JPH02175861A - アルカリ土類金属イオン源及びアルカリ土類金属イオンの生成方法 - Google Patents
アルカリ土類金属イオン源及びアルカリ土類金属イオンの生成方法Info
- Publication number
- JPH02175861A JPH02175861A JP63137514A JP13751488A JPH02175861A JP H02175861 A JPH02175861 A JP H02175861A JP 63137514 A JP63137514 A JP 63137514A JP 13751488 A JP13751488 A JP 13751488A JP H02175861 A JPH02175861 A JP H02175861A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkaline earth
- earth metal
- arc chamber
- chamber
- discharge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63137514A JPH02175861A (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | アルカリ土類金属イオン源及びアルカリ土類金属イオンの生成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63137514A JPH02175861A (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | アルカリ土類金属イオン源及びアルカリ土類金属イオンの生成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02175861A true JPH02175861A (ja) | 1990-07-09 |
| JPH0472343B2 JPH0472343B2 (fr) | 1992-11-18 |
Family
ID=15200452
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63137514A Granted JPH02175861A (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | アルカリ土類金属イオン源及びアルカリ土類金属イオンの生成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02175861A (fr) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008311125A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Nec Electronics Corp | 気化装置およびこれを備えたイオン源装置 |
| JP2021506081A (ja) * | 2017-12-12 | 2021-02-18 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials, Inc. | イオン源および傍熱型陰極イオン源 |
-
1988
- 1988-06-06 JP JP63137514A patent/JPH02175861A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008311125A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Nec Electronics Corp | 気化装置およびこれを備えたイオン源装置 |
| JP2021506081A (ja) * | 2017-12-12 | 2021-02-18 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials, Inc. | イオン源および傍熱型陰極イオン源 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0472343B2 (fr) | 1992-11-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2190086A1 (fr) | Dispositif a jet d'electrons permettant le depot en phase vapeur | |
| US4298798A (en) | Method and apparatus for producing negative ions | |
| JP3444793B2 (ja) | ガス放電パネルの製造方法 | |
| Inoue et al. | Effect of filament material and area on the extracted current from a volume H-ion source | |
| JP2849771B2 (ja) | スパッタ型イオン源 | |
| JPH0472343B2 (fr) | ||
| US5480286A (en) | Exhaust apparatus and vacuum pumping unit including the exhaust apparatus | |
| KR900008155B1 (ko) | 박막형성방법 및 그 장치 | |
| JPH0577138B2 (fr) | ||
| US1921066A (en) | Cathode for electron discharge devices and method of making the same | |
| JPH01290758A (ja) | 酸化物薄膜の製造方法 | |
| JPH0364454A (ja) | 蒸気発生源用るつぼ | |
| JP2605148B2 (ja) | 酸化物薄膜の製造方法 | |
| EP0499239B1 (fr) | Pompe ionique et unité de pompage à vide utilisant celle-ci | |
| JPH11238485A (ja) | イオン注入方法 | |
| JPS60125368A (ja) | 薄膜蒸着装置 | |
| JP3169278B2 (ja) | 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 | |
| JP2726139B2 (ja) | 酸素原子発生装置 | |
| TW201737288A (zh) | 將加工物質植入工件中與將摻雜劑植入工件中的方法及用於加工工件的設備 | |
| Inouet et al. | I Effect of filament material and area on the extracted current I from | |
| JPH04289161A (ja) | 膜形成装置 | |
| JPS59217332A (ja) | 二酸化硅素膜の製造方法 | |
| JPH10340794A (ja) | プラズマ発生装置 | |
| JPH04165067A (ja) | イオンプレーティング装置 | |
| JPS61279115A (ja) | 薄膜形成装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |