JPH06155921A - 光記録媒体 - Google Patents
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- JPH06155921A JPH06155921A JP4315107A JP31510792A JPH06155921A JP H06155921 A JPH06155921 A JP H06155921A JP 4315107 A JP4315107 A JP 4315107A JP 31510792 A JP31510792 A JP 31510792A JP H06155921 A JPH06155921 A JP H06155921A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 24
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 101
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 9
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000618 GeSbTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005918 GeTeSe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高反射率を損なうことなく、従来生じていた
第二誘電体層の熱的影響を小さくでき、高変調度が得ら
れるとともに、良好なオーバライト記録もできる光記録
媒体を提供する。 【構成】 基板と、該基板の上に形成された第一の誘電
体層と、該第一の誘電体層の上に形成され、前記第一の
誘電体層の屈折率とは異なる屈折率を有する第二の誘電
体層と、該第二の誘電体層の上に形成され、前記第二の
誘電体層の熱伝導率または比熱よりも小さい熱伝導率ま
たは比熱を有する第三の誘電体層と、該第三の誘電体層
の上に形成され、相変化タイプの記録材料を含有する記
録膜と、該記録膜の上に形成された第四の誘電体層と、
該第四の誘電体層の上に形成された反射膜とを備えるよ
うに構成する。
第二誘電体層の熱的影響を小さくでき、高変調度が得ら
れるとともに、良好なオーバライト記録もできる光記録
媒体を提供する。 【構成】 基板と、該基板の上に形成された第一の誘電
体層と、該第一の誘電体層の上に形成され、前記第一の
誘電体層の屈折率とは異なる屈折率を有する第二の誘電
体層と、該第二の誘電体層の上に形成され、前記第二の
誘電体層の熱伝導率または比熱よりも小さい熱伝導率ま
たは比熱を有する第三の誘電体層と、該第三の誘電体層
の上に形成され、相変化タイプの記録材料を含有する記
録膜と、該記録膜の上に形成された第四の誘電体層と、
該第四の誘電体層の上に形成された反射膜とを備えるよ
うに構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、書込み可能な光記録媒
体、特に基板の上に誘電体層と、相変化タイプの光記録
材料を含有する記録膜と、光反射層を有する光記録媒体
の記録・消去特性および記録感度の改善に関する。
体、特に基板の上に誘電体層と、相変化タイプの光記録
材料を含有する記録膜と、光反射層を有する光記録媒体
の記録・消去特性および記録感度の改善に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、いわゆる情報の記録および消去可
能な光記録媒体としては、例えば、GeSbTeを光記
録材料として用い、光ビームの照射によって記録膜に誘
起される相変化により記録ないしは消去を行う相変化タ
イプの記録媒体が一例として良く知られている。
能な光記録媒体としては、例えば、GeSbTeを光記
録材料として用い、光ビームの照射によって記録膜に誘
起される相変化により記録ないしは消去を行う相変化タ
イプの記録媒体が一例として良く知られている。
【0003】この媒体を用いた記録方法の一例として
は、例えば記録膜全体を加熱して予め結晶化させてお
き、パルス幅の狭いレーザー光を照射することによって
照射面を非晶質にすることによって行われる。情報の消
去は、例えば、記録膜全体を加熱して記録膜を結晶化さ
せることによって行われる。
は、例えば記録膜全体を加熱して予め結晶化させてお
き、パルス幅の狭いレーザー光を照射することによって
照射面を非晶質にすることによって行われる。情報の消
去は、例えば、記録膜全体を加熱して記録膜を結晶化さ
せることによって行われる。
【0004】一方で、このような媒体とは異なり予めす
でにデータが記録されているいわゆるROM(read onl
y memory)タイプの媒体も存在し、音声記録と情報処理
の分野で広く実用化されている。しかし、このものには
上記のごとく書込み可能な記録膜が存在しない。すなわ
ち、再生されるべくデータに相当するプリピットはすで
にプラスチック基板の上にプレス成形によって形成さ
れ、この上にAu、Ag、Cu、Al等の金属からなる
反射層が形成され、さらにこの上に保護層が形成されて
いる。このROMタイプの典型的な媒体は、いわゆるC
Dと呼ばれるコンパクトディスクである。このCDの記
録と読み取りの信号の仕様は規格化されており、この規
格に準じて、CDの再生装置がコンパクトディスクプレ
ーヤー(CDプレーヤー)として広く使われている。
でにデータが記録されているいわゆるROM(read onl
y memory)タイプの媒体も存在し、音声記録と情報処理
の分野で広く実用化されている。しかし、このものには
上記のごとく書込み可能な記録膜が存在しない。すなわ
ち、再生されるべくデータに相当するプリピットはすで
にプラスチック基板の上にプレス成形によって形成さ
れ、この上にAu、Ag、Cu、Al等の金属からなる
反射層が形成され、さらにこの上に保護層が形成されて
いる。このROMタイプの典型的な媒体は、いわゆるC
Dと呼ばれるコンパクトディスクである。このCDの記
録と読み取りの信号の仕様は規格化されており、この規
格に準じて、CDの再生装置がコンパクトディスクプレ
ーヤー(CDプレーヤー)として広く使われている。
【0005】ところで、前記書込みないし消去可能な光
記録媒体は、レーザビームを用いる点においてはCDと
同様であり、また、媒体の形態もディスク形状をなして
いる点においてはCDと同様である。それゆえ、CD仕
様の規格に適合し、CDプレーヤーにそのまま使える書
込み可能な媒体の開発が活発に行われている。
記録媒体は、レーザビームを用いる点においてはCDと
同様であり、また、媒体の形態もディスク形状をなして
いる点においてはCDと同様である。それゆえ、CD仕
様の規格に適合し、CDプレーヤーにそのまま使える書
込み可能な媒体の開発が活発に行われている。
【0006】その一例として、、相変化型光記録材料を
用いた媒体であって、CD規格に合致した反射率を得る
ことができ、さらにはCDプレーヤと互換性があり、か
つ、書込み可能な記録媒体が特開平1−273240号
公報に提案されている。このものは、基板上に、ZnS
等の第一の誘電体(保護)膜、SiO2 等の第二の誘電
体(保護)膜、SbTeGeの記録膜、SiO2 等の第
三の誘電体(保護)膜、および有機保護膜を順次形成し
た媒体構成をなしている。
用いた媒体であって、CD規格に合致した反射率を得る
ことができ、さらにはCDプレーヤと互換性があり、か
つ、書込み可能な記録媒体が特開平1−273240号
公報に提案されている。このものは、基板上に、ZnS
等の第一の誘電体(保護)膜、SiO2 等の第二の誘電
体(保護)膜、SbTeGeの記録膜、SiO2 等の第
三の誘電体(保護)膜、および有機保護膜を順次形成し
た媒体構成をなしている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
従来の提案された媒体構成では、高反射率のディスクが
得られるものの、第二の誘電体(保護)膜として用いら
れる低屈折率材料が限定され、主に用いられるSiO2
では熱伝導度および比熱とも大きいため、記録時に記録
膜への熱的悪影響を及ぼし、変調度、記録消去特性およ
び感度が悪くなるという不都合が生じていた。
従来の提案された媒体構成では、高反射率のディスクが
得られるものの、第二の誘電体(保護)膜として用いら
れる低屈折率材料が限定され、主に用いられるSiO2
では熱伝導度および比熱とも大きいため、記録時に記録
膜への熱的悪影響を及ぼし、変調度、記録消去特性およ
び感度が悪くなるという不都合が生じていた。
【0008】すなわち、図6(a)に示されるように、
本来、未記録部(結晶質)にレーザビームが照射された
部分は綺麗な略楕円形の相変化記録部分(非晶質)71
となるはずであるが、図6(b)に示されるように,熱
伝導度および比熱の大きな第二の誘電体(保護)膜が存
在するために、一旦相変化して記録された非晶質部分
(特に、長いピット(例えば11T))の一部が、第二
の誘電体(保護)膜に保有された熱によって結晶質に戻
ってしまうという不都合が生じていた。これにより高変
調度が取れなくなってしまう。
本来、未記録部(結晶質)にレーザビームが照射された
部分は綺麗な略楕円形の相変化記録部分(非晶質)71
となるはずであるが、図6(b)に示されるように,熱
伝導度および比熱の大きな第二の誘電体(保護)膜が存
在するために、一旦相変化して記録された非晶質部分
(特に、長いピット(例えば11T))の一部が、第二
の誘電体(保護)膜に保有された熱によって結晶質に戻
ってしまうという不都合が生じていた。これにより高変
調度が取れなくなってしまう。
【0009】このような実情に鑑み本発明は創案された
ものであって、その目的は、上記の不都合を解消し、高
反射率高変調度を損なうことなく、第二の誘電体膜の熱
的影響を小さくでき、良好なオーバライト記録ができる
光記録媒体を提供することにある。
ものであって、その目的は、上記の不都合を解消し、高
反射率高変調度を損なうことなく、第二の誘電体膜の熱
的影響を小さくでき、良好なオーバライト記録ができる
光記録媒体を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は、基板と、該基板の上に形成された第一の誘電
体層と、該第一の誘電体層の上に形成され、前記第一の
誘電体層の屈折率とは異なる屈折率を有する第二の誘電
体層と、該第二の誘電体層の上に形成され、前記第二の
誘電体層の熱伝導率または比熱よりも小さい熱伝導率ま
たは比熱を有する第三の誘電体層と、該第三の誘電体層
の上に形成され、相変化タイプの記録材料を含有する記
録膜と、該記録膜の上に形成された第四の誘電体層と、
該第四の誘電体層の上に形成された反射膜とを備えるよ
うに構成した。
本発明は、基板と、該基板の上に形成された第一の誘電
体層と、該第一の誘電体層の上に形成され、前記第一の
誘電体層の屈折率とは異なる屈折率を有する第二の誘電
体層と、該第二の誘電体層の上に形成され、前記第二の
誘電体層の熱伝導率または比熱よりも小さい熱伝導率ま
たは比熱を有する第三の誘電体層と、該第三の誘電体層
の上に形成され、相変化タイプの記録材料を含有する記
録膜と、該記録膜の上に形成された第四の誘電体層と、
該第四の誘電体層の上に形成された反射膜とを備えるよ
うに構成した。
【0011】
【実施例】以下、本発明の光記録媒体の好適な一例を図
1に基づいて説明する。図1は媒体を断面にし、その部
分を拡大して媒体構成が明確にわかるように描いた模式
図である。
1に基づいて説明する。図1は媒体を断面にし、その部
分を拡大して媒体構成が明確にわかるように描いた模式
図である。
【0012】この図に示されるように、本発明の光記録
媒体1は、基板10と、該基板10の上に形成された第
一の誘電体層11と、該第一の誘電体層11の上に形成
され、前記第一の誘電体層の屈折率とは異なる屈折率を
有する第二の誘電体層12と、該第二の誘電体層12の
上に形成され、前記第二の誘電体層12の熱伝導率また
は比熱よりも小さい熱伝導率または比熱を有する第三の
誘電体層13と、該第三の誘電体層13の上に形成さ
れ、相変化タイプの記録材料を含有する記録膜7と、該
記録膜7上に形成された第四の誘電体層14と、該第四
の誘電体層14の上に形成された反射膜15とを備え
る。さらにこの反射膜15の上には通常、有機保護膜1
6が形成される。
媒体1は、基板10と、該基板10の上に形成された第
一の誘電体層11と、該第一の誘電体層11の上に形成
され、前記第一の誘電体層の屈折率とは異なる屈折率を
有する第二の誘電体層12と、該第二の誘電体層12の
上に形成され、前記第二の誘電体層12の熱伝導率また
は比熱よりも小さい熱伝導率または比熱を有する第三の
誘電体層13と、該第三の誘電体層13の上に形成さ
れ、相変化タイプの記録材料を含有する記録膜7と、該
記録膜7上に形成された第四の誘電体層14と、該第四
の誘電体層14の上に形成された反射膜15とを備え
る。さらにこの反射膜15の上には通常、有機保護膜1
6が形成される。
【0013】基板10は、通常、ディスク形状をなし、
基板10の片側平面には、通常、トラッキング用のプリ
グルーブが、同心円状にまたはスパイラル状に形成され
ている。このようなプリグルーブを有する基板10は、
生産性向上の観点から、いわゆる一体的に形成された射
出成形樹脂基板を用いることが好ましく、このものは、
例えば、ポリカーボネート樹脂(PC)、ポリメタクリ
ル酸メチル樹脂(PMMA)等の透明材料から形成され
る。また、一体的に形成された射出成形樹脂基板に限ら
ず、いわゆる2P(photo-polymer )法で形成した基板
であってもよい。このような基板10の厚さは1.0〜
1.5mm程度とされる。
基板10の片側平面には、通常、トラッキング用のプリ
グルーブが、同心円状にまたはスパイラル状に形成され
ている。このようなプリグルーブを有する基板10は、
生産性向上の観点から、いわゆる一体的に形成された射
出成形樹脂基板を用いることが好ましく、このものは、
例えば、ポリカーボネート樹脂(PC)、ポリメタクリ
ル酸メチル樹脂(PMMA)等の透明材料から形成され
る。また、一体的に形成された射出成形樹脂基板に限ら
ず、いわゆる2P(photo-polymer )法で形成した基板
であってもよい。このような基板10の厚さは1.0〜
1.5mm程度とされる。
【0014】このような基板10の上には、第一の誘電
体層11が形成され、この上に第二の誘電体層12が形
成される。これらの誘電体層11,12の具体的材料と
しては、透明性の高い材料、例えば、Mg,Ca,S
r,Y,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,
Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,La,T
i,Zr,Hf,Y,Nb,Ta,Zn,Al,Si,
Ge,Sn,Pbなどの酸化物,窒化物、硫化物、L
