JPH02173952A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、光磁気記録ディスク、相変化型の光記録ディ
スク、ビット形成型の光記録ディスク等の光記録媒体に
関する。

〈従来の技術〉 光記録媒体は、剛性あるいは可とう性の基板上に、記録
層が設層されて構成される。

このような光記録媒体のうち、光磁気記録媒体は、通常
、希土類元素−遷移金属の非晶質磁性薄膜を記録層とし
て用い、レーザー光等の光によって記録層をキュリー温
度付近まで加熱し、必要に応じて外部から磁界を印加し
て加熱部分の磁化を反転させることにより情報の記録を
行なう。

また、記録された情報の再生は、レーザー光等の再生光
を記録層表面に照射し、カー効果による記録層表面で反
射する再生光の偏光面の回転を検出することにより行な
う。

また、光記録媒体には、上記のような光磁気記録媒体の
他、いわゆる相変化型の光記録媒体、すなわち、レーザ
ー光等の熱により記録層を相変化させて情報の記録を行
ない、結果として生じる記録層の反射率の変化を検出す
ることにより情報の再生を行なう光記録媒体もある。

さらに、Ｔｅ系化合物、シアニン色素等から形成される
記録層にレーザー光等の光を照射することによりビット
を形成して記録を行ない、ビット形成部での光反射率の
変化を検出することにより再生を行なう、いわゆるビッ
ト形成型の光記録媒体もある。

これらの光記録媒体では、トラッキング用、アドレス用
等のために、ビットあるいはグループ等の所定のパター
ンが基板表面に設けられる。

ところで、光記録媒体は記録密度が高いため、基板には
高い寸法精度が要求される。　このため、寸法精度が高
く、また、ソリが発生しにくいことから、ガラス基板が
注目されている。

ガラス基板表面に上記のような所定のパターンを形成す
るには、通常、いわゆる２２法が用いられる。

２Ｐ法では、まず、所定のパターンを有するスタンパ表
面に放射線硬化型樹脂を展着し、この放射線硬化型樹脂
上にガラス基板を圧接して、スタンパ表面のパターンを
樹脂表面に転写する。　次いで、放射線の照射により樹
脂を硬化させて樹脂とガラス基板とを接着した後、樹脂
とスタンパとを剥離する。　以上の工程により、表面に
所定のパターンを宵する樹脂層とガラス基板とが積層さ
れた光記録媒体用基板が得られる。

ガラス基板は、上記したような特長を有する反面、高温
・高温等の悪条件下では、表面に微小な欠陥、いわゆる
ディフェクトが発生し易い。　ディフェクトが発生する
と、その部分での光反射率が変化するため、記録情報の
正確な再生が困難となってしまう。　また、このような
ディフェクトに留まらず、さらに大規模な欠陥が生じる
場合もあり、特に２Ｐ法に適用した場合、このような欠
陥が原因となって樹脂層の剥離が生じることがある。　
樹脂層の剥離が発生すると、光反射率が太き（変化し、
正確な再生は望めない。　また、これらの欠陥は、情報
記録時にも悪影響を及ぼす。

なお、ガラスと樹脂層との接着性を高め、樹脂層の剥離
を防止するために、ガラス表面にシランカップリング剤
、チタンカップリング剤等から構成されるプライマー層
を設ける技術が知られている。

しかし、ガラス基板表面に発生する上記のような欠陥に
対しては、必ずしも十分な効果は認められない。

また、光記録媒体は、いわゆるチャッキング部材により
駆動装置に装着されるが、この際、チャッキング部材と
の接触により基板表面が割れるなど、破損が生じ易い。

　このため、ガラス基板には、強化ガラス、特に、化学
強化処理により表面強化された化学強化ガラスが用いら
れる。

しかし、駆動装置への脱着を頻繁に繰り返す場合、現在
の表面強化ガラスでは破損を十分に防止することは困難
である。　また、媒体ハンドリング時の破損も問題とな
る。

〈発明が解決しようとする課題〉 本発明は、上記したような事情に鑑みてなされたもので
あり、高温・高温等の悪条件下においてもガラス基板表
面に欠陥が発生せず、また、２Ｐ法により樹脂層をガラ
ス基板表面に設層して構成される場合に、ガラス基板と
樹脂層との剥離が発生せずに、記録・再生が正確に行な
える光記録媒体を提供することを目的とする。

