JPH02164708A - 三弗化窒素ガスの精製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は三弗化窒素ガスの精製方法に関する。

更に詳しくは、三弗化窒素ガス中に含まれる二弗化二窒
素（ＮＪｚ）、亜酸化窒素（ＮｔＯ）及び二酸化炭素（
Ｃ（ｈ）の除去方法に関する。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕三弗化
窒素（ＮＦＳ）ガスは、半導体のドライエツチング剤や
ＣｖＯ装置のクリーニングガスとして近年注目されてい
るが、これらの用途に使用されるＮＦｓガスは、可及的
高純度のものが要求されている。

ＮＦ３ガスは、種々の方法で製造されるが何れの方法で
得られたガスも殆どの場合、Ｎ　ｔ　Ｆ　２、Ｎ２０、
Ｃｏｔなどの不純物を比較的多量に含んでいるので、上
記用途としての高純度のＮＦ、ガスを得るためには精製
が必要である。

ＮＦｆｆガス中のこれらの不純物を除去する精製方法と
しては、モレキュラシープなどの吸着剤を用いて不純物
を吸着除去する方法が最も効率がよく簡便な方法の一つ
としてよく知られている〔ケミカル・エンジニアリング
（Ｃｈｅｆｆｌ、　Ｅｎｇ、）　８４．１１６゜（１９
７７）等〕。しかしながら、この吸着による精調力法で
は、ＮＦ、ガス中にＮ２Ｆ２が存在するとＮＦ３も吸着
剤に吸着され易くなり、従ってＮＦ３ガスの損失を招く
という極めて不都合な問題があり、ＮＦ。

ガスの精製に供するには実質的でない。

〔課題を解決する為の手段〕

本発明者等はかかる状況に鑑み、ＮＦ、ガス中に含まれ
ているＮｔＦｌ、Ｎ２０及びＣＯ２の除去方法について
種々の吸着剤を用いて鋭意検討を重ねた結果、予め特定
の温度に加熱して脱水処理したシリカゲル層へ特定の温
度でＮＦ３ガスを通気させれば、ＮＦ、がシリカゲルに
吸着されることなく、効率よく経済的にＮＦ３ガス中の
Ｎ、Ｆ、、Ｎ、０及びＣＯ□を除去できることを見い出
し、昭和６３年１２月６日付特許願として出願した。し
かしこの方法は本発明者等のその後の研究によれば、Ｎ
Ｆｚガス中にＮ２Ｆ２が存在するとＮ、Ｆ、、ＮｔＯ及
びＣＯ□の除去持続時間（破過時間）が短いという欠点
があることが判明した。

そこで本発明者等は引続き種々検討した結果、不純物と
してＮＪ２．　Ｎ２０及びＣＯ□を含有するＮＦ３ガス
を、予め内壁を固体弗化物でライニングされた容器中で
、または該容器に固体弗化物を充填した状態で、ＮＦ３
ガスを特定の温度に加熱して含有するＮｔＦｘを除去し
た後、該ＮＦｊガスを特定の条件で加熱処理したシリカ
ゲル層へ特定の温度で通気させれば、ＮＦ３がシリカゲ
ルに吸着されることなく、極めて効率よく経済的にＮＦ
、ガス中のＮ、Ｏ及びＣＯ□を長時間にわたって除去で
きることを見出し、本発明を完成するに至ったものであ
る。

即ち、本発明の三弗化窒素ガスの精製方法の第１の方法
は、内壁を固体弗化物でライニングされた容器中で少な
くとも不純物として二弗化二窒素、亜酸化窒素及び二酸
化炭素を含有する三弗化窒素ガスを１５０〜６００″Ｃ
の温度に加熱して含有する二弗化二窒素を除去した後、
引き続いて該三弗化窒素ガスを予め１５０〜３００℃の
範囲の温度に加熱して脱水処理したシリカゲル層へ０〜
−１２５℃の温度でかつ実質的に水分の混入しない状態
で通気して含有する亜酸化窒素及び二酸化炭素を除去す
ることを特徴とするものであり、第２の方法は上記の内
壁を固体弗化物でライニングされた容器に固体弗化物を
充填する、上記記載の方法である。

