JPH0217427A - 拡散反射分光システム - Google Patents
拡散反射分光システムInfo
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- JPH0217427A JPH0217427A JP1106087A JP10608789A JPH0217427A JP H0217427 A JPH0217427 A JP H0217427A JP 1106087 A JP1106087 A JP 1106087A JP 10608789 A JP10608789 A JP 10608789A JP H0217427 A JPH0217427 A JP H0217427A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
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- G01N21/474—Details of optical heads therefor, e.g. using optical fibres
-
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- G01N2021/3595—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using FTIR
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- G01N2021/4769—Fluid samples, e.g. slurries, granulates; Compressible powdery of fibrous samples
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は分光器の分野に関するもので、特に拡散反射赤
外線フーリエ変換(DPIFT )分光器の分野に関す
るものである。
外線フーリエ変換(DPIFT )分光器の分野に関す
るものである。
マトリックス状の粉にひいた物質または粉状の粒状物質
の反射スペクトラムは、標準的に、サンプルの面から正
反射(鏡面反射)されるエネルギーならびにサンプル内
から拡散反射されるエネルギーに対応する2つの異なる
分光成分よりなる。
の反射スペクトラムは、標準的に、サンプルの面から正
反射(鏡面反射)されるエネルギーならびにサンプル内
から拡散反射されるエネルギーに対応する2つの異なる
分光成分よりなる。
正反射エネルギーは、サンプルの面から抽出される分光
特性を含み、これらの特性は表面の任意の変化に応じて
しばしば変化する。また、正反射スペクトルはこれを簡
単に正反射基準スペクトラムと比較してサンプル物質を
識別することは難しい。
特性を含み、これらの特性は表面の任意の変化に応じて
しばしば変化する。また、正反射スペクトルはこれを簡
単に正反射基準スペクトラムと比較してサンプル物質を
識別することは難しい。
これに対して拡散反射エネルギーは反射する前にサンプ
ルもしくはサンプル マトリックスに入り、透過スペク
トラムの特性のような拡散反射スペクトラムの分光特性
は特定の物質に対して独得である。物質の基準スペクト
ラムは拡散反射に対して設定でき、既知の拡散反射スペ
クトラムと比較して、その成分およびそれら成分の濃度
百分比を含むサンプルの組成を識別することができる。
ルもしくはサンプル マトリックスに入り、透過スペク
トラムの特性のような拡散反射スペクトラムの分光特性
は特定の物質に対して独得である。物質の基準スペクト
ラムは拡散反射に対して設定でき、既知の拡散反射スペ
クトラムと比較して、その成分およびそれら成分の濃度
百分比を含むサンプルの組成を識別することができる。
したがって、サンプル識別もしくはサンプル成分e度は
正反射エネルギーのスペクトラムから分離した拡散反射
エネルギーのスペクトラムを得ることを必要とする。
正反射エネルギーのスペクトラムから分離した拡散反射
エネルギーのスペクトラムを得ることを必要とする。
反射スペクトラムの正反射(鏡面反則)成分から拡散成
分を分離するためこれまで種々の分光システムが考案さ
れている。これらの分光システムのいくつかはフラー(
Fuller)およびグリフイス(Griffiths
)により最初に提唱された開口除外原理(apert
ure exclusion principle ;
アパーチャ エクスクル−ジョン原理)で作動する。開
口除外原理はサンプルの面がミラーのような動作をする
傾向があるものと仮定している。良好に限定された入射
エネルギーのビームはスネルの法則(Snell’s
law )にしたがってサンプルから正反射(または鏡
面反射)し、ある程度良好に限定された正反射エネルギ
ーのビームを形成する。したがって、正反射エネルギー
は集光ミラーの既知の開口部の領域に大幅に局限され、
他のすべての領域におけるエネルギーは拡散反射される
ものと考える。正反射エネルギーを有する開口部の領域
はさえぎられるので、拡散反射エネルギーの一部または
全部が検出器に指向される。
分を分離するためこれまで種々の分光システムが考案さ
れている。これらの分光システムのいくつかはフラー(
Fuller)およびグリフイス(Griffiths
)により最初に提唱された開口除外原理(apert
ure exclusion principle ;
アパーチャ エクスクル−ジョン原理)で作動する。開
口除外原理はサンプルの面がミラーのような動作をする
傾向があるものと仮定している。良好に限定された入射
エネルギーのビームはスネルの法則(Snell’s
law )にしたがってサンプルから正反射(または鏡
面反射)し、ある程度良好に限定された正反射エネルギ
ーのビームを形成する。したがって、正反射エネルギー
は集光ミラーの既知の開口部の領域に大幅に局限され、
他のすべての領域におけるエネルギーは拡散反射される
ものと考える。正反射エネルギーを有する開口部の領域
はさえぎられるので、拡散反射エネルギーの一部または
全部が検出器に指向される。
開口除外原理は、サンプルがミラーのように作動してい
る場合のみ適用されるが、多くの物質は粒状表面を有す
る。入射放射エネルギーは、入射エネルギーの波長に対
するサイズおよびその特定のオリエンテーションにした
がって各校から正反射される。照明領域(illumi
nation area )におけるすべての粒からの
正反射の累積効果は鏡面散乱(specular 5c
atter)と呼ばれる現象である。
る場合のみ適用されるが、多くの物質は粒状表面を有す
る。入射放射エネルギーは、入射エネルギーの波長に対
するサイズおよびその特定のオリエンテーションにした
がって各校から正反射される。照明領域(illumi
nation area )におけるすべての粒からの
正反射の累積効果は鏡面散乱(specular 5c
atter)と呼ばれる現象である。
鏡面散乱は、あらゆる反射角にわたって鏡面反射エネル
ギーを分散させることができる。物質によっては、多量
の鏡面散乱を呈し、そのため鏡面反射エネルギーがすべ
ての反射角にわたっである程度均等に分布し、かくして
集光ミラーの開口部において散乱成分から反射スペクト
ラムの鏡面反射成分を分離できないものもある。
ギーを分散させることができる。物質によっては、多量
の鏡面散乱を呈し、そのため鏡面反射エネルギーがすべ
ての反射角にわたっである程度均等に分布し、かくして
集光ミラーの開口部において散乱成分から反射スペクト
ラムの鏡面反射成分を分離できないものもある。
他の開口除外手法は、例えば、米国特許第4 、661
706号に示されているように、サンプルの面上または
面に近接してブロック装置を配置し、鏡面反射エネルギ
ーをブロックアウトすることである。
706号に示されているように、サンプルの面上または
面に近接してブロック装置を配置し、鏡面反射エネルギ
ーをブロックアウトすることである。
コノ場合、入射エネルギーのビームはブロッカの一方の
州土でサンプルに入射し、拡散反射エネルギーはブロッ
カの他の側から集光される。入射エネルギーはブロッカ
に打ち勝ち、検出器に到達するようサンプル内に浸透す
るようにしなければならず、かくすれば検出器は拡散反
射エネルギーのみを受信する。実験の結果は、プロシカ
装置が木質的にすべての鏡面反射エネルギーを反射スペ
クトラ1、から取除くことを示している。
州土でサンプルに入射し、拡散反射エネルギーはブロッ
カの他の側から集光される。入射エネルギーはブロッカ
に打ち勝ち、検出器に到達するようサンプル内に浸透す
るようにしなければならず、かくすれば検出器は拡散反
