JPH02183478A

JPH02183478A - 負圧形磁気ヘッドスライダ及びその製造方法

Info

Publication number: JPH02183478A
Application number: JP1002373A
Authority: JP
Inventors: Fuminori Takeya; 竹矢　文則
Original assignee: NGK Insulators Ltd
Current assignee: NGK Insulators Ltd
Priority date: 1989-01-09
Filing date: 1989-01-09
Publication date: 1990-07-18
Anticipated expiration: 2010-04-05
Also published as: DE69014318T2; JPH0730465B2; DE69014318D1; EP0378345A3; EP0378345A2; US5019930A; EP0378345B1; US5104483A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（技術分野）本発明は、磁気ヘントスライダの構造及びその製造方法
に係り、特に高密度記録用磁気ディスク装置に使用され
る負圧形磁気ヘッドスライダ及びその製造方法に関する
ものである。

（従来技術）固定磁気ディスク装置（ＲＤＤ）において、磁気ディス
クの回転につれて浮上するスライダに一体的に設けられ
た磁気ヘッドは、磁気ディスク上を０．２〜０．３μｍ
の高さに浮上した状態で記録・再生を行なうものであり
、高記録密度、高速アクセス、高速データ転送が可能で
あるという点で、コンピュータの外部記憶装置として広
く利用されている。最近、ＲＤＤの記録密度を更に向上
させるために、浮上量の微小化と浮上安定性に対する要
求が高まっており、その要求を満たすために、空気膜剛
性を高くした負圧磁気ヘッドスライダの研究が盛んに行
なわれている。

この負圧形磁気ヘッドスライダは、第１図に示される如
き形状を呈しており、動作時には、第２図に示されるよ
うな状態において、ディスク上を浮上して、記録パ再生
が行なわれるようになっている。即ち、この負圧形磁気
ヘッドスライダ７の磁気記録媒体（磁気ディスク）８と
の摺動面（対向面）側表面には、磁気記録媒体８の回転
により発生する空気流を効果的に導入するための傾斜面
或いは段差面４、空気流により浮上刃を発生する互いに
平行な所定幅の一対の浮上面１，１、これら両浮上面１
．１の間に形成された、下流側への空気流量を減少させ
るためのクロスレール２、及びこのクロスレール２より
空気流の下流側にあって、吸着力を発生させるための負
圧面３が、それぞれ形成されている。なお、前記負圧面
３は、通常、浮上面１より２〜ｌＯμｍ窪んで形成され
ている。この負圧面３の形成は、その構造上の制約から
、機械加工で形成することは不可能であり、通常、特開
昭６２−１４３８６号公報や特開昭６２−４０６０４号
公報に示される如く、イオンエツチングによって行なわ
れている。

しかしながら、磁気ヘッドスライダの材料に多結晶フェ
ライトを用いた場合には、そのエツチング速度は、アル
ゴンイオンエツチングで０．０２〜０．０３μｍ／ｓｉ
ｎと遅く、加工に１時間以上も要するという欠点があり
、また浮上面及びクロスレールのパターンに対応する部
分のマスク材料として、フェライトよりエツチング速度
が遅い材料を選ぶか、またはマスク材を厚く形成する必
要があった。

ところで、従来のスライダ加工工程を示す第３図におい
て、通常は、マスク材料にフェライトより約４倍エツチ
ング速度の遅いＣｒやＴ１の如き金属マスク材が使用さ
れるが、かかる金属マスク材をバターニングするために
は、フォトリソグラフィ工程と金属マスクのエツチング
工程が必要であるため、工程が煩雑となる欠点があった
。また、多結晶フェライトを材料として使用し、イオン
エツチングした場合には、エツチング後の負圧面の面粗
さがＲ□、で０．６μｍにも達するようになるため、浮
上面と負圧面との段差が少ないと、この面粗さによって
、浮上特性が不安定になるという問題も内在している。

更にまた、金属マスクをフォトリングラフィとエツチン
グでパターニングする際に、寸法精度にバラツキが生じ
る問題があり、特に浮上面ｌの幅は浮上量に影響するた
め、その精度は±１０ｐｍ以内であることが要求される
が、第３図に示される従来法にあっては、安定に形成す
ることが容易ではなかったのである。

また、特開昭６０−２２９２８３号公報や特開昭６１−
７６６８９号公報には、イオンエツチングの代わりに、
エツチング液中に製品を浸漬し、レーザービームを照射
して加工する手法が明らかにされている。それらの方法
では、イオンエツチングに比べて、工程は簡略化出来る
が、処理能力が著しく低下するところから、工業的に実
施することは困難であったのである。

