JPH02170931A - 金バンプ用金合金細線 - Google Patents
金バンプ用金合金細線Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用外り!Fコ
本発明は、ワイヤレスボンディングにおいてバンプ(金
属突起)を形成するために用いられる金バンプ用金合金
細線に関する。
属突起)を形成するために用いられる金バンプ用金合金
細線に関する。
[従来の技術]
近年、ICチップの多極化に伴い、ICチップをリード
フレームに接続ずろ方法として、経済性および接続の信
頼性の要請からこれまで用いられていたワイヤーボンデ
ィング方式に代えて、金属細線を使用しないワイヤレス
ボンディング方式が採111されつつある。
フレームに接続ずろ方法として、経済性および接続の信
頼性の要請からこれまで用いられていたワイヤーボンデ
ィング方式に代えて、金属細線を使用しないワイヤレス
ボンディング方式が採111されつつある。
ちなみに、現在確立されている主なワイヤレスボンディ
ング方式としては、第3図に示すようにICチップlの
電極部にバンプ2・・・を形成し、これを基板3上の導
体層4に圧着せしめるフリップデツプ法や、第4図に示
すようにICチップI上に形成したバンプ2・・・をS
nめっきしたCu リード5の一端部に圧着し、次い
で」二足リード5の他端部を基板3上の導体層4に圧i
J仕しめるフィルムギヤリヤ法等がある。
ング方式としては、第3図に示すようにICチップlの
電極部にバンプ2・・・を形成し、これを基板3上の導
体層4に圧着せしめるフリップデツプ法や、第4図に示
すようにICチップI上に形成したバンプ2・・・をS
nめっきしたCu リード5の一端部に圧着し、次い
で」二足リード5の他端部を基板3上の導体層4に圧i
J仕しめるフィルムギヤリヤ法等がある。
この場合において、上記ワイヤレスボンディング方式に
おいては、いずれもチップ1上にパンブ2・・・を形成
する必要がある。そこで、これまではチップ1の電極部
に銅ボールを圧着さ仕ることにより、あるいはハンダ蒸
着によって上記チップ1上にバンプ2・・・を形成して
いた。
おいては、いずれもチップ1上にパンブ2・・・を形成
する必要がある。そこで、これまではチップ1の電極部
に銅ボールを圧着さ仕ることにより、あるいはハンダ蒸
着によって上記チップ1上にバンプ2・・・を形成して
いた。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上述した銅ボールを圧着したバンプ2に
あっては、金属安定性の点で好ましくなく、しかも硬度
が高いためチップ1への圧着時にデツプクラックを発生
する危険性があるという欠点があった。また、ハンダl
’AWによるバンプ形成にあっては、複数の工程を要し
て長時間を要し、製造効率が極めて悪いという欠点があ
った。
あっては、金属安定性の点で好ましくなく、しかも硬度
が高いためチップ1への圧着時にデツプクラックを発生
する危険性があるという欠点があった。また、ハンダl
’AWによるバンプ形成にあっては、複数の工程を要し
て長時間を要し、製造効率が極めて悪いという欠点があ
った。
このため、上記欠点を解消すべく、一般のワイヤーボン
ディング方式に用いられている金合金細線によってバン
プを形成する方法ら提案されている。ところが、上記従
来の金合金細線にあっては、この端部に電気トーチによ
りボールを形成してICデツプに圧着した後、ワイヤ部
分をクランパで把持して上記ボールを引きちぎると、第
2図に示すようにICデツプ状に残されたボール(バン
プ)2の切断部(ネック10 G上に、接続不良の主た
るb;(因となるテール7が残ってしまうという問題点
があった。
ディング方式に用いられている金合金細線によってバン
プを形成する方法ら提案されている。ところが、上記従
来の金合金細線にあっては、この端部に電気トーチによ
りボールを形成してICデツプに圧着した後、ワイヤ部
分をクランパで把持して上記ボールを引きちぎると、第
2図に示すようにICデツプ状に残されたボール(バン
プ)2の切断部(ネック10 G上に、接続不良の主た
るb;(因となるテール7が残ってしまうという問題点
があった。
本発明は、上記従来の金バンプ用金合金細線のらっ問題
点を解決4”へくなされたしので、常にネック部から破
断されて正常なバンプを形成することができる金バンプ
用金合金細線を提供するごとを目的とするらのである。
点を解決4”へくなされたしので、常にネック部から破
断されて正常なバンプを形成することができる金バンプ
用金合金細線を提供するごとを目的とするらのである。
[課題を解決するための手段]
上記目的を達成するために、本発明の請求項1に記載の
金バンプ用金合金細線は、La、Ce%Pr。
金バンプ用金合金細線は、La、Ce%Pr。
N (IおよびSmからなるセリウム族希土類元素並び
にCaのうち1種または2種以上を o、oo。
にCaのうち1種または2種以上を o、oo。
l〜0.02重1%含有し、残部が八〇および不可避不
純物からなる組成によって+I′11成したしのである
。
純物からなる組成によって+I′11成したしのである
。
また、請求項2に記載の金バンプ用金合金細線は、La
%Ce、Pr、NdおよびSmからなるセリウム族希土
類元素並びにC,aのうち1種または2種以上を 0.
0001〜002重量%含有し、さらにBe、Pb、I
nSS i、GelAgのうちIFftまたは2種以
上を 0.0001〜0.02重量%含有し、残部がA
uおよび不可避不純物からなる組成によって構成したも
のである。
%Ce、Pr、NdおよびSmからなるセリウム族希土
類元素並びにC,aのうち1種または2種以上を 0.
0001〜002重量%含有し、さらにBe、Pb、I
nSS i、GelAgのうちIFftまたは2種以
上を 0.0001〜0.02重量%含有し、残部がA
uおよび不可避不純物からなる組成によって構成したも
のである。
[作用]
請求項1の金バンプ用金合金細線にあっては、Auにセ
リウム族希土類元素およびCaの1種または2FM以上
を添加した結果Au単独の場合に比べて常温および高温
時における引張り強さが向上するとともに、軟化温度が
高まる。換言すれば、端部に電気トーチの放電によりボ
ールを形成する際に、引張り強さが低下するネック部の
熱影響長さ(再結晶領域)が極めて短い範囲内に抑えら
れるのである。
リウム族希土類元素およびCaの1種または2FM以上
を添加した結果Au単独の場合に比べて常温および高温
時における引張り強さが向上するとともに、軟化温度が
高まる。換言すれば、端部に電気トーチの放電によりボ
ールを形成する際に、引張り強さが低下するネック部の
熱影響長さ(再結晶領域)が極めて短い範囲内に抑えら
れるのである。
したがって、上述したセリウム族希土類元素およびCa
を添加することにより請求項1の金バンプ用金合金細線
によれば、バンプを形成時に先ず電気トーチにより端部
にボールを形成すると、結晶粒度の粗い再結晶領域がネ
ック部の短い範囲内にのみ形成される。次いで、このボ
ールを超音波熱圧着によりデツプの電気部に圧着した後
に、ワイヤ上部をクランパで把!、’j して引っ張る
と、ワイヤ部分の引張り強さが大きいためワイヤ部分で
切断されることがなく、さらに引張り強さに劣るネック
部の再結晶領域が狭いため、確実にボール上の上記ネッ
ク部で切断されろことになる。この結果上記チップ上に
は、第1図に示すように、常にネック部6で切断されて
有害なテールが残ることかない正常なバンプが形成され
る。
を添加することにより請求項1の金バンプ用金合金細線
によれば、バンプを形成時に先ず電気トーチにより端部
にボールを形成すると、結晶粒度の粗い再結晶領域がネ
ック部の短い範囲内にのみ形成される。次いで、このボ
ールを超音波熱圧着によりデツプの電気部に圧着した後
に、ワイヤ上部をクランパで把!、’j して引っ張る
と、ワイヤ部分の引張り強さが大きいためワイヤ部分で
切断されることがなく、さらに引張り強さに劣るネック
部の再結晶領域が狭いため、確実にボール上の上記ネッ
ク部で切断されろことになる。この結果上記チップ上に
は、第1図に示すように、常にネック部6で切断されて
有害なテールが残ることかない正常なバンプが形成され
る。
また、上述したセリウム族希土類元素およびCaとF3
e、Pb、 I n、S i、Gc、Agとを併l°て
添加することにより請求項2の金バンプ用金合金細線に
よれば、上記請求項1の作用に加えて、端部に電気1・
−チの放電により形成するボールの形状が安定し、つま
り真球性がより高くかつ大きさのばらつきが抑えられた
ボールを得ろことができ、より正常なバンプが形成され
る。
e、Pb、 I n、S i、Gc、Agとを併l°て
添加することにより請求項2の金バンプ用金合金細線に
よれば、上記請求項1の作用に加えて、端部に電気1・
−チの放電により形成するボールの形状が安定し、つま
り真球性がより高くかつ大きさのばらつきが抑えられた
ボールを得ろことができ、より正常なバンプが形成され
る。
次に、上記作用との関連に基づいて、本発明の金バンプ
用金合金細線において、その成分組成を上記範囲に限定
した理由について説明する。
用金合金細線において、その成分組成を上記範囲に限定
した理由について説明する。
(イ)セリウム族希土類元素およびCaについてこれら
の成分の含有mを0.0001〜0.02重量%の範囲
内に限定したのは、この含有量が0゜0001ff[%
にπ4たないと、軟化温度を高める作用が十分でなく再
結晶領域が広がってバンプ上にテール残りを発生してし
まい、また、常温および高温において所望とする引張り
強さの向上が十分に得られず、引きちぎりの際にワイヤ
部で切断されろことによりテール残りが発生し易くなっ
てしまい不適当であるととらに、逆に上記含h−mが0
.02徂fFj%を越えると、ボール表面に酸化皮膜が
形成されて圧着時に十分な接合強度が得られなくなって
しまい、いずれも不適当だからである。
の成分の含有mを0.0001〜0.02重量%の範囲
内に限定したのは、この含有量が0゜0001ff[%
にπ4たないと、軟化温度を高める作用が十分でなく再
結晶領域が広がってバンプ上にテール残りを発生してし
まい、また、常温および高温において所望とする引張り
強さの向上が十分に得られず、引きちぎりの際にワイヤ
部で切断されろことによりテール残りが発生し易くなっ
てしまい不適当であるととらに、逆に上記含h−mが0
.02徂fFj%を越えると、ボール表面に酸化皮膜が
形成されて圧着時に十分な接合強度が得られなくなって
しまい、いずれも不適当だからである。
(o ) n e%P b、 I n−、s 1%G
esA gについて ;これらの成分の含有量を0.0
001〜0.01重量%の範囲内に限定したのは、これ
らの含有量が0.0001重量%に満たないと、ボール
の真球性を高める効果が十分でなく、また上記含有量が
0.01重量%を越えると、加工性が劣化し、圧着時に
かなりの力を加えても、ボールが容易に変形tt 4’
、十分な接合強1.Q′が得られなくなってしまい、い
ずれら不適当だからである。
esA gについて ;これらの成分の含有量を0.0
001〜0.01重量%の範囲内に限定したのは、これ
らの含有量が0.0001重量%に満たないと、ボール
の真球性を高める効果が十分でなく、また上記含有量が
0.01重量%を越えると、加工性が劣化し、圧着時に
かなりの力を加えても、ボールが容易に変形tt 4’
、十分な接合強1.Q′が得られなくなってしまい、い
ずれら不適当だからである。
[実施例]
次に、本発明の金バンプ用金合金細線について、実施例
に基づき具体的に説明する。
に基づき具体的に説明する。
通常の溶解法により、それぞれ表に示された成分組成を
r丁4°る金合金溶場をUA+整し、鋳造した後公知の
溝型圧延機を用いて圧延し、次いで線引き加]−を行う
ことにより、それぞれ線径25μmの従来の金合金細線
および本願発明に係る金バンプ用金合金細線を製造した
。なお、実施例1〜10は、セリウム族希土類元素およ
びCaを添加したもの、実施例11〜24はセリウム族
希土類元素およびCaと13e、I’l+、In1Si
、Ge、Agとを併せて添加したものを示す。
r丁4°る金合金溶場をUA+整し、鋳造した後公知の
溝型圧延機を用いて圧延し、次いで線引き加]−を行う
ことにより、それぞれ線径25μmの従来の金合金細線
および本願発明に係る金バンプ用金合金細線を製造した
。なお、実施例1〜10は、セリウム族希土類元素およ
びCaを添加したもの、実施例11〜24はセリウム族
希土類元素およびCaと13e、I’l+、In1Si
、Ge、Agとを併せて添加したものを示す。
次に、得られた従来の金合金細線および本願発明に係る
金バンプ用金合金細線を用いてバンプの形成を行い、各
々1000個のバンプを形成した際に発生したテール残
りの数を顕微鏡を用いてa’iべるとともに、接合状輻
を調べるためにシャー強度を測定した。表は、これらの
結果を示すしのである。なお、表中のシト−強度の合否
の基早については、50g以上の6のを合格として示し
ている。
金バンプ用金合金細線を用いてバンプの形成を行い、各
々1000個のバンプを形成した際に発生したテール残
りの数を顕微鏡を用いてa’iべるとともに、接合状輻
を調べるためにシャー強度を測定した。表は、これらの
結果を示すしのである。なお、表中のシト−強度の合否
の基早については、50g以上の6のを合格として示し
ている。
さらに、ボールの真球性については、金バンプ形成前の
ボールを各々20個ずつについて、ワイヤに対して垂直
方向および平行方向の2方向の直径を測定して、各々の
平均値とばらつきσを求め、垂直方向と平行方向の平均
値の差が2.5μ肩以下でかつ双方のばらつきσが2.
0μl以下であるものを良好とし、いずれか一方を満た
しているものを並、また、いずれも満たしていないもの
を不良として示している。
ボールを各々20個ずつについて、ワイヤに対して垂直
方向および平行方向の2方向の直径を測定して、各々の
平均値とばらつきσを求め、垂直方向と平行方向の平均
値の差が2.5μ肩以下でかつ双方のばらつきσが2.
0μl以下であるものを良好とし、いずれか一方を満た
しているものを並、また、いずれも満たしていないもの
を不良として示している。
表に示す結果から、本願発明に係る金バンプ用金合金細
線1〜24は、いずれらテール残りがなく、常に正常な
バンプの形成が可能であるとともに、接合強度について
も従来のものと比較して優れていることが判る。
線1〜24は、いずれらテール残りがなく、常に正常な
バンプの形成が可能であるとともに、接合強度について
も従来のものと比較して優れていることが判る。
また、金バンプ用金合金細線II〜24は、いずれらボ
ールの真珠性が良好であることが判る。
ールの真珠性が良好であることが判る。
[発明の効果J
以上説明したように本発明の請求項1の金バンプ用金合
金細線は、!、a%Ce、Pr、NdおよびS11から
なるセリウ12族希土類元素並びにCaのうち1種また
は2種以上を 0.0001〜0,02重G1%含Ti
’ L、残部がΔUおよび不可避不純物からなる組成に
より(1カ成したので、ワイヤレスボンディングにおい
て常にテール残りがなく、しから接合強度に優れた正常
なバンプ形成を行うことができる。
金細線は、!、a%Ce、Pr、NdおよびS11から
なるセリウ12族希土類元素並びにCaのうち1種また
は2種以上を 0.0001〜0,02重G1%含Ti
’ L、残部がΔUおよび不可避不純物からなる組成に
より(1カ成したので、ワイヤレスボンディングにおい
て常にテール残りがなく、しから接合強度に優れた正常
なバンプ形成を行うことができる。
また、請求項2の金バンプ用金合金細線は、上記セリウ
ノ、族希土類元素およびCaに加えて、さらに+3 a
lP b、I n、S i、c e、Δgのうち1種ま
たは2挿置」二を 0.0001〜0.02重量%含有
したので、真球性が高くかつ大きさのばらつきの小さい
ボールを得ることができ、より優れた正常なバンプ形成
を行うことかできる。
ノ、族希土類元素およびCaに加えて、さらに+3 a
lP b、I n、S i、c e、Δgのうち1種ま
たは2挿置」二を 0.0001〜0.02重量%含有
したので、真球性が高くかつ大きさのばらつきの小さい
ボールを得ることができ、より優れた正常なバンプ形成
を行うことかできる。
第1図は本発明の金バンプ用金合金納線によって形成さ
れたバンプを示す斜視図、第2図は従来の会合金細線に
よって形成されたバンプを示す斜視図、第3図はフリッ
プチップ法によるチップの接続図、第4図はフィルムキ
ャリヤ法によるチップの接続図である。 !・・・・・・ICチップ、2・・・・・・バンプ(金
属突起)、3・・・・・・基板、 4・・・・・
・配線(導体層)、5・・・・・・リード、 6・
・・・・・切断部(ネック部)、7・・・・・・テール
。
れたバンプを示す斜視図、第2図は従来の会合金細線に
よって形成されたバンプを示す斜視図、第3図はフリッ
プチップ法によるチップの接続図、第4図はフィルムキ
ャリヤ法によるチップの接続図である。 !・・・・・・ICチップ、2・・・・・・バンプ(金
属突起)、3・・・・・・基板、 4・・・・・
・配線(導体層)、5・・・・・・リード、 6・
・・・・・切断部(ネック部)、7・・・・・・テール
。
Claims (2)
- (1)La、Ce、Pr、NdおよびSmからなるセリ
ウム族希土類元素並びにCaのうち1種または2種以上
を0.0001〜0.02重量%含有し、残部がAuお
よび不可避不純物からなることを特徴とする金バンプ用
金合金細線。 - (2)La、Ce、Pr、NdおよびSmからなるセリ
ウム族希土類元素並びにCaのうち1種または2種以上
を0.0001〜0.02重量%含有し、さらにBe、
Pb、In、Si、Ge、Agのうち1種または2種以
上を0.0001〜0.02重量%含有し、残部がAu
および不可避不純物からなることを特徴とする金バンプ
用金合金細線。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1080887A JP2778093B2 (ja) | 1988-09-29 | 1989-03-31 | 金バンプ用金合金細線 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63-245180 | 1988-09-29 | ||
