JPH02178980A - 発光ダイオード - Google Patents
発光ダイオードInfo
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- JPH02178980A JPH02178980A JP63335132A JP33513288A JPH02178980A JP H02178980 A JPH02178980 A JP H02178980A JP 63335132 A JP63335132 A JP 63335132A JP 33513288 A JP33513288 A JP 33513288A JP H02178980 A JPH02178980 A JP H02178980A
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- Japan
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- semiconductor layer
- light emitting
- opening
- emitting diode
- layer
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/541—Dispositions of bond wires
- H10W72/5445—Dispositions of bond wires being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. parallel arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
- H10W72/931—Shapes of bond pads
- H10W72/932—Plan-view shape, i.e. in top view
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/754—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL
Landscapes
- Led Device Packages (AREA)
- Led Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、発光ダイオードに関する。
従来の技術
従来からの発光ダイオ−1′:とじては、たとえばガリ
ウノ、・ヒ素(G a A s )から成る第1のrj
型半導体層上にガリウム・ヒ素・リン(Ga A s
P )から成る第2のrI型半導体層が形成され、第2
の口型半導体層の表面にはマスク層が形成される。
ウノ、・ヒ素(G a A s )から成る第1のrj
型半導体層上にガリウム・ヒ素・リン(Ga A s
P )から成る第2のrI型半導体層が形成され、第2
の口型半導体層の表面にはマスク層が形成される。
このマスク層には、ホトエンチンクの手法によってドー
ピング用の開口が形成される。マスク層の開口を介して
前記第2のrl型半導体層にr)型の拡散層が形成され
る。アノ−ド電極が前記口型の拡散層に設けられるとと
もに、カソード電極が前記第1のri型半導体層に付け
られる。
ピング用の開口が形成される。マスク層の開口を介して
前記第2のrl型半導体層にr)型の拡散層が形成され
る。アノ−ド電極が前記口型の拡散層に設けられるとと
もに、カソード電極が前記第1のri型半導体層に付け
られる。
このような構成を有する発光タイオードにおいては、ア
ノード電極とカソード電極との間に電圧を印加すること
によって、駆動電流がアノード電極からl:I型の拡散
層、第1のrl型半導体層、および第2のrj型の半導
体層を介してカソード電極に流れ、前記に)型の拡散層
と第1のrl型半導体層との接自面において光が発生ず
る。この光はト)型の拡散層を介して外部に放射され、
これによって該発光ダイオードの発光が実現される。
ノード電極とカソード電極との間に電圧を印加すること
によって、駆動電流がアノード電極からl:I型の拡散
層、第1のrl型半導体層、および第2のrj型の半導
体層を介してカソード電極に流れ、前記に)型の拡散層
と第1のrl型半導体層との接自面において光が発生ず
る。この光はト)型の拡散層を介して外部に放射され、
これによって該発光ダイオードの発光が実現される。
発明が解決しようとする課題
二f)ような構成の発光タイオードては、アノード電極
とカソード電極との間に電圧を印加すると、p型の拡散
