JPH02194331A - 光スペクトラムアナライザー - Google Patents
光スペクトラムアナライザーInfo
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- JPH02194331A JPH02194331A JP1360189A JP1360189A JPH02194331A JP H02194331 A JPH02194331 A JP H02194331A JP 1360189 A JP1360189 A JP 1360189A JP 1360189 A JP1360189 A JP 1360189A JP H02194331 A JPH02194331 A JP H02194331A
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Landscapes
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、光スペクトル分析を行なう光スペクトラムア
ナライザー、特に詳細には音響光学効果を利用して光ス
ペクトルを分析する光スペクトラムアナライザーに関す
るものである。
ナライザー、特に詳細には音響光学効果を利用して光ス
ペクトルを分析する光スペクトラムアナライザーに関す
るものである。
(従来の技術)
先スペクトルを分析する光スペクトラムアナライザーと
しては、種々のものが公知となっている。
しては、種々のものが公知となっている。
従来より広く実用に供されている光スペクトラムアナラ
イザーの1つとして、例えばツエルニターナ−型と称さ
れるものが知られている。この光スペクトラムアナライ
ザーは、照射された被測定光を回折させる回折格子を回
転させ、それにより回折光をスリット上において移動さ
せ、このスリット越しに回折光を検出したときの回折格
子の回転角に基づいて光スペクトルを分析するものであ
る。
イザーの1つとして、例えばツエルニターナ−型と称さ
れるものが知られている。この光スペクトラムアナライ
ザーは、照射された被測定光を回折させる回折格子を回
転させ、それにより回折光をスリット上において移動さ
せ、このスリット越しに回折光を検出したときの回折格
子の回転角に基づいて光スペクトルを分析するものであ
る。
このような光スペクトラムアナライザーは、高分解能で
光スペクトルを分析可能となっている。
光スペクトルを分析可能となっている。
しかしこのような光スペクトラムアナライザーは、大型
でかつ重いので取扱い性に難があり、例えば携帯使用等
には不向きであった。小型軽量に形成されうる光スペク
トラムアナライザーも種々考えられているが、そのよう
なものの多くは分解能が低いという問題を有している。
でかつ重いので取扱い性に難があり、例えば携帯使用等
には不向きであった。小型軽量に形成されうる光スペク
トラムアナライザーも種々考えられているが、そのよう
なものの多くは分解能が低いという問題を有している。
そこで本出願人は先に、小型軽量に形成可能で、しかも
分解能の高い光スペクトラムアナライザを提案した(特
願昭62−1.80779号)。この光スペクトラムア
ナライザーは、 表面弾性波が伝播可能な材料から形成された光導波路と
、 この光導波路内に入射されて該光導波路内を進行する被
測定光としての導波光の光路に交わる方向に進行して、
該導波光を回折、偏向させる連続的に周波数が変化する
表面弾性波を上記光導波路において発生させる表面弾性
波発生手段と、上記表面弾性波によって偏向されて光導
波路外に出射した上記被i1P+定光を検出する光検出
手段と、この光検出手段が被測定光を検出したときの表
面弾性波の周波数を検出する周波数検出手段とから構成
されたことを特徴とするものである。
分解能の高い光スペクトラムアナライザを提案した(特
願昭62−1.80779号)。この光スペクトラムア
ナライザーは、 表面弾性波が伝播可能な材料から形成された光導波路と
、 この光導波路内に入射されて該光導波路内を進行する被
測定光としての導波光の光路に交わる方向に進行して、
該導波光を回折、偏向させる連続的に周波数が変化する
表面弾性波を上記光導波路において発生させる表面弾性
波発生手段と、上記表面弾性波によって偏向されて光導
波路外に出射した上記被i1P+定光を検出する光検出
手段と、この光検出手段が被測定光を検出したときの表
面弾性波の周波数を検出する周波数検出手段とから構成
されたことを特徴とするものである。
光導波路内を導波する導波光は、この光導波路を伝播す
る表面弾性波と交差すると、音響光学相互作用により回
折、偏向する。この偏向角δは、表面弾性波の進行方向
に対する導波光の入射角をθとすると、δ−20である
。モして導波光の波長をλ、光導波路の実効屈折率をN
eとし、表面弾性波の波長、周波数、速度をそれぞれA
、f、■とすれば、 λ である。NeおよびVは一定であるから、この式で示さ
れるブラッグ条件を満足して導波光が最も効率良く回折
するときの前記入射角θと表面弾性波周波数fが分かれ
ば、導波光すなわち被測定光の波長λが分かることにな
る。
る表面弾性波と交差すると、音響光学相互作用により回
折、偏向する。この偏向角δは、表面弾性波の進行方向
に対する導波光の入射角をθとすると、δ−20である
。モして導波光の波長をλ、光導波路の実効屈折率をN
eとし、表面弾性波の波長、周波数、速度をそれぞれA
、f、■とすれば、 λ である。NeおよびVは一定であるから、この式で示さ
れるブラッグ条件を満足して導波光が最も効率良く回折
するときの前記入射角θと表面弾性波周波数fが分かれ
ば、導波光すなわち被測定光の波長λが分かることにな
る。
また導波光(被測定光)が非常に波長が近接した複数の
スペクトル成分を含む場合、各スペクトル成分を表面弾
性波の回折作用により分離させることができる。したが
って、例えば前記光検出器の前にピンホール板等を配置
して、各スペクトル成分の光がそれぞれ個別に検出され
るようにしておけば、上述のように波長が近接していて
も各スペクトル成分を正確に測定可能となる。
スペクトル成分を含む場合、各スペクトル成分を表面弾
性波の回折作用により分離させることができる。したが
って、例えば前記光検出器の前にピンホール板等を配置
して、各スペクトル成分の光がそれぞれ個別に検出され
るようにしておけば、上述のように波長が近接していて
も各スペクトル成分を正確に測定可能となる。
(発明が解決しようとする課題)
ところで上述の光スペクトラムアナライザーにおいては
従来、被測定光を導く光ファイバーを光導波路端面に直
接結合させて被測定光を光導波路内に入力させるように
していたので、その入力効率が低いという難点が有った
。つまり、上記光ファイバーのコア径は通常10μm前
後で、一方光導波路厚は表面弾性波による導波光の回折
効率の点から表面弾性波の波長程度が最適で、表面弾性
波周波数がIGHzとすると3μmとなり、このように