| JP24518088 | 1988-09-29 | ||
| JP1080887A JP2778093B2 (ja) | 1988-09-29 | 1989-03-31 | 金バンプ用金合金細線 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02170931A true JPH02170931A (ja) | 1990-07-02 |
| JP2778093B2 JP2778093B2 (ja) | 1998-07-23 |
Family
ID=26421848
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995007367A1 (en) * | 1993-09-06 | 1995-03-16 | Mitsubishi Materials Corporation | Golden ornament material hardened by alloying with minor components |
| US6045635A (en) * | 1995-04-07 | 2000-04-04 | Ogasa; Kazuo | High-purity hardened gold alloy and a process of producing the same |
| EP1160344A1 (en) * | 2000-05-31 | 2001-12-05 | Tanaka Denshi Kogyo Kabushiki Kaisha | Gold wire for semiconductor element connection and semiconductor element connection method |
| WO2006035905A1 (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-06 | Tanaka Denshi Kogyo K.K. | ワイヤバンプ材料 |
| WO2006057230A1 (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-01 | Tanaka Denshi Kogyo K.K. | 半導体素子用Auボンディングワイヤ |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5816041A (ja) * | 1981-07-17 | 1983-01-29 | Mitsubishi Metal Corp | 高張力Au合金細線 |
| JPS58154242A (ja) * | 1982-03-10 | 1983-09-13 | Mitsubishi Metal Corp | 半導体素子ボンデイング用金合金細線 |
| JPS6030158A (ja) * | 1983-07-29 | 1985-02-15 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ボンデイングワイヤ− |
| JPS62216347A (ja) * | 1986-03-18 | 1987-09-22 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
| JPS62228440A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-07 | Matsuda Kikinzoku Kogyo Kk | 半導体素子ボンデイング用金線 |
| JPS62290835A (ja) * | 1986-06-09 | 1987-12-17 | Mitsubishi Metal Corp | 半導体装置のボンデイングワイヤ用Au合金極細線 |
| JPS63145729A (ja) * | 1986-03-28 | 1988-06-17 | Nittetsu Micro Metal:Kk | 半導体素子ボンデイング用金線 |
| JPS63243238A (ja) * | 1987-03-31 | 1988-10-11 | Mitsubishi Metal Corp | 半導体装置のボンデイングワイヤ用Au合金極細線 |