また、本発明の他の目的は、ガラス基板の機械的強度が
高く、媒体駆動装置への脱着時あるいは媒体ハンドリン
グ時にガラス基板が破損しにくい光記録媒体を提供する
ことを目的とする。

〈課題を解決するための手段〉 本発明者らは、このような目的を達成するために研究を
重ねた結果、上記したようなガラス基板表面の欠陥およ
び化学強化ガラスの機械的強度不足が、ガラス基板表面
付近に存在するＣβに起因することを知見し、下記の本
発明を完成した。

すなわち、本発明は、下記（１）〜（５）である。

（１）ガラス基板上に記録層を有する光記録媒体におい
て、 前記ガラス基板の少なくとも記録層側の表面付近のＣＱ
含有率が、０〜０．０１＊ｔ％であることを特徴とする
光記録媒体。

（２）前記ガラス基板が、アルミナを１０ｗｔ％以上含
有する上記（１）に記載の光記録媒体。

（３）前記ガラス基板が、化学強化ガラスから構成され
る上記（１）または（２）に記載の光記録媒体。

（４）前記ガラス基板と前記記録層との間に、樹脂層を
有する上記（１）ないしく３）のいずれかに記載の光記
録媒体。

（５）前記ガラス基板と前記樹脂層との間に、プライマ
ー層を有する上記（１）ないしく４）のいずれかに記載
の光記録媒体。

く作用〉 〈具体的構成〉 光記録媒体は、レーザー光等の光を記録層に照射して情
報の記録を行なう。　また、記録情報の再生は、記録層
にレーザー光等の光を照射して、その反射光の偏光面の
回転角、あるいは反射率の変化等を検出することにより
行なう。

本発明の光記録媒体は、Ｃｌの含有率が所定値以下のガ
ラス基板を用いるため、ガラス基板表面に欠陥が発生し
ない。　また、このため、２Ｐ法によりガラス基板表面
に樹脂層を形成した場合に、ガラス基板と樹脂層との剥
離が生じない。　この結果、ガラス基板表面の欠陥ある
いは樹脂層の剥離による反射率の変化が生じず、記録お
よび再生を正確に行なうことができる。

以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。

第１図に、本発明の光記録媒体の好適実施例として、光
磁気記録媒体の１例を示す。

第１図に示される光磁気記録媒体ｌは、ガラス基板２上
に、プライマー層３、樹脂層４、保護層５、中間層６、
記録層７、保護層８、保護コート９を順次有する。

本発明において、ガラス基板２は、記録光および再生光
に対して透明なものである。　そして、ガラス基板２の
形状は、ディスク状等、目的に応じて適当なものを選択
することができる。　ガラス基板２をディスク状とする
場合、その直径は通常５０〜３６０ｍｍ程度であり、そ
の厚さは、０．５〜２ｍｍ程度である。

本発明では、ガラス基板２を強化ガラスから構成するこ
とが好ましい。

強化ガラスには、その強化法から物理強化ガラスと化学
強化ガラスとがあり、用途に応じて使用されている。

本発明で用いる強化ガラスに特に制限はな（、通常の強
化法を用いて強化したガラスが使用されるが、好ましく
は化学強化ガラスを使用する。

化学強化ガラスは、例えば、ガラス構成元素としてのア
ルカリ金属イオンの一部を外部から供給される他種アル
カリ金属イオンと交換することにより、特にＬＬとＮａ
およびＮａとＫの交換によりガラス内に圧縮応力層を形
成し、機械的強度を高めたガラスである。

化学強化処理は、通常、硝酸塩、硫酸塩等のアルカリ塩
を加熱溶融し、溶融液中に被処理ガラスを数時間から数
十時間程度浸漬することにより行なわれる。

このような化学強化処理により作製されたガラスは、通
常、ガラス表面付近だけに圧縮応力層が形成された表面
強化ガラスとなる。

用いる化学強化ガラスとしては、ソーダ・石灰・ケイ酸
ガラス等に上記の化学強化処理を施したものであっても
よいが、特に機械的強度が高いことから、アルミナケイ
酸ガラスに化学強化処理を施したものを用いることが好
ましい。

アルミナケイ酸ガラスとしては、機械的強度が高いこと
から、Ａｆｉ２０３含有屋が１０ｗｔ％以上であること
が好ましく、特に、１５〜３０ｗｔ％のＡｊ２２０３を
含有するものを用いることが好ましい。

本発明で好適に用いられるアルミナケイ酸ガラスの組成
範囲を、以下に示す。

Ｓ　Ｌ　Ｏ２５０〜６０　ｗｔ％ Ａｌ２ｚ　０３　　　　　１５〜３０ｗｔ％Ｂ＊Ｏｓ　
　　　　　　　　ｌ〜Ｌｏｗｔ％Ｒ’ａｏ　　　　　　
　　ｌ　０〜２５ｗｔ％Ｒ１０１〜１０ｗｔ％ （ただし、Ｒ１およびＲＩ＋は、それぞれ１価および２
価の金属） Ｔ　ｉ　Ｏｘ等　　　　０〜５ｗｔ％ そして、Ｋ０置換率は、０．０４〜１ｍｇ／ｃｍ”程度
であることが好ましい。

本発明では、ガラス基板２の少なくとも記録層７側の表
面付近のＣｉ含有率が０〜０．１ｗｔ％とされる。　本
発明において、ガラス基板２の表面付近とは、表面から
約１００μｍ以内の部分である。

なお、０℃の含有率は０ｗｔ％であることが最も好まし
いが、Ｃｌの含有率が上記範囲内であれば本発明の効果
は十分に実現し、特に０〜０．０１ｗｔ％、さら（こ好
ましくは０〜０．００１ｗｔ％であれば、極めて高い効
果が得られる。

ガラス基板２の表面付近の０℃含有率は、蛍光Ｘ線、オ
ージェ電子分光、ＥＳＣＡ等の手段により測定すること
ができる。

ガラス基板２は、上記のようなＣＣ含有率が得られれば
その製造方法に特に制限はないが、例えば、ガラス製造
工程、化学強化工程に、ＮａＣβ等の塩化物を使用しな
いでガラス基板を製造すれば、所望の基板が得られる。

基板２上には、樹脂層４が設層される。

樹脂層４は、その表面に、トラッキング用、アドレス用
等のために、ビットあるいはグループ等の所定のパター
ンを有する。

樹脂層４を構成する樹脂材質に特に制限はな（、いわゆ
る２Ｐ法に用いられる公知の樹脂から、適当に選択すれ
ばよい。　２Ｐ法には、通常、放射線硬化型化合物が用
いられ、本発明では、例えば、多官能エステルアクリレ
ート、多官能ウレタンアクリレート、多官能エポキシア
クリレート等に属するモノマーを２〜３成分混合して、
あるいはこれらモノマーにポリエステルアクリレート、
オリゴエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレー
ト、オリゴウレタンアクリレート等を混合し、光重合開
始剤Ｉｒｇ−９０７，６５１等を加えたもの等、ｃｐを
含有しないものを好適に用いることができる。

このような樹脂層４の設層は、公知の２Ｐ法により行な
うことが好ましい。

２Ｐ法では、まず、所定のパターンを有するスタンバ表
面に放射線硬化型化合物を展着し、この放射線硬化型化
合物層上にガラス基板を圧接する。　この圧接により、
スタンバ表面のパターンを層表面に転写する。　次いで
、ガラス基板を通して放射線を照射することにより硬化
させて、樹脂とガラス基板とを接着する。　この後、樹
脂とスタンバとを剥離する。

以上の工程により、スタンパのパターンが転写された樹
脂層を、ガラス基板の表面に形成する。

このようにして形成される樹脂層４の層厚は、好ましく
は５〜１１００ｔＬ、より好ましくは１０〜３０μｍで
ある。

ガラス基板２と樹脂層４との間には、好ましくはプライ
マー層３が設層される。

プライマー層３は、樹脂層４とガラス基板２との接着性
を向上させるために設けられる。

プライマー層３を構成する材質は、接着性向上効果を有
するものであれば特に制限はないが、本発明では、プラ
イマー層３をシランカップリング剤から構成することが
好ましく、特に、ビニル基またはグリシジル基を含有し
、ＣＱを含有しないシランカップリング剤を用いること
が好ましい。

このようなシランカップリング剤としては、ビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルト
リス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリアセ
チルシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン
が好ましく、これらのうち特に、ビニルトリス（β−メ
トキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシランおよびγ−グリシドキシプロビルト
リメトキシシランのいずれかを用いることが好ましい。

　なお、これらのシランカップリング剤は、日本ユニカ
ー社から、それぞれＡ−４７２、Ａ−１７４およびＡ−
１８７として市販されている。

このようなシランカップリング剤からプライマー層を構
成することにより、ガラス基板２と樹脂１１４との接着
は、極めて強力なものとなり、樹脂層４が剥離すること
がなくなる。　また、このようなプライマー層の効果は
、基板２の０℃含有率を上記範囲とすることにより、−
層内上する。

プライマー層３の層厚は、０．００１〜０．１μｍ、特
に０．００５〜０．０５μｍであることが好ましい。

プライマー層３の設層は、上記したような材料を適当な
溶媒に溶解し、得られた溶液をスピンコード、ディッピ
ングなどの方法を用いて塗布することにより行なえばよ
い。　そして、塗布後にベーキングを行ない乾燥する。

また、プライマー層の設層は、この他、プライマー蒸気
に媒体表面を曝す等の方法も利用可能である。

中間層６は、Ｃ／Ｎ比を向上させるために設けられ、各
種誘電体物質から形成されることが好ましく、その層厚
は３０〜１５０ｎｍ程度であることが好ましい。　また
、設層方法は、スパッタ法等の気相成膜法を用いること
が好ましい。

なお、このような中間層材質を後述する記録層の上に保
護層８として設けて、前記中間層６と併用することもで
きる。　併用する場合には、中間層６と保護層８の組成
は同一であっても異なっていてもよい。

保護層５および保護層８は、記録層７の耐食性向上のた
めに設けられるものであり、これらは少なくとも一方、
好ましくは両方が設けられることが好ましい。　これら
保護層は、各種酸化物、炭化物、窒化物、硫化物あるい
はこれらの混合物からなる無機薄膜から構成されること
が好ましい。　また、前述したように、上記の中間層材
質で形成してもよい。　保護層の層厚は３０〜３００ｎ
ｍ程度であることが耐食性向上の点から好ましい。

このような保護層は、スパッタ法等の各種気相成膜法等
によって形成されることが好ましい。

記録層７は、変調された熱ビームあるいは変調された磁
界により、情報が磁気的に記録されるものであり、記録
情報は磁気−光変換して再生されるものである。

記録層７は、光磁気記録が行なえるものであればその材
質に特に制限はないが、希土類金属と遷移金属との合金
を、スパッタ、蒸着法等により、非晶質膜として形成し
たものであることが好ましい。

希土類金属としては、Ｔｂ、Ｄ、ｙ、Ｎｄ、Ｇｄ、Ｓｍ
、Ｃｅのうちの１種以上を用いることが好ましい。

遷移金属としては、ＦｅおよびＣＯが好ましい。

この場合、ＦｅとＣｏの総合有量は、６５〜８５ａｔ％
であることが好ましい。

そして、残部は実質的に希土類金属である。

好適に用いられる記録層の組成としては、ＴｂＦｅＣｏ
、ＤｙＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ、ＮｄＧｄＦｅ
Ｃｏ等がある。

