株式会社 | 撥水撥油性多層膜 |
| JPS61167567A (ja) * | 1985-01-21 | 1986-07-29 | Fujitsu Ltd | インクジェットヘッドの撥水処理方法 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS529146B2 (ja) * | 1972-05-25 | 1977-03-14 | ||
| US4006271A (en) * | 1976-01-28 | 1977-02-01 | Itek Corporation | Abrasion resistant coating for polycarbonate substrates |
| US4218508A (en) * | 1978-04-12 | 1980-08-19 | General Electric Company | Polycarbonate articles coated with an adherent, durable silica filled organopolysiloxane coating and process for producing same |
| US4343013A (en) * | 1980-10-14 | 1982-08-03 | Ncr Corporation | Nozzle plate for ink jet print head |
| DE3214804A1 (de) * | 1982-04-21 | 1983-10-27 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zum erzeugen einer lyophoben schicht |
| DE3214791A1 (de) * | 1982-04-21 | 1983-10-27 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Mit fluessigkeitstroepfchen arbeitendes schreibgeraet |
| US4555062A (en) * | 1983-04-05 | 1985-11-26 | Hewlett-Packard Company | Anti-wetting in fluid nozzles |
| IT1205310B (it) * | 1983-12-27 | 1989-03-15 | Anic Spa | Composizioni organo-silossaniche per rivestimenti protettivi resistenti all'abrasione e promotori di adesione |
| JPS60178065A (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-12 | Ricoh Co Ltd | インクジエツトヘツド |
| DE3583275D1 (de) * | 1984-09-28 | 1991-07-25 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Verfahren zur herstellung eines duesenkoerpers fuer einen tintenstrahldrucker. |
| DE3543875A1 (de) * | 1985-01-17 | 1986-07-17 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 8000 München | Korrosionsschutzschicht fuer metallische werkstuecke, insbesondere feinmechanische praezisionsteile |
| US4643948A (en) * | 1985-03-22 | 1987-02-17 | International Business Machines Corporation | Coatings for ink jet nozzles |
| GB8523166D0 (en) * | 1985-09-19 | 1985-10-23 | Yarsley Technical Centre Ltd | Scratch resistant coatings |
| US4623906A (en) * | 1985-10-31 | 1986-11-18 | International Business Machines Corporation | Stable surface coating for ink jet nozzles |
-
1989
- 1989-09-28 CA CA000613869A patent/CA1329341C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-02 US US07/415,726 patent/US5010356A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-16 DE DE68912879T patent/DE68912879T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-16 EP EP89310618A patent/EP0367438B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-10-18 JP JP1269266A patent/JP2678507B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5689569A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-20 | Canon Inc | Ink jet recording head |
| JPS6040254A (ja) * | 1983-08-16 | 1985-03-02 | 旭硝子株式会社 | 撥水撥油性多層膜 |
| JPS61167567A (ja) * | 1985-01-21 | 1986-07-29 | Fujitsu Ltd | インクジェットヘッドの撥水処理方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04331785A (ja) * | 1991-04-30 | 1992-11-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水・防汚性石材 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0367438A1 (en) | 1990-05-09 |
| US5010356A (en) | 1991-04-23 |
| CA1329341C (en) | 1994-05-10 |
| EP0367438B1 (en) | 1994-02-02 |
| DE68912879D1 (de) | 1994-03-17 |
| JP2678507B2 (ja) | 1997-11-17 |
| DE68912879T2 (de) | 1994-05-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH02164548A (ja) | 基質上の接着フルオロシラン層の形成方法および上記層をもつインクジェット記録ヘッド | |
| KR100557257B1 (ko) | 반사 방지 표면용 얼룩 방지 코팅 및 이것의 제조 방법 | |
| EP1059320B1 (en) | Perfluoropolyether-modified amonisilane, surface treating agent, and aminosilane-coated article | |
| KR102792745B1 (ko) | 지문 돋보임 방지용 코팅 및 이의 제조 방법 | |
| JP4197472B2 (ja) | 防汚性表面層を有するレンズ | |
| JP4913844B2 (ja) | 有機薄膜形成方法 | |
| KR100971841B1 (ko) | 방오층을 갖는 렌즈 | |
| US20020071959A1 (en) | Perfluoropolyether-modified aminosilane, surface treating agent and coated article | |
| JPH0796229B2 (ja) | 型に離型層を設ける方法 | |
| JP5747699B2 (ja) | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性シラン及び該シランを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 | |
| US20090087646A1 (en) | Coated substrate, composition for treating a substrate and process of treatment | |
| KR20030029494A (ko) | 퍼플루오로폴리에테르-변성 실란, 표면처리제, 및반사방지 필터 | |
| KR102707308B1 (ko) | 발수 부재 및 발수 부재의 제조 방법 | |
| JP5956843B2 (ja) | 眼鏡レンズおよびその製造方法 | |
| KR20200062294A (ko) | 발수발유 부재 및 발수발유 부재의 제조 방법 | |
| US20240208220A1 (en) | Ink-repellent member, inkjet head, method for manufacturing ink-repellent member, and method for manufacturing inkjet head | |
| JP2016222869A (ja) | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性ホスホン酸誘導体、該誘導体を含む表面処理剤、該表面処理剤で処理された物品及び光学物品 | |
| WO2006087986A1 (ja) | チタン酸化物粒子の分散液、チタン酸化物薄膜、有機機能膜形成用溶液、有機機能膜形成基体及びその製造方法 | |
| JP2024159523A (ja) | 撥インク部材及びインクジェットヘッド | |
| CN106243341B (zh) | 含有氟代氧化亚烷基的聚合物改性膦酸衍生物及包含其的表面处理剂 | |
| JPH11263020A (ja) | インクジェットヘッドおよびその製造方法 | |
| EP4052805A1 (en) | Alkali-resistant water repellent member, method for producing said water repellent member, and method for improving alkali resistance and wear resistance of water repellent member | |
| JP2001335920A (ja) | 蒸着源、光学物品およびそれらの製造方法 | |
| JPH07125219A (ja) | インクジェット記録ヘッドの撥水処理方法 | |
| JP2003286478A (ja) | 撥水膜とその製造方法およびそれを用いたインクジェットヘッドとインクジェット式記録装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080801 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080801 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090801 Year of fee payment: 12 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |