JPH0222111A - 三弗化窒素ガスの精製方法 - Google Patents

三弗化窒素ガスの精製方法

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JPH0222111A
JPH0222111A JP16978188A JP16978188A JPH0222111A JP H0222111 A JPH0222111 A JP H0222111A JP 16978188 A JP16978188 A JP 16978188A JP 16978188 A JP16978188 A JP 16978188A JP H0222111 A JPH0222111 A JP H0222111A
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gas
fluoride
container
vessel
solid
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JP16978188A
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English (en)
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Toshihiko Nishitsuji
西辻 俊彦
Tokuyuki Iwanaga
岩永 徳幸
Nobuhiko Koto
信彦 古藤
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は三弗化窒素ガスの精製方法に関する。
更に詳しくは、三弗化窒素ガス中に含まれる二弗化二窒
素(N*h)、亜酸化窒素(Nmo)及び二酸化炭素(
Coりの除去方法に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕三弗化
窒素(NF3)ガスは、半導体のドライエツチング剤や
Cv口装置のクリーニングガスとして近年注目されてい
るが、これらの用途に使用されるNF、ガスは、可及的
高純度のものが要求されている。
NF3ガスは、種々の方法で製造されるが何れの方法で
得られたガスも殆どの、場合、N、F、、 N、O。
CO!などの不純物を比較的多量に含んでいるので、上
記用途としての高純度のNF、ガスを得るためには精製
が必要である。
NFsガス中のこれらの不純物を除去する精製方法とし
ては、モレキュラシープなどの吸着剤を用いて不純物を
吸着除去する方法”が最も効率がよく簡便な方法の一つ
としてよく知られている〔ケミカル・エンジニアリング
(Chem、 Eng、) 84.116゜(1977
)等)、シかしながら、この吸着による精調力法では、
NF!ガス中にNxFtが存在するとNF。
も吸着剤に吸着され易くなり、従ってNhガスの損失を
招くという極めて不都合な問題があり、NFsガスの精
製に供するには実質的でない。
〔課題を解決する為の手段〕
本発明者等はかかる状況に鑑み、NF3ガス中に含まれ
ているNxFt、 NzO及びCowの除去方法につい
て種々の吸着剤を用いて鋭意検討を重ねた結果、予め特
定の温度に加熱して脱水処理した活性アルミナ層へ特定
の温度でNFsガスを通気させれば、NF2が活性アル
ミナに吸着されることなく、効率よく経済的にNF、ガ
ス中のNth、N30及びCOtを除去できることを見
出し、特願昭63−89256号として出願した。しか
しこの方法は本発明者等のその後の研究によれば、NF
、ガス中にNthが存在するとNtFx、N、0及びC
O,の除去持続時間(破過時gI)が短いという欠点が
あることが判明した。
そこで本発明者等は引続き種々検討した結果、不純物と
してNJx、 NtO及びGotを含有するNF。
ガスを、予め内壁を固体弗化物でライニングされた容器