〔発明の詳細な開示〕

以下、本発明の詳細な説明する。

本発明ではＮ２ＦＺの除去は内壁を固体弗化物でライニ
ングされた容器中で、またはこの容器に固体弗化物を充
填し該固体弗化物の充填層中で、ＮＰ。

ガスを加熱し通気することで、含有するＮｚｈを除去す
ることが可能である。

ＮＦ３ガス中に含まれるＮ、Ｆ！は、ＮＦ３ガスを特定
の温度に加熱するのみで、Ｎｚｈが窒素（Ｎ２）ガスと
弗素（Ｆ２）ガスに効率よく分解する。また、上記加熱
を内壁が固体弗化物でライニングされた容器内で行なえ
ば、２００℃以上の温度に加熱しても主成分であるＮＦ
、が分解することがないので好都合であって、これによ
り効率よく安全にしがも経済的にＮＦ、ガス中のＮ２Ｆ
Ｚを除去することができる。また、上記の内壁が固体弗
化物でライニングされた容器に、固体弗化物を充填した
状態で加熱すれば更に効率よ＜　Ｎ２Ｆｇを除去するこ
とができる。

本発明の前段の工程であるＮｐ３ガス中の８２Ｆ２を除
去する工程においては、ＮＦ３ガスの入口管と出口管を
備えた、内壁を固体弗化物でライニングされた容器が必
要である。

本発明においては、上記容器は鉄やステンレス鋼などの
金属製のものが使用される。容器の形状については特に
限定はないが、容器そのものの制作及び固体弗化物のラ
イニング加工が容易である点と、該ライニング層の強度
、使用中におけるライニング層の亀裂の発生の防止など
の点で円筒形が好ましい。

ライニング層の厚みも特に限定はないが、あまり薄いと
うイニング加工が技術的に困難であり、また、容器の内
壁が完全にライニングされずに一部容器の金属面が露出
する惧れがある。逆に厚くなり過ぎると、本発明では容
器の加熱を該容器の外部からヒーター等で加熱する方法
で行なうので、該加熱の際の伝熱効率が低下し、熱エネ
ルギーの損失となるので好ましくなく、従って、ライニ
ング層のの厚みは１〜５ＩＩＩＩ１１程度で実施される
。

本発明においては、ＮＦ、ガスは上記容器内で最高６０
０℃まで加熱されるので、上記のライニングに使用する
固体弗化物は融点が６００℃以上のものが望ましいが、
融点が６００℃未満のものであっても、ＮＦｓを加熱す
る温度において固体であれば本発明の実施には何ら差支
えない。また、この固体弗化物はＮＦｓと反応しない弗
化物でもある。この様な固体弗化物を例示すると、弗化
リチウム（ＬｉＦ）、弗化ナトリウム（ＮａＦ）　、弗
化カリウム（ＫＦ）、弗化ルビジウム（ＲｂＦ）　、弗
化セシウム（ＣｓＦ）　等のＩＡ属の金属弗化物；弗化
ヘリリウム（ＢｅＦｚ）　、弗化マグネシウム（Ｍｇｈ
）、弗化カルシウム（ＣａＦ２）、弗化ストロンチウム
（ＳｒＦｚ）、弗化バリウム（ＢａＦｚ）等のＩＩＡＩ
ｆｆＥの金属弗化物；弗化アルミニウム（ＡＩ！、ｈ）
　、弗化ガリウム（ＧａＦｓ）、弗化インジウム（Ｉｎ
Ｆｚ）等のＨ１Ａ属の金属弗化物；弗化アルミニウムナ
トリウム（ＮａｓＡ　１２　Ｆ＆）の如き複塩が挙げら
れる。尚、これらの混合物でも差支えない。

また、これらの固体弗化物は粉末状のものが容器の内壁
にライニングし易いので好ましい。

容器の内壁に固体弗化物をライニングする方法について
、円筒容器を例として述べると以下の通りである。

上記に例示した固体弗化物の内、比較的融点が低い、例
えばＩＡ属の金属弗化物を使用する場合は焼結法を採用
することができる。

即ち、第１図に示す如く、円筒容器１の内径寄りやや小
さい外径の内筒３を、円筒容器１内に同芯になるように
挿入する。次に、上記円筒容器１と内筒３の間隙に粉末
状の固体弗化物４を充填した後、圧入管５に荷重を加え
て固体弗化物４を圧縮成形する。この固体弗化物４の充
填及び圧縮成形を繰り返し行ない、円筒容器ｌの内壁全
面に固体弗化物４の圧縮成形層を形成する。しかる後内
筒３をゆっくりと引き抜き、この円筒容器ｌを窒素（Ｎ
２）、ヘリウム（Ｈｅ）等の不活性ガス雰囲気下で徐々
に固体弗化物４の軟化点まで昇温したのち徐冷すること
により、容易に円筒容器１の内壁に固体弗化物４をライ
ニングすることができる。