i,Na,Mg,Caなどのフッ化物、あるいはこれら
の混合物が用いられうる。ただし、第二の誘電体層12
は、前記第一の誘電体層11の屈折率よりは低い屈折率
からなる材料であることという条件が付加され、この条
件に合致するように具体的材料が選定される。
体層11が形成され、この上に第二の誘電体層12が形
成される。これらの誘電体層11,12の具体的材料と
しては、透明性の高い材料、例えば、Mg,Ca,S
r,Y,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,
Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,La,T
i,Zr,Hf,Y,Nb,Ta,Zn,Al,Si,
Ge,Sn,Pbなどの酸化物,窒化物、硫化物、L
i,Na,Mg,Caなどのフッ化物、あるいはこれら
の混合物が用いられうる。ただし、第二の誘電体層12
は、前記第一の誘電体層11の屈折率よりは低い屈折率
からなる材料であることという条件が付加され、この条
件に合致するように具体的材料が選定される。
【0015】第二の誘電体層12のより具体的な好適材
料としては、SiO2 (1.48)、MgF2 (1.38)、Nd3
AlF6 (1.35)、ThF4 (1.46)、CeF2 (1.63)、A
l2O3 (1.63)などが挙げられる。なお( )内の数値
は屈折率を表わす。
料としては、SiO2 (1.48)、MgF2 (1.38)、Nd3
AlF6 (1.35)、ThF4 (1.46)、CeF2 (1.63)、A
l2O3 (1.63)などが挙げられる。なお( )内の数値
は屈折率を表わす。
【0016】第一の誘電体層11のより具体的な好適材
料としては、ZnS(2.30)、ZnS−SiO2 (20mol%)
(2.11)、TiO2 (2.20)、Ta2 O5 (2.08)などが挙げ
られる。
料としては、ZnS(2.30)、ZnS−SiO2 (20mol%)
(2.11)、TiO2 (2.20)、Ta2 O5 (2.08)などが挙げ
られる。
【0017】前記第一の誘電体層11の厚さd1 は、記
録光または再生光の波長をλ、第一の誘電体層の屈折率
をn1 とした場合、d1 =(λ/4n1 )(2m+1)
となるように設定するのが好ましい。ここで上記mは0
を含む正の整数を表す。
録光または再生光の波長をλ、第一の誘電体層の屈折率
をn1 とした場合、d1 =(λ/4n1 )(2m+1)
となるように設定するのが好ましい。ここで上記mは0
を含む正の整数を表す。
【0018】また、前記第二の誘電体層12の厚さd2
は、記録光または再生光の波長をλ、第一の誘電体層の
屈折率をn2 とした場合、d2 =(λ/4n2 )(2m
+1)となるように設定するのが好ましい。ここで上記
mは0を含む正の整数を表す。
は、記録光または再生光の波長をλ、第一の誘電体層の
屈折率をn2 とした場合、d2 =(λ/4n2 )(2m
+1)となるように設定するのが好ましい。ここで上記
mは0を含む正の整数を表す。
【0019】このような第二の誘電体層12の上には第
三の誘電体層13が形成される。第三の誘電体層13
は、前記第二の誘電体層12の熱伝導率または比熱より
も小さな熱伝導率または比熱を有する材料から形成され
る。従来の問題となった第二の誘電体層12の保熱を防
止し、反射膜側への熱拡散を促進させて、良好な記録状
態を維持するためである。第三の誘電体層13の材料と
しては、ZnS,ZnO,ZnSe単体や、ZnS,Z
nO,ZnSeに、Mg,Ca,Sr,Y,Ce,T
i,Zr,V,Nb,Tb,Cr,Mo,W,Al,I
n,Si,Ge,Sn,Pb,Sbなどの酸化物、窒化
物、Li,Nb,Mg,Cdなどのフッ化物を10〜6
0mol%混合させたもの等が挙げられる。より具体的な第
三の誘電体層13の材料は、第二の誘電体層12の材料
を考慮しつつ選定される。例えば、第二の誘電体層12
の材料を、SiO2 とした場合には、第三の誘電体層1
3の材料は、ZnS、ZnS・SiO2 (10〜30mol%)
が好ましい。
三の誘電体層13が形成される。第三の誘電体層13
は、前記第二の誘電体層12の熱伝導率または比熱より
も小さな熱伝導率または比熱を有する材料から形成され
る。従来の問題となった第二の誘電体層12の保熱を防
止し、反射膜側への熱拡散を促進させて、良好な記録状
態を維持するためである。第三の誘電体層13の材料と
しては、ZnS,ZnO,ZnSe単体や、ZnS,Z
nO,ZnSeに、Mg,Ca,Sr,Y,Ce,T
i,Zr,V,Nb,Tb,Cr,Mo,W,Al,I
n,Si,Ge,Sn,Pb,Sbなどの酸化物、窒化
物、Li,Nb,Mg,Cdなどのフッ化物を10〜6
0mol%混合させたもの等が挙げられる。より具体的な第
三の誘電体層13の材料は、第二の誘電体層12の材料
を考慮しつつ選定される。例えば、第二の誘電体層12
の材料を、SiO2 とした場合には、第三の誘電体層1