層におけるアノード電極か接続されている部分での電流
密度は大きいけれども、アノード電極から遠ざかるに−
)れて電流密度が小さくなる。したがって、r)型の拡
散層が形成する発光領域においては、アノード電極から
遠ざかるにつれてその発光強度が小さくなり、発光領域
に」〕ζ′)る発光強度分布に偏りが生じてしまう。
とカソード電極との間に電圧を印加すると、p型の拡散
層におけるアノード電極か接続されている部分での電流
密度は大きいけれども、アノード電極から遠ざかるに−
)れて電流密度が小さくなる。したがって、r)型の拡
散層が形成する発光領域においては、アノード電極から
遠ざかるにつれてその発光強度が小さくなり、発光領域
に」〕ζ′)る発光強度分布に偏りが生じてしまう。
二のような発光タイオードをたとえば光プリンタヘッド
として用いた場6には、その表示品質が劣化してしまう
ので、従来から発光領域の全領域に亘る発光輝度分布が
均一となるような構成か望まれている。また、少ない消
費電力て大きな発光強度を得ることができるような構成
も望まれている。
として用いた場6には、その表示品質が劣化してしまう
ので、従来から発光領域の全領域に亘る発光輝度分布が
均一となるような構成か望まれている。また、少ない消
費電力て大きな発光強度を得ることができるような構成
も望まれている。
したがって本発明の目的は、発光領域における発光強度
分布の偏りを小さくするとともに、少ない消費電力て大
きな発光強度を得ることができる発光ダイオードを提供
することである。
分布の偏りを小さくするとともに、少ない消費電力て大
きな発光強度を得ることができる発光ダイオードを提供
することである。
課題を解決するための手段
本発明は、一方導電形式の第1半導体層の表面に電気絶
縁性を有し、かつ透光性を有する膜を形成し、 この農は複数の開口′iたけ周縁部が屈曲した形状を有
する開口を形成し、 第1半導体層の前記開口に露出している部分とその開口
の周縁て前記膜に被覆されている部分とに亘って他方導
電形式の第2半導体層を形成し、第1半導体層に一方電
極を設けるとともに、第2半導体層に他方電極を設ける
ようにしたことを特徴とする発光ダイオードである。
縁性を有し、かつ透光性を有する膜を形成し、 この農は複数の開口′iたけ周縁部が屈曲した形状を有
する開口を形成し、 第1半導体層の前記開口に露出している部分とその開口
の周縁て前記膜に被覆されている部分とに亘って他方導
電形式の第2半導体層を形成し、第1半導体層に一方電
極を設けるとともに、第2半導体層に他方電極を設ける
ようにしたことを特徴とする発光ダイオードである。
作 用
本発明に従えば、一方導電形式の第1半導体層の表面に
複数の開口または周縁部か屈曲した形状を有する開口が
形成された膜を形成し、第1半導体層の前記開口に露出
している部分とその開口の周縁て前記膜に被覆されてい
る部分とに亘って他方導電形式の第2半導体層を形成す
る。このように第2半導体層を形成することによって、
第2半導体層の前記開口の周縁で前記膜に被覆されてい
る部分の層厚が第1半導体層の前記開口に露出している
部分よりも小さくなる。したがって第1半導体層に設け
られる一方電極と第2半導体層に設けられる他方電極と
の間に駆動電流を流して第1半導体層と第2半導体層と
のp rll接面面おいて光を発生させると、第2半導
体層の前記膜に被覆されている部分における光の吸収量
をその層厚が小さい分だけ抑制することができ、開口に
露出している部分の輝度よりも太き・くすることができ
る。
複数の開口または周縁部か屈曲した形状を有する開口が
形成された膜を形成し、第1半導体層の前記開口に露出
している部分とその開口の周縁て前記膜に被覆されてい
る部分とに亘って他方導電形式の第2半導体層を形成す
る。このように第2半導体層を形成することによって、
第2半導体層の前記開口の周縁で前記膜に被覆されてい
る部分の層厚が第1半導体層の前記開口に露出している
部分よりも小さくなる。したがって第1半導体層に設け
られる一方電極と第2半導体層に設けられる他方電極と
の間に駆動電流を流して第1半導体層と第2半導体層と
のp rll接面面おいて光を発生させると、第2半導
体層の前記膜に被覆されている部分における光の吸収量
をその層厚が小さい分だけ抑制することができ、開口に
露出している部分の輝度よりも太き・くすることができ
る。
このように開口の周縁部における輝度を大きくすること
によって、この発光ダイオード全体の輝度を向上させる
ことができる。
によって、この発光ダイオード全体の輝度を向上させる
ことができる。
実施例
第1図は本発明の一実施例の発光ダイオード1の平面図