この場合、固体弗化物は水分を２〜３重世％含有させて
おくと、上記の圧縮成形がより容易であるので好ましい
、このことは後記する高圧プレス法によるライニングの
場合も同様である。

尚、内筒３の表面に予め潤滑剤を塗布しておくと円筒容
器１の内壁に固体弗化物４の圧縮成形層形成後の、内筒
３の引き抜きが容易であるので好ましい。

融点が比較的高い固体弗化物を円筒容器の内壁にライニ
ングする場合には、高圧プレス法が適当である。即ち、
焼結法の場合と同様に、第１図に示す円筒容器１と内筒
３の間隙に固体弗化物４を充填した後、圧入管５に荷重
を加えて固体弗化物４の圧縮成形を繰り返すことにより
、円筒容器１の内壁全面に固体弗化物４のライニング層
を形成した後、内筒３をゆっくり引き抜くことにより実
施することができる。

尚、この場合強固なライニング層を形成するためには、
上記の圧縮成形時の荷重は２ｔ／ｃＪ以上が必要である
。また、内筒３の表面には焼結法の場合と同様に、予め
潤滑剤を塗布しておけば、円筒容器ｌの内壁に固体弗化
物４のライニング層形成後における内筒３の引き抜きが
容易であるので好ましい。ただしこの場合、潤滑剤は固
体弗化物のライニング層形成後に、加熱等により蒸発除
去する必要がある。

更に本発明においては、円筒容器の内壁に固体弗化物を
ライニングする方法として、上記方法の他に、第１図の
円筒容器１と内筒３の間隙に溶融した固体弗化物を流入
した後、冷却固化させるなどの方法＠採用することもで
きる。

次に容器に固体弗化物を充填する場合の該固体弗化物に
ついて述べる。

この充填に使用する固体弗化物は、前述のライニングに
使用した固体弗化物と全く同一のものが使用される。

ただし、この充填に使用される固体弗化物は粒状のもの
が好ましいが、大きさには特に限定はなく、反応器の大
きさや取扱い易さなどによって決められる。また、固体
弗化物が粉状であっても、打錠機などで錠剤化すること
により好適に使用可能である。

尚、上記固体弗化物は水分を含有していると、ＮＦ３ガ
スと接触した際にＮＦ、と該水分が反応して一酸化窒素
（ＮＯ）を生成するので、従って固体弗化物は前もって
乾燥し水分を十分除去してお（ことが望ましい。

本発明ではＮ１７．ガスの加熱は、上記の如き内壁を固
体弗化物でライニングされた容器を加熱した状態でＮｔ
Ｆｔ、　ＮｚＯ及びＣＯ□を含有するＮｈガスを該容器
に通気する方法が好ましい。尚、上記容器に予め固体弗
化物を充填しておくと、Ｎｚｈの除去率が更に向上する
ので一層好ましい方法である。

上記容器の加熱は、該容器の外部をヒーター等で加熱す
る方法で簡単に実施することができる。

本発明ではＮｚＦ２、ＮＪ及びＣＯ□を含むＮＦ３ガス
の加熱温度は、１５０〜６００℃、好ましくは２５０〜
３５０　’Ｃで実施される。通気温度が１５０”Ｃ未満
ではＮ２Ｆｚを殆ど分解除去できない。逆に６００℃を
越える温度ではＮ、Ｆ２はほぼ完全に除去できるものの
、容器のライニング層が熱膨張率の差によって亀裂が生
ずる惧れがあるので不都合である。また熱エネルギーの
損失にもつながる。尚、上記加熱温度において、ＮｚＦ
ｔの分解速度は非常に速いので、通気させるＮｈガスの
容器内での滞留時間は短くてかまわないが、通常５〜１
０００秒程度の範囲で実施される。

本発明においては、上記容器に通気するＮＦｆｆガスは
単独で供給してもかまわないが、Ｎ！、　ｌｌｅ等の不
活性ガス等で希釈したものでも差支えない。また、通気
ガスの圧力については特に制限はないが、通常、０〜５
　ｋｇ／ｃｍ”−Ｇの圧力が操作し易いので好ましい。

以上において述べた本発明の前段の工程であるＮＦ３ガ
ス中のＮｚｈを除去する方法は、本出願人が先に出願し
た、特願昭６３−８７２０８号及び特願昭６３８７２１
０号にて詳述した方法をそのまま適用することができる
。

