JPH02192012A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はビデオテープ、オーディオテープ、コンピュー
ターテープ、およびフロッピーディスク等の磁気記録媒
体に関するものである。
ターテープ、およびフロッピーディスク等の磁気記録媒
体に関するものである。
現在、一般に広く使用されている磁気記録媒体は、結合
剤として塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−塩
化ビニリデン系樹脂、セルロース系樹脂、アセタール系
樹脂、ウレタン樹脂、アクリロニトリルブタジェン樹脂
などの熱可塑性樹脂を単独あるいは混合して用いる方法
があるが、この方法では、磁性層の耐摩耗性が劣り磁気
テープの走行経路を汚してしまうという欠点を有してい
た。
剤として塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−塩
化ビニリデン系樹脂、セルロース系樹脂、アセタール系
樹脂、ウレタン樹脂、アクリロニトリルブタジェン樹脂
などの熱可塑性樹脂を単独あるいは混合して用いる方法
があるが、この方法では、磁性層の耐摩耗性が劣り磁気
テープの走行経路を汚してしまうという欠点を有してい
た。
またメラミン樹脂、尿素樹脂等の熱硬化性樹脂を用いる
方法あるいは上記熱可塑性樹脂に化学反応による架橋性
の結合剤、たとえばイソシアネート化合物、エポキシ環
を有する化合物などを添加する方法が知られている。し
かし、上記の架橋性の結合剤を用いると、■)磁性粒子
を分散させた液の貯蔵安定性に難があり、磁性塗液物性
の均一性、ひいては磁気記録媒体の均質性を保持できな
い、2) 塗布乾燥後塗膜の硬化のために熱処理工程が
不可欠であり、しかも長時間を要する、などの欠点を有
している。
方法あるいは上記熱可塑性樹脂に化学反応による架橋性
の結合剤、たとえばイソシアネート化合物、エポキシ環
を有する化合物などを添加する方法が知られている。し
かし、上記の架橋性の結合剤を用いると、■)磁性粒子
を分散させた液の貯蔵安定性に難があり、磁性塗液物性
の均一性、ひいては磁気記録媒体の均質性を保持できな
い、2) 塗布乾燥後塗膜の硬化のために熱処理工程が
不可欠であり、しかも長時間を要する、などの欠点を有
している。
これらの欠点を防止する為、アクリル酸エステル系のオ
リゴマーとモノマーを結合剤として用い、乾燥後に放射
線照射によって硬化せしめる磁気記録媒体の製造方法が
特公昭47−12423号、特開昭47−13639号
、特開昭47−15104号、特開昭50−77433
号、特開昭5625231号、特開昭61−84207
号、特開昭61−106605号等の各公報に開示され
ている。しかしながら、上記各公報に開示された製造方
法では高度な電磁変換特性と耐久性を有する磁気記録媒
体は得られなかった。
リゴマーとモノマーを結合剤として用い、乾燥後に放射
線照射によって硬化せしめる磁気記録媒体の製造方法が
特公昭47−12423号、特開昭47−13639号
、特開昭47−15104号、特開昭50−77433
号、特開昭5625231号、特開昭61−84207
号、特開昭61−106605号等の各公報に開示され
ている。しかしながら、上記各公報に開示された製造方
法では高度な電磁変換特性と耐久性を有する磁気記録媒
体は得られなかった。
近年磁気記録媒体の高画質化が要求されている。
このためには磁性層表面とビデオヘッド及びオーディオ
ヘッドとの間により密に接触させることが必要であり、
磁気記録媒体の表面の平滑性を向上させるとともに、強
磁性微粉末の分散性を更に飛躍的に向上させることが重
要である。一方磁性層表面が平滑になればなるほどビデ
オテープレコーダー内の走行系での摩擦は大きくなり、
走行テンションが高くなって、磁気記録媒体にはますま
す過酷な走行耐久性が要求されるのである。このため、
従来の磁気記録媒体での製造方法では磁性層の表面の平
滑性、強磁性微粉末の分散性、および走行耐久性をかね
そなえた磁気記録媒体は得られていなかった。
ヘッドとの間により密に接触させることが必要であり、
磁気記録媒体の表面の平滑性を向上させるとともに、強
磁性微粉末の分散性を更に飛躍的に向上させることが重
要である。一方磁性層表面が平滑になればなるほどビデ
オテープレコーダー内の走行系での摩擦は大きくなり、
走行テンションが高くなって、磁気記録媒体にはますま
す過酷な走行耐久性が要求されるのである。このため、
従来の磁気記録媒体での製造方法では磁性層の表面の平
滑性、強磁性微粉末の分散性、および走行耐久性をかね
そなえた磁気記録媒体は得られていなかった。
本発明者等は熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を用いる方法
、及び上記の化学反応による架橋性の結合剤を添加する
方法、更に放射線架橋による硬化性結合剤を用いる方法
、などの従来技術の欠点を改良するため鋭意研究を重ね
た結果本発明に到達したものである。
、及び上記の化学反応による架橋性の結合剤を添加する
方法、更に放射線架橋による硬化性結合剤を用いる方法
、などの従来技術の欠点を改良するため鋭意研究を重ね
た結果本発明に到達したものである。
従って、本発明の目的は、従来の磁気記録媒体では達成
しえなかった特性、即ち1)電磁変換特性に優れ、2)
強磁性微粉末の分散性に優れ、3)磁性塗液の貯蔵安定
性が良好で均質な性能を有し、4)走行耐久性に優れた
、磁気記録媒体を提供しようとすることである。
しえなかった特性、即ち1)電磁変換特性に優れ、2)
強磁性微粉末の分散性に優れ、3)磁性塗液の貯蔵安定
性が良好で均質な性能を有し、4)走行耐久性に優れた
、磁気記録媒体を提供しようとすることである。
〔課題を解決するための手段及び作用〕上記問題点は下
に述べる方法によって解決することができる。即ち本発
明は 主として非磁性支持体と磁性層とからなる磁気記録媒体
において、該磁性層が下記(A)および(B)で示され
る群のうちそれぞれ1種以上の化合物を含有し、更に放
射線照射されたことを特徴とする磁気記録媒体によって
解決される。
に述べる方法によって解決することができる。即ち本発
明は 主として非磁性支持体と磁性層とからなる磁気記録媒体
において、該磁性層が下記(A)および(B)で示され
