JPH0219500A - 鉄メツキ液の再生処理方法 - Google Patents
鉄メツキ液の再生処理方法Info
- Publication number
- JPH0219500A JPH0219500A JP16596188A JP16596188A JPH0219500A JP H0219500 A JPH0219500 A JP H0219500A JP 16596188 A JP16596188 A JP 16596188A JP 16596188 A JP16596188 A JP 16596188A JP H0219500 A JPH0219500 A JP H0219500A
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- JP
- Japan
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- plating solution
- electrolytic cell
- diaphragm electrolytic
- anode
- chloride
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- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、塩化第一鉄を含む鉄メッキ液の再生処理方法
、更に詳しくは隔膜電解を使用した鉄メッキ浴の再生処
理方法に関する。
、更に詳しくは隔膜電解を使用した鉄メッキ浴の再生処
理方法に関する。
【従来の技術１
従来、電解鉄メッキ液として、塩化第一鉄を含む多くの
組成が知られており、それぞれの特徴があり、目的に応
じて適宜使い分けられている。なかでも塩化第一鉄を主
成分とする鉄メッキ液は薬品が低順である点で実用性が
大きい。
組成が知られており、それぞれの特徴があり、目的に応
じて適宜使い分けられている。なかでも塩化第一鉄を主
成分とする鉄メッキ液は薬品が低順である点で実用性が
大きい。
しかし、塩化第一鉄を主成分とするメッキ液を用いたと
きには、第一鉄イオン（Ｆｅ”°）が容易に第二鉄イオ
ン（Ｆｅ３＋ ）に酸化され、この酸化により生じたＦ
ｅ’“イオンが加水分解し、溶解度の小さい水酸化第二
鉄Ｆｅ （Ｏｌｌ） ３の沈殿となり、これがメッキ液
中に懸濁して液のｐｌ＋が不安定になるほか、懸濁粒子
がメッキ層中に共析又は混入するため、メッキ外観が著
しく損なわれる。
きには、第一鉄イオン（Ｆｅ”°）が容易に第二鉄イオ
ン（Ｆｅ３＋ ）に酸化され、この酸化により生じたＦ
ｅ’“イオンが加水分解し、溶解度の小さい水酸化第二
鉄Ｆｅ （Ｏｌｌ） ３の沈殿となり、これがメッキ液
中に懸濁して液のｐｌ＋が不安定になるほか、懸濁粒子
がメッキ層中に共析又は混入するため、メッキ外観が著
しく損なわれる。
このような有害な第一鉄イオンＦｅ”の酸化を防止する
ため、種々の方法が実施されるが、所定時間の後にはメ
ッキ液中の第二鉄イオン濃度が上界し、何らかの手段に
よりこれを除去しない限り、メッキ液としては使用不能
になる。
ため、種々の方法が実施されるが、所定時間の後にはメ
ッキ液中の第二鉄イオン濃度が上界し、何らかの手段に
よりこれを除去しない限り、メッキ液としては使用不能
になる。
従来、その再生に隔膜電解槽を用い陰極での還元作用に
より第二鉄イオンを第一鉄イオンに転換することも提案
されているが、この場合には、隔膜電解槽の陽極にて塩
素が発生し、その処理のためアルカリによる中和処理が
必要となるなどの副操作が必要となるために必ずしも実
用的な手段ではなかった。
より第二鉄イオンを第一鉄イオンに転換することも提案
されているが、この場合には、隔膜電解槽の陽極にて塩
素が発生し、その処理のためアルカリによる中和処理が
必要となるなどの副操作が必要となるために必ずしも実
用的な手段ではなかった。
［発明の解決しようとする課題１
本発明は、上記の如き問題点を有していた鉄メッキ液の
隔膜電解による再生処理を効率的にＨつ安価に実施する
方法を提供するものであり、以下の特徴を有する。
隔膜電解による再生処理を効率的にＨつ安価に実施する
方法を提供するものであり、以下の特徴を有する。
即ち、本発明は塩化第一鉄の一部が塩化第二鉄に変化し