であり、第2図は発光ダイオード1が用いられる光プリ
ンタヘッド2の平面図である。第2図を参照して、電気
絶縁性材料から成る基板3の表面には、共通リード線4
が被着形成されている。共通リード線4はその上部に発
光ダイオード1が接合され、発光ダイオード1に電力を
印加して発光させるための一方の電極として作用する。
であり、第2図は発光ダイオード1が用いられる光プリ
ンタヘッド2の平面図である。第2図を参照して、電気
絶縁性材料から成る基板3の表面には、共通リード線4
が被着形成されている。共通リード線4はその上部に発
光ダイオード1が接合され、発光ダイオード1に電力を
印加して発光させるための一方の電極として作用する。
発光ダイオード1の配列に対して平行となるように、駆
動用の集積回路らが前記基板3上に設けられている。接
続リード線6は、基板3上に形成されている。接続リー
ド線6は、発光ダイオード1の個別電極7および前記集
積回路5の出力端子5aにそれぞれボンティングワイヤ
8を介して接続され、集積回路5の入力端子5bはボン
ディングワイヤ9によって基板3上の個別駆動リード線
10に接続される。個別駆動リード線10は、可撓性回
路配線基板]1に設けられた多数のプリント配線12に
接続される。
動用の集積回路らが前記基板3上に設けられている。接
続リード線6は、基板3上に形成されている。接続リー
ド線6は、発光ダイオード1の個別電極7および前記集
積回路5の出力端子5aにそれぞれボンティングワイヤ
8を介して接続され、集積回路5の入力端子5bはボン
ディングワイヤ9によって基板3上の個別駆動リード線
10に接続される。個別駆動リード線10は、可撓性回
路配線基板]1に設けられた多数のプリント配線12に
接続される。
第3図は発光ダイオードの構成および動作を説明するた
めの図てあり、第3図(1)には、第1図の切断面線■
−■から見た断面が示されている。
めの図てあり、第3図(1)には、第1図の切断面線■
−■から見た断面が示されている。
発光タイオート1はG a、 A s (ガリウムーヒ
素)から成るri型の第1半導体層15上にA s H
s (アルシン)とPH3(ホス■・ン)とQ a(ガ
リウム)とを適量に含むガスを接触させてその表面にG
a A s P (ガリウムーヒ素−リン)から成る
n型の第2半導体層16を成長させ、次にこの第2半導
体層16の表面にs i、 sN 4 (窒化シリコン
〉またはSiO2(酸化シリコン)がら成るドーピング
用のマスク層1−7を形成する。このマスク層]7には
ドーピングを行うための複数の開口18がホトエンチン
グの手法によって形成される。この後に前記開口18に
Zr+(亜鉛)のガスをさらし、rl型の半導体層16
の一部にZ rrを拡散させてp型の半導体層1つを形
成する。この1:〉型の半導体層1つと前記第2のrl
型半導体層16とによってl:I rl接6が実現され
る。
素)から成るri型の第1半導体層15上にA s H
s (アルシン)とPH3(ホス■・ン)とQ a(ガ
リウム)とを適量に含むガスを接触させてその表面にG
a A s P (ガリウムーヒ素−リン)から成る
n型の第2半導体層16を成長させ、次にこの第2半導
体層16の表面にs i、 sN 4 (窒化シリコン
〉またはSiO2(酸化シリコン)がら成るドーピング
用のマスク層1−7を形成する。このマスク層]7には
ドーピングを行うための複数の開口18がホトエンチン
グの手法によって形成される。この後に前記開口18に
Zr+(亜鉛)のガスをさらし、rl型の半導体層16
の一部にZ rrを拡散させてp型の半導体層1つを形
成する。この1:〉型の半導体層1つと前記第2のrl
型半導体層16とによってl:I rl接6が実現され
る。
前記1〕型の半導体層]っは、マスク層17の複数の開
口]。8を介してドーピングされて形成されるために、
たとえばマスク層17の各開口18間に形成される複数
の帯状部1.7 aによって被覆された部分における)
:p型の半導体層19の厚さd 1ば、開口18に対応
する部分の厚さd2よりも小さくなる。またp型の半導
体層1つの長手方向両側部(第3図(1)の左右方向両
端部〉付近では、マスク層17に被覆されているなめに
その厚さ(13は前記厚さd2よりも小さくなる。この
ような現象は、Fl型の半導体層1つを形成ずためにマ
スク層17を介してZ nをドーピングする際にZ r
rが開口18に対応する部分のみならず帯状部17aな
どによって被覆されている部分にもまわり込んで拡散す
るためである。
口]。8を介してドーピングされて形成されるために、
