JPH02172256A - Logic circuit - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は論理回路に関し、特にMOS トランジスタと
バイポーラトランジスタとを組合せて構成した論理回路
のレイアウトに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a logic circuit, and more particularly to the layout of a logic circuit constructed by combining MOS transistors and bipolar transistors.
(従来の技術)
一般に、LSI論理回路のレイアウト設計においては、
多大な工数を必要としているので、従来一定の高さを有
する複数種類の基本論理ゲートを予めレイアウト設計し
ておき、これらの多数の基本論理ゲートを自動レイアウ
トツールを用いて配置および配線を行なうスタンダード
セル等のレイアウト手法が、多く利用されている。(Prior Art) Generally, in the layout design of LSI logic circuits,
Since this requires a large amount of man-hours, the conventional standard is to design the layout of multiple types of basic logic gates with a certain height in advance, and then place and route these many basic logic gates using an automatic layout tool. Layout techniques such as cells are often used.
また一方、最近ではLSIの速度性能を高めるために、
MOS トランジスタとバイポーラトランジスタを組合
ぜたBiCMO8の基本論理ゲートが注目されている。On the other hand, recently, in order to improve the speed performance of LSI,
BiCMO8 basic logic gates, which are a combination of MOS transistors and bipolar transistors, are attracting attention.
かかるB1CMOSゲートはNチャネル型およびPチャ
ネル型の一対のMOSトランジスタからなるCMOSゲ
ートの低消費電力性と、バイポーラトランジスタの高速
性とを兼ね備えているため、今後のLSIに有望な論理
ゲートである。Such a B1 CMOS gate has the low power consumption of a CMOS gate consisting of a pair of N-channel and P-channel MOS transistors and the high speed of a bipolar transistor, and is therefore a promising logic gate for future LSIs.
例えば、かかる従来のB1CMOSゲートで溝築された
スタンダードセルにおいては、0M08部の上部あるい
は下部にバイポーラ部を付加した構成が採用されている
。For example, in a standard cell constructed with such a conventional B1CMOS gate, a bipolar section is added above or below the 0M08 section.
(発明が解決しようとする課題)
上述した従来のB1CMOSゲートは、多数の論理ゲー
トや長い配線等の大負荷容量を駆動する場合、CMOS
ゲートに比べ高速駆動が可能であるが、小さな負荷容量
の駆動に対してはCMOSゲートに比べ低速駆動である
。また、一般にLSI内部の大部分の論理ゲートは1m
m以下の短い配線により二、三のわずかの論理ゲートと
しか接続されていない。このため、全ての論理ゲートを
B1CMOSゲートで構成すると、十分な速度性能が得
られないという問題がある。そこでこの問題を解決し高
速化をはかるために、従来は大きなファンアウト数や長
い配線長を有する論理回路のみをB1CMOSゲートで
構成し、しかも残りの大部分の論理回路をCMOSゲー
トで構成する方法が有利である。(Problems to be Solved by the Invention) The conventional B1 CMOS gate described above is difficult to use when driving a large load capacity such as a large number of logic gates or long wiring.
Although it is possible to drive at a higher speed than a gate, it is slower to drive a small load capacitance than a CMOS gate. Additionally, most logic gates inside an LSI are generally 1 m long.
It is connected to only a few logic gates by short wiring of less than m. Therefore, if all the logic gates are constructed of B1CMOS gates, there is a problem that sufficient speed performance cannot be obtained. Therefore, in order to solve this problem and increase speed, the conventional method was to configure only logic circuits with large fan-out numbers and long wiring lengths using B1 CMOS gates, and to configure most of the remaining logic circuits with CMOS gates. is advantageous.
しかしながら、従来のB1CMOSゲートによるスタン
ダードセルは0M08部の上部にバイポーラ部を付加し
た構成になっているので、かかるBi CMOSゲート
とCMOSゲートのスタンダード・セルを混在して配置
したときには、高さがそろわず且つ未使用領域が増大し
、チップサイズの増大を招くという欠点があり、しかも
従来のB1CMOSゲートのレイアウト方法によれば、
チップサイズの増大による価格上昇をもたらすという欠
点がある。However, since the conventional standard cell using a B1CMOS gate has a structure in which a bipolar section is added to the top of the 0M08 section, when such standard cells with Bi CMOS gates and CMOS gates are placed together, the heights are not the same. However, the conventional B1CMOS gate layout method has the disadvantage of increasing the unused area and increasing the chip size.
The disadvantage is that the increase in chip size leads to an increase in price.
本発明の目的は、かかるCMOSゲートとB1CMOS
ゲートを混在して配置する際の未使用領域を減少させ、
LSIのチップサイズを縮小させるとともに低価格でレ
イアウトすることのできる論理回路を提供することにあ
る。The object of the present invention is to use such a CMOS gate and B1CMOS
Reduces unused area when placing gates in a mixed manner,
An object of the present invention is to provide a logic circuit that can reduce the chip size of an LSI and can be laid out at a low cost.
(課題を解決するための手段)
本発明の論理回路は、MOS トランジスタおよびバイ
ポーラトランジスタにより構成される論理回路において
、第一および第二の一対の電源配線ラインを平行に配置
し、前記一対の電源配線ライン間の領域内で且つ前記第
一の電源配線ライン側に第一極性のMOSトランジスタ
を配置するとともに、前記第二の電源配線ライン側に第
二極性のMOS トランジスタを配置し、前記バイポー
ラトランジスタを前記一対の電源配線ライン間の領域内
に配置して構成される。(Means for Solving the Problems) The logic circuit of the present invention is configured by MOS transistors and bipolar transistors, in which a first and second pair of power supply wiring lines are arranged in parallel, and the pair of power supply wiring lines are arranged in parallel. A MOS transistor of a first polarity is arranged in a region between the wiring lines and on the side of the first power supply wiring line, and a MOS transistor of a second polarity is arranged on the side of the second power supply wiring line, and the MOS transistor of the second polarity is arranged on the side of the second power supply wiring line. is arranged in a region between the pair of power supply wiring lines.
また、本発明の論理回路は、MOS トランジスタとバ
イポーラトランジスタとにより構成される論理回路にお
いて、第一および第二の一対の電源配線ラインを平行に
配置し、前記一対の電源配線ライン間の領域内で且つ前
記第一電源配線側に第一極性のMOS )ラジスタを配
置するとともに、前記第二電源配線ライン側に第二極性
のMOSトランジスタを配置し、前記バイポーラトラン
ジスタを前記一対の電源配線ライン間の領域内に配置す
るとともに、前記バイポーラトランジスタの長方形コン
タクトの長さ方向を前記一対の電源ラインと平行になる
ように配置して構成される。Further, in the logic circuit of the present invention, the first and second pair of power supply wiring lines are arranged in parallel in the logic circuit composed of MOS transistors and bipolar transistors, and the area between the pair of power supply wiring lines is and a MOS transistor of a first polarity is arranged on the side of the first power supply wiring line, a MOS transistor of a second polarity is arranged on the side of the second power supply wiring line, and the bipolar transistor is connected between the pair of power supply wiring lines. The rectangular contact of the bipolar transistor is arranged in a region such that the length direction of the rectangular contact of the bipolar transistor is parallel to the pair of power supply lines.
(作用)
本発明の論理回路は、CMOSゲートとB1CMOSゲ
ートのスタンダードセルを同一の高さにすることにより
、自動レイアウトでスタンダードセルの配置、配線を行
なった場合、CMOSゲートとB1CMOSゲートでの
凹凸が無くなり、未使用領域が少なくなる。(Function) By making the standard cells of the CMOS gate and the B1CMOS gate the same height, the logic circuit of the present invention can prevent unevenness between the CMOS gate and the B1CMOS gate when placing and wiring the standard cells using automatic layout. This will reduce the amount of unused space.
また、バイポーラ部のコンタクトの長さ方向を電源ライ
ンと平行になるように配置することにより、バイポーラ
部の駆動能力を高める場合、コンタクトを電源ラインと
平行に延長すれば良いため、高さを変えずに駆動能力の
高いB1CMOSゲートを実現することになる。In addition, if you want to increase the drive capacity of the bipolar part by arranging the contact length of the bipolar part parallel to the power supply line, you can simply extend the contact parallel to the power supply line, so you can change the height. Therefore, a B1CMOS gate with high driving ability can be realized without any problem.
(実施例)
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。(Example) Next, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図は本発明の一実施例を説明するための論理回路の
基本的なレイアウト図である。FIG. 1 is a basic layout diagram of a logic circuit for explaining one embodiment of the present invention.
第1図に示すように、本実施例におけるB1CMOSゲ
ートは相互に平行に引かれた第一の電源配線1と第二の
電源配線2とを設け、この第一の電源配線1と第二の電
源配線2との間に0M08部3とバイポーラ部4が設け
られる。通常、この第一の電源配線1には5V(ボルト
)が印加され、第二の電源配線2はグランドとして用い
られる。As shown in FIG. 1, the B1CMOS gate in this embodiment is provided with a first power supply wiring 1 and a second power supply wiring 2 that are drawn parallel to each other. An 0M08 section 3 and a bipolar section 4 are provided between the power supply wiring 2 and the power supply wiring 2. Normally, 5V (volts) is applied to this first power supply wiring 1, and the second power supply wiring 2 is used as a ground.
このように配置されたB1CMOSゲートは、CMOS
ゲートと同じ高さであるため、B1CMOSゲートとC
MOSゲートを混在して配置しても、第一の電源配線1
と第二の電源配線2とを平行に引くことができる。従っ
て、複数の論理ゲートを接続した場合、未使用領域が少
なくなり、チップサイズを縮小することができる。The B1 CMOS gate arranged in this way is a CMOS
Since it is the same height as the gate, B1CMOS gate and C
Even if MOS gates are mixed and arranged, the first power supply wiring 1
and the second power supply wiring 2 can be drawn in parallel. Therefore, when a plurality of logic gates are connected, the unused area is reduced and the chip size can be reduced.
第2図は第1図に示すレイアウトで表わされる論J里回
路の構成図、また第3図は第1図および第2図における
論理回路の具体的レイアウト図である。FIG. 2 is a block diagram of the logic circuit represented by the layout shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a specific layout diagram of the logic circuit shown in FIGS. 1 and 2.
以下、第2図および第3図を用い、本実施例について詳
細に説明する。This embodiment will be described in detail below with reference to FIGS. 2 and 3.
第2図に示すように、本実施例の論理回路は、Pチャネ
ル型の第一のMOS トランジスタ5およびNチャネル
型の第二のMOS トランジスタロからなるCMOSイ
ンバータと、Nチャネル型の第三のMOSトランジスタ
フおよびNPN型のバイポーラトランジスタ8からなる
B1CMOSインバータ回路とを入力端子9および出力
端子10間に接続して構成したものである。As shown in FIG. 2, the logic circuit of this embodiment includes a CMOS inverter consisting of a first P-channel type MOS transistor 5 and a second N-channel type MOS transistor 5, and a third N-channel type MOS transistor. A B1CMOS inverter circuit consisting of a MOS transistor and an NPN bipolar transistor 8 is connected between an input terminal 9 and an output terminal 10.
この論理回路において、入力端子9に高電位が印加され
ると、第二および第三のMOS トランジスタロ、7が
導通し、出力端子10は低電位となる。一方、入力端子
9に低電位が印加されると、第一のMOS )−ランジ
スタ5と共にバイポーラトランジスタ8が導通し、出力
端子10は高電位となる。すなわち、出力端子10は低
い導通抵抗を有するバイポーラトラジスタ8を介して電
源端子■に接続される。従って、かかる論理回路を用い
れば、大容量負荷に対しても高速駆動が可能になる。In this logic circuit, when a high potential is applied to the input terminal 9, the second and third MOS transistors 7 become conductive, and the output terminal 10 becomes a low potential. On the other hand, when a low potential is applied to the input terminal 9, the bipolar transistor 8 becomes conductive together with the first MOS transistor 5, and the output terminal 10 becomes a high potential. That is, the output terminal 10 is connected to the power supply terminal (2) via the bipolar transistor 8 having low conduction resistance. Therefore, if such a logic circuit is used, high-speed driving is possible even for a large capacity load.
第3図に示すように、上述した論理回路を構成するトラ
ンジスタは第一の電源配線11と第二の電源配線12と
の間に配置されている。まず、P型拡散層13とゲート
電極14は、第2図で前述した第一のMOSトランジス
タ5を形成し、N型拡散層15とゲート電極14は、同
様に第二のMOS )ラジスタ6と第三のMOS トラ
ンジスタフを形成する。次に、第一乃至第五のコンタク
) 16A〜16Eは、それぞれP型拡散層13と第一
の電源配線11、N型拡散層15と第二の電源配線12
、P型拡散層13と第−層メタル配線17、N型拡散層
15と第−層メタル配線17、N型拡散層15と第−層
メタル配線17とを接続している。また、第三および第
四のコンタクト16C116Dとバイポーラトランジス
タのベースコンタクト18は第−層メタル配線17で接
続され、バイポーラトランジスタのコレクタコンタクト
19は第一の電源配線11と接続される。さらに、バイ
ポーラトランジスタのエミッタコンタクト20は第−層
メタル配線17と第五のコンタクト16Eおよびスルー
ホールコンタクト21を介してN型拡散層15および第
二層メタル配線22と接続されている。従って、上述し
たゲート電極14が第2図に示す入力端子9となり、第
二層メタル配線22が出力端子10となる。As shown in FIG. 3, the transistors constituting the logic circuit described above are arranged between the first power supply wiring 11 and the second power supply wiring 12. First, the P type diffusion layer 13 and the gate electrode 14 form the first MOS transistor 5 described above in FIG. 2, and the N type diffusion layer 15 and the gate electrode 14 form the second MOS transistor 6. A third MOS transistor is formed. Next, first to fifth contacts) 16A to 16E are P-type diffusion layer 13 and first power supply wiring 11, N-type diffusion layer 15 and second power supply wiring 12, respectively.