なお、記録層中には、１０ａｔ％以下の範囲でＣｒ、Ａ
ｊ２．Ｔｉ、Ｐｔ、Ｓｔ、Ｍｏ、Ｍｎ、■、Ｎｉ、Ｃｕ
、Ｚｎ、Ｇｅ、Ａｕ等が含有されてもよい。

また、１０ａｔ％以下の範囲で、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ
、Ｐｒ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｈｏ。

Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ等の他の希土類金属元素を含有
してもよい。

このような記録層７の層厚は、通常、１０〜１１０００
ｎ程度である。

このような記録層は、蒸着法、スパッタ法、イオンブレ
ーティング法等のドライコーティング方式等を用いて設
層すればよい。　そしてその設層厚さは２０ｎｍ〜１μ
ｍ程度とされる。

保護コート９は耐食性の向上のために設けられるもので
あり、種々の有機系の物質から構成されることが好まし
いが、特に、電子線、紫外線等の放射線により硬化可能
なアクリル系二重結合を有する放射線硬化型化合物を、
放射線硬化させた物質から構成されることが好ましい。

また、保護コート９の厚さは、通常、１〜１００μｍ程
度とすることが好ましい。

これらの各層から構成される光磁気記録媒体１は、記録
層７を内側にして２組の光磁気記録媒体１が接着されて
両面記録型の媒体とすることができ、また、保護コート
９上に保護板を接着して片面記録型の媒体とすることが
できる。

なお、保護板を設ける場合、保護板としては、通常、ガ
ラス基板２と同質のものを用いればよいが、透明である
必要はなく、その他の材質も用いることができる。　ま
た、接着は、公知のいずれの接着剤を用いてもよく、例
えばホットメルト系接着剤、熱硬化性接着剤、嫌気性接
着剤等である。

以上に、本発明の光記録媒体を光磁気記録媒体に適用す
る場合を説明したが、本発明は、この他、いわゆる相変
化型等の記録層を有し、反射率変化により記録・再生を
行なう光記録媒体にも適用することができる。

このような記録層としては、例えば、 Ｔｅ−３ｅ、Ｔｅ−３ｅ−３ｎ、Ｔｅ　−Ｇｅ、Ｔｅ−
Ｉｎ％Ｔｅ−３ｎ、Ｔｅ−Ｇｅ−３ｂ−３，Ｔｅ−Ｇｅ
−Ａｓ−５ｉ、Ｔｅ　−Ｓｉ、Ｔｅ−Ｇｅ−５ｉ−Ｓｂ
％Ｔｅ−Ｇｅ　−Ｂｉ、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｉｎ−Ｇａ、Ｔｅ
−３ｔＢ　１−ＴＡ、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｂ　ｉ　−Ｉ　ｎ−
３゜Ｔｅ−Ａｓ−Ｇｅ−３ｂ、Ｔｅ−Ｇｅ−５ｅ−３，
Ｔｅ−Ｇｅ−３ｅ、Ｔｅ−Ａｓ−Ｇｅ　−Ｇａ、Ｔｅ−
Ｇｅ−３−Ｉｎ、５ｅ−Ｇｅ　−Ｔｉ２．５ｅ−Ｔｅ−
Ａｓ％５ｅ−Ｇｅ−ＴＡ　−３ｂ、５ｅ−Ｇｅ−Ｂｉ、
５ｅ−３（以上、特公昭５４−４１９０２号、特許第１
００４８３５号など） Ｔｅａ、（特開昭５８−５４３３８号、特許第９７４２
５７号記載のＴｅ酸化物中に分散されたＴｅ）、 Ｔｅａ、＋ＰｂＯ，（特許第９７４２５８号）、 Ｔｅａ、＋ｖｏ、（特許第９７４２５７号）　その他、
Ｔｅ−ＴＪ２、Ｔｅ−ＴＱ−３Ｌ％　５ｅ−Ｚｎ−３ｂ
、Ｔｅ−５ｅ−Ｇａ。