たとえばマスク層17の各開口18間に形成される複数
の帯状部1.7 aによって被覆された部分における)
:p型の半導体層19の厚さd 1ば、開口18に対応
する部分の厚さd2よりも小さくなる。またp型の半導
体層1つの長手方向両側部(第3図(1)の左右方向両
端部〉付近では、マスク層17に被覆されているなめに
その厚さ(13は前記厚さd2よりも小さくなる。この
ような現象は、Fl型の半導体層1つを形成ずためにマ
スク層17を介してZ nをドーピングする際にZ r
rが開口18に対応する部分のみならず帯状部17aな
どによって被覆されている部分にもまわり込んで拡散す
るためである。
二のようにして形成されたl二1型の半導体層19の一
方端(第3図(1)の左方側端部)の部分には、前記個
別電極7が接続され、r1型の第1半導体層15側には
前記共通リード線4が接続される。
方端(第3図(1)の左方側端部)の部分には、前記個
別電極7が接続され、r1型の第1半導体層15側には
前記共通リード線4が接続される。
このような個別電極7および共通リード線4間に電圧を
印加すると、個別電極7からPl型半導体層9、第2の
rl型の半導体Nl 16および第1のrl型半導体層
1.5を介して共通り−I・線4に駆動電流が流れる。
印加すると、個別電極7からPl型半導体層9、第2の
rl型の半導体Nl 16および第1のrl型半導体層
1.5を介して共通り−I・線4に駆動電流が流れる。
第3図(2)には、同図(1)に示される断面における
駆動電流の電流密度分布が示されている。
駆動電流の電流密度分布が示されている。
同図(])における矢符は駆動電流の流れを示している
。第3[ff1(2)から明らかなように、各半導体層
1.5,16.19を流れる駆動電流は個別電極7から
遠去かるにつれて小さくなる。
。第3[ff1(2)から明らかなように、各半導体層
1.5,16.19を流れる駆動電流は個別電極7から
遠去かるにつれて小さくなる。
このような電流密度分布によって得られる発光強度分布
は、第3図(3)に示されている。同図(3)に示され
るように、前記マスク層1−7(の帯状部1.7 aに
対応する部分における発光強度には、それぞれビークP
I−,P2.P3か現われ、マスク層17の他方側部]
7(に対応する部分にもビークP4が現われる。これは
、前述した帯状部1.7 aおよび他側部17cに被覆
されたp型の半導体層1つの層厚cl 1か他の部分の
層厚d 2よりも小さくなっているためである。
は、第3図(3)に示されている。同図(3)に示され
るように、前記マスク層1−7(の帯状部1.7 aに
対応する部分における発光強度には、それぞれビークP
I−,P2.P3か現われ、マスク層17の他方側部]
7(に対応する部分にもビークP4が現われる。これは
、前述した帯状部1.7 aおよび他側部17cに被覆
されたp型の半導体層1つの層厚cl 1か他の部分の
層厚d 2よりも小さくなっているためである。
すなわち、p型の半導体層]−9とrl型の半導体層1
6とのp n接き面において発生した光は、p型の半導
体層1つにおいて一部が吸収され、残りの光が外部に放
出される。ト)型の半導体層1つにおいて帯状部17ε
tなどによって被覆されている部分はその層厚cl ]
か他の部分の層厚(12に比I\て小さいために、前述
した光の吸収量か比較的小さく抑制される。したがって
、外部に放射される発光量はこれら帯状部17 =tて
被覆された部分グ)方が大きくなり、発光強度分布にお
いて前述したようなと−クP1〜P4が現われることに
なる。
6とのp n接き面において発生した光は、p型の半導
体層1つにおいて一部が吸収され、残りの光が外部に放
出される。ト)型の半導体層1つにおいて帯状部17ε
tなどによって被覆されている部分はその層厚cl ]
か他の部分の層厚(12に比I\て小さいために、前述
した光の吸収量か比較的小さく抑制される。したがって
、外部に放射される発光量はこれら帯状部17 =tて
被覆された部分グ)方が大きくなり、発光強度分布にお
いて前述したようなと−クP1〜P4が現われることに
なる。
このようにマスク層17に対して複数の開口18を設け
ることによって、その発光領域30における発光強度を
全体的に大きくすることができる。
ることによって、その発光領域30における発光強度を
全体的に大きくすることができる。
また、従来の技術ては、P形の半導体層1つの層厚はマ
スク層]、7の他方側部17cによって覆われている部
分のみが薄くなっており、したがって発光強度分布にお
いてはビークP4のみが現われることになり、このため