, the P type diffusion layer 13 and the -th layer metal wiring 17, the N type diffusion layer 15 and the -th layer metal wiring 17, and the N type diffusion layer 15 and the -th layer metal wiring 17 are connected. Furthermore, the third and fourth contacts 16C and 116D and the base contact 18 of the bipolar transistor are connected by a -th layer metal wiring 17, and the collector contact 19 of the bipolar transistor is connected to the first power supply wiring 11. Furthermore, the emitter contact 20 of the bipolar transistor is connected to the N-type diffusion layer 15 and the second layer metal interconnect 22 via the -th layer metal interconnect 17, the fifth contact 16E, and the through-hole contact 21. Therefore, the gate electrode 14 described above becomes the input terminal 9 shown in FIG. 2, and the second layer metal wiring 22 becomes the output terminal 10.
このように、第一電源配線11および第二の電源配線1
2の間にトランジスタを形成しコンタクト16A〜16
Eおよび18〜21を介して接続することにより、第2
図に示した論理回路を実現することができる。In this way, the first power supply wiring 11 and the second power supply wiring 1
A transistor is formed between 2 and contacts 16A to 16.
By connecting via E and 18-21, the second
The logic circuit shown in the figure can be realized.
上述したように、ベースコンタクト18、コレクタコン
タクト19およびエミッタコンタクト2oで表現される
バイポーラトランジスタはP型拡散層13の横に配置さ
れている。このため、B1CMOSゲートの高さをCM
OSゲートの高さと同じにすることができるので、未使
用領域が減少し、チップサイズの縮小を可能にする。As mentioned above, the bipolar transistor represented by the base contact 18, collector contact 19 and emitter contact 2o is arranged next to the P-type diffusion layer 13. For this reason, the height of the B1CMOS gate is set to CM
Since the height can be made the same as the OS gate, the unused area is reduced and the chip size can be reduced.
一方、かかるバイポーラトランジスタの導通抵抗は長方
形コンタクト(ベースコンタクト18、コレクトタコン
タクト19、エミッタコンタクト20)の長さを延ばす
ことにより、小さくすることができる。すなわち、この
導通抵抗を小さくできれば、バイポーラトランジスタの
駆動能力を高めることができる。本実施例は、第3図に
示したように、長方形コンタクト18〜20の長さ方向
を第一の電源配線11と平行になるように配置すること
により、B1CMOSゲートの高さを変えずに長方形コ
ンタクト18〜20の長さを延ばすことが可能になる。On the other hand, the conduction resistance of such a bipolar transistor can be reduced by increasing the length of the rectangular contacts (base contact 18, collector contact 19, emitter contact 20). That is, if this conduction resistance can be reduced, the driving ability of the bipolar transistor can be increased. In this embodiment, as shown in FIG. 3, by arranging the rectangular contacts 18 to 20 so that the length direction thereof is parallel to the first power supply wiring 11, the height of the B1CMOS gate is not changed. It becomes possible to extend the length of the rectangular contacts 18-20.
要するに、種々の駆動能力を有するB1CMOSゲート
をCMOSゲートの高さと同一の高さで実現できる。In short, B1 CMOS gates having various driving capabilities can be realized with the same height as the CMOS gate.
(発明の効果)
以上説明したように、本発明の論理回路は、CMOSゲ
ートと同じ高さのB1CMOSゲートを実現することが
でき、また、バイポーラトランジスタのコンタクトの長
さ方向を電源ラインと平行に配置することにより、種々
の駆動能力を有するB1CMOSゲートを0MO8と同
じ高さで実現することができるので、CMOSゲートと
B1CMOSゲートを混在して配置した場合、未使用領
域を減少させ且つLSIのチップサイズの縮小すなわち
低価格化を達成することができるという効果がある。(Effects of the Invention) As explained above, the logic circuit of the present invention can realize a B1CMOS gate with the same height as a CMOS gate, and also makes the contact length of the bipolar transistor parallel to the power supply line. By arranging B1CMOS gates with various driving capacities, it is possible to realize them at the same height as 0MO8. Therefore, when CMOS gates and B1CMOS gates are arranged together, the unused area can be reduced and the LSI chip This has the effect of reducing the size, that is, lowering the price.