光ファイバーのコア径と光導波路厚との差が大きいため
に、結合損が大きくなりがちなのである。
従来、被測定光を導く光ファイバーを光導波路端面に直
接結合させて被測定光を光導波路内に入力させるように
していたので、その入力効率が低いという難点が有った
。つまり、上記光ファイバーのコア径は通常10μm前
後で、一方光導波路厚は表面弾性波による導波光の回折
効率の点から表面弾性波の波長程度が最適で、表面弾性
波周波数がIGHzとすると3μmとなり、このように
光ファイバーのコア径と光導波路厚との差が大きいため
に、結合損が大きくなりがちなのである。
上記の入力効率が低いと、微弱な被測定光に対しては光
スペクトル分析が不可能になる、ということも起こり得
る。
スペクトル分析が不可能になる、ということも起こり得
る。
そこで本発明は、被測定光を効率良く光導波路内に入力
させることができる光導波路型の光スペクトラムアナラ
イザーを提供することを1」的とするものである。
させることができる光導波路型の光スペクトラムアナラ
イザーを提供することを1」的とするものである。
(課題を解決するための手段及び作用)本発明による第
1の光スペクトラムアナライザーは、先に述べたような
光導波路と、表面弾性波発生手段と、光検出手段と、周
波数検出手段とから構成された光スペクトラムアナライ
ザーにおいて、光導波路外を進行する被測定光を光導波
路内に入力させる光入力手段として、被測定光を偏平に
絞り、この絞られた被測定光を光導波路の端面に対し、
その絞られた方向が端面厚さ方向と一致する状態で照射
するシリンドリカルレンズを設けたことを特徴とするも
のである。
1の光スペクトラムアナライザーは、先に述べたような
光導波路と、表面弾性波発生手段と、光検出手段と、周
波数検出手段とから構成された光スペクトラムアナライ
ザーにおいて、光導波路外を進行する被測定光を光導波
路内に入力させる光入力手段として、被測定光を偏平に
絞り、この絞られた被測定光を光導波路の端面に対し、
その絞られた方向が端面厚さ方向と一致する状態で照射
するシリンドリカルレンズを設けたことを特徴とするも
のである。
また本発明による第2の光スペクトラムアナライザーは
、上記のシリンドリカルレンズに代えて、光導波路の表
面に形成され、光導波路外を進行する被測定光の照射を
受けて該被測定光を光導波路内に入力させる回折格子が
設りられたことを特徴とするものである。
、上記のシリンドリカルレンズに代えて、光導波路の表
面に形成され、光導波路外を進行する被測定光の照射を
受けて該被測定光を光導波路内に入力させる回折格子が
設りられたことを特徴とするものである。
(実 施 例)
以下、図面に示す実施例に基づいて本発明の詳細な説明
する。
する。
第1図は本発明の第1の光スペクトラムアナライザーの
一実施例を示すものである。この光スペクトラムアナラ
イザーIOは、基板11上に形成された光導波路12と
、この光導波路■2の表面に形成された光ビーム出力用
線状回折格子(Linear Grating C
oupler、以下LGCと称する) 14と、光導波
路12を進行する導波光り、の光路に交わる方向に進行
する表面弾性波15を発生さぜるチャプ交叉くし形電極
対(Chjrped I ntcr−D jgita
l Transducer 、以下チャープIDTと
称する)j7と、上記表面弾性波15を発生させるため
にこのチャニブIDT17に高周波の交番電圧を印加す
る高周波アンプ19と、上記電圧の周波数を連続的に変
化(掃引)させるスィーパ−20と、コリメーターレン
ズ21とを有している。
一実施例を示すものである。この光スペクトラムアナラ
イザーIOは、基板11上に形成された光導波路12と
、この光導波路■2の表面に形成された光ビーム出力用
線状回折格子(Linear Grating C
oupler、以下LGCと称する) 14と、光導波
路12を進行する導波光り、の光路に交わる方向に進行
する表面弾性波15を発生さぜるチャプ交叉くし形電極
対(Chjrped I ntcr−D jgita
l Transducer 、以下チャープIDTと
称する)j7と、上記表面弾性波15を発生させるため
にこのチャニブIDT17に高周波の交番電圧を印加す
る高周波アンプ19と、上記電圧の周波数を連続的に変
化(掃引)させるスィーパ−20と、コリメーターレン
ズ21とを有している。
また上記光ビーム出力用L G C14から出射した光
ビームL4が照射される位置には、ピンホール板30と
、」〕記先光−ムL4の強度を測定するフォトダイオー
ド等の光検出器31が配置されている。
ビームL4が照射される位置には、ピンホール板30と
、」〕記先光−ムL4の強度を測定するフォトダイオー
ド等の光検出器31が配置されている。
この光検出器31が出力する光量信号S1は後述する演
算処理回路33に入力され、この演算処理回路33が出
力する光量信号S3は、表示装置34に入力されるよう
になっている。
算処理回路33に入力され、この演算処理回路33が出
力する光量信号S3は、表示装置34に入力されるよう
になっている。
本実施例においては一例として、基板11にLiNbO
3ウェハを用い、このウェハの表面にTi拡散膜を設け
ることにより光導波路12を形成している。なお基板1
1としてその他サファイア、Si等からなる結晶性基板
が用いられてもよい。また光導波路12も上記のTi拡
散に限らず、基板11上にその他の材料をスパッタ、蒸
着する等して形成することもできる。ただし、この光導
波路12は、上記Ti拡散膜等、後述する表面弾性波が
伝播可能な材料から形成されなければならない。また光
導波路は2層以上の積層構造を有していてもよい。
3ウェハを用い、このウェハの表面にTi拡散膜を設け
ることにより光導波路12を形成している。なお基板1
1としてその他サファイア、Si等からなる結晶性基板
が用いられてもよい。また光導波路12も上記のTi拡
散に限らず、基板11上にその他の材料をスパッタ、蒸
着する等して形成することもできる。ただし、この光導
波路12は、上記Ti拡散膜等、後述する表面弾性波が
伝播可能な材料から形成されなければならない。また光
導波路は2層以上の積層構造を有していてもよい。
チャープIDT1.7は、例えば光導波路12の表面に
ポジ型電子線レジストを塗布し、さらにその上にAu導
電用薄膜を蒸着し、電極パターンを電子線描画し、Au
薄膜を剥離後視像を行ない、次いでCr薄膜、A1薄膜
を蒸着後、有機溶媒中でリフトオフを行なうことによっ
て形成することができる。なおチャープIDT17は、
基板11や光導波路12が圧電性を有する材料からなる
場合には、直接光導波路12内あるいは基板11上に設
置しても表面弾性波15を発生させることができるが、
そうでない場合には基板11あるいは光導波路12の一
部に例えばZnO等からなる圧電性薄膜を蒸着、スパッ
タ等によって形成し、そこにIDT1.7を設置すれば
