JPH0219839B2 - - Google Patents

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JPH0219839B2
JPH0219839B2 JP58202732A JP20273283A JPH0219839B2 JP H0219839 B2 JPH0219839 B2 JP H0219839B2 JP 58202732 A JP58202732 A JP 58202732A JP 20273283 A JP20273283 A JP 20273283A JP H0219839 B2 JPH0219839 B2 JP H0219839B2
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JP58202732A
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Masakatsu Shibazaki
Juji Ogawa
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Sagami Chemical Research Institute
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Sagami Chemical Research Institute
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はアセタール型保護基の選択的脱離法に
関する。更に、詳しくは、本発明は分子内に一種
以上のアセタール型保護基及びシリルエーテル型
保護基を有する化合物をアルキルアルミニウムハ
ライドで処理することにより、アセタール型保護
基のみを選択的に脱離する方法に関する。アセタ
ール型保護基は弱酸性〜酸性という緩和な条件で
脱保護が行なえ、プロスタグランジンや抗生物質
の合成に水酸基等の保護基として繁用されてい
る。一方、近年シリルエーテル型保護基もシリル
エーテルの生成が容易である点と脱保護が簡単で
あるという点でアセタール型保護基と同様プロス
タグランジンや抗生物質の合成において水酸基等
の保護基として多用されるに至つている。シリル
エーテル型保護基も弱酸性〜酸性条件下に脱離が
出来る点でアセタール型保護基と同様の機能を有
している。しかし、当然、両基が存在する場合は
酸性条件下では選択的脱保護の目的は達成されな
い。しかしながら、t−ブチルジメチルシリル基
の如きシリルエーテル型保護基はテトラヒドロピ
ラニル基の如きアセタール型保護基を残したまま
での、フツ素イオンによる選択的脱保護が行な
え、水酸基等の保護基としての有用性を増してい
る。この逆の反応性すなわち、t−ブチルジメチ
ルシリル基を残したままでのテトラヒドロピラニ
ル基の選択的脱保護が可能になると、合成化学上
二つの保護基の組合せの幅が飛躍的に広がること
が予想される。又、t−ブチルジメチルシリル基
の如きシリルエーテル型保護基の欠点として近傍
にアルコキシドアニオン等が存在すると転位を起
してしまうことが知られている〔Y.Torisawa.
M.Shibasaki and S.Ikegami,Tetrahedron
Letters,1865(1979)〕。すなわち、プロスタグラ
ンジン合成、特にその制癌作用が注目されている
PGD2やPGI2誘導体合成において、これまで11位
水酸基をt−ブチルジメチルシリル基等のシリル
エーテル型保護基で保護しておくことが望ましか
つたが、この場合にはα−鎖導入時にシリル基の
転化が生じてしまい合成効率をはなはだしく落し
てしまつていた。これとは逆に11位水酸基をテト
ラヒドロピラニル基の如きアセタール基保護基で
保護しておくと上述のα−鎖導入反応は定量的に
進行する(下記参考例参照)。斯様なことからシ
リルエーテル存在下でのアセタール型保護基の選
択的脱保護が切望される所以である。このような
点を背景に本発明者等はシリルエーテルの存在
下、アセタールのみから水酸基等を選択的に再生
することが出来る反応を開発すべく鋭意研究を重
ねた結果、本発明がその目的を達成出来ることを
見出し本発明を完成した。
本発明のアセタール型保護基としては、例えば
テトラヒドロピラニル基、1−エトキシエチル