3の材料は、ZnS、ZnS・SiO2 (10〜30mol%)
が好ましい。
【0020】このような第三の誘電体層13の厚さd3
は、記録光または再生光の波長をλ、第一の誘電体層の
屈折率をn3 とした場合、d3 =(λ/2n3 )(2m
+1)となるように設定するのが好ましい。ここで上記
mは0を含む正の整数を表す。
は、記録光または再生光の波長をλ、第一の誘電体層の
屈折率をn3 とした場合、d3 =(λ/2n3 )(2m
+1)となるように設定するのが好ましい。ここで上記
mは0を含む正の整数を表す。
【0021】このような第三の誘電体層13の上には相
変化タイプの記録材料を含有する記録膜7が形成され
る。記録膜7の具体的材料としては、GeTeSb、G
eTePd、GeTeCo、GeTeSn、GeTeB
i、GeTeSe、InSbTe等が挙げられる。記録
膜7の膜厚は、100〜300Å程度とされる。
変化タイプの記録材料を含有する記録膜7が形成され
る。記録膜7の具体的材料としては、GeTeSb、G
eTePd、GeTeCo、GeTeSn、GeTeB
i、GeTeSe、InSbTe等が挙げられる。記録
膜7の膜厚は、100〜300Å程度とされる。
【0022】このような記録膜7の上には、第四の誘電
体層14が形成される。第四の誘電体層14の材質は、
前記第一ないし第三の誘電体層に用いられる各材料の中
から適宜選定して用いれば良い。このような第四の誘電
体層14の厚さd4 は、100〜300Å程度が好まし
い。
体層14が形成される。第四の誘電体層14の材質は、
前記第一ないし第三の誘電体層に用いられる各材料の中
から適宜選定して用いれば良い。このような第四の誘電
体層14の厚さd4 は、100〜300Å程度が好まし
い。
【0023】このような第四の誘電体層14の上には、
光反射率の増大および熱拡散の促進のための反射層15
が設けられる。反射層15はAu、Al、Ag、Cu等
の金属から構成され、このものは真空蒸着、スパッタリ
ング、イオンプレーティング等で成膜される。このよう
な光反射層14の厚さは、0.02〜0.2μm程度と
される。
光反射率の増大および熱拡散の促進のための反射層15
が設けられる。反射層15はAu、Al、Ag、Cu等
の金属から構成され、このものは真空蒸着、スパッタリ
ング、イオンプレーティング等で成膜される。このよう
な光反射層14の厚さは、0.02〜0.2μm程度と
される。
【0024】なお、前記第一ないしは第四の誘電体層1
1,12,13,14および記録膜7もまた、反射層1
5と同様に真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング等で成膜される。
1,12,13,14および記録膜7もまた、反射層1
5と同様に真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング等で成膜される。
【0025】反射層15の上には、通常、記録膜7,誘
電体層11,12,13,14と反射層15を保護する
ために保護層16が設層される。保護層16は、一般
に、紫外線硬化性樹脂をスピンコートして塗設した後、
紫外線を照射し、塗膜を硬化させて形成する。その他、
エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタ
ン樹脂等が保護層16の材質として用いられる。このよ
うな保護層16の厚さは、通常、0.1〜100μm程
度である。
電体層11,12,13,14と反射層15を保護する
ために保護層16が設層される。保護層16は、一般
に、紫外線硬化性樹脂をスピンコートして塗設した後、
紫外線を照射し、塗膜を硬化させて形成する。その他、
エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタ
ン樹脂等が保護層16の材質として用いられる。このよ
うな保護層16の厚さは、通常、0.1〜100μm程
度である。
【0026】本発明の媒体には、一般に回転下におい
て、記録光が記録膜にパルス状に照射される。このとき
記録膜の一部が相変化を起こし、記録ピットが形成され
る。このように形成されたピット情報の再生は、やはり
媒体の回転下、読出し光の反射光の差を検出することに
よって行われる。
て、記録光が記録膜にパルス状に照射される。このとき
記録膜の一部が相変化を起こし、記録ピットが形成され
る。このように形成されたピット情報の再生は、やはり
媒体の回転下、読出し光の反射光の差を検出することに
よって行われる。
【0027】以下、具体的実施例を示して本発明をさら
に詳細に説明する。本発明サンプル1の作製 直径12cm、厚さ1.2mmのポリカーボネート(P
C)基板11上に、ZnS・SiO2 (20mol%)からな
る第一の誘電体層11(屈折率:2.11)をスパッタ
リング法で920オングストロームの厚さに設層した。
この上に、SiO2 からなる第二の誘電体層12(屈折
率:1.48,熱伝導率:2.26×10-2Cal/cm.s.