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Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5816041A (ja) * | 1981-07-17 | 1983-01-29 | Mitsubishi Metal Corp | 高張力Au合金細線 |
| JPS58154242A (ja) * | 1982-03-10 | 1983-09-13 | Mitsubishi Metal Corp | 半導体素子ボンデイング用金合金細線 |
| JPS6030158A (ja) * | 1983-07-29 | 1985-02-15 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ボンデイングワイヤ− |
| JPS62216347A (ja) * | 1986-03-18 | 1987-09-22 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
| JPS62228440A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-07 | Matsuda Kikinzoku Kogyo Kk | 半導体素子ボンデイング用金線 |
| JPS63145729A (ja) * | 1986-03-28 | 1988-06-17 | Nittetsu Micro Metal:Kk | 半導体素子ボンデイング用金線 |
| JPS62290835A (ja) * | 1986-06-09 | 1987-12-17 | Mitsubishi Metal Corp | 半導体装置のボンデイングワイヤ用Au合金極細線 |
| JPS63243238A (ja) * | 1987-03-31 | 1988-10-11 | Mitsubishi Metal Corp | 半導体装置のボンデイングワイヤ用Au合金極細線 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995007367A1 (en) * | 1993-09-06 | 1995-03-16 | Mitsubishi Materials Corporation | Golden ornament material hardened by alloying with minor components |
| US6045635A (en) * | 1995-04-07 | 2000-04-04 | Ogasa; Kazuo | High-purity hardened gold alloy and a process of producing the same |
| US6077366A (en) * | 1995-04-07 | 2000-06-20 | Ogasa; Kazuo | Process for producing a high-purity hard gold alloy |
| EP1160344A1 (en) * | 2000-05-31 | 2001-12-05 | Tanaka Denshi Kogyo Kabushiki Kaisha | Gold wire for semiconductor element connection and semiconductor element connection method |
| US6492593B2 (en) | 2000-05-31 | 2002-12-10 | Tanaka Denshi Kogyo K.K. | Gold wire for semiconductor element connection and semiconductor element connection method |
| WO2006035905A1 (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-06 | Tanaka Denshi Kogyo K.K. | ワイヤバンプ材料 |
| EP1811556A4 (en) * | 2004-09-30 | 2009-08-05 | Tanaka Electronics Ind | MATERIAL FOR BOSS OF WIRE |
| WO2006057230A1 (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-01 | Tanaka Denshi Kogyo K.K. | 半導体素子用Auボンディングワイヤ |
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