JPH0217580A - 図形描画方法 - Google Patents

図形描画方法

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JPH0217580A
JPH0217580A JP16936588A JP16936588A JPH0217580A JP H0217580 A JPH0217580 A JP H0217580A JP 16936588 A JP16936588 A JP 16936588A JP 16936588 A JP16936588 A JP 16936588A JP H0217580 A JPH0217580 A JP H0217580A
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田村 裕美
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宮本 隆裕
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は電子計算機における図形の描画方法、特に図形
記憶装置に描画する単位と図形記憶装置の内容を表示す
る単位とが異なる場合の、効率的な矩形領域描画方法に
関する。
[従来の技術] 従来の矩形領域描画の方法は、以下の様に行われている
。ただし、任意の一方向に連続した複数の図形を表示す
る最小単位を以下ドツトと記述し、ドツトは水平方向に
連続しているものとする。また、図形記憶装置に図形を
描画する最小単位を以下パターンと記述する。
(1)矩形領域をその構成要素である水平線に分割する
(2) (1)で分割した各水平線を、その左端から最
初のパターン境界までの左端部と、前記水平線に含まれ
る最終のパターン境界から右端までの右端部分と、左端
部分と右端部分にはさまれた中央部分に分割し、それぞ
れの描画パターンを作成する。
(3)左端部分・中央部分・右端部分の描画パターンを
任意の順番で描画することにより、−本の水平線を描画
する。
(4) (2)、(3)の処理を(1)で分割した水平
線の本数分繰り返すことにより、矩形領域を描画する。
あるいは、(2)で作成した各描画パターンを常時保存
しながら(3)の処理だけを繰り返すことにより、矩形
領域を描画する。
[発明が解決しようとする課題] 従来の矩形領域描画方法では、以下の様な問題点を有し
ている。
矩形領域を構成する水平線1本毎にその左端部分・中央
部分・右端部分のパターン描画を繰り返す為に、描画終
了時まで前記各部分に対応したパターンを保存するか、
あるいは毎回前記各部分に対応したパターンを作成する
処理が必要となる。
その結果、パターンを保存する場合には必要に応じた記
憶領域が必要となり、記憶領域を非効率的に使用するこ
とになる。また毎回パターンを作成する場合には、該処
理を実行するための時間が必要になるとともに煩雑性が
増大し、処理速度が1/2〜1/3に大幅にダウンする
ことになる。
本発明の目的は上記問題点に鑑み、記憶領域の効率的な
使用と矩形領域描画処理の簡略化を図ることにより、高
速な矩形領域描画の方法を提供することである。
[課題を解決するための手段] 表示図形を記憶する図形記憶装置と、図形記憶装置の内
容を図形として表示する図形表示装置と、図形記憶装置
に図形を描画する図形描画手段とを備え、前記図形記憶
装置に図形を描画するパターンが、任意の一方向に連続
した複数の図形を表示する最小単位のドツトから構成さ
れる電子計算機において、ドツト単位で指定された任意
の矩形領域を前記図形記憶装置に描画する場合に、(A
)前記矩形領域をその一方の端から最初のパターン境界
までの矩形領域1 CB)前記矩形領域に含まれる最終のパターン境界から
他方の端までの矩形領域2 (C)矩形領域1と矩形領域2にはさまれた矩形領域3 とに分割し、この3つの矩形領域1.2.3を任意の順
序で前記図形記憶装置に描画することにより、前記矩形
領域の描画を行うよう構成したことを特徴としている。
[実施例] 以下に、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の一実施例による構成、第2図は図形記
憶装置の一構成例を示す。
第1図において、101は図形表示装置、102は図形
記憶装置、103は図形描画手段、104は描画パター
ン作成手段を表す。このうち、図形記憶装置は本実施例
において第2図に示すような特徴を有するものとする。
201は表示基本単位のドツト、202は描画基本単位
のパターンで、水平方向に連続した8個のドツトから構
成される。このとき、図形記憶装置上の任意のドツト位
置Aを A = (X、Y) = X + Y*640で求めら
れる座標系で表現する。また、図形を描画するとは、図
形記憶装置の対象ドツト位置に1または0を書き込むこ
ととする。ただし、本発明はこの数値例に限定されるこ
とはない。
(1)実施例1 以下に矩形領域描画の過程を、第3図のフローチャート
(ステップ301〜319) 、及び第4図を参照しつ
つ具体的に説明する。
ここで説明を簡単にするために、図形記憶装置は初期化
され図形データは何も記憶されていないものとする。
第4図に示した、座標(Xl、Yl) ト(X2.Y2
)(7) 2点を対角とする矩形領域Bを描画する場合
、第4図に示したように、この矩形領域Bを次の3つの
矩形領域Bl、B2.B3に分割する。(ステップB 
1 : (Xi、Yl)と(XL、Y2)を対角とする
矩形領域B 2 : (XLYI)と(X2.Yl)を
対角とする矩形領域B 3 : (XL+1.Yl)と
(XR−1,Yl)を対角とする矩形領域 ただし、XLは(XL〉=xl)カッくxL+1)カバ
ターン境界値であることを満足する最小値。また、XR
は(XR=< X2)かつパターン境界値であることを
満足する最大値。ここで、パターン境界値とは−パター
ンを構成するドツト数8で割り切れる値である。
また、xlあるいは(X2+1)がパターン境界値であ
る場合は、B1あるいはB2がB3に含まれることにな
る。
次に各矩形領域を描画するが、その描画類は任意であり
、本実施例ではBl、B2.B3の順で描画するものと
する。
矩形領域B1の描画は以下の手順により行う。
まず、X座標x1ないしXLを含む−パターン幅の水平
線の描画パターンP1を作成する。(ステップ302)
次に、このパターンP1をY座標Y1からYlまで、X
座標位置(XL−7)から描画する。(ステップ303
〜306) 矩形領域B2の描画は以下の手順により行う。
まず、X座標XRないしX2を含む−パターン幅の水平
線の描画パターンP2を作成する。(ステップ307)
次に、このパターンP2をY座標Y1からYlまで、X
座標位置XRから描画する。(ステップ308〜矩形領
域B3の描画は以下の手順により行う。
まず、描画パターンP3を作成する。(ステップ312
)次にX座標(XL+1)から(XR−1)を満たすま
で、水平方向にパターンP3を連続し、て描画し、さら
にこの処理をY座標Y1からYlまで繰り返す。(ステ
ップ313〜319) 以上で指定された矩形領域の描画が終了する。
(2)実施例2 実施例1の応用として、図形記憶装置上に既になんらか
の図形データが描画されている場合に、実施例1と同様
な矩形領域を描画する場合を説明する。
ただし本例の場合、図形描画手段として以下に説明する
2種類の描画モードを備えた図形描画装置があるものと
する。
(a)描画パターンをそのまま図形記憶装置に描画する
モード(以下REPLACEモードと記述する) (b)描画パターンの1のドツトは図形記憶装置に1を
描画し、描画パターンの0のドツトは図形記憶装置のま
まとするモード(以下ORモードと記述する) また、図形描画装置は描画処理を行う前に登録された描
画パターンを処理対象とし、−度登録された描画パター
ンは再度登録を行うまで有効であるものとする。
以下に本実施例の具体的な処理過程を、第4図及び第5
図を用いて説明する。
本実施例の場合も基本的な処理過程は実施例1と同様で
ある。ただし、既に描画されている図形データのうち、
指定された矩形領域B以外の図形データは、図形記憶装
置上のまま保存しなければならない。従って、分割した
矩形領域Bl、B2を描画する際の描画パターンの作成
には第5図に示すような処理が必要となる。図中、50
1は矩形領域B1を描画する前のY座標位置Ylのパタ
ーンであり、502は501を元に作成された矩形領域
B1描画用のパターンである。501から502への変
換は、描画対象として矩形領域B1のX座標x1からX
Lまでに1を書き込むことにより行われる。
さらに、矩形領域B1を描画するためには前記のパター
ン作成処理をY座標位置Y1からYlまで行わなければ
ならない。これは−見非常に煩雑な処理に思われるが、
先に説明した図形描画装置に実施例1で説明した描画パ
ターンP1を登録し、ORモードで描画することにより
、実施例1と同様な処理となる。
同様に、矩形領域B2は描画パターンP2を登録後OR
モードで、矩形領t6B3は描画パターンP3を登録f
&REPLAcEモードで、実施例1と同様に描画すれ
ば良いことになる。
以上の処理を従来の方法で行うとすると、左端部分・右
端部分・中央部分の描画を水平線の本数分繰り返すので
、その度に各パターンの登録が必要となるとともに、各
パターンを常時保存する必要がある。本発明の方法によ
れば既に説明したように3回のパターン登録で清むこと
、さらに各パターンを常時保存する必要がないことから
、従来の方法と比較してその優位性は明白である。
[発明の効果コ 以上説明した様に本発明によれば、複数の描画パターン
を常時保存するための記憶領域が必要なくなると共に、
矩形領域描画処理が簡略化され、従来の方法に比べて2
倍〜3倍高速な矩形領域描画が可能となる効果がある。
102:図形記憶装置 103:図形描画手段 104:描画パターン作成手段 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴木喜三部 他1名
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例による構成、第2図は図形記
憶装置の一構成例、第3図は本発明の処理過程を示すフ
ローチャート、第4図は本発明により描画される矩形領
域の例、第5図は本発明による描画パターンの作成例を
表したそれぞれ略図である。 101:図形表示装置 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 表示図形を記憶する図形記憶装置と、図形記憶装置の内
    容を図形として表示する図形表示装置と、図形記憶装置
    に図形を描画する図形描画手段とを備え、前記図形記憶
    装置に図形を描画する最小単位のパターンが、任意の一
    方向に連続した複数の図形を表示する最小単位のドット
    から構成される電子計算機において、前記ドット単位で
    指定された任意の矩形領域を前記図形記憶装置に描画す
    る場合に、前記矩形領域をその一方の端から最初のパタ
    ーン境界までの矩形領域1と、前記矩形領域に含まれる
    最終のパターン境界から他方の端までの矩形領域2と、
    矩形領域1と矩形領域2にはさまれた矩形領域3とに分
    割し、前記3つの矩形領域を任意の順序で前記図形記憶
    装置に描画することにより、前記矩形領域の描画を行う
    よう構成したことを特徴とする図形描画方法。
JP63169365A 1988-07-06 1988-07-06 図形描画方法 Expired - Lifetime JP2715453B2 (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5552139A (en) * 1978-10-11 1980-04-16 Nec Corp Hatching circuit

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5552139A (en) * 1978-10-11 1980-04-16 Nec Corp Hatching circuit

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