中で、または該容器に固体弗化物を充填した状態で、N
F、ガスを特定の温度に加熱して含有するN!F!を除
去した後、El N F 、ガスを特定の条件で加熱処
理した活性アルミナ層へ特定の温度で通気させれば、N
F、が活性アルミナに吸着されることなく、極めて効率
よく経済的にNhガス中のN20及びCOlを長時間に
わたヮて除去できることを見出し、本発明を完成するに
至ったものである。
即ち、本発明の三弗化窒素ガスの精製方法の第1の方法
は、内壁を固体弗化物でライニングされた容器中で少な
くとも不純物として二弗化二窒素、亜酸化窒素及び二酸
化炭素を含有する三弗化窒素ガスを150〜600℃の
温度に加熱して含有する二弗化二窒素を除去した後、引
き続いて該三弗化窒素ガスを予め250〜900℃の範
囲の温度に加熱して脱水処理した活性アルミナ層へO〜
−125℃の温度でかつ実質的に水分の混入しない状態
で通気して含有する亜酸化窒素及び二酸化炭素を除去す
ることを特徴とするものであり、第2の方法は、上記の
内壁を固体弗化物でライニングされた容器に固体弗化物
を充填する、上記記載の方法である。
〔発明の詳細な開示〕
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明ではNtFxの除去は内壁を固体弗化物でライニ
ングされた容器中で、またはこの容器に固体弗化物を充
填し該固体弗化物の充填層中で、Nhガスを加熱し通気
することで、含有するNxPtを除去することが可能で
ある。
NP、ガス中に含まれるN1Ftは、Nhガスを特定の
温度に加熱するのみで、NtFxが窒素(Nx)ガスと
弗素(F8)ガスに効率よ(分解する。また、上記加熱
を内壁が固体弗化物でライニングされた容器内で行なえ
ば、200℃以上の温度に加熱しても主成分であるNh
が分解することがないので好都合であって、これにより
効率よ(安全にしかも経済的にNF、ガス中のNJFt
を除去することができる。また、上記の内壁が固体弗化
物でライニングされた容器に、固体弗化物を充填した状
態で加熱すれば更に効率よ<NJxを除去することがで
きる。
本発明の前段の工程であるNP、ガス中のNよF:を除
去する工程においては、Nhガスの入口管と出口管を備
えた、内壁を固体弗化物でライニングされた容器が必要
である。
本発明においては、上記容器は鉄やステンレス鋼などの
金属製のものが使用される。容器の形状については特に
限定はないが、容器そのものの制作及び固体弗化物のラ
イニング加工が容易である点と、該ライニング層の強度
、使用中におけろうイニング層の亀裂の発生の防止など
の点で円筒形が好ましい。
ライニング層の厚みも特に限定はないが、あまり薄いと
うイニング加工が技術的に困難であり、また、容器の内
壁が完全にライニングされずに一部容器の金属面が露出
する惧れがある。逆に厚くなり過ぎると、本発明では容
器の加熱を該容器の外部からヒーター等で加熱する方法
で行なうので、該加熱の際の伝熱効率が低下し、熱エネ
ルギーの損失となるので好ましくなく、従って、ライニ
ング層のの厚みは1〜51m11程度で実施される。
本発明においては、NF、ガスは上記容器内で最高60
0℃まで加熱されるので、上記のライニングに使用する
固体弗化物は融点が600″C以上のものが望ましいが
、融点が600℃未満のものであっても、NF3を加熱
する温度において固体であれば本発明の実施には何ら差
支えない、また、この固体弗化物はNF、と反応しない
弗化物でもある。この様な固体弗化物を例示すると、弗
化リチウム(LiF)、弗化ナトリウム(Nap) 、
弗化カリウム(KF)、弗化ルビジウム(RbF) 、
弗化セシウム(CsF)等のIAIFEの金属弗化物;
弗化ベリリウム(Berg) 、弗化マグネシウム(M
gh)、弗化カルシウム(CaFz)、弗化ストロンチ