よい。
ポジ型電子線レジストを塗布し、さらにその上にAu導
電用薄膜を蒸着し、電極パターンを電子線描画し、Au
薄膜を剥離後視像を行ない、次いでCr薄膜、A1薄膜
を蒸着後、有機溶媒中でリフトオフを行なうことによっ
て形成することができる。なおチャープIDT17は、
基板11や光導波路12が圧電性を有する材料からなる
場合には、直接光導波路12内あるいは基板11上に設
置しても表面弾性波15を発生させることができるが、
そうでない場合には基板11あるいは光導波路12の一
部に例えばZnO等からなる圧電性薄膜を蒸着、スパッ
タ等によって形成し、そこにIDT1.7を設置すれば
よい。
例えば半導体レーザ等の光源23から発せられてスペク
トル分析にかけられる光ビームLは、光源23に接続さ
れた光ファイバー24、結合器25を介して、光ファイ
バー26の端面から発散光として出射する。この光ビー
ムLはコリメーターレンズ21によって平行光とされ、
次にシリンドリカルレンズ22を通過して偏平に絞られ
る。シリンドリカルレンズ22は、絞られた光ビームL
が光導波路12の端面1.2aに照射され、そして光ビ
ームLの絞られる方向が光導波路12の厚さ方向と一致
するように配置されている。したがって絞られた光ビー
ムLは、はぼその全量が光導波路端面12aに照射され
るようになり、該端面12aから効率良く光導波路12
内に取り込まれる。
トル分析にかけられる光ビームLは、光源23に接続さ
れた光ファイバー24、結合器25を介して、光ファイ
バー26の端面から発散光として出射する。この光ビー
ムLはコリメーターレンズ21によって平行光とされ、
次にシリンドリカルレンズ22を通過して偏平に絞られ
る。シリンドリカルレンズ22は、絞られた光ビームL
が光導波路12の端面1.2aに照射され、そして光ビ
ームLの絞られる方向が光導波路12の厚さ方向と一致
するように配置されている。したがって絞られた光ビー
ムLは、はぼその全量が光導波路端面12aに照射され
るようになり、該端面12aから効率良く光導波路12
内に取り込まれる。
この光ビームL1は、平行ビームの状態で光導波路】2
内を導波する。この導波光し1は、前記(1)で示され
るブラッグ条件が満たされれば、チャープrDT1.7
から発せられた表面弾性波I5との音響光学相互作用に
より、図示のように回折(B ragg回折)する。回
折した導波光L2はL G C14において基板11側
に回折し、斜めにカットされた基板端面11aから光導
波路素子外に出射する。この出射した光ビームL4は、
集束レンズ27によって小さなスポットに絞られる。
内を導波する。この導波光し1は、前記(1)で示され
るブラッグ条件が満たされれば、チャープrDT1.7
から発せられた表面弾性波I5との音響光学相互作用に
より、図示のように回折(B ragg回折)する。回
折した導波光L2はL G C14において基板11側
に回折し、斜めにカットされた基板端面11aから光導
波路素子外に出射する。この出射した光ビームL4は、
集束レンズ27によって小さなスポットに絞られる。
以下、光導波路12内における上記導波光の回折、偏向
について、第2図と第3図を参照して詳細に説明する。
について、第2図と第3図を参照して詳細に説明する。
第2図はチャープIDT17の部分を拡大して詳しく示
すものであり、また第3図は導波光L1 と表面弾性波
15の波数ベクトルを示している。第2図に示すように
導波光L1は、表面弾性波15の進行方向に対して一定
の角度θで入射する。
すものであり、また第3図は導波光L1 と表面弾性波
15の波数ベクトルを示している。第2図に示すように
導波光L1は、表面弾性波15の進行方向に対して一定
の角度θで入射する。
また、表面弾性波15に入射する前の導波光L1および
通過した後の導波光L2の波数ベクトルをそれぞれIk
l、IkZとし、表面弾性波15の波数ベクトルをIK
□とすると、前記(1)式で示したブラッグ条件が満た
されるときは第3図に示すようにIkl +1K1−1
に2・・・・・・(2)となっており、導波光L2の導
波光り、に対する偏向角はδ=2θである。この入射角
θが」二連のように一定であれば、上記(2)式が成立
するときの偏向角δも一定である。したがって、ブラッ
グ条件を完全に満たして光導波路■2外に出射する光ビ
ームL4は、一定方向に出射する。光検出器31の前の
ビンポール板30は、上記の一定方向に出射し1ま た光ビームL4がピンホール30aを通過するように配
設されている。
通過した後の導波光L2の波数ベクトルをそれぞれIk
l、IkZとし、表面弾性波15の波数ベクトルをIK
□とすると、前記(1)式で示したブラッグ条件が満た
されるときは第3図に示すようにIkl +1K1−1
に2・・・・・・(2)となっており、導波光L2の導
波光り、に対する偏向角はδ=2θである。この入射角
θが」二連のように一定であれば、上記(2)式が成立
するときの偏向角δも一定である。したがって、ブラッ
グ条件を完全に満たして光導波路■2外に出射する光ビ
ームL4は、一定方向に出射する。光検出器31の前の
ビンポール板30は、上記の一定方向に出射し1ま た光ビームL4がピンホール30aを通過するように配
設されている。
導波光り、(被測定光)の波長をλ、表面弾性波15の
波長をAとすると、 11kl+−2π/λ であり、また導波光L2の波長もλであるから、lkx
l −1lkz l −2π/λである。したが
って前記(2)式を満足する11に1−2π/Aの値は
、入射角θが固定である以上、1つの1lkxlに対し
て1つだけ存在する。そこでこの(2)式が成立すると
き(つまり光ビームL4がピンホール30aを通過して
光検出器31に検出されたとき)の!lK11の値から
、すなわち表面弾性波】5の波長への値から、波長λが
求められうる。
波長をAとすると、 11kl+−2π/λ であり、また導波光L2の波長もλであるから、lkx
l −1lkz l −2π/λである。したが
って前記(2)式を満足する11に1−2π/Aの値は
、入射角θが固定である以上、1つの1lkxlに対し
て1つだけ存在する。そこでこの(2)式が成立すると
き(つまり光ビームL4がピンホール30aを通過して
光検出器31に検出されたとき)の!lK11の値から
、すなわち表面弾性波】5の波長への値から、波長λが
求められうる。
この波長λは、前記(1)式から求めることも勿論可能
であるが、入射角θや、導波光L1に対する光導波路1
2の屈折率Neが不明でも求められうる。
であるが、入射角θや、導波光L1に対する光導波路1
2の屈折率Neが不明でも求められうる。
すなわち周波数が既知(λre(’とする)の基準導波
光を光導波路12内に入射させ、そのとき波長Arel
’の基準表面弾性波によってこの基準導波光が回折され
たとする。第3図において基準導波光の波数ベクトルを
OP1波長A rerの基準表面弾性波の波数ベクトル