射エネルギーのみを受信する。実験の結果は、プロシカ
装置が木質的にすべての鏡面反射エネルギーを反射スペ
クトラ1、から取除くことを示している。
しかし、ブロッカ装置にはある制限がある。ブロッカの
入射サイドは、それがより多いトータルエネルギーを有
するので、より多くのエネルギーを拡散反射させる必要
がある。したがって、ブロッカは大部分の拡散反射エネ
ルギーが検出器に到達することを防止することになる。
入射サイドは、それがより多いトータルエネルギーを有
するので、より多くのエネルギーを拡散反射させる必要
がある。したがって、ブロッカは大部分の拡散反射エネ
ルギーが検出器に到達することを防止することになる。
さらに、一般の透過スペクトラムよりむしろ反射スペク
トラムをとることの共通の理由はサンプルがソースエネ
ルギーに対し不透明であるということである。かくして
、拡散反射は通常表面に近いサンプルの領域からのみ生
ずる。したがって、ブロッカ装置は、サンプル エリア
をブロッカに隣接する領域に限定するという意図しない
効果を有する。ブロッカ装置を使用して得られる限定さ
れたサンプル サイズおよび比較的低い生産効率は、微
視的な非均質性を考えず、巨視的サンプルをサンプリン
グすることを含む品質管理のようなある種の利用分野に
おける不所望の属性を呈する。
トラムをとることの共通の理由はサンプルがソースエネ
ルギーに対し不透明であるということである。かくして
、拡散反射は通常表面に近いサンプルの領域からのみ生
ずる。したがって、ブロッカ装置は、サンプル エリア
をブロッカに隣接する領域に限定するという意図しない
効果を有する。ブロッカ装置を使用して得られる限定さ
れたサンプル サイズおよび比較的低い生産効率は、微
視的な非均質性を考えず、巨視的サンプルをサンプリン
グすることを含む品質管理のようなある種の利用分野に
おける不所望の属性を呈する。
かくして、高い生産効率を有するのみならず、鏡面散乱
を呈するサンプルからの良好な鏡面反射エネルギーの除
去を可能にする拡散反射光学システムに対する必要性が
生じてきた。
を呈するサンプルからの良好な鏡面反射エネルギーの除
去を可能にする拡散反射光学システムに対する必要性が
生じてきた。
〔発明が解決しようとする課題]
本発明は新しい集束面微分(focal planed
ifferentiation)の原理を用いて、反射
スペクトラムの拡散反射成分を抽出するよう形成した拡
散反射システムを提案しようとするものである。
ifferentiation)の原理を用いて、反射
スペクトラムの拡散反射成分を抽出するよう形成した拡
散反射システムを提案しようとするものである。
大量の鏡面散乱をあられす多くのサンプルは多数の小粒
状の鏡面反射物質をもった良好に限定された面を有する
。したがって、本発明においては、鏡面反射および鏡面
散乱はサンプルの表面のような良好に限定された面に生
ずるものとし、また、拡散反射はサンプルもしくはサン
プル/マトリックス組合せ内から生ずるものと仮定する
。比較的小さい粒を有するサンプル面に対しては、反射
スペクトルの鏡面反射および鏡面散乱成分はサンプルイ
メージ面に対応する遠隔フィールド ストンプ面で濾波
するようにする。フィルタのイメージにより除去されな
い領域から発出すると考えられるサンプル反射、スペク
トラム内の拡散エネルギーは一般のFT−JR分光光度
計のような検出器に指向させる。鏡面散乱を除去するこ
とに関するイメージ面フィルタの効用は、鏡面散乱がサ
ンプル面における良好に限定された光面に制限される程
度、エネルギーがサンプルまたは→ノ゛ンプル マトリ
ックスに浸透する程度、観測システムの数値的アパーチ
ャ(numerical aparture)および観
測システムの結像品質に従属する。
状の鏡面反射物質をもった良好に限定された面を有する
。したがって、本発明においては、鏡面反射および鏡面
散乱はサンプルの表面のような良好に限定された面に生
ずるものとし、また、拡散反射はサンプルもしくはサン
プル/マトリックス組合せ内から生ずるものと仮定する
。比較的小さい粒を有するサンプル面に対しては、反射
スペクトルの鏡面反射および鏡面散乱成分はサンプルイ
メージ面に対応する遠隔フィールド ストンプ面で濾波
するようにする。フィルタのイメージにより除去されな
い領域から発出すると考えられるサンプル反射、スペク
トラム内の拡散エネルギーは一般のFT−JR分光光度
計のような検出器に指向させる。鏡面散乱を除去するこ
とに関するイメージ面フィルタの効用は、鏡面散乱がサ
ンプル面における良好に限定された光面に制限される程
度、エネルギーがサンプルまたは→ノ゛ンプル マトリ
ックスに浸透する程度、観測システムの数値的アパーチ
ャ(numerical aparture)および観
測システムの結像品質に従属する。
本発明の一実施例によるときは、サンプルを光学系の集
束面に配置している。光学系は遠隔フィールド ストッ
プ フィルタまたはスプリッタに関する光情報を含むサ
ンプル面上の像(イメージ)を形成し、ついで、サンプ
ルの面を遠隔フィールド ストップ上に結像させる。こ
の場合、サンプル面から正反射(鏡面反射)されたエネ
ルギーは集束状態にあり、したがって、フィルタの像に
関するイメージ情・)口を保持する。これに対して、サ
ンプル内から拡散反射されたエネルギーは非集束状態で
、フィールド ストップを横切って広く拡散する。ここ
で、サンプル面からのエネルギーは正反射され、サンプ
ル内からのエネルギーは拡散反射されるものとすれば、
反射スペクトラムの鏡面反射成分は、例えば、反射され
てエネルギーに戻ることにより、それが除去されたある
選定バンドまたは領域に空間的に局限される。
束面に配置している。光学系は遠隔フィールド ストッ
プ フィルタまたはスプリッタに関する光情報を含むサ
ンプル面上の像(イメージ)を形成し、ついで、サンプ
ルの面を遠隔フィールド ストップ上に結像させる。こ
の場合、サンプル面から正反射(鏡面反射)されたエネ
ルギーは集束状態にあり、したがって、フィルタの像に
関するイメージ情・)口を保持する。これに対して、サ
ンプル内から拡散反射されたエネルギーは非集束状態で
、フィールド ストップを横切って広く拡散する。ここ
で、サンプル面からのエネルギーは正反射され、サンプ
ル内からのエネルギーは拡散反射されるものとすれば、
反射スペクトラムの鏡面反射成分は、例えば、反射され
てエネルギーに戻ることにより、それが除去されたある
選定バンドまたは領域に空間的に局限される。
一方、それらの選定領域に限定されない拡散反射エネル
ギーの一部はフィールド ストップ フィルタを介して
検出器に指向される。
ギーの一部はフィールド ストップ フィルタを介して
検出器に指向される。
フィールド ストップ フィルタは、例えば、反射平板
状ワイヤまたは反射面のグリッドを含む反射“アイラン
ド”による反射面のアレイを存する反射領域ビーム ス
プリッタにより形成するを可とする。エネルギー源から
の入射エネルギーを受信する反射面は光学系の光軸に関
して特に対称とするを要しない。光学系はフィルタの入
射反射領域をサンプル上に結像し、サンプルから反射さ
れるエネルギーをフィルタ上に結像させる。この場合、
サンプル面から鏡面反射される放射エネルギーは集束状
態となり、フィルタの入射反射領域上に戻って光学系か
ら除去される。また、サンプル面から拡散反射される放
射エネルギーのいくらかは非集束状態となり、したがう
て、この非集束拡散反射エネルギーのいくらかがフィル
タの入射反射領域間の領域を充たすことになる。フィー
ルド ストップ フィルタにおける反射スペクトラムの
成分に空間的間隔を与えることは非集束の拡散反射エネ
ルギーを検出器に指向させることを可能にする。
状ワイヤまたは反射面のグリッドを含む反射“アイラン
ド”による反射面のアレイを存する反射領域ビーム ス
プリッタにより形成するを可とする。エネルギー源から
の入射エネルギーを受信する反射面は光学系の光軸に関
して特に対称とするを要しない。光学系はフィルタの入
射反射領域をサンプル上に結像し、サンプルから反射さ
れるエネルギーをフィルタ上に結像させる。この場合、
サンプル面から鏡面反射される放射エネルギーは集束状
態となり、フィルタの入射反射領域上に戻って光学系か
ら除去される。また、サンプル面から拡散反射される放
射エネルギーのいくらかは非集束状態となり、したがう
て、この非集束拡散反射エネルギーのいくらかがフィル
タの入射反射領域間の領域を充たすことになる。フィー
ルド ストップ フィルタにおける反射スペクトラムの
成分に空間的間隔を与えることは非集束の拡散反射エネ
ルギーを検出器に指向させることを可能にする。