（解決課題）ここにおいて、本発明は、上述の如き問題点を解決する
ために為されたものであって、その解決すべき課題とす
るところは、浮上安定性に優れた負圧形磁気ヘッドスラ
イダを、イオンエツチング手法を全く採用することなく
、安価に製造し得る構造及びその製造方法を提供するこ
とにある。

（解決手段）そして、本発明にあっては、かかる課題を解決するため
に、磁気記録媒体に対する対向面側に、空気流の流入の
ための傾斜面若しくは段差面と、空気流により浮上刃を
発生する一対の浮上面と、この一対の浮上面の間に形成
され、空気流の流量を減少せしめるクロスレールと、こ
のクロスレールに対し、空気流の下流側において、負圧
を発生させる負圧面とを備えた負圧形磁気ヘッドスライ
ダにおいて、その少なくとも対向面側の部位を単結晶フ
ェライトにて構成すると共に、前記クロスレールの前記
空気流に対する下流側のエツジラインを含む、前記対向
面に垂直な方向の面が、該エツジラインに対して平行な
（１１１，）面の存在しない結晶方位を有しているか、
或いは該エツジラインに対して平行な（１１１）面が存
在し且つ該（１１１）面が前記対向面に対して６０”以
上の角度を成すような結晶方位を有しているように、構
成したことを特徴とする負圧形磁気ヘッドスライダを、
その要旨とするものである。

また、かかる本発明に従う負圧形磁気ヘッドスライダに
あっては、有利には、前記対向面と、前記浮上面の空気
流方向に延びるエツジラインを含む、該対向面に垂直な
方向の面と、前記クロスレールの前記空気流に対する下
流側のエツジラインを含む、該対向面に垂直な方向の面
の結晶方位の組合せが、（２１１）面と（１１０）面と
（１１１）面、（３１１）面と（１１０）面と（３３２
）面、（１１０）面と（１１’１　）面と（２１１）面
、（１１０）面と（２１１）面と（１１１）面、（１０
０）面と（１００）面と（１００）面、及び（２１０）
面と（１００）面と（２１０）面、のうちの何れかであ
るように構成されることとなる。

さらに、本発明は、磁気記録媒体に対する対向面側に、
空気流の流入のための傾斜面若しくは段菱面と、空気流
により浮上刃を発生する一対の浮上面と、この一対の浮
上面の間に形成され、空気流の流量を減少せしめるクロ
スレールと、このクロスレールに対し、空気流の下流側
において、負圧を発生させる負圧面とを備えた負圧形磁
気ヘッドスライダを製造するに際し、該スライダの少な
くとも前記対向面側の部位を与える単結晶フェライト部
分を有するフェライト部材を用い、該フェライト部材の
該対向面となるべき単結晶フェライト表面上に、少なく
とも前記浮上面及び前記クロスレールに相当するマスク
パターンを、該マスクパターンの該クロスレールの前記
空気流に対する下流側のエツジラインを与える境界線を
含む、前記単結晶フェライト表面に垂直な方向の面が、
該境界線に対して平行な（１１１）面の存在しない結晶
方位を有しているか、或いは該境界線に対して平行な（
１１１）面が存在し且つ該（１ｔ　ｌ）面が前記単結晶
フェライト表面に対して６０’以上の角度を成すような
結晶方位を有しているように、付与した後、リン酸主体
酸水溶液に接触せしめて、化学エツチングすることによ
り、かかるフェライト部材の単結晶フェライト表面に、
傾斜壁面を有する少なくとも前記浮上面及びクロスレー
ルを形成することを特徴とする負圧形磁気ヘッドスライ
ダの製造方法をも、その要旨とするものである。

そして、この本発明に従う製造手法にあっては、有利に
は、前記対向面となるべき単結晶フェライト表面と、前
記マスクパターンの前記浮上面の空気流方向に延びるエ
ツジラインを与える境界線を含む、該単結晶フェライト
表面に垂直な方向の面と、前記マスクパターンの前記ク
ロスレールの前記空気流に対する下流側のエツジライン
を与える境界線を含む、該単結晶フェライト表面に垂直
な方向の面の結晶方位の組合せが、（２１１）面と（１
１０）面と（１１１）面、（３１１）面と（１１０）面
と（３３２）面、（１１０）面と（１１１）面と（２１
１）面、（１１０）面と（２１１）面と（１１１）面、
（１００）面と（１００）面と（１００）面、及び（２
１０）面と（１００）面と（２１０）面、のうちの何れ
かであるように構成されるのである。