をv3、回折された基準導波光の波数ベクトルをOQと
すると、 Δ0PQ(1)ΔSPRであるから、 0P−2yr/λref’、 PQ−2π/八re
rであるから、 λ=λref(Δ/Arer) ここで表面弾性波15の速度、周波数をそれぞれVlf
、基準表面弾性波の速度、周波数をそれぞれVral’
Sf refとすると、 v −f ASvref’ −fref’ ΦA、rc
f’ 5v=vrerであるから、結局上式より λ−λrer(f rcf / f ) −・=f3
1となる。つまり基準導波光の波長λratおよび基準
表面弾性波の周波数f ref’を予め調べておけば、
この(3)式から被測定光の波長λが求められる。
光を光導波路12内に入射させ、そのとき波長Arel
’の基準表面弾性波によってこの基準導波光が回折され
たとする。第3図において基準導波光の波数ベクトルを
OP1波長A rerの基準表面弾性波の波数ベクトル
をv3、回折された基準導波光の波数ベクトルをOQと
すると、 Δ0PQ(1)ΔSPRであるから、 0P−2yr/λref’、 PQ−2π/八re
rであるから、 λ=λref(Δ/Arer) ここで表面弾性波15の速度、周波数をそれぞれVlf
、基準表面弾性波の速度、周波数をそれぞれVral’
Sf refとすると、 v −f ASvref’ −fref’ ΦA、rc
f’ 5v=vrerであるから、結局上式より λ−λrer(f rcf / f ) −・=f3
1となる。つまり基準導波光の波長λratおよび基準
表面弾性波の周波数f ref’を予め調べておけば、
この(3)式から被測定光の波長λが求められる。
先に述べた通り、光スペクトル分析を行なうときチャー
ブIDT17に印加される高周波の交番電圧の周波数は
、スィーパ−20によりf winからflllaXま
で連続的に掃引される。こうして交番電圧の周波数すな
わち表面弾性波15の周波数が掃引されるとき、上記f
l1lin 、、f maxO値が適切に設定されて
いれば、前記(1)式を満たすある表面弾性波周波数f
(fmjn≦f≦fmax)において導波光り、の回折
が最も効率良く行なわれる。この際光導波路12から出
射した光ビームL4は、ピンホル30aを通過して光検
出器31によって検出される。
ブIDT17に印加される高周波の交番電圧の周波数は
、スィーパ−20によりf winからflllaXま
で連続的に掃引される。こうして交番電圧の周波数すな
わち表面弾性波15の周波数が掃引されるとき、上記f
l1lin 、、f maxO値が適切に設定されて
いれば、前記(1)式を満たすある表面弾性波周波数f
(fmjn≦f≦fmax)において導波光り、の回折
が最も効率良く行なわれる。この際光導波路12から出
射した光ビームL4は、ピンホル30aを通過して光検
出器31によって検出される。
スィーパ−20に接続された周波数計測回路32は、ス
ィーパ−20が高周波アンプ19に送る高周波信号Sf
を受けて、刻々変化する交番電圧周波数、つまり表面弾
性波周波数fを求める。この連続的に変化する周波数f
を示す信号S2は、演算処理回路33に入力される。こ
の演算処理回路33には、前述した基準導波光の波長λ
ref’および基準表面弾性波の周波数f refが予
め記憶されており、該演算処理回路33はこれらの波長
λref %周波数fre「および信号S2が示す表面
弾性波周波数fから、前記(3)式に基づいて導波光L
1の波長λを演算するとともに、信号S2と同期が取ら
れた光量信号S1に基づいて、検出光量対波長λの関係
を求める。
ィーパ−20が高周波アンプ19に送る高周波信号Sf
を受けて、刻々変化する交番電圧周波数、つまり表面弾
性波周波数fを求める。この連続的に変化する周波数f
を示す信号S2は、演算処理回路33に入力される。こ
の演算処理回路33には、前述した基準導波光の波長λ
ref’および基準表面弾性波の周波数f refが予
め記憶されており、該演算処理回路33はこれらの波長
λref %周波数fre「および信号S2が示す表面
弾性波周波数fから、前記(3)式に基づいて導波光L
1の波長λを演算するとともに、信号S2と同期が取ら
れた光量信号S1に基づいて、検出光量対波長λの関係
を求める。
こうして求められた導波光L1すなわち被測定光の波長
λと検出光量との関係を示す信号S3は演算処理回路3
3から出力され、例えば液晶表示装置、光電管表示装置
等の表示装置34に入力され、この信号S3に基づいて
、上記光量対波長λの関係が一例としてグラフ状に表示
される。したがってこの表示から、光ビームL4が検出
されたとき、つまりブラッグ条件が成立したときの波長
λを見出せば、それが求める被測定光りの波長となる。
λと検出光量との関係を示す信号S3は演算処理回路3
3から出力され、例えば液晶表示装置、光電管表示装置
等の表示装置34に入力され、この信号S3に基づいて
、上記光量対波長λの関係が一例としてグラフ状に表示
される。したがってこの表示から、光ビームL4が検出
されたとき、つまりブラッグ条件が成立したときの波長
λを見出せば、それが求める被測定光りの波長となる。
なお上記表示装置34は、適当な記録装置等に置き換え
られてもよい。また本実施例においては、表面弾性波周
波数fに対応する被測定光の波長λを演算処理回路33
が演算して求めるようになっているが、このような演算
は別途人手によって行なうようにしてもよい。つまり少
なくとも、光検出器31が光ビームL4を検出したとき
の表面弾性波周波数fが検出されるようになっていれば
、被測定光の波長λを求めることができる。
られてもよい。また本実施例においては、表面弾性波周
波数fに対応する被測定光の波長λを演算処理回路33
が演算して求めるようになっているが、このような演算
は別途人手によって行なうようにしてもよい。つまり少
なくとも、光検出器31が光ビームL4を検出したとき
の表面弾性波周波数fが検出されるようになっていれば
、被測定光の波長λを求めることができる。
また上述した実施例におけるように、光検出器31が光
ビームL4を検出したときのみならず、表面弾性波15
を周波数掃引している間はずっとその周波数fを求め、
またその開光ビームL4の検出の有無に係らず光量信号
S1を連続的に演算処理回路33に送ってもよいことは
勿論である。そうすれば表示装置34においては、光ビ
ームL4が全く検出されない波長領域(つまりスペクト
ル成分が存在しない領域)が明確に示されることになる
。
ビームL4を検出したときのみならず、表面弾性波15
を周波数掃引している間はずっとその周波数fを求め、
またその開光ビームL4の検出の有無に係らず光量信号
S1を連続的に演算処理回路33に送ってもよいことは
勿論である。そうすれば表示装置34においては、光ビ
ームL4が全く検出されない波長領域(つまりスペクト
ル成分が存在しない領域)が明確に示されることになる
。