る群のうちそれぞれ1種以上の化合物を含有し、更に放
射線照射されたことを特徴とする磁気記録媒体によって
解決される。
(A)エポキシ基含有塩化ビニル系共重合体に多塩基性
不飽和酸、又は不飽和酸及び多塩基性酸を付加させて得
られる化合物。
不飽和酸、又は不飽和酸及び多塩基性酸を付加させて得
られる化合物。
(B)CO2H基および炭素炭素不飽和結合を含むポリ
ウレタン系化合物。
ウレタン系化合物。
本発明に用いられる塩化ビニル系化合物(A)のベース
となるエポキシ基含有塩ビ系共重合体はアクリルグリシ
ジルエーテル、メタクリルグリシジルエーテル、ビニル
グリシジルエーテルなどの不飽和アルコールのグリシジ
ルエーテル類、ブタジェンモノオキサイド、ビニルシク
ロヘキセンモノオキサイド、2−メチル−56−ニポキ
シヘキセンなどのエポキシドオレフィンなどのエポキシ
基含有モノマーと塩化ビニルまた必要に応じて酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、マレイン酸、塩化ビニリデン
などのモノマーを共重合することにより得られる。合成
法は例えば特開昭61−106605号公報などに開示
されている。
となるエポキシ基含有塩ビ系共重合体はアクリルグリシ
ジルエーテル、メタクリルグリシジルエーテル、ビニル
グリシジルエーテルなどの不飽和アルコールのグリシジ
ルエーテル類、ブタジェンモノオキサイド、ビニルシク
ロヘキセンモノオキサイド、2−メチル−56−ニポキ
シヘキセンなどのエポキシドオレフィンなどのエポキシ
基含有モノマーと塩化ビニルまた必要に応じて酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、マレイン酸、塩化ビニリデン
などのモノマーを共重合することにより得られる。合成
法は例えば特開昭61−106605号公報などに開示
されている。
得られたペースポリマーのエポキシ基含有量は0.5w
t%以上が好ましい。0.5wt%未満であると次に述
べる酸の付加により導入される炭素炭素二重結合量が少
なく放射線による硬化性が不足する。
t%以上が好ましい。0.5wt%未満であると次に述
べる酸の付加により導入される炭素炭素二重結合量が少
なく放射線による硬化性が不足する。
本発明に用いられる多塩基性不飽和酸としてはマレイン
酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン酸、ハイミック
酸、イタコン酸などがあり、特にマレイン酸が好ましい
。
酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン酸、ハイミック
酸、イタコン酸などがあり、特にマレイン酸が好ましい
。
不飽和酸が一塩基性の場合は強磁性微粉末の分散性機能
を付与する為多塩基性酸を併用しなければならない。
を付与する為多塩基性酸を併用しなければならない。
一塩基性不飽和酸としては(メタ)アクリル酸、クロル
アクリル酸などのハロゲン置換(メタ)アクリル酸類、
ビニルスルホン酸、メチルビニルスルホン酸、(メタ)
アクリルスルホン酸、スチレンスルボン酸、(メタ)ア
クリル酸−2−スルホン酸エチル、2−アクリルアミド
−2−メチルプロパンスルホン酸、3−アリロキシ−2
ヒドロキシプロペンスルホン酸などの不飽和スルホン酸
類; (メタ)アクリル酸−2−硫酸エチル、3−アリ
ロキシ−2−ヒドロキシプロパン硫酸などの硫酸の不飽
和モノエステル類;ジー2−(メタ)アクリロキシエチ
ルアシッドフォスフェートなどのリン酸の不飽和ジエス
テル類などがあげられる。
アクリル酸などのハロゲン置換(メタ)アクリル酸類、
ビニルスルホン酸、メチルビニルスルホン酸、(メタ)
アクリルスルホン酸、スチレンスルボン酸、(メタ)ア
クリル酸−2−スルホン酸エチル、2−アクリルアミド
−2−メチルプロパンスルホン酸、3−アリロキシ−2
ヒドロキシプロペンスルホン酸などの不飽和スルホン酸
類; (メタ)アクリル酸−2−硫酸エチル、3−アリ
ロキシ−2−ヒドロキシプロパン硫酸などの硫酸の不飽
和モノエステル類;ジー2−(メタ)アクリロキシエチ
ルアシッドフォスフェートなどのリン酸の不飽和ジエス
テル類などがあげられる。
さらに、多塩基性酸のうちの多塩基性飽和酸の例として
は、マロン酸、コハク酸、フタル酸、トリメリット酸な
どのポリカルボン酸類;スルホ安息香酸、スルホサリチ
ル酸などのスルホカルボン酸類などがあげられる。
は、マロン酸、コハク酸、フタル酸、トリメリット酸な
どのポリカルボン酸類;スルホ安息香酸、スルホサリチ
ル酸などのスルホカルボン酸類などがあげられる。
こうして得られた化合物(八)は、強磁性微粉末の分散
性の為に−COOH量を酸価で1〜100含むのが好ま
しく更に好ましくは3〜20である。
性の為に−COOH量を酸価で1〜100含むのが好ま
しく更に好ましくは3〜20である。
炭素炭素不飽和結合は1分子あたり1.5〜20である
のが好ましく、更に好ましくは2〜15である。この範
囲から外れると硬化性不良で耐久性が悪くなる。数平均
分子量は5,000〜100,000が好ましく、更に
好ましくは10,000〜50,000である。
のが好ましく、更に好ましくは2〜15である。この範
囲から外れると硬化性不良で耐久性が悪くなる。数平均
分子量は5,000〜100,000が好ましく、更に
好ましくは10,000〜50,000である。
この範囲以下では耐久性が不足し、以上では粘度が高く
強磁性微粉末の分散性が悪化する。
強磁性微粉末の分散性が悪化する。
本発明で用いられるC Oz H基を含むウレタン(メ
タ)アクリレート類(B) としては、主鎖の骨格が
ポリエステル、ポリエーテル、ポリエステルエーテルい
ずれでも良(、これらに用いられる二塩基酸の具体例と
してはしゅう酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、ア
ジピン酸、セバシン酸、ドデカン2酸、マレイン酸、フ
マル酸、イタコン酸、トリメチルアジピン酸、ヘキサヒ
ドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、フタル酸、イソ
フタル酸、テレフタル酸、ナフタリンジカルボン酸など
が使用できる。二価のアルコールとしては、エチレング