また、光学系は第1フイールド ストップ グリッド
フィルタ、屈折スプリッタおよび第2グリツド フィル
タを具えるを可とする。第1グリンド フィルタは第2
グリツド フィルタのネガとして機能させる。これは、
第1フィルタを通過し、光学系の残り、の部分を介して
集束状態を保持するエネルギーが第2フィルタによりブ
ロックされることを意味する。光学系は第1グリツド
フィルタに関する光情報を含むサンプル面上に像を形成
し、次いで、第2グリツド フィルタ上にサンプル面の
像を形成させる。かくして、サンプルから正反射された
エネルギーは集束状態にあり、したがって第2フィルタ
によりブロックされるが、サンプルから拡散反射される
エネルギーは第2グリツド フィルタを介して検出器に
至る。
フィルタ、屈折スプリッタおよび第2グリツド フィル
タを具えるを可とする。第1グリンド フィルタは第2
グリツド フィルタのネガとして機能させる。これは、
第1フィルタを通過し、光学系の残り、の部分を介して
集束状態を保持するエネルギーが第2フィルタによりブ
ロックされることを意味する。光学系は第1グリツド
フィルタに関する光情報を含むサンプル面上に像を形成
し、次いで、第2グリツド フィルタ上にサンプル面の
像を形成させる。かくして、サンプルから正反射された
エネルギーは集束状態にあり、したがって第2フィルタ
によりブロックされるが、サンプルから拡散反射される
エネルギーは第2グリツド フィルタを介して検出器に
至る。
入射反射領域または入射グリッド透過領域はより良好に
平坦サンプル イメージ面を限定するため相互に近接し
て配置することが好ましいが、重要な回折作用を回避す
るため、入射反射領域またはグリッド領域間の間隔は N八 より大きくする必要がある。上式において、LR5は最
小分解可能間隔(least resolvables
eparation) 、λはエネルギーの波長、また
N八は光学系の数値アパーチ+ (numerical
aperture)である。反射領域の相対的寸法お
よび離間距離はサンプルの粒の大きさとともに増加させ
ることが好ましい。この場合には、より大きい入射反射
領域から逆反射させることにより光学系から大部分の鏡
面散乱を除去することが可能なことから粒状サンプルの
より粗い面を部分的に補償することができる。
平坦サンプル イメージ面を限定するため相互に近接し
て配置することが好ましいが、重要な回折作用を回避す
るため、入射反射領域またはグリッド領域間の間隔は N八 より大きくする必要がある。上式において、LR5は最
小分解可能間隔(least resolvables
eparation) 、λはエネルギーの波長、また
N八は光学系の数値アパーチ+ (numerical
aperture)である。反射領域の相対的寸法お
よび離間距離はサンプルの粒の大きさとともに増加させ
ることが好ましい。この場合には、より大きい入射反射
領域から逆反射させることにより光学系から大部分の鏡
面散乱を除去することが可能なことから粒状サンプルの
より粗い面を部分的に補償することができる。
本発明によるときは、反射スペクトラム内の鏡面反射エ
ネルギーから拡散反射エネルギーを分離するのに1また
はそれ以上の遠隔フィールド ストップ フィルタを使
用することにより、サンプルあるいはサンプル マトリ
ックスの顕微鏡的地理学(microscopic g
eography )または形態学(morphalo
gy )の影舌を排除するようにしている。
ネルギーから拡散反射エネルギーを分離するのに1また
はそれ以上の遠隔フィールド ストップ フィルタを使
用することにより、サンプルあるいはサンプル マトリ
ックスの顕微鏡的地理学(microscopic g
eography )または形態学(morphalo
gy )の影舌を排除するようにしている。
また、本発明によるときは、分光器による解析を行うの
に、任意の方法により、サンプルを加熱し、混合し、攪
拌し、もしくは処理するを要しない。
に、任意の方法により、サンプルを加熱し、混合し、攪
拌し、もしくは処理するを要しない。
さらに、本発明によるときは、局所的非均質性の影響を
低減させ、かつ、結果として得られるスペクトラムの信
号対雑音比を改善するため大規模領域サンプリングを行
うようにしている。スケーリングはサンプル面上の集束
領域を増大させることによりきわめて簡単に行うことが
できる。1 mmないし25胴の間の集束領域直径は、
品質管理環境における物質の赤外線測定用として特に効
用を有するものと考えられる。しかし、本発明はこの集
束領域直径に限定されるものでなく、IR顕微鏡付属物
に関連して使用されたものである。
低減させ、かつ、結果として得られるスペクトラムの信
号対雑音比を改善するため大規模領域サンプリングを行
うようにしている。スケーリングはサンプル面上の集束
領域を増大させることによりきわめて簡単に行うことが
できる。1 mmないし25胴の間の集束領域直径は、
品質管理環境における物質の赤外線測定用として特に効
用を有するものと考えられる。しかし、本発明はこの集
束領域直径に限定されるものでなく、IR顕微鏡付属物
に関連して使用されたものである。
以下図面により本発明を説明する。
第1a図はフィールド ストップにおいてフィルタまた
はマスクを使用したその全体を符号数字1で示す拡散反
射分光系の実施例を示す。図示システムlはそこから系
内にエネルギー ビーム3を指向させるエネルギー源2
を含む。ここでいうエネルギーまたはエネルギー ビー
ムなる語は、可視光から赤外線エネルギーを可とする放
射線エネルギー スペクトルに至る種々の波長のエネル
ギーを包含するものである。
はマスクを使用したその全体を符号数字1で示す拡散反
射分光系の実施例を示す。図示システムlはそこから系
内にエネルギー ビーム3を指向させるエネルギー源2
を含む。ここでいうエネルギーまたはエネルギー ビー
ムなる語は、可視光から赤外線エネルギーを可とする放
射線エネルギー スペクトルに至る種々の波長のエネル
ギーを包含するものである。
エネルギー ビーム3は凹面転移ミラー4からフィール
ド ストップ面5の焦点に反射される。
ド ストップ面5の焦点に反射される。
前記フィールド ストップ面5には符号数字6で示すフ
ィルタを配置する。後述するように、フィルタ6はフィ
ールド ストップ面から直角方向に間隔バンド状に入射
エネルギーを反射させる入力面を有する刻面付きビーム
スプリンタ(facetedbeam 5plitt
er )により形成するを可とする。集光レンズ ミラ
ー系8は遠隔イメージ面マスク9において空間的に帯状
のエネルギーを集束させる。
ィルタを配置する。後述するように、フィルタ6はフィ
ールド ストップ面から直角方向に間隔バンド状に入射
エネルギーを反射させる入力面を有する刻面付きビーム
スプリンタ(facetedbeam 5plitt
er )により形成するを可とする。集光レンズ ミラ
ー系8は遠隔イメージ面マスク9において空間的に帯状
のエネルギーを集束させる。
遠隔イメージ面マスク9から発出するエネルギーは全体
を符号数字10で示すカセグレン(Cassegran
ian)レンズに入る。カセグレインレンズ10はサン
プル面15上のサンプル領域14に入射エネルギーを集
束させるよう機能する一次ミラー13および二次ミラー
12を含む。
を符号数字10で示すカセグレン(Cassegran
ian)レンズに入る。カセグレインレンズ10はサン
プル面15上のサンプル領域14に入射エネルギーを集
束させるよう機能する一次ミラー13および二次ミラー
12を含む。
サンプル14はマトリックス状の粉にひいた物質(a
ground material )または粒状の粉材
料により形成する。サンプルは単一の物質でもよく、あ
るいは複数の構成材料または成分材料により形成しても
よい。サンプルは特別に処理したり混ぜ合わせたりする
必要はなく、分析のため非処理状態でサンプル面上に置
くこともできる。
ground material )または粒状の粉材
料により形成する。サンプルは単一の物質でもよく、あ
るいは複数の構成材料または成分材料により形成しても
よい。サンプルは特別に処理したり混ぜ合わせたりする
必要はなく、分析のため非処理状態でサンプル面上に置
くこともできる。
サンプル領域から正反射(鏡面反射)されたエネルギー
は元の通路を戻って遠隔イメージ面マスク9およびフィ
ルタ6で像を形成する。後述するように、フィルタ6は
集束正反射エネルギーをミラー4に反射させるほか、非
集束−次拡散反射エネルギーを凹面転移ミラー17を介
して検出器16に指向させる。検出器16は、拡散反射
エネルギーを受信して、それをサンプル領域に関する分