k,比熱:1.80×10-1 cal/g.k)をスパッタリン
グ法で1300オングストロームの厚さに設層した。こ
の上に、ZnS・SiO2 (20mol%)からなる第三の誘
電体層13(屈折率:2.11,熱伝導率:1.57×
10 -3Cal/cm.s.k,比熱:1.34×10-1 cal/g.k)
をスパッタリング法で1850オングストロームの厚さ
に設層した。この上に、Ge(29)Sb(23)Te(48)atm%
からなる記録膜を200オングストロームの厚さにスパ
ッタリング法で設層した。この上に、ZnS・SiO2
(20mol%)からなる第四の誘電体層14を、150オン
グストロームの厚さにスパッタリング法で設層した。こ
の上に、Alからなる反射層15を、1000オングス
トロームの厚さにスパッタリング法で成膜した。しかる
後、反射層15の上に紫外線硬化型アクリレート樹脂か
らなる保護膜16を10μm厚さに形成し、本発明サン
プルを作成した。
に詳細に説明する。本発明サンプル1の作製 直径12cm、厚さ1.2mmのポリカーボネート(P
C)基板11上に、ZnS・SiO2 (20mol%)からな
る第一の誘電体層11(屈折率:2.11)をスパッタ
リング法で920オングストロームの厚さに設層した。
この上に、SiO2 からなる第二の誘電体層12(屈折
率:1.48,熱伝導率:2.26×10-2Cal/cm.s.
k,比熱:1.80×10-1 cal/g.k)をスパッタリン
グ法で1300オングストロームの厚さに設層した。こ
の上に、ZnS・SiO2 (20mol%)からなる第三の誘
電体層13(屈折率:2.11,熱伝導率:1.57×
10 -3Cal/cm.s.k,比熱:1.34×10-1 cal/g.k)
をスパッタリング法で1850オングストロームの厚さ
に設層した。この上に、Ge(29)Sb(23)Te(48)atm%
からなる記録膜を200オングストロームの厚さにスパ
ッタリング法で設層した。この上に、ZnS・SiO2
(20mol%)からなる第四の誘電体層14を、150オン
グストロームの厚さにスパッタリング法で設層した。こ
の上に、Alからなる反射層15を、1000オングス
トロームの厚さにスパッタリング法で成膜した。しかる
後、反射層15の上に紫外線硬化型アクリレート樹脂か
らなる保護膜16を10μm厚さに形成し、本発明サン
プルを作成した。
【0028】このサンプルを作製するに際して、同時に
上記のサンプルの記録膜の厚さ、第一の誘電体層の膜
厚、第二の誘電体層の膜厚、および第三の誘電体層の膜
厚の変化に対するの反射率の影響をそれぞれ調べた。結
果を図2〜6に示した。
上記のサンプルの記録膜の厚さ、第一の誘電体層の膜
厚、第二の誘電体層の膜厚、および第三の誘電体層の膜
厚の変化に対するの反射率の影響をそれぞれ調べた。結
果を図2〜6に示した。
【0029】図2に示される結果より、結晶質の状態で
反射率が60%以上とれ、しかも非晶質との差分が最大
にとれる記録膜膜厚は200オングストローム近傍であ
ることがわかる。図3および図4に示される結果より、
第一の誘電体層および第二の誘電体層の好適な膜厚は、
それぞれλ/4n1 およびλ/4n2 の奇数倍の膜厚で
あることがわかる。図5に示される結果より、第三の誘
電体層の好適な膜厚は、λ/2n3 の奇数倍の膜厚であ
ることがわかる。
反射率が60%以上とれ、しかも非晶質との差分が最大
にとれる記録膜膜厚は200オングストローム近傍であ
ることがわかる。図3および図4に示される結果より、
第一の誘電体層および第二の誘電体層の好適な膜厚は、
それぞれλ/4n1 およびλ/4n2 の奇数倍の膜厚で
あることがわかる。図5に示される結果より、第三の誘
電体層の好適な膜厚は、λ/2n3 の奇数倍の膜厚であ
ることがわかる。
【0030】次いで、以下の要領で比較サンプルを作成
した。比較サンプルの作製 上記本発明サンプルの構成から第三の誘電体層13を除
いた。それ以外は、上記本発明サンプルと同様にして、
比較サンプルを作製した。
した。比較サンプルの作製 上記本発明サンプルの構成から第三の誘電体層13を除
いた。それ以外は、上記本発明サンプルと同様にして、
比較サンプルを作製した。
【0031】これら2つのサンプルについて、初期結晶
化を行った後、線速1.4m/s,記録パワー30m
W,消去パワー12mWでEFM信号を記録し、しかる
後、記録信号を再生した。
化を行った後、線速1.4m/s,記録パワー30m
W,消去パワー12mWでEFM信号を記録し、しかる
後、記録信号を再生した。
【0032】その結果、比較サンプルのものは、、長い
ピットの記録部の先端が再結晶化のために細くなり記録
アモルファス部の再生信号レベルが取れなかった。これ
に対して本発明のサンプルは、このような不都合が生じ
ることなく良好なアイパターンが得られ、さらにオーバ
ライトによる繰り返し記録も可能であった。
ピットの記録部の先端が再結晶化のために細くなり記録
アモルファス部の再生信号レベルが取れなかった。これ
に対して本発明のサンプルは、このような不都合が生じ
ることなく良好なアイパターンが得られ、さらにオーバ
ライトによる繰り返し記録も可能であった。
【0033】
【発明の効果】以上の実験結果より本発明の効果は明ら
かである。すなわち、本発明の光記録媒体は、基板と、