リコール、トリメチレングリコール、テトラメチレング
リコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレン
グリコール、オクタメチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、テトラエチレング
リコール、2.2−ジメチルプロパン−1,3−ジオー
ル、2.2−ジエチルプロパン−1,3−ジオール、シ
クロヘキサン−13−ジオール、シクロヘキサン−1,
4−ジオール、シクロヘキサン−1゜4−ジメタツール
、シクロヘキサン−13−ジメタツール、2.2−ビス
(4−ヒドロキシエトキシ−シクロヘキシル)プロパン
、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシ−フェニル)
プロパン、2.2−ビス(4−ヒドロキシエトキシエト
キシ−フェニル)プロパンなどが使用できる。またγ−
ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラク
トンなどによるラクトン系のポリエステル骨格を用いる
ことも可能である。ウレタン結合を形成するイソシアナ
ートとしては、2.4−トリレンジイソシアネート、2
.6−1−リレンジイソシアネート、1.3−キシリレ
ンジイソシアネート、1..4−キシリレンジイソシア
ネート、1゜5−ナフタレンジイソシアネート、m−フ
ェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシア
ネート、3,3−ジメチルフェニレンジイソシアネート
、44−ジフェニルメタンジイソシアネート、3.3−
メチ−ルー4.4−ジフェニールメタンジイソシアネー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイ
ソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシナネー
ト、トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネー
ト3付加物など多価イソシアネートを使用できる。また
前記二塩基酸、二価アルコールの一部を3価以上の酸及
びアルコールに置き替えてもよい。CO□H基及びアク
リロイル基はポリウレタンの末端にあっても側鎖にあっ
てもよい。これらの基の導入の方法としては、1)3価
以上の酸、アルコール、イソシアネートの一種以上をウ
レタン骨格に組み込み、側鎖にCO□H基、OH基もし
くはNGO基を残留するウレタンに、これらの基と反応
しうるカルボン酸化合物および(メタ)アクリロイル化
合物を反応させたり、2) 末端にイソシアネート基を
有するウレタンにCO,H基と(メタ)アクリロイル基
およびOH基をそれぞれ1つ以上有する活性水素化合物
を反応させたりすることなどによって得られる。
タ)アクリレート類(B) としては、主鎖の骨格が
ポリエステル、ポリエーテル、ポリエステルエーテルい
ずれでも良(、これらに用いられる二塩基酸の具体例と
してはしゅう酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、ア
ジピン酸、セバシン酸、ドデカン2酸、マレイン酸、フ
マル酸、イタコン酸、トリメチルアジピン酸、ヘキサヒ
ドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、フタル酸、イソ
フタル酸、テレフタル酸、ナフタリンジカルボン酸など
が使用できる。二価のアルコールとしては、エチレング
リコール、トリメチレングリコール、テトラメチレング
リコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレン
グリコール、オクタメチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、テトラエチレング
リコール、2.2−ジメチルプロパン−1,3−ジオー
ル、2.2−ジエチルプロパン−1,3−ジオール、シ
クロヘキサン−13−ジオール、シクロヘキサン−1,
4−ジオール、シクロヘキサン−1゜4−ジメタツール
、シクロヘキサン−13−ジメタツール、2.2−ビス
(4−ヒドロキシエトキシ−シクロヘキシル)プロパン
、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシ−フェニル)
プロパン、2.2−ビス(4−ヒドロキシエトキシエト
キシ−フェニル)プロパンなどが使用できる。またγ−
ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラク
トンなどによるラクトン系のポリエステル骨格を用いる
ことも可能である。ウレタン結合を形成するイソシアナ
ートとしては、2.4−トリレンジイソシアネート、2
.6−1−リレンジイソシアネート、1.3−キシリレ
ンジイソシアネート、1..4−キシリレンジイソシア
ネート、1゜5−ナフタレンジイソシアネート、m−フ
ェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシア
ネート、3,3−ジメチルフェニレンジイソシアネート
、44−ジフェニルメタンジイソシアネート、3.3−
メチ−ルー4.4−ジフェニールメタンジイソシアネー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイ
ソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシナネー
ト、トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネー
ト3付加物など多価イソシアネートを使用できる。また
前記二塩基酸、二価アルコールの一部を3価以上の酸及
びアルコールに置き替えてもよい。CO□H基及びアク
リロイル基はポリウレタンの末端にあっても側鎖にあっ
てもよい。これらの基の導入の方法としては、1)3価
以上の酸、アルコール、イソシアネートの一種以上をウ
レタン骨格に組み込み、側鎖にCO□H基、OH基もし
くはNGO基を残留するウレタンに、これらの基と反応
しうるカルボン酸化合物および(メタ)アクリロイル化
合物を反応させたり、2) 末端にイソシアネート基を