（具体的構成）ところで、かかる本発明において、負圧形磁気ヘッドス
ライダの材料として使用される、単結晶フェライト部を
有するフェライト材料としては、Ｍｎ−Ｚｎフェライト
、Ｎｉ−Ｚｎフェライト等の磁性材料、又はＺｎフェラ
イト等の非磁性材料の何れであっても良いが、かかるフ
ェライト材料の単結晶フェライト部の磁気記録媒体対向
側表面において、該表面上の任意の一方向のラインを含
む、該表面に垂直な方向の面が、該ラインに対して平行
な（１１１）面の存在しない結晶方位を有しているか、
或いは該ラインに対して平行な（１１１）面が存在し且
つ該（１１１）面が前記対向面に対して６０°以上の角
度を成すような結晶方位を有しているものであることが
必要である。そして、その中でも、特に、本発明にあっ
ては、フェライト部材の単結晶を構成する結晶方位が、
（２１１）面と（１１０）面と（１１１）面、（３１１
）面と（１１０）面と（３３２）面、（１１０，）面と
（１１１）面と（２１１）面、（１１０）面と（２１１
）面と（１１１）面、（１００）面と（１００）面と（
１００）面、及び（２１０）面と（１００）面と（２１
０）面、のうちの何れかの組合せとされていることが有
効なのである。

また、本発明に係る製造方法は、単結晶フェライトの各
結晶方位に対するリン酸主体酸水溶液のエツチング速度
の異方性を利用した手法であるところから、該スライダ
全体が単結晶フェライトである必要はなく、少なくとも
磁気記録媒体（ディスク）に対する摺動面（対向面）の
みが単結晶フェライトとなるように、多結晶フェライト
と単結晶フェライトとが接合された複合形のフェライト
材料を使用しても、鍔環差支えない。

なお、本発明における磁気ヘントスライダの構造として
は、第４図（ａ）に示されるような、フォトリソグラフ
ィとスパッタリング手法にて磁気回路を形成した薄膜形
の磁気ヘッドスライダや、第４図（ｂ）に示される如き
、巻線孔となる溝を形成した一対のフェライトハーフバ
ーを、磁気ギャップとなるべき非磁性部を介して接合し
たバルク形の磁気ヘッドスライダがあり、それらの何れ
に対しても、本発明は有効に適用され得るものであ・る
。

ところで、負圧形磁気へ７ドスライダの構造上の重要な
ポイントとしては、第１図において、負圧面３とクロス
レール２との間の傾斜壁面５が出来るだけ急傾斜に立ち
上がっていることである。

この傾斜角度が小さい（緩い）場合、負圧の発生効率が
悪くなり、記録媒体の周速の上昇に伴って浮上量が増加
してしまい、適切な浮上量を高精度に維持することが困
難となる。従って、この傾斜角度は６０°以上であるこ
とが望ましく、その場合には、記録媒体の周速が一定値
以上となった時点で浮上量が一定となり、浮上特性を安
定に維持することが出来るのである。

このために、本発明にあっては、第１図に示される如き
形態の負圧形磁気ヘッドスライダにおいて、その少なく
とも対向面側の部位を単結晶フェライトにて構成すると
共に、前記クロスレール２の空気流に対する下流側のエ
ツジライン９を含む、前記対向面に垂直な方向の面が、
該エツジライン９に対して平行な（１１１）面の存在し
ない結晶方位を有しているか、或いは該エツジライン９
に対して平行な（１１１）面が存在し且つ該（１１１）
面が前記対向面に対して６０°以上の角度を成すような
結晶方位を有しているように構成したのであり、また、
かかる負圧形磁気ヘッドスライダを製造するに際し、該
スライダの少なくとも前記対向面側の部位を与える単結
晶フェライト部を有するフェライト部材を用い、該フェ
ライト部材の該対向面となるべき単結晶フェライト表面
上に、少な（とも前記浮上面及び前記クロスレールに相
当するマスクパターンを、該マスクパターンの該クロス
レールの前記空気流に対する下流側のエツジラインを与
える境界線を含む、前記単結晶フェライト表面に垂直な
方向の面が、該境界線に対して平行な（１１１）面の存
在しない結晶方位を有しているか、或いは該境界線に対
して平行な（１１１）面が存在し且つ該（１１１）面が
前記単結晶フェライト表面に対して６０°以上の角度を
成すような結晶方位を有しているように、付与した後、
リン酸主体酸水溶液に接触せしめて、化学エツチングす
ることにより、かかるフェライト部材の単結晶フェライ
ト表面に、傾斜壁面を有する少なくとも前記浮上面及び
クロスレールを形成するように構成したのである。