基、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、ベ
ンジルオキシメチル基、t−ブトキシメチル基、
2−メトキシエトキシメチル基、2,2,2−ト
リクロロエトキシメチル基、ビス(2−クロロエ
トキシ)メチル基、2−(トリメチルシリル)エ
トキシメチル基、3−ブロモテトラヒドロピラニ
ル基、テトラヒドロチオピラニル基、4−メトキ
シ−テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラ
ニル基、1−メチル−1−メトキシエチル基等を
例示でき、シリルエーテル型保護基としてはt−
ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、
トリベンジルシリル基、(トリフエニルメチル)
ジメチルシリル基、t−ブチル−ジフエニルシリ
ル基、メチルジイソプロピルシリル基、メチルジ
−t−ブチルシリル基、トリフエニルシリル基等
を例示することができる。とりわけこれらの保護
基を有する化合物としては例えば下記の化合物を
挙げることが出累る。
R3R2R1Si−O−(CH210−O−CR4R5−X−
R6 (式中、R1、R2及びR3はアルキル基又はアリ
ール基であり、R4及びR5は水素原子、アルキル
基、R6はアルキル基であり、R4又はR5とR6は一
体となりポリメチレン鎖を形成することもでき
る。Xは酸素原子又はイオウ原子である。) 本発明の選択的脱離反応を行うには、アルキル
アルミニウムハライドの存在下に行うことが必要
であり、ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチ
ルアルミニウムクロリド、ジイソブチルアルミニ
ウムクロリド、メチルアルミニウムジクロリド、
ジメチルアルミニウムブロミド、ジエチルアルミ
ニウムブロミド等を使用することができる。アル
キルアルミニウムハライドの使用量は原料に対し
て1〜5当量を用いるものである。
本発明は溶媒中で行なうことが望ましく、メチ
レンクロリド、クロロホルムの如きハロゲン化炭
化水素、トルエン、ベンゼンの如き芳香族炭化水
素を溶媒として好適に使用することができる。
反応温度は限定的でないが通常−25℃〜室温の
範囲を選ぶことにより円滑に反応が進行する。
以下、実施例及び参考例により本発明を更に詳
細に説明する。
実施例 1 1−テトラヒドロピラニルオキシ−10−t−ブ
チルジメチルシリルオキシデカン(24.6mg、
0.066mmol)を無水塩化メチレン(0.5ml)に溶
解した。アルゴン雰囲気下、−25℃においてジメ
チルアルミニウムクロリド(1.57Mヘキサン溶
液)(0.08ml、0.126mmol)を加え、反応温度を
室温まで上げた。15分後、HLCで原料の消失を
確認した後、再び−25℃に冷却した。飽和炭酸水
素カリウム水溶液(1ml)を加え、手早くエーテ
ル(3ml)を加えて室温で30分間撹拌した。反応
液をエーテルで抽出し、有機層は飽和食塩水で洗
浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー(ヘキサン/エー
テル=2/1)により精製し、1−t−ブチルジ
メチルシリルオキシ−10−デカノール(18.1mg、
95%)を得た。
NMRδ(ppm);3.40〜3.70(4H),1.10〜1.65
(17H),0.90(9H,s),0.05(6H,s). IR(neat);3400,2980,2900,1470,1260,
1102,840,780cm-1. 実施例 2 1−テトラヒドロピラニルオキシ−10−t−ブ
チルジメチルシリルオキシデカン(25.7mg、
0.069mmol)を無水塩化メチレン(0.5ml)に溶
解した。アルゴン雰囲気下、−25℃でメチルアル
ミニウムジクロリド(1.16Mヘキサン溶液)
(0.12ml、0.14mmol)を加え、30分間撹拌した。
TLCで原料の消失を確認後、飽和炭酸水素カリ
ウム水溶液(1ml)を加え、更に手早くエーテル
(3ml)を加えた後、室温で30分間撹拌した。反
応液をエーテルで抽出し、有機層は飽和食塩水で
洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリ
カゲルカラムクロマトグラフイー(ヘキサン/エ
ーテル=2/1)により精製し、1−t−ブチル