有するウレタンにCO,H基と(メタ)アクリロイル基
およびOH基をそれぞれ1つ以上有する活性水素化合物
を反応させたりすることなどによって得られる。
合成の開示例として特開昭60−116316号、特開
昭61−222028号などを挙げることができる。本
特許に用いる化合物(B)はこの特許に開示された範囲
のものに限定されない。
昭61−222028号などを挙げることができる。本
特許に用いる化合物(B)はこの特許に開示された範囲
のものに限定されない。
本発明で用いるウレタン(メタ)アクリレートの好まし
い酸化としては1〜100であり、より好ましくは3〜
20であり更に好ましくは5〜15である。数平均分子
量としてはi 、 ooo〜10o。
い酸化としては1〜100であり、より好ましくは3〜
20であり更に好ましくは5〜15である。数平均分子
量としてはi 、 ooo〜10o。
000てあり、好ましくは2,000〜50,000特
に好ましくは3.000〜30,000である。酸価が
この範囲を外れると強磁性微粉末の分散性が悪く、電磁
変換特性の低下を招いたり、耐久性が悪化したりする。
に好ましくは3.000〜30,000である。酸価が
この範囲を外れると強磁性微粉末の分散性が悪く、電磁
変換特性の低下を招いたり、耐久性が悪化したりする。
また(メタ)アクリロイル基の平均含有量としては1分
子あたり、1.5〜10であり好ましくは2〜8である
。
子あたり、1.5〜10であり好ましくは2〜8である
。
分子量が1000未満の場合、得られた磁気記録媒体の
磁性層が強くなりすぎ、折曲げたときに割れがはいった
り、また放射線照射後硬化収縮により磁気記録媒体がカ
ールするという問題が発生しやすい。一方分子量が10
0,000を越えるとウレタン(メタ)アクリレートの
溶剤への溶解性が不良となりやすく、取扱に不便となる
のみでなく、磁性体の分散性が悪化したり硬化に多大な
エネルギーを必要とするので好ましくない。
磁性層が強くなりすぎ、折曲げたときに割れがはいった
り、また放射線照射後硬化収縮により磁気記録媒体がカ
ールするという問題が発生しやすい。一方分子量が10
0,000を越えるとウレタン(メタ)アクリレートの
溶剤への溶解性が不良となりやすく、取扱に不便となる
のみでなく、磁性体の分散性が悪化したり硬化に多大な
エネルギーを必要とするので好ましくない。
更に本発明にはビニル系モノマーを添加することができ
る。ビニル系モノマーとしては、放射線照射により重合
可能な化合物であって、炭素−炭素不飽和結合を分子中
に1個以上有する化合物であり、(メタ)アクリル酸エ
ステル類、(メタ)アクリルアミド類、アリル化合物、
ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニルi節理化
合物、N−ビニル化合物、スチレン類、アクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸類、イタコン酸類、オレフィン
酸等が例としてあげられる。これらのうち好ましいもの
としてメタクリロイル基を2個以上含む下記の化合物が
あげられる。具体的には、ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリエチレンクリコールジ(メタ)
アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレ−トなどのポリエチレングリコールの(メタ)ア
クリレート頚、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリト−ルテトラ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アク
リレート、トリス(β−(メタ)アクリロイロキシエチ
ル)イソシアヌレ−1〜、ヒス(β−(メタ)アクリロ
イロキシエチル)イソシアヌレート、あるいはポリイソ
シアネート(2,4−トリレンジイソシアネート、2゜
6−トリレンジイソシアネート、1.3−キシリレンジ
イソシアネー1〜.1,4−キシリレンジイソシアネー
ト、1,5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニ
レンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネー
ト、3,3−ジメチルフエニレンジイソシアネー1−1
4.4−ジフェニルメタンジイソシアネート、3.3−
ジメチル−4゜4−ジフェニルメタンジイソシアネート
、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソ
シアネート、シシクロヘキシルメタンジイソシアネ−1
−、トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネー
ト3付加物)と、ヒドロキシ(メタ)アクリレート化合
物(2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなど)との反
応化合物、あるいはその他の2官能以上のポリ(メタ)
アクリレート類などがある。これらのモノマーは1種で
もよく、また2種以上用いてもよい。
る。ビニル系モノマーとしては、放射線照射により重合
可能な化合物であって、炭素−炭素不飽和結合を分子中
に1個以上有する化合物であり、(メタ)アクリル酸エ
ステル類、(メタ)アクリルアミド類、アリル化合物、
ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニルi節理化
合物、N−ビニル化合物、スチレン類、アクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸類、イタコン酸類、オレフィン
酸等が例としてあげられる。これらのうち好ましいもの
としてメタクリロイル基を2個以上含む下記の化合物が
あげられる。具体的には、ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリエチレンクリコールジ(メタ)
アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレ−トなどのポリエチレングリコールの(メタ)ア