光データに変換し、データ端末18において調査員が分
析のためそのデータを使用しうるようにする。調査員は
、この拡散反射データから、それらの構成成分の濃度百
分比を含むサンプルおよびその成分の組成を識別するこ
とができる。
は元の通路を戻って遠隔イメージ面マスク9およびフィ
ルタ6で像を形成する。後述するように、フィルタ6は
集束正反射エネルギーをミラー4に反射させるほか、非
集束−次拡散反射エネルギーを凹面転移ミラー17を介
して検出器16に指向させる。検出器16は、拡散反射
エネルギーを受信して、それをサンプル領域に関する分
光データに変換し、データ端末18において調査員が分
析のためそのデータを使用しうるようにする。調査員は
、この拡散反射データから、それらの構成成分の濃度百
分比を含むサンプルおよびその成分の組成を識別するこ
とができる。
使用に際しては、フィールド ストップ面5における刻
面付きスプリッタまたはフィルタ6の入射反射面の像は
サンプル面15においてサンプル14上に像を結ぶ前に
遠隔イメージ面マスク9に結像するか空間的に限定され
る。エネルギーは奇数のイメージ面を形成するので、サ
ンプル14から正反射されるエネルギーはそれが最初に
反射された刻面付きスプリッタの入射面に戻る。かくし
て、サンプル領域から戻った集束エネルギーは刻面付ス
プリッタ6によりもとのエネルギー像2に反射される。
面付きスプリッタまたはフィルタ6の入射反射面の像は
サンプル面15においてサンプル14上に像を結ぶ前に
遠隔イメージ面マスク9に結像するか空間的に限定され
る。エネルギーは奇数のイメージ面を形成するので、サ
ンプル14から正反射されるエネルギーはそれが最初に
反射された刻面付きスプリッタの入射面に戻る。かくし
て、サンプル領域から戻った集束エネルギーは刻面付ス
プリッタ6によりもとのエネルギー像2に反射される。
また、この場合刻面付きビーム スプリッタの入射また
は入力面間のバンド内にはサンプル14から戻ってきた
若干の非集束エネルギーが含まれるので、これがスプリ
ッタ6の他の出力面に当たり、出力検出器16に反射さ
れる。
は入力面間のバンド内にはサンプル14から戻ってきた
若干の非集束エネルギーが含まれるので、これがスプリ
ッタ6の他の出力面に当たり、出力検出器16に反射さ
れる。
第1b図は刻面付きスプリ・ンタ6の構造および作動を
理解するための拡大図を示す。図において、刻面付きス
プリッタ6は複数の並列入力面21および複数の並列出
力面22を形成するのこぎり状縁部または断面を有する
ボディ部(胴部)20を含む。
理解するための拡大図を示す。図において、刻面付きス
プリッタ6は複数の並列入力面21および複数の並列出
力面22を形成するのこぎり状縁部または断面を有する
ボディ部(胴部)20を含む。
前記入力面21はフィールド ストップ面5への垂線に
対して角θ1だけ傾斜させ、出力面22は面5への垂線
に対して角θ2だけ反対側に傾斜させる。
対して角θ1だけ傾斜させ、出力面22は面5への垂線
に対して角θ2だけ反対側に傾斜させる。
到来入射エネルギーはフィールド ストップ面5に対し
て角φを形成するものとする。エネルギー源2よりの入
射エネルギー ビームはビームの通路内の各個別入力面
21上の反射面に衝突する。
て角φを形成するものとする。エネルギー源2よりの入
射エネルギー ビームはビームの通路内の各個別入力面
21上の反射面に衝突する。
入射エネルギーφおよび入力面角θ、は、放射エネルギ
ーがシステムの光学的通路に沿う方向に反射するようこ
れらを選定する。入射エネルギーは複数の間隔を置いた
並列入力面21に衝突するため、正規(直角)に反射さ
れたエネルギーは、図にかげ付きバンド領域23で示す
ような通常並列エネルギー バンドのパターンで刻面付
きスプリッタを離れる。エネルギー バンド23はエネ
ルギー源からのエネルギーのないバンド24によって隔
離される。前記バンド24は、それらの方位のせいでソ
ースからのエネルギーを反射することのない出力面22
に対応して並んだ配置を有する。
ーがシステムの光学的通路に沿う方向に反射するようこ
れらを選定する。入射エネルギーは複数の間隔を置いた
並列入力面21に衝突するため、正規(直角)に反射さ
れたエネルギーは、図にかげ付きバンド領域23で示す
ような通常並列エネルギー バンドのパターンで刻面付
きスプリッタを離れる。エネルギー バンド23はエネ
ルギー源からのエネルギーのないバンド24によって隔
離される。前記バンド24は、それらの方位のせいでソ
ースからのエネルギーを反射することのない出力面22
に対応して並んだ配置を有する。
刻面付きスプリンタ6の像は帯状入射エネルギー23に
よりサンプル面15のサンプル14に投影される。スプ
リッタ像は、刻面付きスプリッタの各入射入力面21の
入射反射面に対応するエネルギーバンドの連続を含む。
よりサンプル面15のサンプル14に投影される。スプ
リッタ像は、刻面付きスプリッタの各入射入力面21の
入射反射面に対応するエネルギーバンドの連続を含む。
第1c図は放射エネルギーと鏡面散乱(specula
rscatter)を示す拡散反射サンプルのサンプル
面領域との相互作用を説明するための拡大図である。
rscatter)を示す拡散反射サンプルのサンプル
面領域との相互作用を説明するための拡大図である。
図において、符号数字15は標準的に拡散反射材料を形
成するような形状の不規則面輪郭25を有する粒状サン
プル面を示す。
成するような形状の不規則面輪郭25を有する粒状サン
プル面を示す。
入射エネルギー バンド23a〜23dはサンプル集束
面において、あたかもミラーからのように正反射され、
ビーム238′〜23d′を形成するが、サンプルの粒
状特性により誘起される表面が不連続性または不規則性
の存在が認められる。かくして、入射エネルギー ビー
ムは、集束面の近傍の各校の輪郭面からの不規則な反射
のため、ビーム23a″〜23d″で例示するように部
分的に散乱される。しかしながら、粒状物質は常態的に
かなり小さいため、各校からの鏡面散乱反射23a#〜
23d“は通常サンプル集束面にかなり近接して発生す
る。このことならびに入力面21の相対的寸法および間
隔のため、正反射エネルギー23a#〜23d“の大部
分は依然として光学系と焦点の合った状態にある。この
ように集束状態にあることにより、鏡面散乱エネルギー
23a“〜23d“および正反射エネルギー23a′〜
23d′はスプリッタの像に関する情報をサンプル領域
に保持することになり、したがってバンド23a〜23
dにおいてスプリッタに戻り、スプリッタの同じ入力面
21に衝突する。サンプル14の面から戻ってきた正反
射は入力面21により反射されてエネルギー源2に戻り
、実際上システムから濾波または除去される。
面において、あたかもミラーからのように正反射され、
ビーム238′〜23d′を形成するが、サンプルの粒
状特性により誘起される表面が不連続性または不規則性
の存在が認められる。かくして、入射エネルギー ビー
ムは、集束面の近傍の各校の輪郭面からの不規則な反射
のため、ビーム23a″〜23d″で例示するように部
分的に散乱される。しかしながら、粒状物質は常態的に
かなり小さいため、各校からの鏡面散乱反射23a#〜
23d“は通常サンプル集束面にかなり近接して発生す
る。このことならびに入力面21の相対的寸法および間
隔のため、正反射エネルギー23a#〜23d“の大部
分は依然として光学系と焦点の合った状態にある。この
ように集束状態にあることにより、鏡面散乱エネルギー
23a“〜23d“および正反射エネルギー23a′〜
23d′はスプリッタの像に関する情報をサンプル領域
に保持することになり、したがってバンド23a〜23
dにおいてスプリッタに戻り、スプリッタの同じ入力面
21に衝突する。サンプル14の面から戻ってきた正反
射は入力面21により反射されてエネルギー源2に戻り
、実際上システムから濾波または除去される。
入射エネルギー23a〜23dのうちいくらかは、図に
23a″″〜23d″″で示すようにサンプルから拡散
反射される前に、サンプル14の面に浸透し、サンプル
を侵害する。拡散反射エネルギー23a″″〜23d″
″は、濾波のため、それが光学系を通して刻面付きビー
ム スプリッタに戻る際、全光学通路にわたって拡散さ
れる。したがって、サンプル領域から拡散反射されるエ
ネルギーのいくらかは集束エネルギー バンド230間
のバンド24において刻面付きスプリッタ6に戻る。バ
ンド24内のこの非集束拡散反射エネルギーは、サンプ
ルにおけるフィルタの像により排除されることなく表面
領域から発出するように見える。この非集束エネルギー