一般に、単結晶フェライトは立方晶であり、リン酸主体
酸水溶液中でエツチングを行なった場合に、その（１１
１）面のエツチング速度が最も遅く、他の結晶方位に比
べて数分の１である。従って、第５図に示される如く、
傾斜角度θを６０゜以上に設定したい場合には、マスク
パターン１１の境界線たるエツジライン１２を含む、エ
ツチング面Ｆに垂直な方向の面として、（１１１）面が
マスクパターン１１のエツジライン１２に対して平行で
且つエツチング面に対して６０°以上の角度を成すよう
な結晶方位を選択すれば良い、但し、（１１１）面には
、（１１１）、（Ｔｌｌ）、（ＩＴＩ）、　（ＩＩＴ）
、　（ＴＴＩ）、　（Ｔ　Ｉ　Ｔ）、（ＩＴＴ）、（Ｔ
ＴＴ）と８つの等価な結晶面が存在するため、全ての結
晶面を考慮に入れなければならない。更に、マスクパタ
ーン１１のエツジライン１２に対して平行な（１１１）
面が全く存在しない結晶方位を選択した場合にも、６０
°以上の傾斜角度θを得ることが出来る。更に、このよ
うな結晶方位を採用することにより、サイドエツチング
量（Ｗ）が少なく、寸法精度の高い形状加工が可能とな
ったのである。

また、本発明においては、一般に、化学エツチングによ
り、クロスレール３と共に、所定幅の互いに平行な一対
の浮上面１．ｌを形成するものであるところから、それ
ら浮上面１．１の両サイドの傾斜面６も化学エツチング
によって形成されることとなる。この浮上面１．１の両
サイドの傾斜面６は、負圧の効率的発生という点から４
５°以上であることが望ましく、更に浮上特性の安定性
の点から、１本の浮上面ｌの左右に対称形に形成されて
いることが望ましい。

そして、このような浮上面ｌの重要なポイントは、その
幅精度である。即ち、スライダに発生する浮上刃は、浮
上面積で決まるため、浮上量を高精度に維持するために
は、浮上面の幅を±ｌＯｐｍ以内に管理する必要があり
、更に第４図（ｂ）に示される如きバルク型の負圧形磁
気ヘッドスライダの場合には、クロスレール２と浮上面
１の形成と同時に、トラック幅の形成も行なうことが、
工程の簡略化の上から望ましいため、その幅精度は±１
．ｕｍ以内に管理する必要があるのである。

また、負圧形磁気ヘッドスライダ７において、負圧面３
の面粗さも、重要なポイントの一つである。負圧面３の
面粗さは、空気流を乱し、浮上特性を不安定にする原因
となるため、Ｒｓａｇで０．１μｍ以下にすることが望
ましいのである。

上記の点に鑑み、本発明では、有利には、前記負圧形磁
気ヘッドスライダ７において、該スライダの少な（とも
対向面と、前記浮上面の空気流方向に延びるエツジライ
ン１０を含む、該対向面に垂直な方向の面と、前記クロ
スレールの前記空気流に対する下流側のエツジライン９
を含む、該対向面に垂直な方向の面の結晶方位の組合せ
が、（２１１）面と（１１０）面と（１ｔ　１．）面、
（３１１）面と（１１０）面と（３３２）面、（１１０
）面と（１１１）面と（２１１）面、（１１０）面と（
２１１）面と（１１１）面、（１００）面と（１００）
面と（１００）面、及び（２１０）面と（１００）面と
（２１０）面、のうちの何れかとなるように、構成され
ることとなる。そしてまた、そのような負圧形磁気ヘッ
ドスライダを製造するに際しては、前記対向面となるべ
き単結晶フェライト表面と、前記マスクパターンの浮上
面の空気流方向に延びるエツジラインを与える境界線を
含む、該単結晶フェライト表面に垂直な方向の面と、前
記マスクパターンのクロスレールの空気流に対する下流
側のエツジラインを与える境界線を含む、該単結晶フェ
ライト表面に垂直な方向の面の結晶方位の組合せが、（
２１１）面と（１１０）面と（１１１）面、（３１１）
面と（１１０）面と（３３２）面、（１１０）面と（１
１１）面と（２１１）面、（１１０）面と（２１１）面
と（１１１）面、（１００）面と（１００）面と（１０
０）面、及び（２１０）面と（１００）面と（２１０）
面、のうちの何れかであるように、有利に構成されるの
である。