クリレート頚、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリト−ルテトラ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アク
リレート、トリス(β−(メタ)アクリロイロキシエチ
ル)イソシアヌレ−1〜、ヒス(β−(メタ)アクリロ
イロキシエチル)イソシアヌレート、あるいはポリイソ
シアネート(2,4−トリレンジイソシアネート、2゜
6−トリレンジイソシアネート、1.3−キシリレンジ
イソシアネー1〜.1,4−キシリレンジイソシアネー
ト、1,5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニ
レンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネー
ト、3,3−ジメチルフエニレンジイソシアネー1−1
4.4−ジフェニルメタンジイソシアネート、3.3−
ジメチル−4゜4−ジフェニルメタンジイソシアネート
、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソ
シアネート、シシクロヘキシルメタンジイソシアネ−1
−、トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネー
ト3付加物)と、ヒドロキシ(メタ)アクリレート化合
物(2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなど)との反
応化合物、あるいはその他の2官能以上のポリ(メタ)
アクリレート類などがある。これらのモノマーは1種で
もよく、また2種以上用いてもよい。
前記(A)で示される化合物と前記(B)で示される化
合物との組成比の好ましい範囲は20〜90重量部/8
0〜10重量部、特に好ましくは30〜80部/70〜
20部である。(八)で示される化合物がこの比率以下
であったり(B)で示される化合物がこの比率以下であ
ると耐久性が得られない。また、前記ビニルモノマーの
添加量は前記(^)および(B)で示される化合物の総
和重量部に対して50重量部以下が好ましい。この比率
よりも多いと重合に必要な放射線量が大きくなって好ま
しくないし、磁気記録媒体がカールしたり、あるいは十
分な耐久性かえられない。
合物との組成比の好ましい範囲は20〜90重量部/8
0〜10重量部、特に好ましくは30〜80部/70〜
20部である。(八)で示される化合物がこの比率以下
であったり(B)で示される化合物がこの比率以下であ
ると耐久性が得られない。また、前記ビニルモノマーの
添加量は前記(^)および(B)で示される化合物の総
和重量部に対して50重量部以下が好ましい。この比率
よりも多いと重合に必要な放射線量が大きくなって好ま
しくないし、磁気記録媒体がカールしたり、あるいは十
分な耐久性かえられない。
本発明に用いられる強磁性微粉末としては、強磁性酸化
鉄微粉末、COドープの強磁性酸化鉄微粉末、強磁性二
酸化クロム微粉末、強磁性合金粉末、バリウムフェライ
トなどが使用できる。強磁性酸化鉄、二酸化クロムの針
状比は、2/1〜20/1程度、好ましくは5/1以上
平均長軸径は0.2〜2.0μm程度の範囲が有効であ
る。
鉄微粉末、COドープの強磁性酸化鉄微粉末、強磁性二
酸化クロム微粉末、強磁性合金粉末、バリウムフェライ
トなどが使用できる。強磁性酸化鉄、二酸化クロムの針
状比は、2/1〜20/1程度、好ましくは5/1以上
平均長軸径は0.2〜2.0μm程度の範囲が有効であ
る。
強磁性合金粉末は金属分が75wt%以上であり、金属
分の80wt%以上が強磁性金属(即ち、Fe、Co、
Ni、Fe−Ni、Co−NiFe−Co−N1)で平
均長軸径が約1.0μm以下の粒子である。本発明に於
て特に効果的なのは強磁性微粉末の分散が困難なりET
比表面積が30、好ましくは45 rrr / g以上
の微粒子の強磁性合金粉末である。
分の80wt%以上が強磁性金属(即ち、Fe、Co、
Ni、Fe−Ni、Co−NiFe−Co−N1)で平
均長軸径が約1.0μm以下の粒子である。本発明に於
て特に効果的なのは強磁性微粉末の分散が困難なりET
比表面積が30、好ましくは45 rrr / g以上
の微粒子の強磁性合金粉末である。
分散、磁性塗液の塗布に用いる有機溶剤としては、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン等のケトン系;酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチ
ルエーテル等のニスチル系;エチルエーテル、グリコー
ルジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系;ヘ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;メ
チレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、
クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベン
ゼンなどの塩素化炭化水素等が選択して使用できる。
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン等のケトン系;酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチ
ルエーテル等のニスチル系;エチルエーテル、グリコー
ルジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系;ヘ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;メ
チレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、
クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベン
ゼンなどの塩素化炭化水素等が選択して使用できる。
また、本発明の磁性塗液には、潤滑剤、研磨剤、分散剤
、帯電防止剤、防錆剤等の添加剤を加えてもよい。特に
潤滑剤は、炭素数12以上の飽和及び不飽和の高級脂肪