発光領域における発光強度分布のむらが生じていたけれ
ども、本実施例では帯状部1.7 aが複数個設けられ
るような構成としたので、発光領域30における発光強
度分布の不均一さを小さくすることができ、このような
発光タイオード]を光フ゛リンタヘッドに用いることに
よ−)でその画像品質の劣化を防止することがてきる。
スク層]、7の他方側部17cによって覆われている部
分のみが薄くなっており、したがって発光強度分布にお
いてはビークP4のみが現われることになり、このため
発光領域における発光強度分布のむらが生じていたけれ
ども、本実施例では帯状部1.7 aが複数個設けられ
るような構成としたので、発光領域30における発光強
度分布の不均一さを小さくすることができ、このような
発光タイオード]を光フ゛リンタヘッドに用いることに
よ−)でその画像品質の劣化を防止することがてきる。
なお、前述したマスク層17は、たとえばイヒ学気相(
CV D)なとによって形成し、その層厚はたとえば2
000人程度に選はれる。
CV D)なとによって形成し、その層厚はたとえば2
000人程度に選はれる。
第4図は、本発明の池の実施例の発光タイオード1aの
平面図である。本実施例は、前述した第1の実施例と類
似しており、対応する部分には同一の参照符を付す。本
実施例の発光ダイオード1aにおいては、マスク層17
に複数の開口18εtが形成され、この開口1821に
よ−)て発光領域20の長手方向に平行な帯状部21お
よび長手方向と直交する複数の帯状部22か設けられる
。
平面図である。本実施例は、前述した第1の実施例と類
似しており、対応する部分には同一の参照符を付す。本
実施例の発光ダイオード1aにおいては、マスク層17
に複数の開口18εtが形成され、この開口1821に
よ−)て発光領域20の長手方向に平行な帯状部21お
よび長手方向と直交する複数の帯状部22か設けられる
。
第5図は、本実施例の発光ダイオード1. =iの構成
および動作を説明するための図てあり、同図(〕)には
第4図の切断面線IV−IVから見た断面図が示されて
いる。第5図(1)に示されるように、発光領域20に
対応するト)型の半導体層1つにおいては、前記マスク
層17の帯状部21に被覆されている部分のM厚D3が
他の部分D4よりも小さくなっている。したがって、こ
の部分に才〕ける発光強度分布には、ピークP5か現わ
れる(第5図(2)参照)。このように本実施例におい
ても発光領域20における前記帯状部21および1行帯
状部22によって被覆されている部分の発光強度を高め
ることができ、かつ発光領域20における発光強度分布
の均一化に寄与することができる。
および動作を説明するための図てあり、同図(〕)には
第4図の切断面線IV−IVから見た断面図が示されて
いる。第5図(1)に示されるように、発光領域20に
対応するト)型の半導体層1つにおいては、前記マスク
層17の帯状部21に被覆されている部分のM厚D3が
他の部分D4よりも小さくなっている。したがって、こ
の部分に才〕ける発光強度分布には、ピークP5か現わ
れる(第5図(2)参照)。このように本実施例におい
ても発光領域20における前記帯状部21および1行帯
状部22によって被覆されている部分の発光強度を高め
ることができ、かつ発光領域20における発光強度分布
の均一化に寄与することができる。
なお、前述した2つの実施例では、マスク層17に複数
個の開口18.18ε1を形成するようにしたけれども
、たとえは周縁部か屈曲した1つの開口を形成するよう
にしてもよい。
個の開口18.18ε1を形成するようにしたけれども
、たとえは周縁部か屈曲した1つの開口を形成するよう
にしてもよい。
発明の効果
以上のように本発明に従えは、第1半導体層の表面に形
成される膜に、複数の開口または周縁部が屈曲した形状
を有する開口を形成するようにしたのて、この開口に周
縁で膜に被覆されている第2半導体層の部分における発
光輝度が大きくなる。
成される膜に、複数の開口または周縁部が屈曲した形状
を有する開口を形成するようにしたのて、この開口に周
縁で膜に被覆されている第2半導体層の部分における発
光輝度が大きくなる。
二のため全体としての発光輝度のばら−)きを少なくす
ることかてきるとともに、全体の発光強度を向上するこ
とができる。またこのような発光ダイオードをたとえは
光プリンタノ\ツドとして用いる場訃には、発光強度の
ばらつきを小さくすることがてきるので、その画像品質
の劣化を防止することがてきる。
ることかてきるとともに、全体の発光強度を向上するこ
とができる。またこのような発光ダイオードをたとえは