ウム(SrPt)、弗化バリウム(BaFt)等のIl
A属の金属弗化物−弗化アルミニウム(^ls)、弗化
ガリウム(GaFs)、弗化インジウム(InF3)等
のnlArjf%の金属弗化物;弗化アルミニウムナト
リウム(Nal^ffi F、)の如き複塩が挙げられ
る。尚、これらの混合物でも差支えない。
また、これらの固体弗化物は粉末状のものが容器の内壁
にライニングし易いので好ましい容器の内壁に固体弗化
物をライニングする方法について、円筒容器を例として
述べると以下の通りである。
上記に例示した固体弗化物の内、比較的融点が低い、例
えばIAEfiの金属弗化物を使用する場合は焼結法を
採用することができる。
即ち、第1図に示す如く、円筒容器1の内径寄りやや小
さい外径の内筒3を、円筒容器l内に置忘になるように
挿入する0次に、上記円筒容器1と内筒3の間隙に粉末
状の固体弗化物4を充填した後、圧入管5に荷重を加え
て固体弗化物4を圧縮成形する。この固体弗化物4の充
填及び圧縮成形を繰り返し行ない、円筒容器lの内壁全
面に固体弗化物4の圧縮成形層を形成する。しかる後内
筒3をゆっくりと引き抜き、この円筒容器1を窒素(N
g)、ヘリウム(He)等の不活性ガス雰囲気下で徐々
に固体弗化物4の軟化点まで昇温したのち徐冷すること
により、容易に円筒容器1の内壁に固体弗化物4をライ
ニングすることができる。
この場合、固体弗化物は水分を2〜3重量%含有させて
おくと、上記の圧縮成形がより容易であるので好ましい
、このことは後記する高圧プレス法によるライニングの
場合も同様である。
尚、内筒3の表面に予め潤滑剤を塗布しておくと円筒容
器1の内壁に固体弗化物4の圧縮成形層形成後の、内筒
3の引き抜きが容易であるので好ましい。
融点が比較的高い固体弗化物を円筒容器の内壁にライニ
ングする場合には、高圧プレス法が適当である。即ち、
焼結法の場合と同様に、第°1図に示す円筒容器1と内
筒3の間隙に固体弗化物4を充填した後、圧入管5に荷
重を加えて固体弗化物4の圧縮成形を繰り返すことによ
り、円筒容器lの内壁全面に固体弗化物4のライニング
層を形成した後、内筒3をゆっくり引き抜くことにより
実施することができる。
尚、この場合強固なライニング層を形成するためには、
上記の圧縮成形時の荷重は2t/c+i以上が必要であ
る。また、内筒3の表面には焼結法の場合と同様に、予
め潤滑剤を塗布しておけば、円筒容器1の内壁に固体弗
化物4のライニング層形成後における内筒3の引き抜き
が容易であるので好ましい、ただしこの場合、潤滑剤は
固体弗化物のライニング層形成後に、加熱等により蒸発
除去する必要がある。
更に本発明においては、円筒容器の内壁に固体弗化物を
ライニングする方法として、上記方法の他に、第1図の
円筒容器lと内筒3の間隙に溶融した固体弗化物を流入
した後、冷却固化させるなどの方法を採用することもで
きる。
次に容器に固体弗化物を充填する場合の該固体弗化物に
ついて述べる。
この充填に使用する固体弗化物は、前述のライニングに
使用した固体弗化物と全く同一のものが使用される。
ただし、この充填に使用される固体弗化物は粒状のもの
が好ましいが、大きさには特に限定はなく、反応器の大
きさや取扱い易さなどによって決められる。また、固体
弗化物が粉状であっても、打錠機などで錠剤化すること
により好適に使用可能である。
尚、上記固体弗化物は水分を含有していると、NF、ガ
スと接触した際にNF、と該水分が反応して一酸化窒素
(No)を生成するので、従って固体弗化物は前もって
乾燥し水分を十分除去しておくことが望ましい。
本発明ではNF3ガスの加熱は、上記の如き内壁を固体
弗化物でライニングされた容器を加熱した状態でNtF
tSN!O及びCO□を含有するNF3ガスを該容器に
通気する方法が好ましい、尚、上記容器に予め固体弗化
物を充填しておくと、NJtの除去率が更に向上するの
で一層好ましい方法である。