酸、脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド、高級アルコー
ルおよび、シリコーンオイル、鉱油、植物油、フッソ系
化合物等があり、これらは磁性塗液調製時に添加しても
よく、また乾燥後あるいは放射線照射後に有機溶剤に熔
解して、あるいはそのまま磁性層表面に塗布あるいは、
噴霧してもよい。
、帯電防止剤、防錆剤等の添加剤を加えてもよい。特に
潤滑剤は、炭素数12以上の飽和及び不飽和の高級脂肪
酸、脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド、高級アルコー
ルおよび、シリコーンオイル、鉱油、植物油、フッソ系
化合物等があり、これらは磁性塗液調製時に添加しても
よく、また乾燥後あるいは放射線照射後に有機溶剤に熔
解して、あるいはそのまま磁性層表面に塗布あるいは、
噴霧してもよい。
磁性塗液を塗布する支持体の素材としては、ポリエチレ
ンテレフタレー1−、ポリエチレン2,6ナフタレート
などのポリエステル類;ポリエチレン、ポリプロピレン
などのポリオレフィン類、セルローストリアセテートな
どのセルロース誘導体、ポリカーボネ−1・、ポリイミ
ド、ポリアミドイミドなどプラスチック、その他に用途
に応じてアルミニウム、銅、錫、亜鉛又はこれらを含む
非磁性合金などの非磁性金属類、アルミニウムなどの金
属を萎着したプラスチック類も使用できる。
ンテレフタレー1−、ポリエチレン2,6ナフタレート
などのポリエステル類;ポリエチレン、ポリプロピレン
などのポリオレフィン類、セルローストリアセテートな
どのセルロース誘導体、ポリカーボネ−1・、ポリイミ
ド、ポリアミドイミドなどプラスチック、その他に用途
に応じてアルミニウム、銅、錫、亜鉛又はこれらを含む
非磁性合金などの非磁性金属類、アルミニウムなどの金
属を萎着したプラスチック類も使用できる。
また非磁性支持体の形態はフィルム、テープ、シート、
ディスク、カード、ドラムなどいずれでもよく、形態に
応じて種々の材料が必要に応じて選択される。
ディスク、カード、ドラムなどいずれでもよく、形態に
応じて種々の材料が必要に応じて選択される。
また本発明の支持体は帯電防止、支持体の表面粗さの磁
性層への転写防止、ワウフラソクー防止、磁気記録媒体
の強度向上、バック面のマット化等の目的で、磁性層を
設けた側の反対の面(バック面)にいわゆるバックコー
トがなされていてもよい 本発明では放射線を、磁性塗料を塗布し、カレンダー処
理を施した後に照射することが好ましいが、照射した後
カレンダー処理することも可能である。あるいは更にも
う一度放射線照射することも可能である。
性層への転写防止、ワウフラソクー防止、磁気記録媒体
の強度向上、バック面のマット化等の目的で、磁性層を
設けた側の反対の面(バック面)にいわゆるバックコー
トがなされていてもよい 本発明では放射線を、磁性塗料を塗布し、カレンダー処
理を施した後に照射することが好ましいが、照射した後
カレンダー処理することも可能である。あるいは更にも
う一度放射線照射することも可能である。
本発明の磁性層に照射する放射線としては、電子線、T
線、β線、紫外線などを使用できるが、好ましくは電子
線である。電子線加速器としてはスキャニング方式、ダ
ブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式、ブ
ロードビームカーテン方式などが採用できる。
線、β線、紫外線などを使用できるが、好ましくは電子
線である。電子線加速器としてはスキャニング方式、ダ
ブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式、ブ
ロードビームカーテン方式などが採用できる。
電子線としては、加速電圧が100〜1000KV、好
ましくは150〜300に■であり、吸収線量として1
〜20Mr a d、好ましくは3〜15Mr a d
である。加速電圧が100KV以下の場合は、エネルギ
ーの透過量が不足し、1000KVを越えると重合に使
われるエネルギー効率が低下し経済的で無い。吸収線量
として、IMrad以下では硬化反応が不充分で磁性層
強度が得られず、20Mr a d以上になると、硬化
に使用されるエネルギー効率が低下したり、被照射体が
発熱し、特にプラスティック支持体が変形するので好ま
しくない。
ましくは150〜300に■であり、吸収線量として1
〜20Mr a d、好ましくは3〜15Mr a d
である。加速電圧が100KV以下の場合は、エネルギ
ーの透過量が不足し、1000KVを越えると重合に使
われるエネルギー効率が低下し経済的で無い。吸収線量
として、IMrad以下では硬化反応が不充分で磁性層
強度が得られず、20Mr a d以上になると、硬化
に使用されるエネルギー効率が低下したり、被照射体が
発熱し、特にプラスティック支持体が変形するので好ま
しくない。
以下に本発明を実施例及び比較例により更に具体的に説
明する。以下の実施例及び比較例において「部」はすべ
て「重量部」を示す。
明する。以下の実施例及び比較例において「部」はすべ
て「重量部」を示す。
実施例−1
下記組成の磁性塗液をボールミルで50時間混練した。
Fe合金粉末(15000e、 BET表面積50ボ/
g、針状比10/1) 400部結合
剤組成 アリルグリシジルエーテルと塩 化ビニルの共重合体にマレイン 酸を付加させた樹脂 (酸価10.不飽和二重結合量2個/ 分子、数平均分子量20,000) ウレタンアクリレート (酸価1.8.数平均分子量10,000アクリロイル
基平均含有量3 60部 個/分子)40部 ステアリン酸 4部ブチルステ
アレート 4部A1□03
4部カーボンブラック
10部メヂルエチルケトン
800部分散後1厚さ10μmのポリエチレンテレフ
タレート支持体に、ドクターブレードを用いて乾燥膜が
3μmになるように塗布しコノ\ルト磁石を用いて配向
させたのち、溶剤を乾燥(100°C1分間)後カレン
ダー処理を施した。次いで加速電圧165KV、ビーム
電流6mAで7Mradの吸収線量になるように電子線
を照射した後、1/2インチ幅にスリットしてビデオ用
の磁気テープサンプルNo、 1を得た。
g、針状比10/1) 400部結合