そのような場合、一般には光量信号81等にノイズ成分
が含まれるので、上記光ビームL4が検出されない波長
領域においても、検出光量表示は0(ゼロ)とならない
ことが多い。そうなっても、光量表示のあるレベルまで
はノイズ成分であるということが予め分かつていれば何
ら問題はない。
が含まれるので、上記光ビームL4が検出されない波長
領域においても、検出光量表示は0(ゼロ)とならない
ことが多い。そうなっても、光量表示のあるレベルまで
はノイズ成分であるということが予め分かつていれば何
ら問題はない。
またこのようなことを回避するため、上記ノイズ成分よ
りもやや高い所定レベルを光ff1o(ゼロ)レベルと
して表示するようにしてもよい。さらにこの所定レベル
を上記よりもさらに高く設定すれば、スペクトラム(縦
モードは1つでも複数でもよい)の中心波長近辺の波長
のみを表示することも可能である。
りもやや高い所定レベルを光ff1o(ゼロ)レベルと
して表示するようにしてもよい。さらにこの所定レベル
を上記よりもさらに高く設定すれば、スペクトラム(縦
モードは1つでも複数でもよい)の中心波長近辺の波長
のみを表示することも可能である。
また上記の実施例においては、アナログ処理によって被
測定光の検出光量と波長λとの関係を求めるようにして
いるが、光検出器31が出力する光量信号をディジタル
化して、ディジタル処理によって上記関係を求めること
もできる。
測定光の検出光量と波長λとの関係を求めるようにして
いるが、光検出器31が出力する光量信号をディジタル
化して、ディジタル処理によって上記関係を求めること
もできる。
ここで、本発明の光スペクトラムアナライザーは、被1
tFJ定光が互いに波長が極めて近接した複数のスペク
トル成分からなる場合でも、各スペクトル成分を高分解
能で測定可能となっている。以下、この点について詳述
する。例えば被測定光が、互いに近接した波長λ工、λ
2、λ3 (λ1くλ2くλ3)のスペクトル成分から
なるものとする。
tFJ定光が互いに波長が極めて近接した複数のスペク
トル成分からなる場合でも、各スペクトル成分を高分解
能で測定可能となっている。以下、この点について詳述
する。例えば被測定光が、互いに近接した波長λ工、λ
2、λ3 (λ1くλ2くλ3)のスペクトル成分から
なるものとする。
そして第4図に示すように、中間の波長λ2の導波光と
表面弾性波15との間でブラッグ条件が満たされ、ベク
トルIk2の方向に回折光か出射するものとする。この
とき波長λ1およびλ3の導波光も、表面弾性波15に
対して、完全では無いがほぼブラッグ条件を満たず状態
となる。したがってこれらの波長λlおよびλ3の導波
光も表面弾性波15によって回折され、光導波路12か
ら出射する。
表面弾性波15との間でブラッグ条件が満たされ、ベク
トルIk2の方向に回折光か出射するものとする。この
とき波長λ1およびλ3の導波光も、表面弾性波15に
対して、完全では無いがほぼブラッグ条件を満たず状態
となる。したがってこれらの波長λlおよびλ3の導波
光も表面弾性波15によって回折され、光導波路12か
ら出射する。
しかしこれらの光の回折角は、波長λ2の光の回折角と
は異なり、第4図に示すようにそれぞれベクトル1に4
、ベクトルIk5の方向となる(なお第4図において0
1、G3がそれぞれ、波長λ1、λ3の導波光の波数ベ
クトルの始点である)。したがって光導波路12から出
射した光ビームは、各スペクトル成分毎に分離する。こ
のようにしてピンホール板30上で各スペクトル成分が
完全に分離されれば、前記交番電圧の周波数が掃引され
るとき、ピンホール板30上を3つのビームスポットが
移動し、各波長の光は順次個別にピンホール30aを通
過する。
は異なり、第4図に示すようにそれぞれベクトル1に4
、ベクトルIk5の方向となる(なお第4図において0
1、G3がそれぞれ、波長λ1、λ3の導波光の波数ベ
クトルの始点である)。したがって光導波路12から出
射した光ビームは、各スペクトル成分毎に分離する。こ
のようにしてピンホール板30上で各スペクトル成分が
完全に分離されれば、前記交番電圧の周波数が掃引され
るとき、ピンホール板30上を3つのビームスポットが
移動し、各波長の光は順次個別にピンホール30aを通
過する。
したがって、光検出器31が検出する光量と、上記交番
電圧周波数ずなわぢ表面弾性波周波数の関係は、第5図
図示のようなものとなる。つまり、波長λ1、λ2、λ
3の各スペクトル成分は、それぞれ表面弾性波周波数が
fl、T2、T3のときに個別に検出される。これらの
表面弾性波周波数fl % f’、T3が検出されれば
、波長λ工、λ2、λ3は前述と同様にして求められう
る。
電圧周波数ずなわぢ表面弾性波周波数の関係は、第5図
図示のようなものとなる。つまり、波長λ1、λ2、λ
3の各スペクトル成分は、それぞれ表面弾性波周波数が
fl、T2、T3のときに個別に検出される。これらの
表面弾性波周波数fl % f’、T3が検出されれば
、波長λ工、λ2、λ3は前述と同様にして求められう
る。
次に第6.7および8図を参照して、本発明の第1の光
スペクトラムアナライザーの別の実施例について説明す
る。なおこれら第6〜8図において、既に説明したもの
と同じ要素等については同符号を付してあり、それらに
つい−この説明は特に必要の無い限り省略する(以下、
同様)。第6図および第7図に示されるように本実施例
の光スペクトラムアナライザー50においては光導波路
12に、前記チャーブIDT17に加えて第2のチャー
ブIDT1.8が設けられている。このチャーブIDT
1gは第2の表面弾性波16を発生させるものであり、
この表面弾性波16は、第1の表面弾性波15によって
回折、偏向した導波光L2を、該偏向をさらに増幅させ
る方向に回折、偏向さぜる。本例において第1および第
2のチャーブIDT17.18には、] 9 高周波アンプ19から互いに等しい周波数の掃引交番電
圧が印加されるようになっている。したがって第1およ
び第2の表面弾性波15.16の周波数は、常に互いに
等しい値を保って連続的に変化する。
スペクトラムアナライザーの別の実施例について説明す
る。なおこれら第6〜8図において、既に説明したもの
と同じ要素等については同符号を付してあり、それらに
つい−この説明は特に必要の無い限り省略する(以下、
同様)。第6図および第7図に示されるように本実施例
の光スペクトラムアナライザー50においては光導波路
12に、前記チャーブIDT17に加えて第2のチャー
ブIDT1.8が設けられている。このチャーブIDT
1gは第2の表面弾性波16を発生させるものであり、
この表面弾性波16は、第1の表面弾性波15によって
回折、偏向した導波光L2を、該偏向をさらに増幅させ
る方向に回折、偏向さぜる。本例において第1および第
2のチャーブIDT17.18には、] 9 高周波アンプ19から互いに等しい周波数の掃引交番電
圧が印加されるようになっている。したがって第1およ