上記容器の加熱は、該容器の外部をヒーター等で加熱す
る方法で簡単に実施することができる。
本発明ではNzFt、 NJ及びCOtを含むNF、ガ
スの加熱温度は、150〜600℃1好ましくは250
〜350 ’Cで実施される0通気温度が150℃未満
ではNtFtを殆ど分解除去できない、逆に600℃を
越える温度ではNthはほぼ完全に除去できるものの、
容器のライニング層が熱膨張率の差によって亀裂が生ず
る惧れがあるので不都合である。また熱エネルギーの…
失にもつながる。尚、上記加熱温度において、NtPt
の分解速度は非常に速いので、通気させるNhガスの容
器内での滞留時間は短くてかまわないが、通常5〜10
00秒程度の範囲で実施される。
本発明においては、上記容器に通気するNhガスは単独
で供給してもかまわないが、N2、He等の不活性ガス
等で希釈したものでも差支えない、また、通気ガスの圧
力については特に制限はないが、通常、0〜5 kg/
c+*”−(Hの圧力が操作し易いので好ましい。
以上において述べた本発明の前段の工程であるNF3ガ
ス中のNtFxを除去する方法は、本発明者等が先に出
願した特願昭63−87208号及び特願昭63872
10号にて詳述した方法をそのまま適用することができ
る。
次に本発明の後段の工程である、NFsガス中のNJ及
びCO□を除去する工程について述べる。
本発明で使用する活性アルミナは、特に限定はなく通常
市販のものが何れも使用可能であるが、粒状かつ高表面
積のものがより好ましい。
活性アルミナの脱水処理は250〜900’C,好まし
くは250〜600℃の温度に加熱することで実施され
る。
加熱温度が250 ’C未満では活性アルミナ中に水分
が残存し、該活性アルミナ層へNFffガスを通気した
際にSZO及びCO2の除去能力が低下する。逆に必要
以上の高温はエネルギーの…失のみならず、活性アルミ
ナの加熱処理容器、例えばカラムの腐食などの問題が生
ずるので好ましくない。
活性アルミナの加熱による脱水処理は空気中で行なって
もよいが、該加熱は活性アルミナ中に含有する水分を気
化逸散させるために行なうので、例えばN、ガスのよう
に水分を含有しない不活性ガスの気流中で行なうのがよ
く、またガスを吸引しながら減圧下で行なうことも好ま
しい。
加熱時間は上記の加熱温度及び雰囲気において30分以
上であればよいが、念のために通常1〜2時間行なわれ
る。
かくして加熱による脱水処理された活性アルミナは、放
冷または強制冷却によって常温以下に冷却されるが、こ
の場合には水分の混入を回避しなければならない、従っ
て、その方法として上記活性アルミナの加熱による脱水
処理を、例えばカラム等に活性アルミナを充填した状態
で行ない、脱水処理後これを冷却し、しかるのち引続き
この活性アルミナ層へNhガスを通気する方法が好まし
い。
Nhガスの精製は、上記の通りカラム等に充填された活
性アルミナ層に通気する方法で実施されるが、この際の
通気温度は重要で0“C以下の温度でなければならず、
低温はど好ましい、しかし、NF3の沸点は−129”
Cであるので、この温度以下では操作が事実上困難であ
る。従ってNFjガスの通気温度は本発明では、0〜−
125℃の範囲で実施される。
通気時のNhガスの圧力はこれまた特に限定はないが、
例えばO〜5 kg/c+j−G程度の圧力が操作しや
すいので好ましい。
上記のNF、ガス中のN、O及びCO!を除去する工程
は、本発明者等が先に出願した特願昭62−89256
号にて詳述した方法をそのまま適用することができる。
本発明の方法において、NzFiを除去する前段の工程
を省略すると、前述の通りNF2ガスを活性アルミナ層
に通気する後段の工程において、N、F、、NtO及び
CO□の除去持続時間即ち破過時間が短くなる。これを
具体的に説明すると、Nth、N、0及びCO8を含有