剤組成 アリルグリシジルエーテルと塩 化ビニルの共重合体にマレイン 酸を付加させた樹脂 (酸価10.不飽和二重結合量2個/ 分子、数平均分子量20,000) ウレタンアクリレート (酸価1.8.数平均分子量10,000アクリロイル
基平均含有量3 60部 個/分子)40部 ステアリン酸 4部ブチルステ
アレート 4部A1□03
4部カーボンブラック
10部メヂルエチルケトン
800部分散後1厚さ10μmのポリエチレンテレフ
タレート支持体に、ドクターブレードを用いて乾燥膜が
3μmになるように塗布しコノ\ルト磁石を用いて配向
させたのち、溶剤を乾燥(100°C1分間)後カレン
ダー処理を施した。次いで加速電圧165KV、ビーム
電流6mAで7Mradの吸収線量になるように電子線
を照射した後、1/2インチ幅にスリットしてビデオ用
の磁気テープサンプルNo、 1を得た。
以下実施例−1の結合剤組成を下記のように代えて、実
施例−1と同様にして磁気テープサンプルを得た。評価
結果は第1表にまとめた。
施例−1と同様にして磁気テープサンプルを得た。評価
結果は第1表にまとめた。
実施例−2・・・・サンプルNo、 2アリルグリシジ
ルエーテルと塩化 ビニルの共重合体にマロン酸及び クロルアクリル酸を付加させた樹 脂(酸価3、数平均分子量20,000、アクリロイル
基平均含有量3.4個/ 分子〉60部 ウレタンアクリレート(酸価3、 数平均分子量10,000、アクリロイル基平均含有量
3個/分子)40部 実施例−3・・・・サンプルN013 ブタジエンモノオキサイドと塩化 ビニルの共重合体にシトラコン酸 を付加させた樹脂(酸価10.数平 均分子量15,000) 60部
ウレタンアクリレート(酸価5、 炭素炭素不飽和二重結合量2.7個/ 分子、数平均分子量10,000、アクリロイル基平均
含有量5個/分子)40部実施例−4・・・・サンプル
No、 4実施例−1と同じ塩化ビニル果樹 脂 6
0部ウレタンアクリレート(酸価1.0、 数平均分子量10,000.アクリロイル基平均含有量
3個/分子)40部 実施例−5・・・・サンプルNo、 5実施例−1と同
じ塩化ビニル果樹 脂 60
部ウレタンアクリレート(酸価100、 数平均分子量10,000、アクリロイル基平均含有量
3個7分子)40部 比較例−1・・・・サンプルNo、 6実施例−1と同
じ塩化ビニル果樹 60部ウレタンアクリレート(
酸価O1 数平均分子量10,000、アクリロイル基平均含有量
3個/分子)40部 比較例−2・・・・サンプルNo、 7実施例−1と同
じ塩ビ系樹脂 60部ウレタン樹脂(酸価3、
数千均分 子量50 、000、アクリロイル基平均含有量O個/
分子)40部 比較例−3・・・・サンプルNo、 8塩化ビニル、酢
酸ビニル共重合体 数平均分子量10,000 60部ウ
レタンアクリレート(酸価3、 数平均分子i20,000、アクリロイル基平均含有量
4個/分子)40部 比較例−4・・・・サンプルNo、 9アリルグリシジ
ルエーテルと塩化 ビニルの共重合体にマロン酸のみ 付加させた樹脂(酸価8.数平均分 子量20,000) 60
部実施例−1と同じウレタンアクリ レート 40部比較
例−5・・・・サンプルNo、 ] 0アリルグリシジ
ルエーテルと塩化 ビニルの共重合体にクロルアクリ ル酸のみイ」加させた樹脂 60部実施例
−1と同じウレタンアクリ レート 40部(評
価方法) 酸価の測定:資料1gをテトラヒドロフランに溶解しフ
ェノールフタレンを指示薬として、水酸化カリウムのエ
チルアルコール−水(9515V/Vχ)溶液で滴定し
、要した水酸化カリウムのmg数を評価とした。
ルエーテルと塩化 ビニルの共重合体にマロン酸及び クロルアクリル酸を付加させた樹 脂(酸価3、数平均分子量20,000、アクリロイル
基平均含有量3.4個/ 分子〉60部 ウレタンアクリレート(酸価3、 数平均分子量10,000、アクリロイル基平均含有量
3個/分子)40部 実施例−3・・・・サンプルN013 ブタジエンモノオキサイドと塩化 ビニルの共重合体にシトラコン酸 を付加させた樹脂(酸価10.数平 均分子量15,000) 60部
ウレタンアクリレート(酸価5、 炭素炭素不飽和二重結合量2.7個/ 分子、数平均分子量10,000、アクリロイル基平均
含有量5個/分子)40部実施例−4・・・・サンプル
No、 4実施例−1と同じ塩化ビニル果樹 脂 6
0部ウレタンアクリレート(酸価1.0、 数平均分子量10,000.アクリロイル基平均含有量
3個/分子)40部 実施例−5・・・・サンプルNo、 5実施例−1と同
じ塩化ビニル果樹 脂 60
部ウレタンアクリレート(酸価100、 数平均分子量10,000、アクリロイル基平均含有量
3個7分子)40部 比較例−1・・・・サンプルNo、 6実施例−1と同
じ塩化ビニル果樹 60部ウレタンアクリレート(
酸価O1 数平均分子量10,000、アクリロイル基平均含有量
3個/分子)40部 比較例−2・・・・サンプルNo、 7実施例−1と同
じ塩ビ系樹脂 60部ウレタン樹脂(酸価3、
数千均分 子量50 、000、アクリロイル基平均含有量O個/
分子)40部 比較例−3・・・・サンプルNo、 8塩化ビニル、酢
酸ビニル共重合体 数平均分子量10,000 60部ウ
レタンアクリレート(酸価3、 数平均分子i20,000、アクリロイル基平均含有量
4個/分子)40部 比較例−4・・・・サンプルNo、 9アリルグリシジ
ルエーテルと塩化 ビニルの共重合体にマロン酸のみ 付加させた樹脂(酸価8.数平均分 子量20,000) 60
部実施例−1と同じウレタンアクリ レート 40部比較
例−5・・・・サンプルNo、 ] 0アリルグリシジ
ルエーテルと塩化 ビニルの共重合体にクロルアクリ ル酸のみイ」加させた樹脂 60部実施例
−1と同じウレタンアクリ レート 40部(評
価方法) 酸価の測定:資料1gをテトラヒドロフランに溶解しフ
ェノールフタレンを指示薬として、水酸化カリウムのエ
チルアルコール−水(9515V/Vχ)溶液で滴定し
、要した水酸化カリウムのmg数を評価とした。
スチル耐久時間: VHSビデオテープレコーダー(松
下電気産業(■)製、NV8200)を用いてビデオテ
ープ(各サンプル)に一定のビデオ信号を記録し、再生
した制止画像が鮮明さを失うまでの時間を示す(実験は
5°C80%RHで行った)。
下電気産業(■)製、NV8200)を用いてビデオテ
ープ(各サンプル)に一定のビデオ信号を記録し、再生