ジメチルシリルオキシ−10−デカノール(17.9
mg、90%)を得た。
NMRδ(ppm);3.40〜3.70(4H),1.10〜1.65
(17H),0.90(9H,s),0.05(6H,s). IR(neat);3400,2980,2900,1470,1260,
1102,840,780cm-1. 実施例 3 1−(1−エトキシ)−エトキシ−10−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシデカン(49.6mg、
0.14mmol)を無水塩化メチレン(1ml)に溶解
し、アルゴン雰囲気下、−25℃でジメチルアルミ
ニウムクロリド(1.57Mヘキサン溶液)(0.18ml、
0.28mmol)を加えた。−25℃で1時間撹拌後、飽
和炭酸水素カリウム水溶液(3ml)とエーテル
(3ml)を加え室温で30分間撹拌した。反応液を
エーテルで抽出し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフイー(ヘキサン/エーテル=1/1)で精製
後、1−t−ブチルジメチルシリルオキシ−10−
デカノール(25mg、60%)を得た。
NMRδ(ppm);3.40〜3.70(4H),1.10〜1.65
(17H),0.90(9H,s),0.05(6H,s). IR(neat);3400,2980,2900,1470,1260,
1102,840,780cm-1. 実施例 4 〔2−オキサ−3−オキソ−6−エキソ−t−
ブチルジメチルシリルオキシメチル−7−エンド
−テトラヒドロピラニルオキシビシクロ〔3.3.0〕
オクタン〕(54mg、0.15mmol)を無水塩化メチレ
ン(1ml)に溶解した。アルゴン雰囲気下−25℃
でジメチルアルミニウムクロリド(1Mヘキサン
溶液)(0.3ml、0.3mmol)を加えた後、室温で3
時間撹拌した。−25℃に再び冷却し、25%水酸化
カリウム水溶液(3ml)とエーテル(3ml)を加
え反応液を酢酸エチルで抽出した。有機層は飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗
浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
留去し、〔2−オキサ−3−オキソ−6−エキソ
−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−7−
エンド−ヒドロキシビシクロ〔3.3.0〕オクタン〕
(40mg、96%)を得た。
NMRδ(ppm);4.90(1H,m),4.15(1H,
ABq),3.65(2H,dd),0.90(9H,s),
0.05(6H,s). IR(neat);3460,2950,2780,1770cm-1. 実施例 5 2−(6−メトキシカルボニル−2−Z−ヘキ
セニル)−3−エキソ−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル−4−エンド−テトラヒドロピラ
ニルオキシ−1−シクロペンチリデン(17.5mg、
0.037mmol)を無水塩化メチレン(0.6ml)に溶
かした。アルゴン雰囲気下、−25℃でジメチルア
ルミニウムクロリド(1Mヘキサン溶液)(0.19
ml、0.19mmol)を加え、−25℃で1.5時間撹拌し
た。25%水酸化カリウム水溶液(1.9ml)とエー
テル(3ml)を加え、反応液を酢酸エチルで抽出
した。有機層は飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフイ
ー(ヘキサン/エーテル=1/1)で精製し、2
−(6−メトキシカルボニル−2−Z−ヘキセニ
ル)−3−エキソ−t−ブチルジメチルシリルオ
キシメチル−4−エンド−ヒドロキシ−1−シク
ロペンチリデン(12.7mg、89%)を得た。
NMRδ(ppm);5.40(2H),4.80〜4.95(2H),
3.30〜4.20(4H),3.65(3H,s),0.90
(9H,s),0.10(6H,s). IR(neat);3450,2950,2780,1745,1730
(sh.)cm-1. Massm/z(%);325(23),233(32),201
(40),183(22),159(27),75(100). Mili−MS;325.1832(M+−57),M+−57=