び第2の表面弾性波15.16の周波数は、常に互いに
等しい値を保って連続的に変化する。
この場合、導波光Li2第1の表面弾性波I5によって
回折した後の導波光L2、第2の表面弾性波16によっ
て回折した後の導波光L3の波数ベクトルを各々IJ
% [lc2、IK3とし、第1、第2の表面弾性波1
5.16の波数ベクトルをIK、 、IK2とすると、
上記2回の回折が行なわれるときは、lkl +lK1
−1に2 1に2+lK2−uc3 を満足する。そして第1の表面弾性波15に対する導波
光し1の入射角と、第2の表面弾性波16に対する導波
光L2の入射角とが互いにθで等しくなるようにチャー
ブIDT1.7.18を配置しておけば、この場合も第
1および第2の表面弾性波15.16の周波数f、すな
わちIDT17.18に印加される交番電圧の周波数の
値に基づいて被測定光りの波長λを求めることができる
。
回折した後の導波光L2、第2の表面弾性波16によっ
て回折した後の導波光L3の波数ベクトルを各々IJ
% [lc2、IK3とし、第1、第2の表面弾性波1
5.16の波数ベクトルをIK、 、IK2とすると、
上記2回の回折が行なわれるときは、lkl +lK1
−1に2 1に2+lK2−uc3 を満足する。そして第1の表面弾性波15に対する導波
光し1の入射角と、第2の表面弾性波16に対する導波
光L2の入射角とが互いにθで等しくなるようにチャー
ブIDT1.7.18を配置しておけば、この場合も第
1および第2の表面弾性波15.16の周波数f、すな
わちIDT17.18に印加される交番電圧の周波数の
値に基づいて被測定光りの波長λを求めることができる
。
本例においても前述したような基準導波光と基準表面弾
性波(本例では互いに等しい周波数の第1、第2の2つ
の基準表面弾性波を用いる)を用いるのであれば、前記
(3)式に基づいて被測定光の波長λを求めることがで
きる。つまり第8図において、基準導波光の波数ベクト
ルをOP1P2O3準表面弾性波の波数ベクトルをPQ
、この第]の基準表面弾性波により回折された基準導波
光の波数ベクトルをOQ、第2の基準表面弾性波の波数
ベクトルをQT、この第2の基準表面弾性波にとすると
、この場合も Δ0PQQOΔSPR であるから、結局前記(3)式が成立する。
性波(本例では互いに等しい周波数の第1、第2の2つ
の基準表面弾性波を用いる)を用いるのであれば、前記
(3)式に基づいて被測定光の波長λを求めることがで
きる。つまり第8図において、基準導波光の波数ベクト
ルをOP1P2O3準表面弾性波の波数ベクトルをPQ
、この第]の基準表面弾性波により回折された基準導波
光の波数ベクトルをOQ、第2の基準表面弾性波の波数
ベクトルをQT、この第2の基準表面弾性波にとすると
、この場合も Δ0PQQOΔSPR であるから、結局前記(3)式が成立する。
ただし本例では、導波光り工に対する2回回折後の導波
光L3の偏向角δは、導波光L1の第1の表面弾性波1
5への入射角をθとすると40となる。これは先に説明
した実施例における偏向角δ−20の2倍であり、その
ため本実施例においては、スペクトル分析の分解能が先
の実施例におけるよりも高められうる。以下、この点に
ついて詳述する。
光L3の偏向角δは、導波光L1の第1の表面弾性波1
5への入射角をθとすると40となる。これは先に説明
した実施例における偏向角δ−20の2倍であり、その
ため本実施例においては、スペクトル分析の分解能が先
の実施例におけるよりも高められうる。以下、この点に
ついて詳述する。
例えば第4図において、ベクトル11(2と、ベクトル
1に4あるいはIk5とがなす角度は、ベクトルIk1
に対してベクトル1に2がなす角度が大きいほど、つ
まり表面弾性波による導波光の回折角が大きいほど大と
なる。すなわち、光導波路12から同時に出射する何本
かの光ビームの出射角の差は、導波光の偏向角δが大き
いほど大となり、各光ビームは前述のピンホール板30
上で、より大きな間隔をおいて分離するようになる。そ
のようになれば、より近接した波長のスペクトル成分を
分離可能となるので、結局偏向角δが大きいほどスペク
トル分析の分解能が向上することになる。
1に4あるいはIk5とがなす角度は、ベクトルIk1
に対してベクトル1に2がなす角度が大きいほど、つ
まり表面弾性波による導波光の回折角が大きいほど大と
なる。すなわち、光導波路12から同時に出射する何本
かの光ビームの出射角の差は、導波光の偏向角δが大き
いほど大となり、各光ビームは前述のピンホール板30
上で、より大きな間隔をおいて分離するようになる。そ
のようになれば、より近接した波長のスペクトル成分を
分離可能となるので、結局偏向角δが大きいほどスペク
トル分析の分解能が向上することになる。
なお以上説明した実施例においては、第1および第2の
表面弾性波15.16の周波数が常に等しくなるように
されているが、これら第1および第2の表面弾性波15
.16の周波数は、常に等しい比を保って相異なる値を
とるようにされてもよい。
表面弾性波15.16の周波数が常に等しくなるように
されているが、これら第1および第2の表面弾性波15
.16の周波数は、常に等しい比を保って相異なる値を
とるようにされてもよい。
また被測定光である導波光を、3つ以上の表面弾性波に
よって3回置上回折させるようにしても構わない。先に
述べた通り、導波光の偏向角δが大きいほどスペクトル
分析の分解能が向上するから、このように多数回の回折
を行なえば、表面弾性波の周波数をさほど上げずにスペ
クトル分析の分解能を高めることができて好ましい。
よって3回置上回折させるようにしても構わない。先に
述べた通り、導波光の偏向角δが大きいほどスペクトル
分析の分解能が向上するから、このように多数回の回折
を行なえば、表面弾性波の周波数をさほど上げずにスペ
クトル分析の分解能を高めることができて好ましい。
以」二説明した2つの実施例においては、光導波路端面
12aが空気中に露出している。この場合は光入力効率
を良くするために、この端面12aを例えば厚さ2〜3
μm程度の部分を導波路方向にわたって均一に研磨して
、エツジが欠けたりすることのないようにする必要があ
る。それに対して、第9図に示すように光導波路端面1
.2aを、基板11によっである程度の長さ被覆するよ
うにしてもよい。こうする場合は、基板端面11bの光
ビームLが入射する部分を、上記の2〜3μmよりはず
っと厚い範囲(例えば数百μm〜1mrn程度)に亘っ
て研磨することになるが、その゛1屯面、基板端面11
−bのエツジが多少欠けたりしても光入力効率が大きく
低下することがないので好都合である。
12aが空気中に露出している。この場合は光入力効率
を良くするために、この端面12aを例えば厚さ2〜3
μm程度の部分を導波路方向にわたって均一に研磨して
、エツジが欠けたりすることのないようにする必要があ