一般に、化学エツチングによる形状加工では、第５図に
示されるように、マスク材１１のエツジ１２の任意の点
Ｐから見て、全ての方向に対するエツチング速度が等し
い場合には、第５図（ａ）に示される如く、点Ｐから円
弧状にエツチングが進行し、傾斜角の成る程度急な傾斜
壁面が得られるが、エツチング深さ：Ｄと同じ量：Ｗだ
けマスク材１１の下にエツチングが進行（サイドエツチ
ング）するため、該りが深くなるに従って、Ｗの精度が
低（なってくる。また、この等方向エツチングの代表的
な例が電解エツチングであるが、電解エツチングでは、
電位分布の制御がかなり困難であり、前記り及びＷを高
精度に管理することは難しい、これに対して、本発明に
て採用する化学エツチング法は、単結晶フェライトの各
結晶方位のリン酸主体酸水溶液に対するエツチング速度
の違いを利用した異方性エツチングであるところから、
第５図（ｂ）に示される如く、任意の点Ｐから見て、深
さ方向へのエツチング速度：ｖｖがマスク材ｌｌ下への
エツチング速度：ｖｈより速いため、傾斜角度θが６０
’以上で且つサイドエツチング（Ｗ）も少な（、寸法精
度の高い形状加工が可能となるのである。

また、本発明にあっては、被エツチング面（摺動面）Ｆ
に単結晶フェライトを使用していることにより、従来の
多結晶フェライトで発生していたエツチング面の荒れが
全くなくなり、エツチングにて形成される負圧面（３）
の面粗さをＲ□、で０．１ｔ１ｍ以下にすることが出来
るのである。

ところで、被エツチング面Ｆとなる単結晶フェライトの
摺動面（対向面）の面粗さは、エツチング後に生成する
負圧面３の面粗さに影響するため、常法に従って、ダイ
ヤモンド砥粒等にて鏡面研磨され、予め平滑な被処理面
とされていることが好ましい。

さらに、かかる単結晶フェライトの摺動面は、・所定の
マスクパターンが付与されるのに先立ち、その表面に対
して、濃度５０％以下のアミン化合物（例えばアルカノ
ールアミン）の水溶液による表面処理や、リン酸水溶液
等の酸溶液による少なくとも１０Å以上の深さのエツチ
ング処理、Ｎ黛等の不活性ガス中にて４００℃程度まで
昇温することによるアニール処理等の何れか若しくはそ
れらを組み合わせた処理を施すことによって、被エツチ
ング面のマスク材料に対する密着性を安定させることが
望ましい、この密着性は、エツチングによって形成され
る浮上面ｌやトラックの幅の寸法精度及び傾斜壁面６の
角度に影響するので重要である。

そして、上記前処理の施された被エツチング面（摺動面
）には、所定のマスクパターンが形成されることとなる
が、それには、スクリーン印刷等の公知の手法が、必要
精度と経済性の点から適宜選択され、なかでも、パター
ン精度と工程の簡便さから、好適にはフォトレジストを
用いたフォトリソグラフィによる方法が採用される。

次いで、所定マスクパターンの形成された単結晶フェラ
イトは、リン酸主体酸水溶液中に浸漬され、化学エツチ
ングされることとなる。なお、その際のリン酸主体酸水
溶液の濃度とエツチング速度、及び液温とエツチング速
度には、それぞれ、第６図及び第７図に示されるような
関係が存在する。また、マスク材であるフォトレジスト
等の樹脂は、水溶液中に長時間浸漬しておくと、膨潤し
て密着力が低下するため、エツチング時間は短い程望ま
しい、従って、リン酸主体酸水溶液の濃度及び液温は、
エツチング深さによって適宜選択されることとなるが、
該濃度が１０重量％未満では、エツチング速度が遅くな
り過ぎ、逆に８５重量％を越えるようになると、エツチ
ング速度は速いが、粘度が高くなって、エツチングを高
精度に行なうことが困難となるところから、濃度は１０
〜８５重量％の範囲が望ましく、また液温は、９０℃を
越えると、水分の蒸発が激しく、濃度変化が太きい上に
、液温の管理が困難となり、４０°Ｃ未満ではエツチン
グ速度が遅いところから、４０〜９０℃の範囲が望まし
い。

なお、ここで言うリン酸主体酸水溶液とは、リン酸のみ
からなる水溶液だけを意味するものではなく、リン酸に
少量の硫酸等の他の酸を含有する水溶液も意味するもの
である。また、リン酸主体とは、リン酸が酸全体に対し
て８０％以上含有されていることを意味する。

以上、本発明を、負圧形磁気ヘッドスライダの形状及び
その製造方法に関して説明してきたが、傾斜角度が６０
゛以上の傾斜壁面を形成することや寸法精度に優れてい
ることは、本発明が磁気ヘッドのトラック加工等にも有
効に利用出来ることを意味しており、従って本発明の趣
旨を逸脱しない限りにおいて、本発明が、当業者の知識
に基づいて種々なる変更、修正、改良等を加えた形態に
おいて実施され得るものであり、そして本発明がそのよ
うな実施形態のものをも含むものであることは、言うま
でもないところである。

（実施例）以下に、本発明を更に具体的に明らかにするために、本
発明に従う幾つかの実施例を示すが、本発明がそれら実
施例の記載によって同等制限的に解釈されるものでない
ことは、言うまでもないところである。

実施例　ｌ ’Ｆｅｇｏ３　：　５３モル％、ＭｎＯ：３０モル％、
ＺｎＯ：１７モル％からなる各種結晶方位のＭｎ−Ｚｎ
フェライト単結晶体表面を、粒径が１／４μｍのダイヤ
モンド砥粒を用いて、常法に従って、表面粗さがＲ，□
で０．０２ｐｍ以下にラップした後、５０°Ｃに加熱し
た（１＋１０）ＨＩＰＯ，水溶液中に１５分間浸漬して
、表面をｔｏｏｏ人エツチングした後、Ｎ！雰囲気（酸
素濃度＜３０ｐｐｍ）中において、４００°Ｃで３０分
間アニール処理した０次いで、下記第１表に示すフォト
リソグラフィ条件で、第１図に示される如き負圧形スラ
イダ７のクロスレール２と浮上面ｌに相当するレジスト
パターンを形成した後、Ｈ，ＰＯ，濃度：７７．８重量
％、液温：８０°Ｃのリン酸水溶液中にて３０分間撹拌
しながら化学エツチングを行ない、かかる鏡面研磨面に
、エツチング量：ｌＯｐｍの負圧形磁気ヘッドスライダ
７の形状加工を行なった。

また、各結晶方位の組合せ、傾斜角度、寸法精度、面粗
さについて評価した結果を、下記第２表に示した。

第　　　１　　　表第２表＊ｌ　浮上面ｌやクロスレール２の上面＊　東京応化（
株）製＊４　　（１１１１１１１ｍムクロスドル２及び浮上面
ｌを断面から見て、左右それぞわＩ刈稼聴詐水功類ｔを
歌した。

かかる第２表の結果から明らかなように、対向面と側面
と前後面の結晶方位の組合せが、（１１０）面と（１１
１）面と（２１１）面、（１１０）面と（２１１）面と
（１１１）面、（１００）面と（１００）面と（１００
）面、（２１０）面と（１００）面と（２１０）、（２
１１）面と（１１０）面と（１１１）面、（３１１）面
と（１１０）面と（３３２）面の場合に、傾斜角度、寸
法精度、面粗さの何れにおいても優れた負圧形磁気ヘッ
ドスライダが得られるのである。

実施例　２実施例１と同様な組成のＭｎ−Ｚｎフェライトの多結晶
体２０及び結晶面が（２１１）面と（１１１）面と（１
１０）面となるように切り出された、同一組成のＭｎ−
Ｚｎフェライト単結晶体２１ａを、公知の固相接合手法
により一体と為し、第８図（ａ）に示される如き多結晶
−単結晶複合材２２を得た。この得られた複合材２２と
他の単結晶体２１ｂに対して、それぞれ、ギャップ構成
面の巻線孔となるべき溝２３を形成し、更に該単結晶体
２１ｂには、ガラス埋込み用の溝２４も形成した。また
、磁気ヘッドスライダの単結晶体のギャップ構成面の磁
気ギャップとなるべき部分２５に、リン酸水溶液により
ギャップ長に相当する深さだけ化学エツチングを施した
０次いで、複合材２２と他の単結晶体２１ｂとを、＜１
１０＞軸が第８図（ｂ）の如く向かい合う方向に固相接
合し、予め形成してあった磁気ギャップ部に非磁性材で
あるガラスを流し込むことにより、磁気ギャップを形成
した。更にその後、摺動面２６を磁気ギャップ深さが８
．ｕｍになるまで研磨し、最終的には、粒径が１／４μ
ｍのダイヤモンド砥粒によるラップで仕上げ、第８図（
Ｃ）に示されるギャップバーを得た。

かくして得られたギャップバーを、Ｎ！雰囲気中におい
て、４００℃で３０分間アニールした後、２５℃、２０
％のエタノールアミン水溶液中で３０分間超音波洗浄し
、第１表に示すフォトリソグラフィ条件で、第８図（ｄ
）の如きレジストパターン２７を形成した。

次いで、実施例１と同様にして、Ｈｓ　Ｐ　Ｏａ濃度：
１１．８重量％、液温：８０℃のリン酸水溶液中にて３
０分間撹拌しながら、深さ１０μｍの化学エツチングを
行なった。そして、空気流入端のテーパー加工、ヨーク
加工を行なって、第８図（ｅ）の如き形状と為した後、
１個のスライダとして切り出し、第４図（ｂ）に示され
る如きバルク形の負圧形磁気ヘッドスライダを得た。