C17H29C4Si=325.1833. 実施例 6 4−(2−テトラヒドロピラニルオキシエチル)
−アゼチジン−2−オン(17.6mg、0.056mmol)
を無水メチレンクロリド(0.5ml)に溶解した。
アルゴン雰囲気下、−25℃においてジメチルアル
ミニウムクロリド(1.57Mヘキサン溶液)(0.089
ml、0.14mmol)を加え、反応温度を室温まで上
げた。30分後、TLCで原料の消失を確認した後、
再び−25℃に冷却した。飽和炭酸水素カリウム水
溶液(1ml)を加え、手早くエーテル(5ml)を
加えて室温で30分間撹拌した。反応液をエチルア
セテートで抽出し、有機層は飽和食塩水で洗浄し
た。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲル
カラムクロマトグラフイー(メチレンクロリド/
アセトン=4/1)により精製し、4−(2−ヒ
ドロキシ−エチル)−アゼチジン−2−オン(13
mg、100%)を粘着な油状物質として得た。
NMRδ(ppm);0.26(s,6H),0.98(s,9H),
1.80〜2.28(m,2H),2.69(dd,J=15.3
Hz,1H),3.20(dd,J=15.5Hz,1H),
3.74(t,J=7Hz,2H),3.60〜4.35(m,
2H). IR(neat);3410,1718cm-1
参考例 1 〔2α−(6−メトキシカルボニル−2−Z−ヘ
キセニル)−3β−t−ブチルジメチルシリルオキ
シメチル−4α−ヒドロキシ−1−シクロペンチ
リデン〕(657mg、1.72mmol)を無水ジメチルホ
ルムアミド(1.7ml)に溶解し、イミダゾール
(40mg,5.90mmol)及びt−ブチルジメチルクロ
ルシラン(596mg,3.96mmol)を加え反応容器を
アルゴンで置換し、室温で15分間撹拌した。飽和
塩化アンモニウム水溶液を加えエーテル(25ml×
4)で抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し
シリカゲルカラムクロマトグラフイー(ヘキサ
ン/エーテル=10/1)で精製し、〔l−2α−
(6−メトキシカルボニル−2−Z−ヘキセニル)
−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル
−4α−t−ブチルジメチルシリルオキシ−1−
シクロペンチリデン(855mg、100%)を得た。
NMRδ(ppm);5.45(2H),4.85(2H),4.00
(1H),3.65(3H,s),0.90(18H),0.10
(12H). IR(neat);1745,1660cm-1. Massm/z(%);439(M+tBu)(19),233
(39),201(39),189(15),183(18),173
(10),159(22),147(83),73(100). Mili−MS;439.27041(M+tBu).M+tBu=
C33H44O4Si2=439.2698. 〔α〕20 D=−38゜(c=1.36,MeOH). 参考例 2 アルゴン雰囲気下9−ボラビシクロ〔3.3.0〕
ノナン(二量体,1.65g,13.6mmol)をTHF(24
ml)に懸濁し、0℃で〔l−2α−(6−メトキシ
カルボニル−2−Z−ヘキセニル)−3β−t−ブ
チルジメチルシリルオキシメチル−4α−t−ブ
チルジメチルシリルオキシ−1−シクロペンチリ
デン〕(2.70g,5.4mmol)のTHF溶液(10ml)
を加えた。0℃で2時間撹拌した後、3N水酸化
ナトリウム水溶液(5ml)及び30%過酸化水素水
(5ml)を加えた。反応液を60℃に加温し、1.5時
間撹拌した。大部分のTHFを留去した後に水冷
し、エーテル(30ml)を加えて、10%塩酸でPH〜
5とした。酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和チ
オ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し
て得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フイー(ヘキサン/エーテル=3/1→1/1)
で精製し、〔d−1α−ヒドロキシメチル−2α−
(6−メトキシカルボニル−2−Z−ヘキセニル)
