JPH02199453A - 感光材料処理装置 - Google Patents
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Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、感光材料に湿式処理を施すための感光材料処
理装置に関する。
理装置に関する。
〈従来の技術〉
感光材料の湿式処理は、処理槽内に貯留されている処理
液(現像液、定着液、洗浄水等)中に感光材料を搬送し
て浸漬することにより行われる。
液(現像液、定着液、洗浄水等)中に感光材料を搬送し
て浸漬することにより行われる。
従来、このような処理を行う感光材料処理装置として第
8図に示す構造のものがある。
8図に示す構造のものがある。
同図に示す感光材料処理装置100を用いて感光材料を
連続的に現像処理する場合、各々の処理槽2.3.4内
に貯留された処理液20.30.40の液面が開放され
ているため、処理液が蒸散し、または、空気との接触に
より液温の低下や酸化等の変質、劣化を生じるという問
題がある。
連続的に現像処理する場合、各々の処理槽2.3.4内
に貯留された処理液20.30.40の液面が開放され
ているため、処理液が蒸散し、または、空気との接触に
より液温の低下や酸化等の変質、劣化を生じるという問
題がある。
処理液の蒸発が生じると、液面付近と処理槽底部での処
理液の濃度に差異が生じ、均一な現像を阻害するおそれ
があり、しかも、処理液の減少が著しくなるため処理液
を余分に補給しなければならない。
理液の濃度に差異が生じ、均一な現像を阻害するおそれ
があり、しかも、処理液の減少が著しくなるため処理液
を余分に補給しなければならない。
さらに、蒸発した処理液が処理装置の各所に付着して汚
れの原因となり、また、処理装置を設置した室内の環境
に変化(例えば昇温、昇温、悪臭放散)を与えるという
欠点もある。
れの原因となり、また、処理装置を設置した室内の環境
に変化(例えば昇温、昇温、悪臭放散)を与えるという
欠点もある。
また、処理液が変質、劣化を生じれば、現像特性に悪影
響を及ぼすことは明らかで、特に、大気中の02ガス、
CO2ガスの混入により現像液のpHの変化が生じると
、処理された感光材料は、濃度、階調等の写真性が変化
し不安定となる。
響を及ぼすことは明らかで、特に、大気中の02ガス、
CO2ガスの混入により現像液のpHの変化が生じると
、処理された感光材料は、濃度、階調等の写真性が変化
し不安定となる。
また、例えば処理液は適正な現像を行うために20〜6
0℃程度に保持される必要があるが、熱の放散が著しい
と、前記適正温度に保持するために多くの熱量を必要と
する。
0℃程度に保持される必要があるが、熱の放散が著しい
と、前記適正温度に保持するために多くの熱量を必要と
する。
そこで、このような処理液の蒸散、劣化等を防止するた
めに、処理槽の処理液液面付近に固定蓋や浮蓋のような
蓋体を設け、液面を覆うことが考えられる。
めに、処理槽の処理液液面付近に固定蓋や浮蓋のような
蓋体を設け、液面を覆うことが考えられる。
しかるに、感光材料の搬送経路設計上の理由から、また
は搬送手段の設置に伴い、処理液液面付近に蓋体を設け
ることが困難な場合がある。
は搬送手段の設置に伴い、処理液液面付近に蓋体を設け
ることが困難な場合がある。
例えば、製版用感光材料の現像処理のための自動現像機
の場合には、処理体止時においてローラの周面な湿潤状
態に保つために、搬送ローラを処理液に対し半没状態で
設置する。
の場合には、処理体止時においてローラの周面な湿潤状
態に保つために、搬送ローラを処理液に対し半没状態で
設置する。
従って、この搬送ローラの存在する部分には蓋体な設置
することができず、または、蓋体に搬送ローラを回避す
るための開口を設けねばならず、その結果、液面の被覆
面積が少なくなって、上記処理液の蒸発、劣化等の防止
効果が十分に得られない。
することができず、または、蓋体に搬送ローラを回避す