該基板の上に形成された第一の誘電体層と、該第一の誘
電体層の上に形成され、前記第一の誘電体層の屈折率と
は異なる屈折率を有する第二の誘電体層と、該第二の誘
電体層の上に形成され、前記第二の誘電体層の熱伝導率
または比熱よりも小さい熱伝導率または比熱を有する第
三の誘電体層と、該第三の誘電体層の上に形成され、相
変化タイプの記録材料を含有する記録膜と、該記録膜の
上に形成された第四の誘電体層と、該第四の誘電体層の
上に形成された反射膜とを備えているので、高反射率を
損なうことなく、従来生じていた第二誘電体層の熱的影
響を小さくでき、高変調度が得られるとともに、良好な
オーバライト記録もできるという効果を奏する。
かである。すなわち、本発明の光記録媒体は、基板と、
該基板の上に形成された第一の誘電体層と、該第一の誘
電体層の上に形成され、前記第一の誘電体層の屈折率と
は異なる屈折率を有する第二の誘電体層と、該第二の誘
電体層の上に形成され、前記第二の誘電体層の熱伝導率
または比熱よりも小さい熱伝導率または比熱を有する第
三の誘電体層と、該第三の誘電体層の上に形成され、相
変化タイプの記録材料を含有する記録膜と、該記録膜の
上に形成された第四の誘電体層と、該第四の誘電体層の
上に形成された反射膜とを備えているので、高反射率を
損なうことなく、従来生じていた第二誘電体層の熱的影
響を小さくでき、高変調度が得られるとともに、良好な
オーバライト記録もできるという効果を奏する。
【図1】本発明の光記録媒体の概略構成を説明するため
の部分拡大断面図である。
の部分拡大断面図である。
【図2】本発明の光記録媒体の記録膜膜厚と反射率との
関係を示すグラフであり、実線は、非晶質を、点線は結
晶質の状態を示す。
関係を示すグラフであり、実線は、非晶質を、点線は結
晶質の状態を示す。
【図3】本発明の光記録媒体の第一の誘電体層の膜厚と
反射率との関係を示すグラフであり、実線は、非晶質
を、点線は結晶質の状態を示す。
反射率との関係を示すグラフであり、実線は、非晶質
を、点線は結晶質の状態を示す。
【図4】本発明の光記録媒体の第二の誘電体層の膜厚と
反射率との関係を示すグラフであり、実線は、非晶質
を、点線は結晶質の状態を示す。
反射率との関係を示すグラフであり、実線は、非晶質
を、点線は結晶質の状態を示す。
【図5】本発明の光記録媒体の第三の誘電体層の膜厚と
反射率との関係を示すグラフであり、実線は、非晶質
を、点線は結晶質の状態を示す。
反射率との関係を示すグラフであり、実線は、非晶質
を、点線は結晶質の状態を示す。
【図6】(a)は本発明の光記録媒体を用いて所定の記
録波形の光ビームを照射して記録した場合の、記録ピッ
トの状態および再生波形の状態を模式的に示す図、
(b)は従来の光記録媒体を用いて所定の記録波形の光
ビームを照射して記録した場合の、記録ピットの状態、
特に再結晶化領域が生じた状態およびその再生波形の状
態を模式的に示す図である。
録波形の光ビームを照射して記録した場合の、記録ピッ
トの状態および再生波形の状態を模式的に示す図、
(b)は従来の光記録媒体を用いて所定の記録波形の光
ビームを照射して記録した場合の、記録ピットの状態、
特に再結晶化領域が生じた状態およびその再生波形の状
態を模式的に示す図である。
1…光記録媒体 7…記録膜 10…光透過性基板 11…第一の誘電体層 12…第二の誘電体層 13…第三の誘電体層 14…第四の誘電体層 15…反射層 16…保護膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横関 伸一 埼玉県鶴ケ島市富士見6丁目1番1号 パ イオニア株式会社総合研究所内
Claims (2)
- 【請求項1】 基板と、 該基板の上に形成された第一の誘電体層と、 該第一の誘電体層の上に形成され、前記第一の誘電体層
の屈折率とは異なる屈折率を有する第二の誘電体層と、 該第二の誘電体層の上に形成され、前記第二の誘電体層
の熱伝導率または比熱よりも小さい熱伝導率または比熱
を有する第三の誘電体層と、 該第三の誘電体層の上に形成され、相変化タイプの記録
材料を含有する記録膜と、 該記録膜の上に形成された第四の誘電体層と、 該第四の誘電体層の上に形成された反射膜と、を備える
ことを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項2】 前記第三の誘電体層の膜厚d3 は、記録
光または再生光の波長をλ、第三の誘電体層の屈折率を
n3 とした場合、d3 =(λ/2n3 )(2m+1)で
あることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。ここ
で上記mは0を含む正の整数を表す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4315107A JPH06155921A (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4315107A JPH06155921A (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06155921A true JPH06155921A (ja) | 1994-06-03 |
Family