するガスを活性アルミナ層に通気して得たガスは、当初
はN!F!、 N、O及びCOoの含有量は極めて少量
で検出限界以下であるが、ある時間を経過すると短時間
の間に急激に増加する。この急激に増加するまでの時間
を破過時間という。
尚、上記Nzh、N、O及びCO□の分析はガスクロマ
トグラフィーで行なうが、その検出限界はそれぞれ1o
pp−である0本発明では、前段の工程で予めNzFz
が除去しであるので、N!O、co、の含有量のいずれ
かがこの検出限界を越えた時の時間を破過時間とした。
更に、本発明の実施により精製されたNF、ガスは、本
発明者等が先に従業じた特願昭62−138972号の
方法、即ち、NF3より低沸点でかつNF、と相互溶解
性のない第三成分、例えばヘリウム(He)ガスの共存
下で81を深冷蒸留することにより、含有するNeo 
、Cot 、 Nxh以外のN8.03等の不純物を除
去することができ、半導体のドライエツチング剤やCv
D装置のクリーニングガスとして好適な高純度のNhガ
スを容易に得ることが可能となるのである。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。尚
、以下において%及びppmは特記しない限り容量基準
を表わす。
実施例1〜4 内径10m5.長さ300mmのステンレス鋼製の第1
図に示す円筒容器(カラム)1に、第1図に示すように
表面に潤滑剤としてステアリン酸を塗布した外径が6閣
、長さ400−の内筒3をカラムlと同容に挿入した後
、該カラム1と該内筒3の間隙に水分含有量が3重量%
の弗化リチウム粉末に弗化セシウム粉末を5重量%添加
混合した粉末4を少しずつ充填した後、上記間隙に外径
9.6閣、内径6.5鵬の圧入管5を挿入し、この圧入
管5にlL/ctlの荷重を加えて混合粉末4を圧縮成
形した。
この混合粉末4の挿入、圧縮成形の操作を繰り返し行な
いカラム1の内壁全面に混合粉末4の圧縮成形体を形成
し、しかる後内筒3をゆっくり抜き出した。
次に、このカラム1をhガス雰囲気下の電気炉内にて2
00℃/hの昇温速度で850℃まで昇温し、この温度
に1時間保持した後電気炉内で自然放冷により常温まで
冷却して、厚さ2■の固体弗化物層で内壁を全面にライ
ニングされたカラム1を得た。尚、上記加熱により弗化
リチウム、弗化セシウム中に含まれていた水分及びライ
ニング層形成の際使用したステアリン酸も蒸発除去され
た。
しかる後このカラム1に、はぼ同容積のHeガスで希釈
された各成分の含有量がHe 48.5%、NF。
48.2%、Nzh 2.0%、Nオ0.4%、N、O
O,3%、CO宜0.6%の組成のガス(NF3純分子
fi80.4g)を、通気温度300℃、ガスの流量6
0 Nd/s+in、 、通気圧カフ60 Torrの
条件で通気した0通気後のガスは濃度1重量%のヨウ化
カリウム(Kl)水溶液中にバブリングさせた後、液体
窒素で冷却された捕集ボンベに導き NF3を液化させ
捕集した。  NF3ガスの通気停止後は上記のNF3
の捕集ボンベ内を真空排気しHeガスを除去した。
通気後の捕集ボンベ内のNFSの組成を、ガスクロマト
グラフィーにより分析した。その結果は、NzFz含有
量は10pp−以下で非常に高い除去率であった。また
NFsの損失量も1.1%であり非常に少なかった。
尚、肝、ガス中のN、の含有量は通気後の方が多かった
が、これは加熱によりNtFtがN!とF2に分解した
ものと考えられる。
次に、内径15mmのステンレス製カラムに粒度が24
〜48メツシユの粒状活性アルミナを充填(充填高さ3
00m+*) した後、該活性アルミナの加熱による脱
水処理を第1表に示す条件で行ない、しかる後、該活性
アルミナ層へ上記によりNzhを除去したNF3ガスを
第1表に示す条件で各々通気した。
NF3ガスの活性アルミナ層への通気後のNF3ガス中
のNeo及びCO□の含有量をガスクロマトグラフィー