または濾波エネルギーは刻面付きスプリンタ上の出力面
22に突当たり、検出器16に指向される。
23a″″〜23d″″で示すようにサンプルから拡散
反射される前に、サンプル14の面に浸透し、サンプル
を侵害する。拡散反射エネルギー23a″″〜23d″
″は、濾波のため、それが光学系を通して刻面付きビー
ム スプリッタに戻る際、全光学通路にわたって拡散さ
れる。したがって、サンプル領域から拡散反射されるエ
ネルギーのいくらかは集束エネルギー バンド230間
のバンド24において刻面付きスプリッタ6に戻る。バ
ンド24内のこの非集束拡散反射エネルギーは、サンプ
ルにおけるフィルタの像により排除されることなく表面
領域から発出するように見える。この非集束エネルギー
または濾波エネルギーは刻面付きスプリンタ上の出力面
22に突当たり、検出器16に指向される。
このように、刻面付きスプリンタ6はそれから発出する
エネルギーをサンプル面15における刻面付きスプリッ
タの集束像に関して分離または濾波するので、焦点のは
ずれた拡散反射放射エネルギーのみが検出器16に反射
される。
エネルギーをサンプル面15における刻面付きスプリッ
タの集束像に関して分離または濾波するので、焦点のは
ずれた拡散反射放射エネルギーのみが検出器16に反射
される。
サンプルからの反射スペクトラムの正反射成分と拡散反
射成分との分難における本発明の相対的効率は、サンプ
ル面15におけるスプリッタの集束像と比較したサンプ
ル領域におけるエネルギーの浸透の深さに対する刻面付
きスプリッタ6上の面21および22の間隔による。浅
い深さのエネルギー浸透を有するサンプル領域は、刻面
付きスプリンタ6上の面21および22を相互に近接し
て配置し、サンプル領域の面がほとんど均一に付勢され
るようにする必要がある。これに対して、深いエネルギ
ー浸透を有するサンプル領域はさらに大きい間隔をもっ
たより大きい面21および22を有する必要がある。
射成分との分難における本発明の相対的効率は、サンプ
ル面15におけるスプリッタの集束像と比較したサンプ
ル領域におけるエネルギーの浸透の深さに対する刻面付
きスプリッタ6上の面21および22の間隔による。浅
い深さのエネルギー浸透を有するサンプル領域は、刻面
付きスプリンタ6上の面21および22を相互に近接し
て配置し、サンプル領域の面がほとんど均一に付勢され
るようにする必要がある。これに対して、深いエネルギ
ー浸透を有するサンプル領域はさらに大きい間隔をもっ
たより大きい面21および22を有する必要がある。
刻面付きスプリッタ6の面の間隔の上限は設計およびサ
ンプリング上の考慮により決定される。
ンプリング上の考慮により決定される。
例えば、スプリッタ6の面21および22の寸法および
間隔は入射エネルギーの波長に相関させる必要がある。
間隔は入射エネルギーの波長に相関させる必要がある。
さらに、面21および22は刻面付きスプリッタ6が重
要な回折効果を生じないよう充分な間隔をもたせるよう
にする必要がある。
要な回折効果を生じないよう充分な間隔をもたせるよう
にする必要がある。
サンプルの位置は、サンプル面を良質の光学的焦点に位
置させなければならないという点で特に臨界的である。
置させなければならないという点で特に臨界的である。
サンプルを良好な焦点に位置決めする1つの方法は、可
視光をサンプリング エネルギーと同じ光学通路の部分
に沿って指向させ、第1a図に示す視覚観測システムを
用いて前記可視光をサンプル面15に集束させることで
ある。
視光をサンプリング エネルギーと同じ光学通路の部分
に沿って指向させ、第1a図に示す視覚観測システムを
用いて前記可視光をサンプル面15に集束させることで
ある。
これに関して、ランプ28からの可視光ビーム27の一
部は屈折ビーム スプリッタ29で反射され、枢回可能
ミラー30に至る。枢着ミラー30を点線30aで示す
ようにエネルギーの光学通路内でアーチ状に動かした場
合は、エネルギー#i2よりのエネルギーはブロックさ
れ、ランプ28からの可視光がミラー29で反射される
。この反射可視光は遠隔イメージ面マスク9において集
束するので、二次ミラー12および一部ミラー13は放
射エネルギーがサンプリング モードで集束される同一
サンプル面上に可視光を集束させる。また、反射光の一
部は屈折ビーム スプリッタ29を通ってミラー31に
至り、そこで接眼レンズ32により観測されうるように
する。可視光観察モードにおいては、使用者はマスク9
を調整して遠隔イメージ面における開口部の大きさを変
え、サンプリングしている面領域の寸法を制御すること
ができるほか、サンプル面を垂直方向に調整し、爾後の
放射エネルギーサンプル テスティングのため光学系を
適正な集束状態に配置することも可能である。
部は屈折ビーム スプリッタ29で反射され、枢回可能
ミラー30に至る。枢着ミラー30を点線30aで示す
ようにエネルギーの光学通路内でアーチ状に動かした場
合は、エネルギー#i2よりのエネルギーはブロックさ
れ、ランプ28からの可視光がミラー29で反射される
。この反射可視光は遠隔イメージ面マスク9において集
束するので、二次ミラー12および一部ミラー13は放
射エネルギーがサンプリング モードで集束される同一
サンプル面上に可視光を集束させる。また、反射光の一
部は屈折ビーム スプリッタ29を通ってミラー31に
至り、そこで接眼レンズ32により観測されうるように
する。可視光観察モードにおいては、使用者はマスク9
を調整して遠隔イメージ面における開口部の大きさを変
え、サンプリングしている面領域の寸法を制御すること
ができるほか、サンプル面を垂直方向に調整し、爾後の
放射エネルギーサンプル テスティングのため光学系を
適正な集束状態に配置することも可能である。
第1a図に示す光学系は低倍率サンプリング システム
あるいは高倍率顕微鏡のいずれかにより形成することが
できる。
あるいは高倍率顕微鏡のいずれかにより形成することが
できる。
第2図は、特に品質管理目的用のサンプル面領域のマク
ロサンプリングに好適な第1図示システムの簡易版を示
すもので、第1図示実施例の構成素子と共通な構成素子
に関しては同一符号数字を用いて表示しである。共通の
符号数字を比較することから明らかなように、また後述
するように、第2図示拡散反射分光系1^は、遠隔イメ
ージ面マスクおよび関連のレンズを取除き、可視観測シ
ステムを簡易化したこと以外は第1図示実施例ときわめ
て類似している。
ロサンプリングに好適な第1図示システムの簡易版を示
すもので、第1図示実施例の構成素子と共通な構成素子
に関しては同一符号数字を用いて表示しである。共通の
符号数字を比較することから明らかなように、また後述
するように、第2図示拡散反射分光系1^は、遠隔イメ
ージ面マスクおよび関連のレンズを取除き、可視観測シ
ステムを簡易化したこと以外は第1図示実施例ときわめ
て類似している。
第2図の場合、凹面転移ミラー4はエネルギー源2より
のエネルギーを刻面付きスプリッタ6の入力面上に集束
させ、二次ミラー12は刻面付きスプリッタ6から反射
されたエネルギーを一部ミラー13に指向させる。ミラ
ー13はサンプル面15におけるサンプル14上に刻面
付きスプリッタ6の像を形成する。
のエネルギーを刻面付きスプリッタ6の入力面上に集束
させ、二次ミラー12は刻面付きスプリッタ6から反射
されたエネルギーを一部ミラー13に指向させる。ミラ
ー13はサンプル面15におけるサンプル14上に刻面
付きスプリッタ6の像を形成する。
一部ミラー13はサンプル14から反則されるエネルギ
ーを集光し、二次ミラー12を介してそれを刻面付きス
プリッタ6に戻す。刻面付きスプリッタ6は、前述した
ように、サンプル14よりの正反射エネルギーをサンプ
ル領域内から拡散反射されるエネルギーから分離する。
ーを集光し、二次ミラー12を介してそれを刻面付きス
プリッタ6に戻す。刻面付きスプリッタ6は、前述した
ように、サンプル14よりの正反射エネルギーをサンプ
ル領域内から拡散反射されるエネルギーから分離する。
刻面付きスプリッタの入力面21はサンプルから正反射
された集束エネルギーをエネルギー源に戻し、これに対
し刻面付きスプリッタの出力面22はサンプルから拡散
反射された非集束エネルギーを凹面転移ミラー17を介
して検出器16に指向させる。
された集束エネルギーをエネルギー源に戻し、これに対
し刻面付きスプリッタの出力面22はサンプルから拡散
反射された非集束エネルギーを凹面転移ミラー17を介
して検出器16に指向させる。
また、第2図示マクロサンプリング システムは一部ミ
ラー13の焦点に複数のサンプル14を自動的に位置決
めする手段を含むことができる。例えば、複数のサンプ