た鉄メッキ液を再生するに当り、該メッキ液を陽イオン
交換膜で区画した隔膜電解槽の陰極室に供給し、陽極室
には塩酸を供給し、通電することにより、陰極室にて塩
化第二鉄を塩化第一鉄に転換するとともに、陽極で発生
した塩素は水素と反応させて塩化水素とし、これを隔膜
電解槽の陽極室に塩酸として供給することを特徴とする
。
た鉄メッキ液を再生するに当り、該メッキ液を陽イオン
交換膜で区画した隔膜電解槽の陰極室に供給し、陽極室
には塩酸を供給し、通電することにより、陰極室にて塩
化第二鉄を塩化第一鉄に転換するとともに、陽極で発生
した塩素は水素と反応させて塩化水素とし、これを隔膜
電解槽の陽極室に塩酸として供給することを特徴とする
。
本発明で再生処理される鉄メッキ液は、塩化第一鉄を含
むものであればいずれでもよく、塩化第一鉄を主成分と
する塩化物浴、硫酸第一鉄を主成分とする硫酸塩浴など
が例示される。
むものであればいずれでもよく、塩化第一鉄を主成分と
する塩化物浴、硫酸第一鉄を主成分とする硫酸塩浴など
が例示される。
メッキ液中の塩化第一鉄イオンは、通常３０〜８０ｇ／
忍が含まれる。
忍が含まれる。
鉄メッキ液が処理される隔膜電解槽は、陽イオン交換膜
によって陽極及び陰極が区画され、陽極室及び陰極室を
有する陽イオン交換膜は、陽イオンを選択的に透過する
特性を有するものであればいずれでもよく、炭化水素重
合体膜のものも使用されるが、陽極に塩素を発生ずるの
で、耐久性の点からフッ素化炭化水素重合体膜の使用が
好ましい。また陽イオン交換膜は、陽極室のｐｌ＋が０
．２〜０．５に低下するため強酸性の膜が好ましい。ま
た、陽極はチタン基材に貴金属をメッキした金属陽極が
用いられ、一方陰極は好ましくは、ステンレスＳＯＳ
３１６ が用いられるが、低濃度のＦ ｅ ８４を還
元するためには還元効率を上げるためにアルカリでエツ
チングしたステンレスなどの低過電圧陰極を用いるのが
好ましい。
によって陽極及び陰極が区画され、陽極室及び陰極室を
有する陽イオン交換膜は、陽イオンを選択的に透過する
特性を有するものであればいずれでもよく、炭化水素重
合体膜のものも使用されるが、陽極に塩素を発生ずるの
で、耐久性の点からフッ素化炭化水素重合体膜の使用が
好ましい。また陽イオン交換膜は、陽極室のｐｌ＋が０
．２〜０．５に低下するため強酸性の膜が好ましい。ま
た、陽極はチタン基材に貴金属をメッキした金属陽極が
用いられ、一方陰極は好ましくは、ステンレスＳＯＳ
３１６ が用いられるが、低濃度のＦ ｅ ８４を還
元するためには還元効率を上げるためにアルカリでエツ
チングしたステンレスなどの低過電圧陰極を用いるのが
好ましい。
隔膜電解槽の陰極室に対して、本発明では鉄メッキ液が
供給され、一方陽極室に対して好ましくは濃度５〜５０
ｇ／ｇの塩酸が供給され、好ましくは１〜ＩＯＡ／ｄｏ
ｓ”にて通電される。各極液は好ましくは３０〜４０ｃ
ｍ／ ｓｅｃにて供給される。かくして、陰極室では、
陰極に水素ガスが発生し、同時にメッキ液中の第二鉄イ
オンＦ ｃ ３ ＋は、第一鉄イオンＦｃ２４に還元さ
れる。一方、陽極室では、陽極に塩素が発生すると同時
に通電により、陽極液中の水素イオン１１＋が陽イオン
交換膜を通じて陰極室に移行し、実質上隔膜電解槽では
塩酸電解が行なわれる。
供給され、一方陽極室に対して好ましくは濃度５〜５０
ｇ／ｇの塩酸が供給され、好ましくは１〜ＩＯＡ／ｄｏ
ｓ”にて通電される。各極液は好ましくは３０〜４０ｃ
ｍ／ ｓｅｃにて供給される。かくして、陰極室では、
陰極に水素ガスが発生し、同時にメッキ液中の第二鉄イ
オンＦ ｃ ３ ＋は、第一鉄イオンＦｃ２４に還元さ
れる。一方、陽極室では、陽極に塩素が発生すると同時
に通電により、陽極液中の水素イオン１１＋が陽イオン
交換膜を通じて陰極室に移行し、実質上隔膜電解槽では
塩酸電解が行なわれる。
かくして、隔膜電解槽の陰極室からは、鉄メッキ液中の
第二鉄イオンが第一鉄イオンに還元され、塩化第一鉄の
濃度が増大した鉄メッキ液が得られ、同時に陽極室から
は濃度が４．８〜４９．８ｇ／ｆ２に低下した塩酸が排
出する。
第二鉄イオンが第一鉄イオンに還元され、塩化第一鉄の
濃度が増大した鉄メッキ液が得られ、同時に陽極室から
は濃度が４．８〜４９．８ｇ／ｆ２に低下した塩酸が排
出する。