るための開口を設けねばならず、その結果、液面の被覆
面積が少なくなって、上記処理液の蒸発、劣化等の防止
効果が十分に得られない。
また、液面を被覆する蓋体は、その構造が複雑となり、
しかも、着脱操作も容易ではないため処理槽のメンテナ
ンスの際に不便である。
しかも、着脱操作も容易ではないため処理槽のメンテナ
ンスの際に不便である。
〈発明が解決しようとする課題〉
そのため、本願出願人は上述の弊害を改善する目的で第
9図に示す構造の感光材料処理装置を提案した(特願昭
63−317049号)。
9図に示す構造の感光材料処理装置を提案した(特願昭
63−317049号)。
この感光材料処理装置101は、現像液20が入った現
像槽2の上部空間と、定着液30が入った定着槽3の前
半部分の上部空間とを合せた空間6aをカバー6によっ
て覆い、カバー6の搬入口65にシャッター手段を設け
るとともに、搬出側に位置するカバー側壁61の下端を
定着槽3の定着液30内に没入させて、空間6aをカバ
ー6で実質的に密閉するように構成したものである。
像槽2の上部空間と、定着液30が入った定着槽3の前
半部分の上部空間とを合せた空間6aをカバー6によっ
て覆い、カバー6の搬入口65にシャッター手段を設け
るとともに、搬出側に位置するカバー側壁61の下端を
定着槽3の定着液30内に没入させて、空間6aをカバ
ー6で実質的に密閉するように構成したものである。
このような構成では、少なくとも現像液20の蒸散や熱
の放散が抑制され、また、処理液の酸化や劣化の原因と
なる外気中の02やCO□の処理液への混入が阻止され
るため、感光材料Sの処理品質が従来のものに比べて著
しく向上する。
の放散が抑制され、また、処理液の酸化や劣化の原因と
なる外気中の02やCO□の処理液への混入が阻止され
るため、感光材料Sの処理品質が従来のものに比べて著
しく向上する。
しかしながら、この構成では、現像液20の蒸気と、定
着液30の蒸気とが空間6a内で混合するため、現像液
20および定着液30の組成によっては、それぞれの蒸
気に含まれる成分同士が反応し、例えばクロスオーバロ
ーラ52や反転ガイド54の表面に析出物(硫化アンモ
ニウム等)を生じ、これが感光材料Sの表面に付着し汚
損する等の不都合を生じる場合がある。
着液30の蒸気とが空間6a内で混合するため、現像液
20および定着液30の組成によっては、それぞれの蒸
気に含まれる成分同士が反応し、例えばクロスオーバロ
ーラ52や反転ガイド54の表面に析出物(硫化アンモ
ニウム等)を生じ、これが感光材料Sの表面に付着し汚
損する等の不都合を生じる場合がある。
そのため、第10図に示すように、空間6aを現像槽2
の上部空間のみに限定して、この空間6aをカバー6で
覆うとともに、搬出側に位置するカバー側壁61にシャ
ッター手段7付きの通過口66を設置し、空間6a内の
蒸発物質を現像液20からのものだけに限定して、析出
の発生を防止するように構成した感光材料処理装置10
2も、同出願において提案されている。
の上部空間のみに限定して、この空間6aをカバー6で
覆うとともに、搬出側に位置するカバー側壁61にシャ
ッター手段7付きの通過口66を設置し、空間6a内の
蒸発物質を現像液20からのものだけに限定して、析出
の発生を防止するように構成した感光材料処理装置10
2も、同出願において提案されている。
しかし、この構成によるときは、搬入口65と通過口6
6との2個所にシャッター手段7を設けることが必要と
なるが、シャッター手段7はそれ自身構造が複雑であり
、また高価であるため、構造の簡素化およびコストダウ
ンのために、シャッター手段7の設置数をなるべく少な
くしたいという要請がある。
6との2個所にシャッター手段7を設けることが必要と
なるが、シャッター手段7はそれ自身構造が複雑であり
、また高価であるため、構造の簡素化およびコストダウ
ンのために、シャッター手段7の設置数をなるべく少な
くしたいという要請がある。
本発明の目的は、上記従来技術の欠点を解消し、設計上