光プリンタノ\ツドとして用いる場訃には、発光強度の
ばらつきを小さくすることがてきるので、その画像品質
の劣化を防止することがてきる。
第1図は本発明の一実施伝の発光ダイオ−1で↑の平面
図、第2図は本発明の一実施例の発光ダイオード〕が用
いられる光プリンタヘッド2の一部の構成を示す平面図
、第3図は発光タイオート1の構成および動作を説明す
るだめの図、第4図は本発明の他の実施例の発光ダイオ
ード12Lの平面図、第5図は発光ダイオード121の
構成および動作を説明するだめの図である。 1 ]、=t”’発光ダイオード、15.1.6−r
l型半導体層、17・・マスク層、172t・・・帯状
部、18・・開口、1.9−1:l型半導体層代理人
弁理士 画数 圭一部 h qフ U) −吠硯〈 紀梨漸バ
図、第2図は本発明の一実施例の発光ダイオード〕が用
いられる光プリンタヘッド2の一部の構成を示す平面図
、第3図は発光タイオート1の構成および動作を説明す
るだめの図、第4図は本発明の他の実施例の発光ダイオ
ード12Lの平面図、第5図は発光ダイオード121の
構成および動作を説明するだめの図である。 1 ]、=t”’発光ダイオード、15.1.6−r
l型半導体層、17・・マスク層、172t・・・帯状
部、18・・開口、1.9−1:l型半導体層代理人
弁理士 画数 圭一部 h qフ U) −吠硯〈 紀梨漸バ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一方導電形式の第1半導体層の表面に電気絶縁性を有し
、かつ透光性を有する膜を形成し、この膜は複数の開口
または周縁部が屈曲した形状を有する開口を形成し、 第1半導体層の前記開口に露出している部分とその開口
の周縁で前記膜に被覆されている部分とに亘って他方導
電形式の第2半導体層を形成し、第1半導体層に一方電
極を設けるとともに、第2半導体層に他方電極を設ける
ようにしたことを特徴とする発光ダイオード。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63335132A JPH02178980A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 発光ダイオード |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63335132A JPH02178980A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 発光ダイオード |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02178980A true JPH02178980A (ja) | 1990-07-11 |
Family
ID=18285126
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63335132A Pending JPH02178980A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 発光ダイオード |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02178980A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6161479A (ja) * | 1984-09-01 | 1986-03-29 | Oki Electric Ind Co Ltd | 発光素子の製造方法 |
| JPS62149178A (ja) * | 1985-10-15 | 1987-07-03 | Sanyo Electric Co Ltd | 光プリンタ用発光ダイオ−ド |
-
1988
- 1988-12-28 JP JP63335132A patent/JPH02178980A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6161479A (ja) * | 1984-09-01 | 1986-03-29 | Oki Electric Ind Co Ltd | 発光素子の製造方法 |
| JPS62149178A (ja) * | 1985-10-15 | 1987-07-03 | Sanyo Electric Co Ltd | 光プリンタ用発光ダイオ−ド |
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