−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル
−4α−t−ブチルジメチルシリルオキシシクロ
ペンタン〕(1.97g,71%を得た。
NMRδ(ppm);5.40(2H),4.15(1H),3.65
(3H,s)3.20〜3.80(5H),0.90(18H),
0.10(6H,s),0.05(6H,s). IR(neat);3450,1742cm-1
Massm/z(%);514(M+,1.4),233(42),
221(22),219(11),201(34),189(20),73
(100). Mili−MS;514.3515(M+),C27H54O5Si2
514.3506. 〔α〕20 D=+4゜(c=1.36,MeOH). 参考例 3 アルゴン雰囲気下、〔d−1α−ヒドロキシメチ
ル−2α−(6−メトキシカルボニル−2−Z−ヘ
キセニル)−3β−t−ブチルジメチルシリルオキ
シメチル−4α−t−ブチルジメチルシリルオキ
シシクロペンタン〕(1.77g,3.44mmol)を無水
塩化メチレン(70ml)に溶解し、0℃でCollins
試薬(8.8g,34mmol)を加えた。0℃で30分間
撹拌した後硫酸水素ナトリウム・一水和物17.6g
を加え、塩化メチレンで希釈した。反応液を室温
とし、反応液全体が濁るまでエーテルを加えた。
無水硫酸マグネシウムを加えて5分間撹拌した
後、フロリジルカラムを通過させて濾過した。ろ
液の溶媒を留去することにより純粋な〔d−1α
−ホルミル−2α−(6−メトキシカルボニル−2
−Z−ヘキセニル)−3β−t−ブチルジメチルシ
リルオキシメチル−4α−t−ブチルジメチルシ
リルオキシシクロペンタン〕(1.60g,91%)を得
た。
NMRδ(ppm);9.85(1H,d),5.35(2H),
4.20(1H),3.65(3H,s),3.40〜3.60
(2H),2.80(1H),0.90(18H),0.10(6H,
s),0.05(6H,s). IR(neat);1750,1730(sh.)cm-1. Massm/z(%);497(M+−15)(1.5),456
(16.5),455(M+−57)(46),363(12),
323(12),249(17),231(21),217(22),
199(43),189(27),181(12),171(30),73
(100). 〔α〕20 D=+1゜(c=1.00,MeOH). 参考例 4 〔d−1α−ホルミル−2α−(6−メトキシカル
ボニル−2−Z−ヘキセニル)−3β−t−ブチル
ジメチルシリルオキシメチル−4α−t−ブチル
ジメチルシリルオキシシクロペンタン〕(1.65g,
3.22mmol)を無水トルエン(33ml)に溶解し、
アルゴン雰囲気下に封管とした。180℃で18時間
加熱し、トルエンを留去後シリカゲルカラムクロ
マトグラフイー(ヘキサン/エーテル=3/1→
1/1)で精製した。〔2−ヒドロキシ−3−(4
−メトキシカルボニル−1−ブテニル)−6−エ
キソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−
7−エンド−t−ブチルジメチルシリルオキシビ
シクロ〔3.3.0〕オクタン〕(1.44g,87%)をほぼ
無色の油状物質として得た。スペクトルデータよ
り2,3−エキソ,エキソ2,3−エンド,エン
ド混合物であつた。
NMRδ(ppm);5.20〜6.00(2H),4.30(0.4H),
3.10〜4.0(3.6H),3.65(3H,s),0.90
(18H),0.05〜0.10(12H). IR(neat);3430,1740,1720(sh.)cm-1. Massm/z(%);455(18),437(13),323
(38),249(19),231(70),218(13),217
(68),205(16),199(59),189(47),181
(14),171(43),157(45),155(14),147
(87),73(100). 参考例 5 〔2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシカルボ
ニル−1−ブテニル)−6−エキソ−t−ブチル
ジメチルシリルオキシメチル−7−エンド−t−
ブチルジメチルシリルオキシビシクロ〔3.3.0〕
オクタン〕(2,3−エキソ,エキソ、2,3−