る。それに対して、第9図に示すように光導波路端面1
.2aを、基板11によっである程度の長さ被覆するよ
うにしてもよい。こうする場合は、基板端面11bの光
ビームLが入射する部分を、上記の2〜3μmよりはず
っと厚い範囲(例えば数百μm〜1mrn程度)に亘っ
て研磨することになるが、その゛1屯面、基板端面11
−bのエツジが多少欠けたりしても光入力効率が大きく
低下することがないので好都合である。
またこの第9図に示すように、光導波路端面12bから
そのまま導波光L2を出射させ、この出射した光ビーム
L4をシリンドリカルレンズ28に通して平行光化して
から、集束レンズ27に通して小さなスポットに絞るよ
うにしてもよい。
そのまま導波光L2を出射させ、この出射した光ビーム
L4をシリンドリカルレンズ28に通して平行光化して
から、集束レンズ27に通して小さなスポットに絞るよ
うにしてもよい。
また、被測定光を光導波路内に入力させるためのシリン
ドリカルレンズ22として、色収差補正作用を果たすも
のを用いることもできる。そのようなシリンドリカルレ
ンズ22を用いれば、絞られた光ビームL4の焦点位置
がその波長に応じて変動してしまう、ということを防止
できる。例えば可視領域の半導体レーザ光、あるいは長
波長域の半導体レーザ光のスペクトル分析をする場合は
、それぞれ800−900 n m、 1200−18
00n m程度の波長測定範囲を有すればよいが、この
程度の波長範囲において色収差が生じないようにするこ
とは十分可能である。
ドリカルレンズ22として、色収差補正作用を果たすも
のを用いることもできる。そのようなシリンドリカルレ
ンズ22を用いれば、絞られた光ビームL4の焦点位置
がその波長に応じて変動してしまう、ということを防止
できる。例えば可視領域の半導体レーザ光、あるいは長
波長域の半導体レーザ光のスペクトル分析をする場合は
、それぞれ800−900 n m、 1200−18
00n m程度の波長測定範囲を有すればよいが、この
程度の波長範囲において色収差が生じないようにするこ
とは十分可能である。
次に第10図と第11図を参照して、本発明の第2の光
スペクトラムアナライザーの実施例について説明する。
スペクトラムアナライザーの実施例について説明する。
この実施例の光スペクトラムアナライザー70において
は、光導波路12の表面に被測定光入力用のLGC71
が設けられ、基板11の端面1.1. bが斜めにカッ
トされて、被測定光としての光ビームLがこの基板端面
11bを通してLGC71の部分に照射されるようにな
っている。こうしてLGC71の部分に照射された光ビ
ームLは、このLGC7Iにおいて回折して、光導波路
12内に取り込まれる。この装置においても、光ビーム
Lの波長λを求める仕組みは、第1図の装置におけるの
と同様である。
は、光導波路12の表面に被測定光入力用のLGC71
が設けられ、基板11の端面1.1. bが斜めにカッ
トされて、被測定光としての光ビームLがこの基板端面
11bを通してLGC71の部分に照射されるようにな
っている。こうしてLGC71の部分に照射された光ビ
ームLは、このLGC7Iにおいて回折して、光導波路
12内に取り込まれる。この装置においても、光ビーム
Lの波長λを求める仕組みは、第1図の装置におけるの
と同様である。
上記の実施例において、LGC71は光導波路12の空
気側の表面に設けられているが、このLGC71は基板
11側の光導波路表面に設けられてもよい。
気側の表面に設けられているが、このLGC71は基板
11側の光導波路表面に設けられてもよい。
また上述のようにLGC71を用いて被測定光を光導波
路12内に人力させる場合においても、先に述べた第6
図の装置におけるように、導波光を相異なる表面弾性波
によって2同量上回折、偏向させることが可能である。
路12内に人力させる場合においても、先に述べた第6
図の装置におけるように、導波光を相異なる表面弾性波
によって2同量上回折、偏向させることが可能である。
なお上述のようなLGC71は、光ビームLの波長に応
じて光入力効率が変動する。そこで第12図に示すよう
に、このLGC71に入射する前の光ビムLを透過型あ
るいは反射型の波長変動補正用回折格子72に通し、光
ビームLの波長変動に応じてその回折格子72からの出
射角(つまりLGC71への入射角)が変化するように
して、LGC71における光入力効率を安定化するよう
にしてもよい。
じて光入力効率が変動する。そこで第12図に示すよう
に、このLGC71に入射する前の光ビムLを透過型あ
るいは反射型の波長変動補正用回折格子72に通し、光
ビームLの波長変動に応じてその回折格子72からの出
射角(つまりLGC71への入射角)が変化するように
して、LGC71における光入力効率を安定化するよう
にしてもよい。
なおこのような波長変動補正用回折格子については、本
出願人による昭和63年12月16日付は特許願(2)
(代理人柳田征史他]名)の明細書に詳しい記載がなさ
れている。
出願人による昭和63年12月16日付は特許願(2)
(代理人柳田征史他]名)の明細書に詳しい記載がなさ
れている。
(発明の効果)
以上詳細に説明した通り、本発明の光スペクトラムアナ
ライザーによれば、高分解能で先スペクトルを分析可能
となる。しかも本発明の先スペクトラムアナライザーは
、光導波路に被測定光を入射させ、表面弾性波によって
被測定光を回折させる構造となっているので、小型軽量
に形成され、その上機械的な作動部分を備えないので、
耐久性、信頼性も高いものとなる。
ライザーによれば、高分解能で先スペクトルを分析可能
となる。しかも本発明の先スペクトラムアナライザーは
、光導波路に被測定光を入射させ、表面弾性波によって
被測定光を回折させる構造となっているので、小型軽量
に形成され、その上機械的な作動部分を備えないので、
耐久性、信頼性も高いものとなる。
その上本発明の光スペクトラムアナライザーは、被測定
光をシリンドリカルレンズで偏平に絞って光導波路端面
に照射することにより、あるいは光導波路表面に形成し
た回折格子において回折させて光導波路内に入力させる
ように(7たから、被71Pj定光を導く光ファイバー
を光導波路端面に直接結合する場合に比べれば、被測定
光の光導波路への入力効率が高められる。よって本装置
によれば、微弱な被測定光も十分にスペクトル分析が可
能となる。
光をシリンドリカルレンズで偏平に絞って光導波路端面
に照射することにより、あるいは光導波路表面に形成し
た回折格子において回折させて光導波路内に入力させる
ように(7たから、被71Pj定光を導く光ファイバー
を光導波路端面に直接結合する場合に比べれば、被測定
光の光導波路への入力効率が高められる。よって本装置
によれば、微弱な被測定光も十分にスペクトル分析が可
能となる。
第1図は本発明の第1の光スペクトラムアナライザーの
一実施例を示す概略斜視図、 第2図は上記実施例装置の一部を拡大して示す平面図、 第3図は上記実施例装置における光ビーム偏向を説明す