本発明では、隔膜電解槽の陽極にて発生した塩素は、好
ましくは外部にとり出され、水素と反応させることによ
り、塩化水素が生成せしめられる。塩素と水素との反応
は、既存の方法に従って行なわれるが、好ましくは既存
の合成塩酸製造プロセスにて実施される。
ましくは外部にとり出され、水素と反応させることによ
り、塩化水素が生成せしめられる。塩素と水素との反応
は、既存の方法に従って行なわれるが、好ましくは既存
の合成塩酸製造プロセスにて実施される。
生成された塩化水素は、隔膜電解槽の陽極液に、そのま
ま又は必要に応じて水に吸収させて塩酸として添加し、
陽極液に還流される。かくして、隔膜電解槽の通電によ
って消耗した塩酸は、上記によって補給されるので、外
部から新たに補給する必要がないとともに、隔膜電解槽
にて発生する塩素は外部に放出することがなく、クロー
ズ化されるので、効率的である。
ま又は必要に応じて水に吸収させて塩酸として添加し、
陽極液に還流される。かくして、隔膜電解槽の通電によ
って消耗した塩酸は、上記によって補給されるので、外
部から新たに補給する必要がないとともに、隔膜電解槽
にて発生する塩素は外部に放出することがなく、クロー
ズ化されるので、効率的である。
以下に本発明について実施例を示す。
［実施例］
陽イオン交換膜（旭硝子社製ＣＭＶ）によって陰極室と
陽極室に仕切られ、陰極としてステンレスＳＯ３３１６
を高濃度アルカリで処理した低過電圧陰極を又陽極とし
てチタンと白金の合金電極を用いた電解槽を用いた。
陽極室に仕切られ、陰極としてステンレスＳＯ３３１６
を高濃度アルカリで処理した低過電圧陰極を又陽極とし
てチタンと白金の合金電極を用いた電解槽を用いた。
そして塩化物系のメッキ浴からＦｅ” ５ ｇ／ Ａ及
びＦｅ” ６０ ｇ／ Ａを有する液をｆｆ１ｌ記槽の
陰極室に５４／時で導入循環せしめ、陽極室には５％Ｈ
ＣＩを５β／時で導入循環し、電流密度１０Ａ／ｄｍ”
で４時間連続電解した。
びＦｅ” ６０ ｇ／ Ａを有する液をｆｆ１ｌ記槽の
陰極室に５４／時で導入循環せしめ、陽極室には５％Ｈ
ＣＩを５β／時で導入循環し、電流密度１０Ａ／ｄｍ”
で４時間連続電解した。
この結果Ｆｅ″＋濃度は４ｇ／ｌに低下し、陽極室から
はＣ１，ガスが１５１捕集できた。この捕集したＣ１．
ガスはＨ，ガスを直接反応させ、水に吸収されたｌｌＣ
ｌとして１．３４ ｍｏｌを回収することができた。
はＣ１，ガスが１５１捕集できた。この捕集したＣ１．
ガスはＨ，ガスを直接反応させ、水に吸収されたｌｌＣ
ｌとして１．３４ ｍｏｌを回収することができた。
この回収された１１Ｃ１は陽極で消費したＩＩｃＩにほ
ぼ匹敵することが分った。
ぼ匹敵することが分った。
Claims (4)
- （１）塩化第一鉄の一部が塩化第二鉄に変化した鉄メッ
キ液を再生するに当り、該メッキ液を陽イオン交換膜で
区画した隔膜電解槽の陰極室に供給し、陽極槽には塩酸
を供給し、通電することにより、陰極室にて塩化第二鉄
を塩化第一鉄に転換して再生するとともに、陽極室で発
生した塩素は、水素と反応させて塩化水素とし、これを
隔膜電解槽の陽極室に塩酸として供給することを特徴と
する鉄メッキ液の再生処理方法。 - （２）隔膜電解槽の陰極室に供給するメッキ液中の塩化
第二鉄の濃度が、０．５〜１０ｇ／ｌであり、隔膜電解
槽出口での濃度が、０．２〜９．７ｇ／ｌである請求項
（１）の方法。 - （３）隔膜電解槽の陽極室における塩酸濃度が５〜２０
０ｇ／ｌである請求項（１）又は（２）の方法。 - （４）隔膜電解槽での陽イオン交換膜が、スルホン酸基
を有するパーフルオロカーボン重合体膜である請求項（
１）、（２）又は（３）の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16596188A JPH0219500A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 鉄メツキ液の再生処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16596188A JPH0219500A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 鉄メツキ液の再生処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0219500A true JPH0219500A (ja) | 1990-01-23 |