エンド,エンドの混合物,12mg,0.023mmol)を
メタノール(0.3ml)に溶かし、10%パラジウム
炭素(3.0mg)を加えて水素ガスにより接触還元
した。反応はAgNO3−シリカゲルのTLCで追跡
し、2時間で原料の消失を見た。反応液をエーテ
ルで希釈し、パラジウム炭素をセライトを用いて
ろ別した。溶媒を留去して〔2−ヒドロキシ−3
−(4−メトキシカルボニルブチル)−6−エキソ
−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−7−
エンド−t−ブチルジメチルシリルオキシビシク
ロ〔3.3.0〕オクタン〕(12mg,100%)をほぼ無
色の油状物質をして得た。
NMRδ(ppm);4.30(0.4H),3.0〜4.1(3.6H),
3.65(3H,s),0.90(18H),0.10(6H),
0.05(6H). IR(neat);3450,1742,1725(sh.)cm-1. Massm/z(%);457(38),325(40),233
(90),219(100),201(69),173(81). 参考例 6 〔2−ヒドロキシ−3−(4−メトキシカルボ
ニルブチル)−6−エキソ−t−ブチルジメチル
シリルオキシメチル−7−エンド−t−ブチルジ
メチルシリルオキシビシクロ〔3.3.0〕オクタン〕
(12mg)をピリジン(0.5ml)に溶解し、アルゴン
雰囲気下、メタンスルホニルクロリド(11μ)
を加えて室温で撹拌した。TLCで原料が消失す
るまで30分毎にメタンスルホニルクロリド(10μ
)を加えた。原料消失を確認後、飽和塩化アン
モニウム水溶液を加えてエーテルで抽出し、有機
層は飽和硫酸銅水溶液で3回洗浄した。無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣を
トルエン(0.2ml)に溶解し、ジアザビシクロウ
ンデセン(20μ)を加えてアルゴン雰囲気下、
100℃で2日間撹拌した。反応液を室温まで冷や
し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてエーテ
ルで抽出した。エーテル層は飽和食塩水で洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー(ヘキサン/エーテル=10/1)で
精製し、〔l−3−(4−メトキシカルボニルブチ
ル)−6−エキソ−t−ブチルジメチルシリルオ
キシメチル−7−エンド−t−ブチルジメチルシ
リルオキシビシクロ〔3.3.0〕オクト−2−エン〕
(5.6mg,48%)を得た。
NMRδ(ppm);5.30(1H),3.85(1H),3.65
(3H,s),3.60(2H),2.90(1H),0.90
(9H,s),0.85(9H,s),0.05(12H). IR(neat) :1745cm-1. Massm/z(%);439(M+−57)(25),243
(11),233(64),207(53),201(42),189
(11),183(21),175(19),173(14),159
(14),157(14),149(17),148(12),147
(67),73(100). Mili−MS;439.2697(M+tBu),M+tBu=
C23H43O4Si2=439.2697. 参考例 7 (l−3−〔4−メトキシカルボニルブチル)−
6−エキソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメ
チル−7−エンド−t−ブチルジメチルシリルオ
キシビシクロ〔3.3.0〕オクト−2−エン〕(4.8
mg,0.01mmol)を含水エタノール(エタノー
ル:H2O=75:1)(0.15ml)に溶解し、ピリジ
ニウムp−トルエンスルフオネート(1mg,
0.004mmol)を加え25℃で16時間撹拌した。反応
液をエーテルで希釈後、1%HCl水溶液、飽和
NaHCO3水、飽和食塩水でそれぞれ洗浄した。
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにて精製
した。〔3−(4−メトキシカルボニルブチル)−
6−エキソ−ヒドロキシメチル−t−ブチルジメ
チルシリルオキシビシクロ〔3.3.0〕オクト−2
−エン〕がほぼ無色の油状物質として2.3mg(収
率60%)が得られた。