の制約等を受けることなく、処理液の蒸発、温度の低下
および変質、劣化を防止することができ、しかも、構造
の簡素化および異種処理液の蒸気の混合による析出物の
発生防止を可能とする感光材料処理装置を提供すること
にある。
の制約等を受けることなく、処理液の蒸発、温度の低下
および変質、劣化を防止することができ、しかも、構造
の簡素化および異種処理液の蒸気の混合による析出物の
発生防止を可能とする感光材料処理装置を提供すること
にある。
く課題を解決するための手段〉
このような目的は、以下の本発明により達成される。
即ち、本発明は、現像機能を有する処理液が入った第1
処理槽と、該第1処理槽に隣接し、前記現像機能を有す
る処理液と異なる組成の処理液が入った第2処理槽と、
前記各処理槽内で感光材料を所定経路に沿って搬送する
搬送手段とを有する感光材料処理装置であって、少なく
とも前記第1処理槽の上部空間を実質的に密閉し得るカ
バーと、両端開口がそれぞれ前記第1および第2処理槽
の各処理液内に浸漬された感光材料の連絡搬送路とを設
置したことを特徴とする感光材料処理装置である。
処理槽と、該第1処理槽に隣接し、前記現像機能を有す
る処理液と異なる組成の処理液が入った第2処理槽と、
前記各処理槽内で感光材料を所定経路に沿って搬送する
搬送手段とを有する感光材料処理装置であって、少なく
とも前記第1処理槽の上部空間を実質的に密閉し得るカ
バーと、両端開口がそれぞれ前記第1および第2処理槽
の各処理液内に浸漬された感光材料の連絡搬送路とを設
置したことを特徴とする感光材料処理装置である。
〈作 用〉
このような構成の感光材料処理装置によれば、現像機能
を有する処理液が入った第1処理槽の上方にカバーを設
置して、少なくとも第1処理槽の上部空間を含む空間を
外気から実質的に遮断することにより、少なくとも第1
処理槽の処理液からの水蒸気の蒸散や熱の放散を抑制し
、また、処理液の酸化、劣化の原因となる外気中の02
やCO2の処理液への混入を阻止する。
を有する処理液が入った第1処理槽の上方にカバーを設
置して、少なくとも第1処理槽の上部空間を含む空間を
外気から実質的に遮断することにより、少なくとも第1
処理槽の処理液からの水蒸気の蒸散や熱の放散を抑制し
、また、処理液の酸化、劣化の原因となる外気中の02
やCO2の処理液への混入を阻止する。
しかも、第1処理槽とこれに隣接する第2処理槽の上部
空間同士が連通しておらず、第1処理槽から第2処理槽
への感光材料のクロスオーバを行うに際しては、例えば
カバーの側壁を貫通するブリッジ状の連絡搬送路を架設
するとともに、この連絡搬送路の両端開口をそれぞれ両
方の処理槽の各処理液内に浸漬することによりこの連絡
搬送路内を密閉(隔離)し、これにより第1処理槽の処
理液の蒸気と第2処理槽の処理液の蒸気との上部空間内
での混合を阻止し、析出物の発生を防止する。
空間同士が連通しておらず、第1処理槽から第2処理槽
への感光材料のクロスオーバを行うに際しては、例えば
カバーの側壁を貫通するブリッジ状の連絡搬送路を架設
するとともに、この連絡搬送路の両端開口をそれぞれ両
方の処理槽の各処理液内に浸漬することによりこの連絡
搬送路内を密閉(隔離)し、これにより第1処理槽の処
理液の蒸気と第2処理槽の処理液の蒸気との上部空間内
での混合を阻止し、析出物の発生を防止する。
〈実施例〉
以下、本発明の感光材料処理装置を、添付図面に示す好
適実施例について詳細に説明する。
適実施例について詳細に説明する。
なお、感光材料処理装置においては、外気との接触によ
る処理液の変質、劣化(酸化)や、処理液の蒸散による
室内環境への悪影響は、特に現像槽において顕著に生じ
るため、主に現像槽の上部空間のみを密閉した感光材料
処理装置1について説明する。 また、前述した各図を
含めて同様の部材には同符号を用いる。
る処理液の変質、劣化(酸化)や、処理液の蒸散による
室内環境への悪影響は、特に現像槽において顕著に生じ
るため、主に現像槽の上部空間のみを密閉した感光材料