次に本発明の後段の工程である、ＮＦ＋ガス中のＮ、Ｏ
及びＣＯ□を除去する工程について述べる。

本発明で使用するシリカゲルは、特に限定はなく通常重
版のものが何れも使用可能であるが、粒状かつ高表面積
のものがより好ましい。

シリカゲルの脱水処理は１５０〜３００　’Ｃ１好まし
くは１５０〜２００℃の温度に加熱することで実施され
る。

加熱温度が１５０　’Ｃ未満ではシリカゲル中に水分が
残存し、該シリカゲル層へＮＦ、ガスを通気した際にＮ
、Ｏ及びＣＯｚの除去能力が低下する。逆に、必要以上
の高温はエネルギーの損失のみならず、高温で加熱処理
するとシリカゲルの吸着能力が著るしく低下するので不
都合である。

シリカゲルの加熱による脱水処理は空気中で行なっても
よいが、該加熱はシリカゲル中に含有する水分を気化逸
散させるために行なうので、例えばＮ２ガスのように水
分を含有しない不活性ガスの気流中で行なうのがよく、
またガスを吸引しながら減圧下で行なうことも好ましい
。

加熱時間は上記の加熱温度及び雰囲気において３０分以
上であればよいが、念のために通常１〜２時間行なわれ
る。

かくして加熱により脱水処理されたシリカゲルは、放冷
または強制冷却によって常温以下に冷却されるが、この
場合には水分の混入を回避しなければならない。従って
、その方法としてシリカゲルの加熱による脱水処理を、
例えばカラム等にシリカゲルを充填した状態で行ない、
脱水処理後これを冷却し、しかるのち引続きこのシリカ
ゲル層へＮＦｔガスを通気する方法が好ましい。

ＮＦ、ガスの精製は、上記の通りカラム等に充填された
シリカゲル層に通気する方法で実施されるが、この際の
通気温度は重要でＯ′Ｃ以下の温度でなければならず、
低温はど好ましい。しかし、ＮＦ、の沸点は一１２９℃
であるので、この温度以下ではは作が事実上困難である
。従ってＮｈガスの通気温度は本発明では、０〜−１２
５℃の範囲で実施される。

通気時のＮＦ、ガスの圧力はこれまた特に限定はないが
、例えば０〜５　ｋｇ／ｃＪ−Ｇ程度の圧力が操作しや
すいので好ましい。

本発明の方法において、Ｎ！Ｆ、を除去する前段の工程
を省略すると、前述の通りＮＦ、ｌガスをシリカゲル層
に通気する後段の工程において、Ｎｚｈ、Ｎｅｏ及びＣ
Ｏｏの除去持続時間即ち破過時間が短くなる。これを具
体的に説明すると、Ｎ２Ｆｔ、　Ｎ、Ｏ及びＣＯ□を含
有するガスをシリカゲル層に通気して得たガスは、当初
はＮｔｈ、ＮｚＯ及びＣＯ，の含有量は極めて少量で検
出限界以下であるが、ある時間を経過すると短時間の間
に急激に増加する。この象、激に増加するまでの時間を
破過時間という、尚、上記Ｎｔｈ、Ｎ２０及びＣ（ｈの
分析はガスクロマトグラフィーで行なうが、その検出限
界はそれぞれｔｏｐｐｌｅである０本発明では前段の工
程で予め）ｈｈが除去しであるので、Ｎ２０　、Ｃｏ、
の含有量のいずれかがこの検出限界を越えた時の時間を
破過時間とした。

〔実施例〕

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。尚
、以下において％及びｐｐｍは特記しない限り容量基準
を表わす。

実施例１〜４ 内径１０ＩＩＩＩ１１長さ３００＋ａｍのステンレス鋼
製の第１図に示す円筒容器（カラム）１に、第１図に示
すように表面に潤滑剤としてステアリン酸を塗布した外
径が６ｍ、長さ４００＋ｎｍの内筒３をカラムｌと同芯
に挿入した後、該カラムｌと該内筒３の間隙に水分含有
量が３重量％の弗化リチウム粉末に弗化セシウム粉末を
５重量％添加混合した粉末４を少しずつ充填した後、上
記間隙に外径９．６腫、内径６．５　ｍの圧入管５を挿
入し、この圧入管５に１ｔ／ｃｊの荷重を加えて混合粉
末４を圧縮成形した。