IR(neat);3480,1740cm-1. NMRδ(ppm);5.30(1H),3.85(1H),3.65
(3H,s),3.60(2H),2.90(1H). 参考例 8 〔3−(4−メトキシカルボニルブチル)−6−
エキソ−ヒドロキシメチル−7−エンド−t−ブ
チルジメチルシリルオキシビシクロ〔3.3.0〕オ
クト−2−エン〕(118mg,0.31mmol)をDMSO
(3.5ml)およびトリエチルアミン(0.26ml)に溶
解し、SO3・py(148mg,0.93mmol)のDMSO溶
液(2.5ml)を室温撹拌下加えた。同条件下1時
間20分撹拌後氷水にあけ、エーテルにて抽出し
た。エーテル層は水、飽和食塩水で洗浄後硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を留去すると、約
110mgのアルデヒド体が得られ、精製することな
く次の反応に付した。水素化ナトリウム(油性60
%,17mg,0.43mmol)をアルゴン雰囲気下ペン
タンで洗浄し、3mlのTHFに懸濁した。これに
ジメチル(2−オキソヘプチル)ホスホネート
(103mg,0.47mmol)のTHF溶液(0.5ml)を加
え、室温にて30分間撹拌した。このアニオン溶液
にアルドヒドのTHF溶液(1.5ml)を加え、同条
件下40分撹拌後、0.11mlの酢酸で反応を停止させ
た。反応液をエーテルで希釈後飽和NaHCO3
で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーにて精製し〔3−(4−メトキシカルボニルブ
チル)−6−エキソ−(3−オキソ−トランス−1
−オクテニル)−7−エンド−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシビシクロ〔3.3.0〕オクト−2−
エン〕(107mg,73%)をほぼ無色の油状物質とし
て得た。
IR(neat);1742,1698,1672,1628cm-1. NMRδ(ppm);6.80(dd,1H),6.17(dd,
1H),5.30(d,J=1Hz,1H)4.00(m,
1H),3.68(s,3H),3.00(m,1H). 参考例 9 〔3−(4−メトキシカルボニルブチル)−6−
エキソ−(3−オキソ−トランス−1−オクテニ
ル)−7−エンド−t−ブチルジメチルシリルオ
キシビシクロ〔3.3.0〕オクト−2−エン〕(93
mg,0.20mmol)を65%含水酢酸(1.7ml)および
テトラヒドロフラン(0.17ml)に溶解し、50℃に
て1時間撹拌した。反応液を飽和NaHCO3水に
あけ、エチルアセテートにて抽出した。有機層は
水、飽和食塩水にて洗浄後、硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーにて精製し、〔3−(4−メ
トキシカルボニルブチル)−6−エキソ−(3−オ
キソ−トランス−1−オクテニル)−7−エンド
−ヒドロキシビシクロ〔3.3.0〕オクト−2−エ
ン〕をほぼ無色の油状物質として72mg(収率99
%)得た。
IR(neat);3470,2950,1740,1699,1675,
1625cm-1. NMRδ(ppm);6.65(dd,J=16),8Hz,
1H),6.16(d,J=16Hz,1H),5.30
(broad s,1H),3.90(qd,J=8,2
Hz,1H),3.68(s,3H),3.00(m,1H),
1.80〜2.80(m,12H),1.10〜2.80(m,
10H),0.90(t,J=6Hz,3H). 〔α〕20 D=+105゜(c=1.488,MeOH). 参考例 10 〔3−(4−メトキシカルボニルブチル)−6−
エキソ−(3−オキソ−トランス−1−オクテニ
ル)−7−エンド−ヒドロキシビシクロ〔3.3.0〕
オクト−2−エン〕(36mg,0.1mmol)を無水ト
ルエン(1ml)に溶解した。これに先だち、ジイ
ソブチルアルミニウムヒドリドのトルエン溶液
(1.76M0.57ml,1mmol)を2,6−ジ−t−ブ
チル−4−メチルフエノール(331mg,1.5mmol)
のトルエン溶液(2.6ml)に氷冷下加え、同条件
下1時間撹拌した。これに上記反応出発物のトル
エン溶液を−78℃にて加えた。反応溶液を2.5時
間かけて−10℃とし、さらに同温度で3時間撹拌