Family
ID=15822305
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16596188A Pending JPH0219500A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 鉄メツキ液の再生処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0219500A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7156972B2 (en) * | 2003-04-30 | 2007-01-02 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for controlling the ferric ion content of a plating bath containing iron |
| MD4159C1 (ro) * | 2010-10-25 | 2012-10-31 | Государственный Университет Молд0 | Procedeu de regenerare electrochimică a electrolitului de fierare oxidat |
| MD4229C1 (ro) * | 2012-02-16 | 2013-12-31 | Государственный Университет Молд0 | Dispozitiv şi procedeu de control analitic al conţinutului ionilor de fier(III) în electrolitul de fierare şi instalaţie de regenerare electrochimică a electrolitului de fierare cu reglare automată |
-
1988
- 1988-07-05 JP JP16596188A patent/JPH0219500A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7156972B2 (en) * | 2003-04-30 | 2007-01-02 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for controlling the ferric ion content of a plating bath containing iron |
| US8221598B2 (en) | 2003-04-30 | 2012-07-17 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | System for plating |
| MD4159C1 (ro) * | 2010-10-25 | 2012-10-31 | Государственный Университет Молд0 | Procedeu de regenerare electrochimică a electrolitului de fierare oxidat |
| MD4229C1 (ro) * | 2012-02-16 | 2013-12-31 | Государственный Университет Молд0 | Dispozitiv şi procedeu de control analitic al conţinutului ionilor de fier(III) în electrolitul de fierare şi instalaţie de regenerare electrochimică a electrolitului de fierare cu reglare automată |
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