した制止画像が鮮明さを失うまでの時間を示す(実験は
5°C80%RHで行った)。
ビデオS/N:上記ビデオテープレコーダーを使用し、
50%セットアツプの灰色信号を録画し、シバツク製9
25型S/Nメーターでノイズを測定し、サンプルNo
、 1をOdBとしたときの相対値で示した。
50%セットアツプの灰色信号を録画し、シバツク製9
25型S/Nメーターでノイズを測定し、サンプルNo
、 1をOdBとしたときの相対値で示した。
貯蔵安定性:磁性塗液を24時間室温で静置保存した後
、10分間攪拌後に実施例−1に記載した方法で磁気テ
ープを作成し、ビデオS/Nを測定した。貯蔵しないと
きの各サンプルのビデオS/NをOdBとして、貯蔵安
定性を評価した。
、10分間攪拌後に実施例−1に記載した方法で磁気テ
ープを作成し、ビデオS/Nを測定した。貯蔵しないと
きの各サンプルのビデオS/NをOdBとして、貯蔵安
定性を評価した。
支持体と磁性層の接着カニ幅1/2インチ、長さ5cm
のザンプルテープを用い180度剥離に要する力をもっ
て接着力とした。
のザンプルテープを用い180度剥離に要する力をもっ
て接着力とした。
動摩擦係数二上記ビデオテープレコーダーを用いて、回
転シリンダーの送り出し側のテープテンションをT11
巻き取り側のテープテンションT2としたとき、次式に
より動摩擦係数(μ)を定義し、このμにより走行テン
ションの評価を行った。
転シリンダーの送り出し側のテープテンションをT11
巻き取り側のテープテンションT2としたとき、次式に
より動摩擦係数(μ)を定義し、このμにより走行テン
ションの評価を行った。
T2 / T+ = e XP (μ*π)測定は40
°C165%RH 第 1 表 G 〔発明の効果〕 第1表に示すように、本発明の磁気記録媒体の磁性層が
エポキシ基含有塩化ビニル系共重合体に多塩基性不飽和
酸、又は不飽和酸及び多塩基性酸を付加させて得られる
化合物、およびC07H基および炭素炭素不飽和結合を
含むポリウレタン系化合物で示される群の内それぞれ一
種以上の化合物を結合剤として含有し、更に放射線照射
されていることを特徴とする磁気記録媒体は、強磁性微
粉末の分散性に優れ良好な電磁変換特性を示し、また動
摩擦係数が低く、優れたスチル耐久性を示すことがわか
る。さらに本発明の磁気記録媒体の製造方法において、
磁性塗料が優れた貯蔵安定性を有することが確かめられ
た。
°C165%RH 第 1 表 G 〔発明の効果〕 第1表に示すように、本発明の磁気記録媒体の磁性層が
エポキシ基含有塩化ビニル系共重合体に多塩基性不飽和
酸、又は不飽和酸及び多塩基性酸を付加させて得られる
化合物、およびC07H基および炭素炭素不飽和結合を
含むポリウレタン系化合物で示される群の内それぞれ一
種以上の化合物を結合剤として含有し、更に放射線照射
されていることを特徴とする磁気記録媒体は、強磁性微
粉末の分散性に優れ良好な電磁変換特性を示し、また動
摩擦係数が低く、優れたスチル耐久性を示すことがわか
る。さらに本発明の磁気記録媒体の製造方法において、
磁性塗料が優れた貯蔵安定性を有することが確かめられ
た。
平成1年10月
1寺も年月°長宮 殿
1、事件の表示
昭和63年特許願第93549号
2、発明の名称
磁気記録媒体
3、補正をする壱
事件との関係: 特許出願人
名 称: (520)富士写真フィルム株式会社4、代
埋入
住所:〒100
東京都千代田区霞が関3丁目8番1号
虎の門三井ビル14階
5、補正指令の日子1:平成1年9月11日(発送日:
平成1年9月26日)6、補正により増加する請求項の
数二 〇代理人 弁理士(8107)佐々木 清除7、
補正の対象: 明細書(「発明の詳細な説明」の項目)
(ほか 3名)
平成1年9月26日)6、補正により増加する請求項の
数二 〇代理人 弁理士(8107)佐々木 清除7、
補正の対象: 明細書(「発明の詳細な説明」の項目)
(ほか 3名)
Claims (1)
- (1)主として非磁性支持体と磁性層とからなる磁気記
録媒体において、該磁性層が下記(A)および(B)で
示される群のうちそれぞれ1種以上の化合物を結合剤と
して含有し、更に放射線照射されていることを特徴とす
る磁気記録媒体。 (A)エポキシ基含有塩化ビニル系共重合体に多塩基性
不飽和酸、又は不飽和酸及び多塩基性酸を付加させて得
られる化合物。 (B)CO_2H基および炭素炭素不飽和結合を含むポ
リウレタン系化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9354988A JPH02192012A (ja) | 1988-04-18 | 1988-04-18 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9354988A JPH02192012A (ja) | 1988-04-18 | 1988-04-18 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02192012A true JPH02192012A (ja) | 1990-07-27 |
Family
ID=14085341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9354988A Pending JPH02192012A (ja) | 1988-04-18 | 1988-04-18 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02192012A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012022189A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
-
1988
- 1988-04-18 JP JP9354988A patent/JPH02192012A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012022189A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
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