した。反応を0.34mlの水で停止させ、室温にて1
時間撹拌した。不溶物を濾過後、溶媒を留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
にて精製し、〔3−(4−メトキシカルボニルブチ
ル)−6−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス
−1−オクテニル)−7−エンド−ヒドロキシビ
シクロ〔3.3.0〕オクト−2−エン〕(20.6mg,57
%)および〔3−(4−メトキシカルボニルブチ
ル)−6−エキソ−(3β−ヒドロキシ−トランス
−1−オクテニル)−7−エンド−ヒドロキシビ
シクロ〔3.3.0〕オクト−2−エン〕(8.3mg,23
%)をそれぞれ油状物質として得た。α−エピマ
ーのスペクトルデータを以下に示す。β−エピマ
ーのスペクトルも同様である。
IR(neat);3400,2970,2930,2870,1742cm
-1. NMRδ(ppm);5.60(m,2H),5.33(bs,1H),
4.12(m,1H),3.80(m,1H),3.69(s,
3H),3.00(m,1H). Massm/z(%);346(25,M+−H2O),328
(18),315(9),302(71),275(15),247
(11),232(32),199(17),193(19),180
(30),179(27). 参考例 11 〔3−(4−メトキシカルボニルブチル)−6−
エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス−1−オク
テニル)−7−エンド−ヒドロキシビシクロ
〔3.3.0〕オクト−2−エン〕(10mg,0.027mmol)
をメタノール(0.3ml)に溶解した。0℃で10%
水酸ナトリウム水溶液(0.2ml)を加えた。0℃
で9時間撹拌後、冷却下、10%塩酸水溶液にて中
和した。減圧下メタノールを留去後、PH3〜4に
調整し、酢酸エチルで抽出した。無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去して〔9(0)−メタ
ノ−Δ6(9)−PGI1)(10mg,100%)を得た。
IR(neat);3350,2910,2850,1700,1450,
1250cm-1. NMRδ(ppm);5.60(m,2H),5.31(bs,1H),
4.11(m,1H),3.80(m,1H),3.00(m,
1H),0.90(tJ=6Hz,3H). Mass(CI,NH3)m/z;368(M++NH4). 融点;733〜79℃ 〔α〕25 D=+16゜(c=0.25,MeOH). 同様に、15β−エピマー体も加水分解し、9
(0)−メタノ−Δ6(9)−PGI1の15β異性体を得た。
スペクトルデータ(IR,NMR,Mass)は9
(0)−メタノ−Δ6(9)−PGI1のデータと一致した。
試験例 以上の方法で合成された9(0)−メタノ−
Δ6(9)−PGI1は、以下に記す生物活性を有する。
ウサギの血液を用いた場合、アデノシンニリン酸
(ADP)によつて誘発される血小板の凝集をPGI2
の1/10の強さで抑制し、又、人の血液を用いた場
合にはPGI2の1/2という強さを示した。血圧に対
する影響ではラツトを用いた場合PGI2と同程度
の強さを示し、0.1μg/Kgの投与量で血圧降下作
用を示した。心摶度数に対する影響もPGI2の強
さとほぼ同様であり、ラツトを用いた実験では、
1μg/Kgの投与量で心搏度数の増大を示した。
抗潰瘍作用でもウサギの胃を用いた実験において
10-6Mという低濃度で活性を示し、これはPGE2
と同程度の強さである。細胞毒性は非常に弱く、
IC50=5μg/mlである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 分子内に一種以上のアセタール型保護基及び
    シリルエーテル型保護基を持つ化合物をアルキル
    アルミニウムハライドで処理することからなる、
    アセタール型保護基の選択的脱離法。
JP58202732A 1983-10-31 1983-10-31 アセタ−ル型保護基の選択的脱離法 Granted JPS6094985A (ja)

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