にて分析し、破過時間を測定した。尚、破過時間は、活
性アルミナ層への通気後のガス中のNto 、cotの
いずれかの含を量が10pp+wを越えた時の時間とし
た。
その結果は第1表に示す通りであり、本発明の方法で精
製すればNP、ガス中のNtO、COx 、NzPzは
極めて良好に除去され、しかも破過時間も長いことが分
かる。
第1表 実施例5〜8 実施例1〜4で使用した内壁を固体弗化物でライニング
したカラムを用い、これに固体弗化物として粒径が24
〜32メツシユの弗化カルシウム(CaFx) (実施
例5)、弗化アルミニウム(AI!、Fi)(実施例6
)、弗化カリウム(KF) (実施例7)、弗化ナトリ
ウム(Nap) (実施例8)をそれぞれ充填(充填高
さ2501111) L、200℃の温度に加熱した状
態でN!ガスを100 d/win、の流量で1時間通
気して固体弗化物中の水分を除去した。
次いでこの固体弗化物を充填したカラムに、はぼ同容積
のHeガスで希釈された実施例1〜4で使用したものと
同一の組成のNF、ガスを、通気温度300℃、ガスの
流’ft60 Nd/sin、 、通気圧カフ60To
rrの条件で通気した0通気後のガスは実施例1〜4と
同様にしてヨウ化カリウム(Kl)水溶液中にバブリン
グさせた後、NF3を液化させ捕集した後Heガスを除
去した。
このNF3の組成をガスクロマトグラフィーにより分析
したところ、その結果はNzFzの含有量は10ppm
以下と非常に高い除去率であった。またNF3の損失量
も1.0と非常に少ながった。
尚、Nhガス中のN、の含有量が通気後の方が多かった
が、これは実施例1〜4と同様に加熱によりN、P、が
N2とF2に分解したものと考えられる。
次に、実施例1〜4と全く同様にしてステンレス製カラ
ムに充填された粒状活性アルミナの加熱による脱水処理
を第2表に示す条件で行なった後、該活性アルミナ層へ
上記によりNzhを除去したNF、ガスを第2表に示す
条件で通気した。
NF、ガスの活性アルミナ層への通気後のNF、ガス中
のNzO及びCO□の含有量を実施例1〜4と同様にし
てガスクロマトグラフィーにて分析し、破過時間を測定
した。
その結果は第2表に示す通りであり、本発明の方法で精
製すればNF、ガス中のNzO、Cot 、NzFxは
極めて良好に除去され、しかも破過時間も長いことが分
かる。
第2表 比較例1 実施例1と全く同様にステンレス製カラムに粒状活性ア
ルミナを充填した後、該粒状活性アルミナの加熱による
脱水処理を行なった。
しかるのち実施例1〜4で使用したHeガスで稀釈され
る前の、NF3ガス(各成分の含有量はNF393.6
%、NxFt 3.9%、Nz O,8%、NzOO,
6%、CO21,2%)を前辺ってNthを除去するこ
となく、上記の脱水処理した粒状活性アルミナ層へ実施
例1と同一時条件で通気して破過時間を測定した、その
結果は破過時間は4.0時間であり、実施例1〜4に比
べて大幅に短時間であった。
参考例1 (特願昭62−138972号の方法)実施
例1で得たNxh、 NzO、Cotを除去されたNF
3ガスを、第2図に示す装置を用いて深冷蒸留により更
に精製した。
即ち液体窒素13を満たした保冷容器12中に容器8(
内容積IN)を浸漬して容器8を冷却した後、該容器8
に実施例1で得られたNF、ガスと第三成分としてHe
ガスを、ライン9及び10を通して各50sfi/si
n、 、31d/+win、の流量で3時間フィードし
た。
NF、ガスは容器8内で液化し、共存させたlieガス
及び分留したN!ガス等の不純物は水シール槽14を通
して排気させた。
NF2ガス及びHeガスのフィード停止後、フィード弁
19及び水シール槽14に至る弁23を閉じ弁24を開
いて、真空ポンプ15にて容器8内のガスを排気しなが
ら、この液化させたNh中にHeガスを100mff1