Ｔ　ｅ　Ｎ　ｘ等のＴｅ、Ｓｅを主体とするカルコゲン
系 Ｇｅ−３ｎ、５Ｌ−３ｎ等の非晶質−結晶質転移を生じ
る合金 Ａｇ−Ｚｎ、Ａｇ−Ａｊ２−Ｃｕ、Ｃｕ−Ａｊ２等の結
晶構造変化によって色変化を生じる合金、Ｉｎ−５ｂ等
の結晶粒径の変化を生じる合金などがある。

また、ビット形成により反射率変化を生じるいわゆるビ
ット形成型の記録層を有する光記録媒体にも適用するこ
とができる。

ビット形成型の記録層には、シアニン系、フタロシアニ
ン系、アントラキノン系、アゾ系、トリフェニルメタン
系、ビリリウムないしチアピリリウム塩系等の色素系、
あるいはＴｅを主体とするＴｅ系等の材料が用いられる
。

これらの相変化型、ビット形成型等の記録層を有する光
記録媒体に本発明を適用した場合、上記の光磁気記録媒
体と同様に、ガラス基板表面の欠陥および樹脂層の剥離
が生じず、反射率変化が起こらないことから、記録・再
生特性に優れた光記録媒体が実現する。

〈実施例〉 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳
細に説明する。

［実施例１］ Ｃβ含有率Ｏｗｔ％で、ＳｉＯ□５０ｗｔ％、ＡＱｉＯ
ｓ２０ｗｔ％、Ｂ２０ｘ　５ｗｔ％、Ｎａｇ　Ｏｌ　５
ｗｔ％、Ｋｚ０３ｗｔ％、Ｃａ０３ｗｔ％、Ｔ　ｉ　０
２４ｗｔ％の組成を有する直径１３０ｍｍ、厚さ１．２
ｍｍのディスク状ガラスに化学強化処理を施して、ガラ
ス基板２を得た。

なお、ガラス基板２表面には、あらかじめ、幅０．５ｕ
ｍ、深さ０．０５４ｚｍ、ピッチ１．６μｍの記録トラ
ック用の溝を化学エツチングすることにより形成してお
いた。

このガラス基板２上に、ガラス製の保護Ｍ５を高周波マ
グネトロンスパッタにより４０ｎｍの層厚に設層した。

この保護層５上に、Ｓ　Ｉ　Ｎ　＊からなる中間層６を
高周波マグネトロンスパッタにより層厚８０ｎｍに設層
した。

次に、中間層６上に、Ｔ　ｂ　ｘｚＦ　ｅ　ｔｚｃ　Ｏ
ｓの組成を有する記録層７を、スパッタにより層厚８０
ｎｍに設層した。

さらに、記録層７上に、保護層５と同組成の保護Ｎ８を
高周波マグネトロンスパッタにより層厚ＬＯＯｎｍに設
層し、この保護層８上に、保護コート９を設層した。　
なお、保護コート９は、多官能オリゴエステルアクリレ
ートと光増感剤とを含む塗布組成物をスピンナーコート
により保護層８上に塗布し、その後、紫外線を１５秒間
照射して架橋硬化させることにより設層した。　保護コ
ート９の厚さは５ＬＬｍとした。

以上のようにして、光磁気記録媒体サンプルを作製した
。

なお、化学強化処理は、硝酸カリウムと硝酸ナトリウム
の混合融液（３８０℃）にガラス基板を浸漬することに
より行なった。　そして、Ｃｌ含有率の異なる融液を用
い、表１に示すようにＣＱ含有率の異なる種々のサンプ
ルを作製した。　ただし、サンプルＮｏ、５は、ガラス
組成をＳ　ｉ　Ｏｘ　６０ｗｔ％、ＡＡ２０ｓ　８ｗｔ
％、Ｂｙ　　Ｏｘ　　４ｗｔ％　　、　　　Ｎａｇ　　
Ｏ１６ｗｔ％　、　　Ｋ　２　０４ｗｔ％、Ｃａ０４ｗ
ｔ％、Ｔ　Ｌ　０２４ｗｔ％とした。