る説明図、 第4図は本発明装置における光スペクトルの分離を説明
する説明図、 第5図は本発明装置における検出光量と、表面弾性波周
波数の関係を示すグラフ、 第6図は本発明の第1の光スペクトラムアナライザーの
別の実施例を示す概略斜視図、第7図は上記第6図の装
置の一部を拡大して示す平面図、 第8図は上記第6図の装置における光ビーム偏向を説明
する説明図、 第9図は本発明の第1の光スペクトラムアナライザーの
さらに異なる実施例の一部を示す側面図、第10図と第
11図はそれぞれ、本発明の第2の光スペクトラムアナ
ライザーの一実施例を示す平面図と側面図、 第12図は本発明の第2の光スペクトラムアナライザー
の別の実施例を示す側面図である。 10、50.70・・・光スペクトラムアナライザーI
I・・・基 板 I2・・・光導波路12a
・・・光導波路端面 14・・・先ビーム出力用LGC
15・・・第1の表面弾性波 16・・・第2の表面弾
性波I7・・・第1のチャーブIDT 18・・・第2のチャープIDT 19・・・高周波アンプ 20・・・スィーパ−2
1・・・コリメーターレンズ 22・・・シリンドリカルレンズ 23・・・光
源30・・・ピンホール板 30a・・・ピンホー
ル31・・・光検出器 32・・・周波数計測
回路33・・・演算処理回路 34・・・表示装置
7I・・・光入力用LGC 72・・・波長変動補正用回折格子 Ll・・・第1の表面弾性波に入射する前の導波光L2
・・・第1の表面弾性波を通過した導波光L3・・・第
2の表面弾性波を通過した導波光Ik1・・・導波光L
1の波数ベクトル[k2・・・導波光L2の波数ベクト
ル+に3・・・導波光L3の波数ベクトル1に1・・・
第1の表面弾性波の波数ベクトルIK2・・・第2の表
面弾性波の波数ベクトル〇−
一実施例を示す概略斜視図、 第2図は上記実施例装置の一部を拡大して示す平面図、 第3図は上記実施例装置における光ビーム偏向を説明す
る説明図、 第4図は本発明装置における光スペクトルの分離を説明
する説明図、 第5図は本発明装置における検出光量と、表面弾性波周
波数の関係を示すグラフ、 第6図は本発明の第1の光スペクトラムアナライザーの
別の実施例を示す概略斜視図、第7図は上記第6図の装
置の一部を拡大して示す平面図、 第8図は上記第6図の装置における光ビーム偏向を説明
する説明図、 第9図は本発明の第1の光スペクトラムアナライザーの
さらに異なる実施例の一部を示す側面図、第10図と第
11図はそれぞれ、本発明の第2の光スペクトラムアナ
ライザーの一実施例を示す平面図と側面図、 第12図は本発明の第2の光スペクトラムアナライザー
の別の実施例を示す側面図である。 10、50.70・・・光スペクトラムアナライザーI
I・・・基 板 I2・・・光導波路12a
・・・光導波路端面 14・・・先ビーム出力用LGC
15・・・第1の表面弾性波 16・・・第2の表面弾
性波I7・・・第1のチャーブIDT 18・・・第2のチャープIDT 19・・・高周波アンプ 20・・・スィーパ−2
1・・・コリメーターレンズ 22・・・シリンドリカルレンズ 23・・・光
源30・・・ピンホール板 30a・・・ピンホー
ル31・・・光検出器 32・・・周波数計測
回路33・・・演算処理回路 34・・・表示装置
7I・・・光入力用LGC 72・・・波長変動補正用回折格子 Ll・・・第1の表面弾性波に入射する前の導波光L2
・・・第1の表面弾性波を通過した導波光L3・・・第
2の表面弾性波を通過した導波光Ik1・・・導波光L
1の波数ベクトル[k2・・・導波光L2の波数ベクト
ル+に3・・・導波光L3の波数ベクトル1に1・・・
第1の表面弾性波の波数ベクトルIK2・・・第2の表
面弾性波の波数ベクトル〇−
Claims (2)
- (1)表面弾性波が伝播可能な材料から形成された光導
波路と、 この光導波路内に入射されて該光導波路内を進行する被
測定光としての導波光の光路に交わる方向に進行して、
該導波光を回折、偏向させる連続的に周波数が変化する
表面弾性波をこの光導波路において発生させる表面弾性
波発生手段と、前記表面弾性波によって偏向されて光導
波路外に出射した前記被測定光を検出する光検出手段と
、この光検出手段が前記被測定光を検出したときの前記
表面弾性波の周波数を検出する周波数検出手段と、 光導波路外を進行する被測定光を偏平に絞り、この絞ら
れた被測定光を前記光導波路の端面に対し、その絞られ
た方向が端面厚さ方向と一致する状態で照射して、該被
測定光を光導波路内に入力させるシリンドリカルレンズ
とからなる光スペクトラムアナライザー。 - (2)表面弾性波が伝播可能な材料から形成された光導
波路と、 この光導波路内に入射されて該光導波路内を進行する被
測定光としての導波光の光路に交わる方向に進行して、
該導波光を回折、偏向させる連続的に周波数が変化する
表面弾性波をこの光導波路において発生させる表面弾性
波発生手段と、前記表面弾性波によって偏向されて光導
波路外に出射した前記被測定光を検出する光検出手段と
、この光検出手段が前記被測定光を検出したときの前記
表面弾性波の周波数を検出する周波数検出手段と、 前記光導波路の表面に形成され、光導波路外を進行する
被測定光の照射を受けて該被測定光を光導波路内に入力
させる回折格子とからなる光スペクトラムアナライザー
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1360189A JPH02194331A (ja) | 1989-01-23 | 1989-01-23 | 光スペクトラムアナライザー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1360189A JPH02194331A (ja) | 1989-01-23 | 1989-01-23 | 光スペクトラムアナライザー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02194331A true JPH02194331A (ja) | 1990-07-31 |
Family
ID=11837735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1360189A Pending JPH02194331A (ja) | 1989-01-23 | 1989-01-23 | 光スペクトラムアナライザー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02194331A (ja) |
-
1989
- 1989-01-23 JP JP1360189A patent/JPH02194331A/ja active Pending
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