ルホールダを含むエンドレストラックまたはコンベヤ上
の位置に順次サンプル14を移動させることもできる。
ラー13の焦点に複数のサンプル14を自動的に位置決
めする手段を含むことができる。例えば、複数のサンプ
ルホールダを含むエンドレストラックまたはコンベヤ上
の位置に順次サンプル14を移動させることもできる。
第2図に示すマクロサンプリング装置の光学系は可視光
観測モードで収束させることができる。
観測モードで収束させることができる。
可視光観測システムは可視光ビーム27を生成するラン
プ28を含み前記ビーム27は屈折ビーム スプリッタ
29により放射エネルギーの光通路に沿って反射される
。接眼レンズ32はその軸が上記光通路と一線になるよ
う位置決めする。サンプル面15は刻面付きスプリンタ
6を接眼レンズ32の光通路から外れるようスライドま
たは枢回させることにより可視的に観測することができ
る。可視光ビーム27は屈折ビームスプリッタ29によ
り反射されてサンプル面15に至り、屈折ビーム スプ
リッタ29を介して接眼レンズ32に戻る。また、可視
光源を一次ミラーとサンプルとの間に配置し、接眼レン
ズ32がサンプル イメージ面15の“暗色フィールド
(dark−field)”ビューを観察しうるように
することもできる。上述配置の接眼レンズ32は一次ミ
ラー13の焦点におけるサンプル面15およびサンプル
14の配列およ′び集束を可能にする。
プ28を含み前記ビーム27は屈折ビーム スプリッタ
29により放射エネルギーの光通路に沿って反射される
。接眼レンズ32はその軸が上記光通路と一線になるよ
う位置決めする。サンプル面15は刻面付きスプリンタ
6を接眼レンズ32の光通路から外れるようスライドま
たは枢回させることにより可視的に観測することができ
る。可視光ビーム27は屈折ビームスプリッタ29によ
り反射されてサンプル面15に至り、屈折ビーム スプ
リッタ29を介して接眼レンズ32に戻る。また、可視
光源を一次ミラーとサンプルとの間に配置し、接眼レン
ズ32がサンプル イメージ面15の“暗色フィールド
(dark−field)”ビューを観察しうるように
することもできる。上述配置の接眼レンズ32は一次ミ
ラー13の焦点におけるサンプル面15およびサンプル
14の配列およ′び集束を可能にする。
第3図はフィールド ストップ面において異なる形式の
フィルタまたはマスクを使用した第2図示拡散反射分光
装置の他の実施例を示す。転移ミラー35および36は
エネルギー源2よりの放射エネルギー3を“アイランド
“″スプリッタまたはワイヤ グリッドのようなフィル
タ37における焦点に指向する。フィルタ37は透過面
領域(transmissivesurface ar
ea )または開口領域と結合させた種々のパターンの
反射面領域もしくは種々のパターンの反射面を有する多
くの形状をとることができる。例えば、第3a図に示す
ように、フィルタ37は開口透過領域(open tr
ansmissive area) 39のパターンを
限定する反射ワイヤ38の交差グリッドを有することが
できる。この場合、反射ワイヤ38はスプリッタ6の入
力面21に類似し、開口透過領域39は出力面22に対
応する。
フィルタまたはマスクを使用した第2図示拡散反射分光
装置の他の実施例を示す。転移ミラー35および36は
エネルギー源2よりの放射エネルギー3を“アイランド
“″スプリッタまたはワイヤ グリッドのようなフィル
タ37における焦点に指向する。フィルタ37は透過面
領域(transmissivesurface ar
ea )または開口領域と結合させた種々のパターンの
反射面領域もしくは種々のパターンの反射面を有する多
くの形状をとることができる。例えば、第3a図に示す
ように、フィルタ37は開口透過領域(open tr
ansmissive area) 39のパターンを
限定する反射ワイヤ38の交差グリッドを有することが
できる。この場合、反射ワイヤ38はスプリッタ6の入
力面21に類似し、開口透過領域39は出力面22に対
応する。
フィルタ37からパターン バンド状に反射される入射
エネルギーは二次ミラーI2およびカセグレイン レイ
ズ10の一次ミラー13に入り、サンプル面15にバン
ド状放射エネルギーの発散ビームを集束させる。フィル
タ37の集束像はサンプル14に突き当たるエネルギー
によりサンプル面15に形成される。
エネルギーは二次ミラーI2およびカセグレイン レイ
ズ10の一次ミラー13に入り、サンプル面15にバン
ド状放射エネルギーの発散ビームを集束させる。フィル
タ37の集束像はサンプル14に突き当たるエネルギー
によりサンプル面15に形成される。
サンプル面15においてサンプル14から正反射された
入射放射エネルギーは、フィルタ37の反射領域に結像
し、エネルギー源2の方向に反射して光学系から失われ
る。前述のように、サンプルから拡散反射された入射放
射エネルギーのいくらかは非集束状態でフィルタ37の
反射領域の間を通り、ミラー40に至りミラー40から
の拡散反射放射エネルギーは転移ミラー41および42
を介して検出器16に指向される。かくして、反射領域
スプリッタまたはフィルタ37は、拡散反射放射エネル
ギーが反射面を有する出力面から反射するのでなく、反
射領域の間を通過すること以外は同じように機能する。
入射放射エネルギーは、フィルタ37の反射領域に結像
し、エネルギー源2の方向に反射して光学系から失われ
る。前述のように、サンプルから拡散反射された入射放
射エネルギーのいくらかは非集束状態でフィルタ37の
反射領域の間を通り、ミラー40に至りミラー40から
の拡散反射放射エネルギーは転移ミラー41および42
を介して検出器16に指向される。かくして、反射領域
スプリッタまたはフィルタ37は、拡散反射放射エネル
ギーが反射面を有する出力面から反射するのでなく、反
射領域の間を通過すること以外は同じように機能する。
また、第3図示実施例は、ランプ28、屈折ビーム ス
プリッタ29および光通路と軸方向に一列となるよう配
置した接眼レンズ32を含み、第2図に関し前述したよ
うな可視光観測および集束システムを有する。ミラー4
0およびスプリッタ37を通路から外れるようスライド
または枢回させた場合は、可視光をカセグレイン レン
ズ10によりサンプル14上に集束させることができ、
かくして接眼レンズ32で、サンプル像を観察しながら
サンプル面15を調整し光学系を集束状態にすることが
できる。
プリッタ29および光通路と軸方向に一列となるよう配
置した接眼レンズ32を含み、第2図に関し前述したよ
うな可視光観測および集束システムを有する。ミラー4
0およびスプリッタ37を通路から外れるようスライド
または枢回させた場合は、可視光をカセグレイン レン
ズ10によりサンプル14上に集束させることができ、
かくして接眼レンズ32で、サンプル像を観察しながら
サンプル面15を調整し光学系を集束状態にすることが
できる。
第4図は2つの個別フィールド ストップ面における2
つのフィルタと屈折ビーム スプリッタを使用した第1
図ないし第3図に示す拡散反射分光装置の他の実施例を
示す。図において、転移ミラー44および45はエネル
ギー源2からの放射エネルギー3を第1遠隔フイールド
ストップ面47に指向させる。システムの光通路内の
フィールドストップ面には第1フィルタ48を配置する
。第1フィルタ4日は第3a図に示すように、それらの
間に開口透過領域39を限定する交差反射ワイヤ38を
有するグリッドを含む。
つのフィルタと屈折ビーム スプリッタを使用した第1
図ないし第3図に示す拡散反射分光装置の他の実施例を
示す。図において、転移ミラー44および45はエネル
ギー源2からの放射エネルギー3を第1遠隔フイールド
ストップ面47に指向させる。システムの光通路内の
フィールドストップ面には第1フィルタ48を配置する
。第1フィルタ4日は第3a図に示すように、それらの
間に開口透過領域39を限定する交差反射ワイヤ38を
有するグリッドを含む。
反射ワイヤ グリッドに射突する放射エネルギーはシス
テムから除去される。第1グリツド フィルタイ8内の
開口領域または透過領域39を通過するエネルギーは別
個のエネルギー バンドで屈折ビーム スプリッタ50
に指向される。屈折ビームスプリッタ50から反射され
る入射エネルギーバンドはカセグレイン レンズ10の
二次ミラー12および一次ミラー13に入り、サンプル
面15上のサンプル14にバンド状放射エネルギーを集
束させる。
テムから除去される。第1グリツド フィルタイ8内の
開口領域または透過領域39を通過するエネルギーは別
個のエネルギー バンドで屈折ビーム スプリッタ50
に指向される。屈折ビームスプリッタ50から反射され