これらのサンプルに対し、下記の測定を行なった。

（１）化学強化処理後のガラス基板表面付近（表面から
約１００μｍ以内）のＣβ含有率を蛍光Ｘ　ＩＩＪによ
り測定した。

（２）８０℃、８５％ＲＨにて２００時間保存後にドラ
イブにセットし、４　ｍ　／ｓｅｃで回転させながら出
力２ｍＷ、波長７８０ｎｍのレーザー光をガラス基板側
からサンプルに照射し、その反射光変動を測定した。

（３）倍率２００倍の光学顕微鏡にて、ガラス基板の記
録層側表面を目視観察した。

これらの結果を、表１に示す。

表　　　　１ ０、００１ ０、００５ ０、Ｏｌ ０．０５ 平滑 平滑 微小析出物あり 微小析出物あり 平滑 析出物あり ［実施例２］ 記録トラック用の溝を直接ガラス基板に形成せず、２Ｐ
法によりガラス基板上に設層された樹脂層表面に形成し
た。　その他は実施例１のサンプルＮｏ、１〜５および
１１と同様にして、それぞれサンプルＮｏ、１０１〜１
０５および１１１を作製した。

これらのサンプルについて、実施例１と同様な測定を行
なった。

結果を表２に示す。　なお、各サンプルの樹脂層は、多
官能エステルアクリレートの混合物を硬化したものであ
る。

表　　　　２ １０２　　　　　　　　０、００１ １０３　　　　　　　　０、００５ １０４　　　　　　　　０、　ｏｉ ｉｌｌ　（比較）　　　０．０５ 平滑 平滑 小さな円形模様あり 小さな円形模様あり 平滑 円形模様多し ［実施例３］ ガラス基板と樹脂層との間にシランカップリング剤から
なるプライマー層を設層し、その他は実施例２のサンプ
ルＮｏ、ｉｏ１〜１０５および１１１と同様にして、そ
れぞれサンプルＮｏ、２０１〜２０５および２１１を作
製した。

プライマー層は、スピンコード法によりシランカップリ
ング剤溶液を塗布後、ベーキングすることにより設層し
た。

プライマー層を構成するシランカップリング剤を表３に
示す。

なお、樹脂層材質は実施例２と同じとした。

これらのサンプルについて、実施例１と同様な測定を行
なった。

結果を表３に示す。

表 ２１１（比較）　ビニルトリクロロシラン上記各実施例
の結果から、 らかである。

０．０５ 膜剥離多し 本発明の効果が明 〈発明の効果〉 本発明の光記録媒体は、ガラス基板表面の欠陥あるいは
樹脂層の剥離による反射率の変化が生じず、記録および
再生を正確に行なうことができる。

また、ガラス基板の機械的強度が高いため、破損しにく
い光記録媒体が実現する。

６・・・中間店、 ７・・・記録層、 ８・・・保護層、 ９・・・保護コート

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の光記録媒体の好適実施例である光磁
気記録媒体の１例を示す断面図である。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）ガラス基板上に記録層を有する光記録媒体におい
   て、 前記ガラス基板の少なくとも記録層側の表面付近のＣｌ
   含有率が、０〜０．０１ｗｔ％であることを特徴とする
   光記録媒体。
2. （２）前記ガラス基板が、アルミナを１０ｗｔ％以上含
   有する請求項１に記載の光記録媒体。
3. （３）前記ガラス基板が、化学強化ガラスから構成され
   る請求項１または２に記載の光記録媒体。
4. （４）前記ガラス基板と前記記録層との間に、樹脂層を
   有する請求項１ないし３のいずれかに記載の光記録媒体
   。
5. （５）前記ガラス基板と前記樹脂層との間に、プライマ
   ー層を有する請求項１ないし４のいずれかに記載の光記
   録媒体。