かかるエツチングで形成されたクロスレール（２）と負
圧面（３）との間の傾斜壁面（５）の角度は７６°であ
り、浮上面（１）両側の傾斜壁面（６）の角度は６０’
であった。更に、浮上面（１）のみではなく、記録再生
を行なうトラック部も幅精度±０．７μｍで形成するこ
とが出来た。

このように、本発明に係る製造方法によって得られた負
圧形磁気ヘッドスライダは、トラック表面からエツチン
グ面までの距離が１０μｍしかないが、ギャップ深さが
８μｍであること、更にトラック部の傾斜壁面の角度が
６０°とセ、峻であることから、再生時の出力を測定し
ても、エツチング面のフェライトの影響等、各種ノイズ
に比べて、再生出力は４５ｄＢ以上と良好な値を示した
。また、オーバーライド特性も３７ｄＢ以上の値が得ら
れた。また、本発明手法によれば、アルゴンイオンによ
るスパッタリングに比べて、加工時間が１／ｌＯ以下に
短縮され得ると共に、高価な設備投資も不要であり、更
に工程を簡略化することが出来る等の利点がある。

（発明の効果）以上の説明から明らかなように、本発明に従って、少な
くとも負圧形磁気ヘッドスライダにおける磁気記録媒体
に対する対向面側の部位を単結晶フェライトにて構成す
ると共に、クロスレールの空気流に対する下流側のエツ
ジラインを含む、該対向面に垂直な方向の面が、該エツ
ジラインに対して平行な（１１１）面の存在しない結晶
方位を有しているか、或いは該エツジラインに対して平
行な（１１１）面が存在し且つ該（１１１）面が前記対
向面に対して６０°以上の角度を成すような結晶方位を
有しているように、構成することにより、クロスレール
の空気流に対する下流側の傾斜壁面の角度を有利に大な
らしめ、以てスライダの浮上特性を効果的に改善せしめ
得た他、フォトリングラフィとリン酸主体酸水溶液を用
いた化学エツチングのみにより、負圧形磁気ヘッドスラ
イダを製造することが可能となったのである。そして、
特に、前記対向面と、浮上面の空気流方向に延びるエツ
ジラインを含む、該対向面に垂直な方向の面と、前記ク
ロスレールの空気流に対する下流側のエツジラインを含
む、前記対向面に垂直な方向の面の結晶方位の組合せが
、（２１１）面と（１１０）面と（１１１）面、（３１
１）面と（１１０）面と（３３２）面、（１１０）面と
（１１１）面と（２１１）面、（１１０）面と（２１１
）面と（１１１）面、（１００）面と（１００）面と（
１００）面、及び（２１０）面と（１００）面と（２１
０）面、のうちの何れかであるようにしたことにより、
浮上面の左右の傾斜壁面の傾斜角度も有効に大ならしめ
られ得、また浮上面の寸法精度も更に高められ得ること
となったのである。

また、その結果、従来のイオンエツチングに比し、加工
時間が１／１０位かに短縮出来ると共に、マスク材料に
ＣｒやＴｉ等の金属マスクを用いる必要がないため、マ
スクパターンの形成工程が簡略化され、且つイオンエツ
チング等の高価な設備が不要となったのである。

さらに、本発明に係る製造方法では、摺動面部分に単結
晶フェライトが使用されているところから、負圧面のエ
ツチング後の面粗さをＲ１□で０．１ａｍ以下に抑える
ことが出来、スライダの浮上特性の安定に大いに寄与す
ることが出来るのである。

なお、本発明手法に従ってトラック加工を行なった場合
、トラック幅は、その寸法精度が±１μｍ以内となると
ころから、記録密度の向上にも充分対応出来るものであ
り、且つ傾斜壁面の角度が６０°以上で得られることも
浮上特性と磁気特性上、非常に効果的に作用するのであ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に係る負圧形磁気ヘッドスライダの一
例を示す斜視図であり、第２図は、第１図に示される磁
気ヘッドスライダの動作状態を示す正面図であり、第３
図（ａ）〜（ｇ）は、それぞれ、従来の負圧形磁気ヘッ
ドスライダの製造方法の一例における各工程を示す工程
説明図であり、第４図（ａ）、（ｂ）は、それぞれ、本
発明に係る負圧形磁気ヘッドスライダの他の例を示す斜
視図であり、第５図（ａ）、（ｂ）は、それぞれ、化学
エツチングの進行の機構を説明する図であり、第６図は
、リン酸水溶液の濃度とエツチング速度との関係を示す
グラフ、第７図は、リン酸水溶液の温度とエツチング速
度との関係を示すグラフであり、また第８図（ａ）〜（
ｅ）は、それぞれ、本発明に係る負圧形磁気ヘッドスラ
イダの製造工程の一例を示す工程説明図である。負圧形磁気ヘッドスライダ磁気記録媒体　９．１０：エツジラインマスクパターンパターンエツジライン多結晶フェライト単結晶フェライト多結晶・単結晶複合材巻線溝　　　２４ニガラス埋込み用溝ギャップ部　２６：摺動面レジストパターン

Claims

【特許請求の範囲】

（１）磁気記録媒体に対する対向面側に、空気流の流入
のための傾斜面若しくは段差面と、空気流により浮上刃
を発生する一対の浮上面と、この一対の浮上面の間に形
成され、空気流の流量を減少せしめるクロスレールと、
このクロスレールに対し、空気流の下流側において、負
圧を発生させる負圧面とを備えた負圧形磁気ヘッドスラ
イダにおいて、その少なくとも対向面側の部位を単結晶フェライトにて
構成すると共に、前記クロスレールの前記空気流に対す
る下流側のエッジラインを含む、前記対向面に垂直な方
向の面が、該エッジラインに対して平行な（１１１）面
の存在しない結晶方位を有しているか、或いは該エッジ
ラインに対して平行な（１１１）面が存在し且つ該（１
１１）面が前記対向面に対して６０°以上の角度を成す
ような結晶方位を有しているように、構成したことを特
徴とする負圧形磁気ヘッドスライダ。
（２）前記対向面と、前記浮上面の空気流方向に延びる
エッジラインを含む、該対向面に垂直な方向の面と、前
記クロスレールの前記空気流に対する下流側のエッジラ
インを含む、該対向面に垂直な方向の面の結晶方位の組
合せが、（２１１）面と（１１０）面と（１１１）面、
（３１１）面と（１１０）面と（３３２）面、（１１０
）面と（１１１）面と（２１１）面、（１１０）面と（
２１１）面と（１１１）面、（１００）面と（１００）
面と（１００）面、及び（２１０）面と（１００）面と
（２１０）面、のうちの何れかであることを特徴とする
請求項（１）記載の負圧形磁気ヘッドスライダ。
（３）磁気記録媒体に対する対向面側に、空気流の流入
のための傾斜面若しくは段差面と、空気流により浮上刃
を発生する一対の浮上面と、この一対の浮上面の間に形
成され、空気流の流量を減少せしめるクロスレールと、
このクロスレールに対し、空気流の下流側において、負
圧を発生させる負圧面とを備えた負圧形磁気ヘッドスラ
イダを製造するに際し、該スライダの少なくとも前記対向面側の部位を与える単
結晶フェライト部を有するフェライト部材を用い、該フ
ェライト部材の該対向面となるべき単結晶フェライト表
面上に、少なくとも前記浮上面及び前記クロスレールに
相当するマスクパターンを、該マスクパターンの該クロ
スレールの前記空気流に対する下流側のエッジラインを
与える境界線を含む、前記単結晶フェライト表面に垂直
な方向の面が、該境界線に対して平行な（１１１）面の
存在しない結晶方位を有しているか、或いは該境界線に
対して平行な（１１１）面が存在し且つ該（１１１）面
が前記単結晶フェライト表面に対して６０°以上の角度
を成すような結晶方位を有しているように、付与した後
、リン酸主体酸水溶液に接触せしめて、化学エッチング
することにより、かかるフェライト部材の単結晶フェラ
イト表面に、傾斜壁面を有する少なくとも前記浮上面及
びクロスレールを形成することを特徴とする負圧形磁気
ヘッドスライダの製造方法。
（４）前記対向面となるべき単結晶フェライト表面と、
前記マスクパターンの前記浮上面の空気流方向に延びる
エッジラインを与える境界線を含む、該単結晶フェライ
ト表面に垂直な方向の面と、前記マスクパターンの前記
クロスレールの前記空気流に対する下流側のエッジライ
ンを与える境界線を含む、該単結晶フェライト表面に垂
直な方向の面の結晶方位の組合せが、（２１１）面と（
１１０）面と（１１１）面、（３１１）面と（１１０）
面と（３３２）面、（１１０）面と（１１１）面と（２
１１）面、（１１０）面と（２１１）面と（１１１）面
、（１００）面と（１００）面と（１００）面、及び（
２１０）面と（１００）面と（２１０）面、のうちの何
れかであることを特徴とする請求項（３）記載の製造方
法。