第1図は本発明の一実施例を説明するための論理回路の
基本的なレイアウト図、第2図は第1図に示すレイアウ
トで形成される論理回路の構成図、第3図は第1図およ
び第2図における論理回路の具体的なレイアウト図であ
る。
1.11・・・第一の電源配線、
2.12・・・第二の電源配線、3・・・0M08部、
4・・・バイポーラ部、
5〜7・・・MOS)−ランジスタ、
8・・・バイポーラトランジスタ、9・・・入力端子、
10、・・出力端子、13・・・P型拡散層、14・・
・ゲート電極、15・−N型拡散層、16A〜16E・
・・コンタクト、
17・・・第−層メタル配線、
18・・・ベースコンタクト、
19・・・コレクタコンタクト、
20・・・エミッタコンタクト、
21・・・スルーホールコンタクト、
22・・・第二層メタル配線。FIG. 1 is a basic layout diagram of a logic circuit for explaining one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a configuration diagram of a logic circuit formed with the layout shown in FIG. 1, and FIG. FIG. 3 is a specific layout diagram of the logic circuit in FIG. 3 and FIG. 2; 1.11...First power wiring, 2.12...Second power wiring, 3...0M08 section,
4...Bipolar section, 5-7...MOS)-transistor, 8...Bipolar transistor, 9...Input terminal,
10... Output terminal, 13... P-type diffusion layer, 14...
・Gate electrode, 15・-N type diffusion layer, 16A to 16E・
... Contact, 17... Second layer metal wiring, 18... Base contact, 19... Collector contact, 20... Emitter contact, 21... Through hole contact, 22... Second layer metal wiring.
Claims (2)
タにより構成される論理回路において、第一および第二
の一対の電源配線ラインを平行に配置し、前記一対の電
源配線ライン間の領域内で且つ前記第一の電源配線ライ
ン側に第一極性のMOSトランジスタを配置するととも
に、前記第二の電源配線ライン側に第二極性のMOSト
ランジスタを配置し、前記バイポーラトランジスタを前
記一対の電源配線ライン間の領域内に配置することを特
徴とする論理回路。(1) In a logic circuit constituted by a MOS transistor and a bipolar transistor, a pair of first and second power supply wiring lines are arranged in parallel, and within a region between the pair of power supply wiring lines and the first power supply wiring line. A MOS transistor of a first polarity is arranged on a wiring line side, a MOS transistor of a second polarity is arranged on a side of the second power supply wiring line, and the bipolar transistor is arranged in a region between the pair of power supply wiring lines. A logic circuit characterized by:
により構成される論理回路において、第一および第二の
一対の電源配線ラインを平行に配置し、前記一対の電源
配線ライン間の領域内で且つ前記第一電源配線側に第一
極性のMOSトランジスタを配置するとともに、前記第
二電源配線ライン側に第二極性のMOSトランジスタを
配置し、前記バイポーラトランジスタを前記一対の電源
配線ライン間の領域内に配置するとともに、前記バイポ
ーラトランジスタの長方形コンタクトの長さ方向を前記
一対の電源ラインと平行になるようにしたことを特徴と
する論理回路。(2) In a logic circuit constituted by a MOS transistor and a bipolar transistor, a first and second pair of power supply wiring lines are arranged in parallel, and within a region between the pair of power supply wiring lines and the first power supply wiring line. A MOS transistor of a first polarity is arranged on the wiring side, a MOS transistor of a second polarity is arranged on the second power supply wiring line side, and the bipolar transistor is arranged in a region between the pair of power supply wiring lines. . A logic circuit characterized in that the length direction of the rectangular contact of the bipolar transistor is parallel to the pair of power supply lines.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63326831A JP2978501B2 (en) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | Logic circuit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63326831A JP2978501B2 (en) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | Logic circuit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02172256A true JPH02172256A (en) | 1990-07-03 |
| JP2978501B2 JP2978501B2 (en) | 1999-11-15 |
Family
ID=18192204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63326831A Expired - Lifetime JP2978501B2 (en) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | Logic circuit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2978501B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2011049477A (en) * | 2009-08-28 | 2011-03-10 | Sony Corp | Semiconductor integrated circuit |
| FR3022071A1 (en) * | 2014-06-05 | 2015-12-11 | St Microelectronics Crolles 2 | METHOD OF MAKING CONTACTS OF DIFFERENT SIZES IN AN INTEGRATED CIRCUIT AND CORRESPONDING INTEGRATED CIRCUIT |
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1988
- 1988-12-23 JP JP63326831A patent/JP2978501B2/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
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| JP2978501B2 (en) | 1999-11-15 |
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