る入射エネルギーバンドはカセグレイン レンズ10の
二次ミラー12および一次ミラー13に入り、サンプル
面15上のサンプル14にバンド状放射エネルギーを集
束させる。
また、第1グリツド フィルタ48の集束像はサンプル
14に突当るエネルギーによりサンプル面15に形成さ
れる。
14に突当るエネルギーによりサンプル面15に形成さ
れる。
一次ミラー13はサンプル14から反射されるエネルギ
ーを集光するので、それは二次ミラー12により屈折ビ
ーム スプリッタ50に戻る。サンプル14から反射さ
れるエネルギーのいくらかは屈折ビーム スプリッタ4
9を介して第2遠隔フィールドストップ面51に配置し
た第2ワイヤ グリッドフィルタ50に指向する。前記
第2ワイヤ グリッド フィルタ50は屈折ビーム ス
プリンタ49から第1グリツド フィルタ48までの距
離と同じ距離の所に位置決めする。第2グリツド フィ
ルタ50は第1グリツド フィルタ48のネガまたは4
H補フィルタとする。これは、第1フィルタを通過し、
光学系の残りの部分を介して集束状態を保持するエネル
ギーは第2グリツド フィルタ50の反射ワイヤにより
ブロックされることを意味する。
ーを集光するので、それは二次ミラー12により屈折ビ
ーム スプリッタ50に戻る。サンプル14から反射さ
れるエネルギーのいくらかは屈折ビーム スプリッタ4
9を介して第2遠隔フィールドストップ面51に配置し
た第2ワイヤ グリッドフィルタ50に指向する。前記
第2ワイヤ グリッド フィルタ50は屈折ビーム ス
プリンタ49から第1グリツド フィルタ48までの距
離と同じ距離の所に位置決めする。第2グリツド フィ
ルタ50は第1グリツド フィルタ48のネガまたは4
H補フィルタとする。これは、第1フィルタを通過し、
光学系の残りの部分を介して集束状態を保持するエネル
ギーは第2グリツド フィルタ50の反射ワイヤにより
ブロックされることを意味する。
前述のように、サンプル14からの鏡面散乱エネルギー
および正反射エネルギーは集束状態を保持し、第2フィ
ルタ50のワイヤグリッド38から反射されることによ
り、システムから取除かれる。サンプル14からの拡散
反射エネルギーはすべての反射スペクトラムにわたって
広がり、集束エネルギーのバンドの間に位置する拡散反
射エネルギーは第2フィルタ50の開口領域または透過
領域39を介して枢着ミラー52に至る。前記ミラー5
2からの拡散反射放射エネルギーは転移ミラー54およ
び55を介して検出器16に指向される。
および正反射エネルギーは集束状態を保持し、第2フィ
ルタ50のワイヤグリッド38から反射されることによ
り、システムから取除かれる。サンプル14からの拡散
反射エネルギーはすべての反射スペクトラムにわたって
広がり、集束エネルギーのバンドの間に位置する拡散反
射エネルギーは第2フィルタ50の開口領域または透過
領域39を介して枢着ミラー52に至る。前記ミラー5
2からの拡散反射放射エネルギーは転移ミラー54およ
び55を介して検出器16に指向される。
また、第4図示実施例は第2図および第3図に関し前述
したような可視光観測および集束システムを有する。こ
の可視光システムはランプ28、屈折ビーム−スプリッ
タ29および光通路と軸方向に一列に配置した接眼レン
ズ32を含む。いま、ミラー52を光通路からずらすよ
うに枢回させた場合は、可視光をカセグレイン レンズ
10によりサンプル14上に集束させることができるの
で、接眼レンズ32でサンプル像を観察しながらサンプ
ル面15を垂直方向に調整し、光学系を集束状態にもっ
て行くことができる。
したような可視光観測および集束システムを有する。こ
の可視光システムはランプ28、屈折ビーム−スプリッ
タ29および光通路と軸方向に一列に配置した接眼レン
ズ32を含む。いま、ミラー52を光通路からずらすよ
うに枢回させた場合は、可視光をカセグレイン レンズ
10によりサンプル14上に集束させることができるの
で、接眼レンズ32でサンプル像を観察しながらサンプ
ル面15を垂直方向に調整し、光学系を集束状態にもっ
て行くことができる。
以上、本発明の原理、実施例および作動態様につき記述
してきたが、本発明は本明細書に記載の実施例に限定さ
れるものでなく、他の変形をも包含するものである。例
えば、入射エネルギーが上からでなく、下方からサンプ
ルに突き当たるよう光学系のすべてを反転させることも
できる。このような場合には、サンプルをエネルギー透
過ウィンドウにより下方から支持するを可とする。この
オリエンテーションは分析を行うために使用するサンプ
ル量を少なくすることができるというような利点を与え
ることができる。
してきたが、本発明は本明細書に記載の実施例に限定さ
れるものでなく、他の変形をも包含するものである。例
えば、入射エネルギーが上からでなく、下方からサンプ
ルに突き当たるよう光学系のすべてを反転させることも
できる。このような場合には、サンプルをエネルギー透
過ウィンドウにより下方から支持するを可とする。この
オリエンテーションは分析を行うために使用するサンプ
ル量を少なくすることができるというような利点を与え
ることができる。
第1a図はフィールド ストップ面において刻面付きス
プリッタを用いた拡散反射光学系の概要を示す図、 第1b図は第1d図示刻面付きスプリッタの詳細を示す
拡大図、 第1c図は第18図示光学系のサンプル面において不規
則な粒状表面を有するサンプル領域の詳細を示す拡大断
面図、 第2図はマクロサンプリング目的の簡易化光学系により
形成した第1図示システムの他の実施例を示す図、 第3図は刻面付きスプリッタの代わりに反射領域ビーム
スプリッタを使用した第2図示拡散反射光学系の他の
実施例を示す図、 第3a図は第3図示実施例のフィールド ストップ面に
おいてフィルタとして使用するワイヤ グリッドの断面
図、 第4図は第1、第2遠隔フイールド ストップフィルタ
および屈折ビーム スプリッタを含む第1図示光学系の
他の実施例を示す図である。 1.1A−・・拡散反射分光系 2・・・エネルギー源 3・・・エネルギー ビーム 4、17.31.35.36.41.42.44.45
.54.55・・・転移ミラー 5、47.51・・・フィールド ストップ面6・・・
刻面付きスプリンタまたはフィルタ8・・・集光レンズ
ミラー系 9・・・遠隔イメージ面マスク 10・・・カセグレイン レンズ 12・・・二次ミラー 13・・・−次ミラー 14・・・サンプル領域 15・・・サンプル面 16・・・検出器 18・・・データ端末 20・・・ボディ部 21・・・入力面 22・・・出力面 23、2/i・・・ハンド 23a −d・・・入力エネルギー バンド23a’
〜23d ’ 、 23a″〜23d“、23a・・・
反射エネルギー 25・・・不規則面輪郭 27・・・可視光ビーム 28・・・ランプ 29、49・・・屈折ビーム スプリンタ30・・・枢
着ミラー 32・・・接眼レンズ 37・・・フィルタ 38・・・反射ワイヤ 39・・・開口透過領域 48、50・・・グリッド フィルタ 〜23d″″
プリッタを用いた拡散反射光学系の概要を示す図、 第1b図は第1d図示刻面付きスプリッタの詳細を示す
拡大図、 第1c図は第18図示光学系のサンプル面において不規
則な粒状表面を有するサンプル領域の詳細を示す拡大断
面図、 第2図はマクロサンプリング目的の簡易化光学系により
形成した第1図示システムの他の実施例を示す図、 第3図は刻面付きスプリッタの代わりに反射領域ビーム
スプリッタを使用した第2図示拡散反射光学系の他の
実施例を示す図、 第3a図は第3図示実施例のフィールド ストップ面に
おいてフィルタとして使用するワイヤ グリッドの断面
図、 第4図は第1、第2遠隔フイールド ストップフィルタ
および屈折ビーム スプリッタを含む第1図示光学系の
他の実施例を示す図である。 1.1A−・・拡散反射分光系 2・・・エネルギー源 3・・・エネルギー ビーム 4、17.31.35.36.41.42.44.45
.54.55・・・転移ミラー 5、47.51・・・フィールド ストップ面6・・・
刻面付きスプリンタまたはフィルタ8・・・集光レンズ
ミラー系 9・・・遠隔イメージ面マスク 10・・・カセグレイン レンズ 12・・・二次ミラー 13・・・−次ミラー 14・・・サンプル領域 15・・・サンプル面 16・・・検出器 18・・・データ端末 20・・・ボディ部 21・・・入力面 22・・・出力面 23、2/i・・・ハンド 23a −d・・・入力エネルギー バンド23a’
〜23d ’ 、 23a″〜23d“、23a・・・
反射エネルギー 25・・・不規則面輪郭 27・・・可視光ビーム 28・・・ランプ 29、49・・・屈折ビーム スプリンタ30・・・枢