この混合粉末４の挿入、圧縮成形の操作を繰り返し行な
いカラム１の内壁全面に混合粉末４の圧縮成形体を形成
し、しかる後内筒３をゆっくり抜き出した。

次に、このカラムｌをＮ２ガス雰囲気下の電気炉内にて
２００℃／ｈの昇温速度で８５０℃まで昇温し、この温
度に１時間保持した後電気炉内で自然放冷により常温ま
で冷却して、厚さ２ＩＩＩ＋１の固体弗化物層で内壁を
全面にライニングされたカラムｌを得た。尚、上記加熱
により弗化リチウム、弗化セシウム中に含まれていた水
分及びライニング層形成の際使用したステアリン酸も蒸
発除去された。

しかる後このカラムｌに、はぼ同容積のｌｉｅガスで希
釈された各成分の含有量がＨｅ　４８．５％、ＮＦｉ４
８．２％、ＮｚＦｚ　２．０％、ＮＺ　０．４％、Ｎｅ
ｏ　Ｏ，３％、Ｃ０，０，６％の組成のガス（ＮＦ３純
分！ｆｔ８０．４ｇ）を、通気温度３００℃、ガスの流
ｆｉｔ６０　ＮＩｄ／ｍｉｎ、　、通気圧カフ６０　Ｔ
ｏｒｒの条件で通気した０通気後のガスは濃度１重量％
のヨウ化カリウム（Ｋｌ）水溶液中にバブリングさせた
後、液体窒素で冷却された捕集ボンへに導き　ＮＦ、を
液化させ捕集した。ＩＩＦ、ガスの通気停止後は上記の
ＮＦ３の捕集ボンベ内を真空排気しｌｌｅガスを除去し
た。

通気後の捕集ボンベ内のＮＦ、の組成を、ガスクロマト
グラフィーにより分析した。その結果は、Ｎｚｈ含有量
は１０ｐｐ鋼以下で非常に高い除去率であった。またＮ
Ｆ３の損失量も１．３％であり非常に少なかった。

尚、ＮＦｆｆガス中のＮ２の含有量は通気後の方が多か
ったが、これは加熱によりＮｚＦｚがＮ２とＦ２に分解
したものと考えられる。

次に、内径１５ＩＩｌｌｌのステンレス製カラムに粒度
が２４〜４８メツシユの粒状シリカゲルを充填（充填高
さ３００ｖｗ）　シた後、該シリカゲルの加熱による脱
水処理を第１表に示す条件で行ない、しかる後、該シリ
カゲル層へ上記によりＮＪ＊を除去したＮＦ）ガスを第
１表に示す条件で各々通気した。

Ｎｈガスのシリカゲル層への通気後のＮＦ３ガス中のＮ
２０及びＣＯ□の含有量をガスクロマトグラフィーにて
分析し、破過時間を測定した。尚、破過時間は、シリカ
ゲル層への通気後のガス中のＮ、０、ＣＯ□のいずれか
の含有量が１０ｐｐｍを越えた時の時間とした。

その結果は第１表に示す通りであり、本発明の方法で精
製すればＮＦ３ガス中の！ｂＯ、ＣＯｚ　、Ｎ２Ｆ！は
極めて良好に除去され、しかも破過時間も長いことが分
かる。

第 ■ 表 実施例５〜８ 実施例１〜４で使用した内壁を固体弗化物でライニング
したカラムを用い、これに固体弗化物として粒径が２４
〜３２メツシユの弗化カルシウム（ＣａＦｚ）　（実施
例５）、弗化アルミニウム（Ａｊ２Ｆ＋）（実施例６）
、弗化カリウム（ＫＦ）　（実施例７）、弗化ナトリウ
ム（Ｎａｐ）　（実施例８）をそれぞれ充填（充填高さ
２５０ｍｍ）　Ｌ、２００’Ｃの温度に加熱した状態で
Ｎ、ガスを１００　ｍｌ／ｍｉｎ、の流量で１時間通気
して固体弗化物中の水分を除去した。

次いでこの固体弗化物を充填したカラムに、はぼ同容積
のＩｌｅガスで希釈された実施例１〜４で使用したもの
と同一の組成のＮＦ、ガスを、通気温度３００℃１ガス
の？Ａ　量６０　Ｎ　ｍｌ　／　ｍ　ｉ　ｎ　、　、通
気圧カフ６０Ｔｏｒｒの条件で通気した。通気後のガス
は実施例１〜４と同様にしてヨウ化カリウム（Ｋｌ）水
溶液中にバブリングさせた後、ＮＦ、を液化させ捕集し
た後ｌ（ｅガスを除去した。