ID=18061508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4315107A Pending JPH06155921A (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06155921A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5640382A (en) * | 1995-12-19 | 1997-06-17 | Imation Corp. | Dual layer optical medium having partially reflecting metal alloy layer |
| US5679429A (en) * | 1994-08-05 | 1997-10-21 | Imation Corp. | Dual layer optical medium having partially reflecting thin film layer |
| WO1998028738A1 (en) * | 1996-12-24 | 1998-07-02 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Optical recording medium with phase-change recording layer |
| US6064642A (en) * | 1998-01-16 | 2000-05-16 | Nec Corporation | Phase-change type optical disk |
| US6628603B1 (en) | 1997-03-27 | 2003-09-30 | Imation Corp. | Dual layer optical storage medium having partially reflecting layer comprising antimony sulfide |
| US6678237B1 (en) | 1997-03-27 | 2004-01-13 | Imation Corp. | Dual layer optical storage medium having partially reflecting layer comprising amorphous selenium |
| JP2013507274A (ja) * | 2009-10-16 | 2013-03-04 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | 単一および複層における高反射率、耐引っ掻き性TiO2被膜 |
-
1992
- 1992-11-25 JP JP4315107A patent/JPH06155921A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5679429A (en) * | 1994-08-05 | 1997-10-21 | Imation Corp. | Dual layer optical medium having partially reflecting thin film layer |
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| US5640382A (en) * | 1995-12-19 | 1997-06-17 | Imation Corp. | Dual layer optical medium having partially reflecting metal alloy layer |
| WO1998028738A1 (en) * | 1996-12-24 | 1998-07-02 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Optical recording medium with phase-change recording layer |
| US6628603B1 (en) | 1997-03-27 | 2003-09-30 | Imation Corp. | Dual layer optical storage medium having partially reflecting layer comprising antimony sulfide |
| US6678237B1 (en) | 1997-03-27 | 2004-01-13 | Imation Corp. | Dual layer optical storage medium having partially reflecting layer comprising amorphous selenium |
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| JP2013507274A (ja) * | 2009-10-16 | 2013-03-04 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | 単一および複層における高反射率、耐引っ掻き性TiO2被膜 |
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