着ミラー 32・・・接眼レンズ 37・・・フィルタ 38・・・反射ワイヤ 39・・・開口透過領域 48、50・・・グリッド フィルタ 〜23d″″
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、エネルギー源と、 サンプル面におけるサンプルと、 エネルギー源よりのエネルギーをフィールドストップ面
における焦点に指向させる手段と、 エネルギー源よりのエネルギーを空間的に離隔したエネ
ルギーバンド状でサンプルに向かって反射させるよう形
成したフィールドストリップ面のフィルタと、 サンプル面におけるサンプル上に集束させるよう該エネ
ルギーバンドを指向させてサンプル面にフィルタの像を
形成し、サンプルから反射されるエネルギーをフィルタ
に戻すための手段と、 サンプルから正反射された集束エネルギーをシステム外
に指向させ、サンプルから拡散反射された非集束エネル
ギーを検出器に指向させるよう形成したフィルタとを含
むことを特徴とする拡散反射分光システム。 2、該フィルタを1つの方向に傾斜した複数の並列反射
入力面と他の方向に傾斜した複数の並列反射出力面とを
形成するのこぎり状断面を有するビームスプリッタによ
り形成し、前記入力面はエネルギー源からのエネルギー
を反射させてエネルギーバンドを形成させるほか、サン
プルから正反射される集束エネルギーをシステム外に反
射させ、前記出力面はサンプルから拡散反射される非集
束エネルギーを検出器に反射させるようにしたことを特
徴とする請求項1記載の拡散反射分光システム。 3、該フィルタは反射領域および非反射領域のパターン
を有し、ビームスプリッタの反射領域はエネルギー源か
らのエネルギーを反射させてエネルギーバンドを形成さ
せるほか、サンプルから正反射される集束エネルギーを
システム外に反射させ、また非反射領域はサンプルから
拡散反射される非集束エネルギーを検出器に反射させる
ようにしたことを特徴とする請求項1記載の拡散反射分
光システム。 4、該エネルギー源は放射エネルギーを供給し、エネル
ギーバンドを指向させ、反射エネルギーをフィルタに戻
すための該手段はサンプル面に隣接配置したカセグレイ
ンレンズを含むことを特徴とする請求項1記載の拡散反
射分光システム。 5、該フィルタと該カセグレインレンズの間の遠隔イメ
ージ面に放射エネルギーバンドを集束させるための集光
レンズを具えたことを特徴とする請求項4記載の拡散反
射分光システム。 6、可視光源と、放射エネルギーの通路に対応するサン
プルへの光通路に沿って可視光を指向させる手段と、集
束または位置決め目的のため光通路に沿って可視光でサ
ンプル像を観察するための観測手段とを含む可視光観測
システムを具えたことを特徴とする請求項4記載の拡散
反射分光システム。 7、可視光源と、放射エネルギーの通路に対応するサン
プルへの光通路に沿って可視光を指向させる手段と、集
束または位置決め目的のため光通路に沿って可視光でサ
ンプル像を観察するための観測手段とを含む可視光観測
システムを具えたことを特徴とする請求項5記載の拡散
反射分光システム。 8、遠隔イメージ面にマスクを具え、可視光観測モード
で該マスクを調整して、放射エネルギーサンプリングの
ためサンプルの表面領域にターゲットをおくようにした
ことを特徴とする請求項7記載の拡散反射分光システム
。 9、エネルギー源と、 サンプル面におけるサンプルと、 エネルギー源よりのエネルギーを第1フィールドストッ
プ面における焦点に指向させる手段と、 エネルギー源よりのエネルギーを空間的に離隔したバン
ド状でサンプルに向かって反射させるよう形成した第1
フィールドストップ面の第1フィルタと、 サンプル面上に集束させるよう該エネルギーバンドを指
向させて、サンプル面に第1フィルタの像を形成し、サ
ンプルから反射されるエネルギーを第2フィールドスト
ップ面の第2フィルタに戻すための手段と、 サンプルから正反射された集束エネルギーをシステム外
に指向させ、サンプルから拡散反射された非集束エネル
ギーを検出器に指向させるよう形成した第2フィルタと
を含むことを特徴とする拡散反射分光システム。 10、該第1フィルタおよび第2フィルタを反対の反射
パターンおよび透過パターンを有するワイヤグリッドに
より形成し、第2フィルタを第1フィルタの相補フィル
タとして機能させるようにしたことを特徴とする請求項
9記載の拡散反射分光システム。 11、エネルギーバンドを指向させ、反射エネルギーを
フィルタに戻すための該手段は屈折ビームスプリッタお
よびカセグレインレンズを含むことを特徴とする請求項
10記載の拡散反射分光システム。 12、システム内に放射エネルギーを誘導するステップ
と、 放射エネルギーをフィールドストップに集束させるステ
ップと、 このフィールドストップにフィルタを位置決めするステ
ップと、 エネルギー源からの入射放射エネルギーをフィルタによ
り反射させ、個別放射エネルギーバンドを形成させるス
テップと、 放射エネルギーバンドを、サンプルを含むサンプル面の
焦点に指向させ、サンプル面にフィルタの像を形成させ
るステップと、 サンプルから正反射および拡散反射される放射エネルギ
ーを集光し、これらをフィルタに戻すステップと、 フィルタにおいて拡散反射サンプルエネルギーから正反
射サンプルエネルギーを分離させるステップと、 拡散反射エネルギーのみをフィルタから検出器に指向さ
せるステップと を含むことを特徴とする光学システムにおいて拡散反射
スペクトラムを得る方法。 13、遠隔イメージ面にエネルギーバンドを集束させる
ステップと、 放射エネルギーにより接触されているサンプルの表面領
域を限定するため該遠隔イメージ面をマスクするステッ
プと を含むこと特徴とする請求項12記載の方法。 14、放射エネルギーの通路に対応する光通路に沿って
可視光を指向させるステップと、可視光でサンプルの像
を観察しながら光学系の集束、あるいはサンプルの位置
決めを行うステップとを含むことを特徴とする請求項1
3記載の方法。 15、システム内に放射エネルギーを誘導するステップ
と、 放射エネルギーを第1フィールドストップに集束させる
ステップと、 前記第1フィールドストップに第1フィルタを位置決め
し、個別エネルギーバンドを形成させるステップと、 個別放射エネルギーバンドを、サンプルを含むサンプル
面の焦点に指向させるステップと、 サンプル面に第1フィルタの像を形成させるステップと
、 サンプルから正反射および拡散反射される放射エネルギ
ーを集光し、これらを第2フィールドストップ面の第2
フィルタに戻すステップと、 第2フィルタにおいて、拡散反射サンプルエネルギーか
ら正反射サンプルエネルギーを分離させるステップと、 拡散反射エネルギーのみを第2フィルタから検出器に指
向させるステップと を含むことを特徴とする光学システムにおいて拡散反射
スペクトラムを得る方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/191,980 US4859064A (en) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | Diffuse reflectance spectroscopy system and method |
| US191980 | 1988-05-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0217427A true JPH0217427A (ja) | 1990-01-22 |
Family
ID=22707719
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1106087A Pending JPH0217427A (ja) | 1988-05-09 | 1989-04-27 | 拡散反射分光システム |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4859064A (ja) |
| JP (1) | JPH0217427A (ja) |
| DE (1) | DE3913228C2 (ja) |
| GB (1) | GB2218535B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0445231U (ja) * | 1990-08-20 | 1992-04-16 |
Families Citing this family (61)
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