このＮＦｉの組成をガスクロマトグラフィーにより分析
したところ、その結果はＮｚＦｚの含有量は１０ρｐｍ
以下と非常に高い除去率であった。またＮｈの損失量も
１．０と非常に少なかった。

尚、ＮＰｊガス中のＮ２の含有量が通気後の方が多かっ
たが、これは実施例１〜４と同様に加熱によりＮｚＦｚ
がＮｔとＦ２に分解したものと考えられる。

次に、実施例１〜４と全く同様にしてステンレス製カラ
ムに充填された粒状シリカゲルの加熱による脱水処理を
第２表に示す条件で行なった後、該シリカゲル層へ上記
によりＮｔｈを除去したＮＦｆｆガスを′５Ｓ２表に示
す条件で通気した。

ＮＦ、ガスのシリカゲル層への通気後のＮｈガス中のＮ
、０及びＣＯ□の含有量を実施例１〜４と同様にしてガ
スクロマトグラフィーにて分析し、破過時間を測定した
。

その結果は第２表に示す通りであり、本発明の方法で精
製すればＮＦｔガス中のＮＪ　、ＣＯｚ　、　Ｎ２ＦＺ
は極めて良好に除去され、しかも破過時間も長いことが
分かる。

第 表 比較例１ 実施例１と全く同様にステンレス製カラムに粒状シリカ
ゲルを充填した後、該粒状シリカゲルの加熱による脱水
処理を行なった。

しかるのち実施例１〜４で使用したＩｌｅガスで稀釈さ
れる前の、ＮＦ３ガス（各成分の含有量はＮｈ９３．６
％、ＮｉＦ２３．９％、Ｎオ０．８％、Ｎｅｏ　Ｏ，６
％、ｃｏｔ　１．２％）を前取ってＮｚＰｚを除去する
ことなく、上記の脱水処理した粒状シリカゲル層へ実施
例１と同一時条件で通気して破過時間を測定した。

その結果は破過時間は４．０時間であり、実施例１〜４
に比べて大幅に短時間であった。

〔発明の効果〕

本発明は以上詳細に説明した如く、内壁を固体弗化物で
ライニングされた容器中で、または該容器に固体弗化物
を充填した状態で、ＮＦｔガスを特定の温度に加熱して
ＮＦ３ガス中に含まれるＮｚＦ２を予め除去した後、こ
のＮＦ、ガスを、予め特定の温度に加熱して脱水処理し
たシリカゲル層へ特定の温度でかつ実質的に水分の混入
しない状態で、通気するという極めて簡単な方法であり
、本発明の実施により、ＮＦｆｆガス中のＮＪｚ、Ｎ２
０及びＣＯ□が効率よく除去できるのである。

また、本発明では前段の工程で予めＮＦ３ガス中のＮｚ
ｈが除去しであるので、後段の工程であるシリカゲルで
のＮＺＯ及びＣＯ２の除去を、実施例及び比較例が示す
如く長時間行なうことができるのである。

更に本発明では、前段の工程で内壁を固体弗化物でライ
ニングされた容器、または該ライニングされた容器と固
体弗化物を使用し、後段の工程ではシリカゲルを使用す
るというものであり、これらは何れも廉価であるので、
経済的な方法でもある。更にまた、本発明の方法は吸着
剤であるシリカゲルへのＮＦ３の吸着もない。

【図面の簡単な説明】

第１図は、実施例において円筒容器（カラム）の内壁に
、固体弗化物をライニングする状態を示す図である。 図において、 １−・−円筒容器（カラム） ２・−一−−−Ｎ　Ｆ、ガス出口管、 ４−−−一固体弗化物、 ６−・−・・補助円筒管、 を示す。 ３−・−内筒、 ５−・・・−・・圧入管、 ７・−・一定盤、 第１図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）内壁を固体弗化物でライニングされた容器中で少
   なくとも不純物として二弗化二窒素、亜酸化窒素及び二
   酸化炭素を含有する三弗化窒素ガスを１５０〜６００℃
   の温度に加熱して含有する二弗化二窒素を除去した後、
   引き続いて該三弗化窒素ガスを予め１５０〜３００℃の
   範囲の温度に加熱して脱水処理したシリカゲル層へ０〜
   −１２５℃の温度でかつ実質的に水分の混入しない状態
   で通気して含有する亜酸化窒素及び二酸化炭素を除去す
   ることを特徴とする三弗化窒素ガスの精製方法。
2. （２）内壁を固体弗化物でライニングされた容器に固体
   弗化物を充填する請求項１項記載の三弗化窒素ガスの精
   製方法。