/ll1in、のlで30分間フィードしバプリソグさ
せた。この時の容器8内の圧力は10Torrにした。
排気完了後、弁20及び弁22を閉じた後、容器8を常
温に戻して容器8内の液化NP3をガス化して、ガスク
ロマトグラフィーにて分析した。
その結果は、N2、NzO、Cot 、Nzhの含有量
は何れも10ppm以下と極めて微量で、得られたNF
ガスは極めて高純度であった。
〔発明の効果〕
本発明は以上詳細に説明した如く、内壁を固体弗化物で
ライニングされた容器中で、または該容器に固体弗化物
を充填した状態で、NF、ガスを特定の温度に加熱して
NF、ガス中に含まれるNzhを予め除去した後、この
NF、ガスを、予め特定の温度に加熱して脱水処理した
粒状活性アルミナ層へ特定の温度でかつ実質的に水分の
混入しない状態で、通気するという極めて筒型な方法で
あり、本発明の実施により、NF、ガス中のN、F、、
N、O及びCO2が効率よく除去できるのである。
また、本発明では前段の工程で予めNF、ガス中のNz
hが除去しであるので、後段の工程である粒状活性アル
ミナでN、O及びCO,の除去を、実施例及び比較例が
示す如く長時間行なうことができるのである。
更に本発明では、前段の工程で内壁を固体弗化物でライ
ニングされた容器、または該ライニングされた容器と固
体弗化物を使用し、後段の工程では粒状活性アルミナを
使用するというものであり、いずれも廉価であるので、
経済的な方法でもある。更にまた、本発明の方法は吸着
剤である活性アルミナへのNF、の吸着もない。
更に、本発明の方法で精製したNFiガスを、本発明者
が先に提案した特願昭和62−138972号の方法で
更に精製すれば、参考例1が示す如く極めて高純度のN
Fffガスを得ることができるのである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、実施例において円筒容器(カラム)の内壁に
、固体弗化物をライニングする状態を示す図であり、第
2図は参考例1で使用した深冷蒸留装置を示すフローシ
ートである。 図において、 1・・−・−・円筒容器(カラム)、 2・・−”−’)lpsガス出口管、 3・−−−−−
一内筒、4・・−一−−−固体弗化物、   5・−−
−−m−圧入管、6−・・・−補助円筒管、   7−
・・−・一定盤、8・−・・容器、 9−・・−NFtガスフィードライン、10・・−−−
Heガスフィードライン、11−・−排気ライン、  
 12−・−保冷容器、13−・・−液体窒素、   
 14−・・−・水シール槽、15−−−−−一真空ポ
ンプ、 16−・−・・−常圧排気ライン、 17−・・−・真空排気ライン、 18−・・・・・挿入管、 19.20.21.22、 を示す。 23.24・・・−弁、

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)内壁を固体弗化物でライニングされた容器中で少
    なくとも不純物として二弗化二窒素、亜酸化窒素及び二
    酸化炭素を含有する三弗化窒素ガスを150〜600℃
    の温度に加熱して含有する二弗化二窒素を除去した後、
    引き続いて該三弗化窒素ガスを予め250〜900℃の
    範囲の温度に加熱して脱水処理した活性アルミナ層へ0
    〜−125℃の温度でかつ実質的に水分の混入しない状
    態で通気して含有する亜酸化窒素及び二酸化炭素を除去
    することを特徴とする三弗化窒素ガスの精製方法。
  2. (2)内壁を固体弗化物でライニングされた容器に固体
    弗化物を充填する請求項1項記載の三弗化窒素ガスの精
    製方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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