処理装置1について説明する。 また、前述した各図を
含めて同様の部材には同符号を用いる。
第1図は、本発明の感光材料処理装置の構成例を模式的
に示す断面正面図である。 感光材料処理装置1は、現
像槽2、定着槽(または漂白・定着槽)3および水洗槽
4がこの順に並設され、これら各処理槽の内部および外
部に、感光材料Sを所定経路で搬送するための搬送手段
5が設置された構成となっている。
に示す断面正面図である。 感光材料処理装置1は、現
像槽2、定着槽(または漂白・定着槽)3および水洗槽
4がこの順に並設され、これら各処理槽の内部および外
部に、感光材料Sを所定経路で搬送するための搬送手段
5が設置された構成となっている。
現像槽2内には現像機能を有する処理液としての現像液
20が、定着槽3内には定着機能を有する処理液として
の定着液(または漂白・定着液)30が、水洗槽4内に
は洗浄機能を有する処理液としての洗浄水40が、それ
ぞれ所定の液面レベルまで満たされている。
20が、定着槽3内には定着機能を有する処理液として
の定着液(または漂白・定着液)30が、水洗槽4内に
は洗浄機能を有する処理液としての洗浄水40が、それ
ぞれ所定の液面レベルまで満たされている。
搬送手段5は、以下にそれぞれ説明する搬入側の半没状
の搬送ローラ511、搬出側の半没状の搬送ローラ51
2、全没状の搬送口−ラ51、クロスオーバローラ52
、ガイド53、反転ガイド54等で構成されている。
現像槽2と定着槽3との上部境界部には、後述する密閉
式の連絡搬送路201が架設されている。
の搬送ローラ511、搬出側の半没状の搬送ローラ51
2、全没状の搬送口−ラ51、クロスオーバローラ52
、ガイド53、反転ガイド54等で構成されている。
現像槽2と定着槽3との上部境界部には、後述する密閉
式の連絡搬送路201が架設されている。
搬送ローラ511および512は、いずれも各処理槽2
.3.4内の各処理液20.30.40の液面下に半没
状態で配設された各一対のローラとして構成されている
。
.3.4内の各処理液20.30.40の液面下に半没
状態で配設された各一対のローラとして構成されている
。
搬送ローラ51は、搬送ローラ511および512と協
力して感光材料Sを各処理槽2.3.4内においてU字
状(1ターン)に搬送するように、各処理液20.30
.40内に対をなすように配設されている。
力して感光材料Sを各処理槽2.3.4内においてU字
状(1ターン)に搬送するように、各処理液20.30
.40内に対をなすように配設されている。
クロスオーバローラ52は、定着槽3と水洗槽4との上
部境界部に対で配設されている。
部境界部に対で配設されている。
また、搬送ローラ511.512と各搬送ローラ51と
の間および搬送ローラ51相互の間には、感光材料Sを
搬送経路の下流側にあるローラへ適正に誘導するための
ガイド53が設置されている。
の間および搬送ローラ51相互の間には、感光材料Sを
搬送経路の下流側にあるローラへ適正に誘導するための
ガイド53が設置されている。
さらに、各処理槽2.3.4の底部、後述する搬入口6
5の近傍およびクロスオーバローラ52の両側部には、
感光材料Sを搬送経路に沿って反転させるための反転ガ
イド54が配設されている。 この反転ガイド54は、
円弧状の湾曲面を有し、この湾曲面に沿って感光材料の
進行方向を約90°または180°転換するように構成
されている。
5の近傍およびクロスオーバローラ52の両側部には、
感光材料Sを搬送経路に沿って反転させるための反転ガ
イド54が配設されている。 この反転ガイド54は、
円弧状の湾曲面を有し、この湾曲面に沿って感光材料の
進行方向を約90°または180°転換するように構成
されている。
なお、搬送ローラ511.512.51およびクロスオ
ーバローラ52は、処理液に対する耐薬品性を有する材
料として、例えば塩化ビニル、フェノール樹脂、ナイロ
ン等のプラスチック、もしくは金属等で構成され、これ
らの全部または一部が回転駆動されて感光材料を挟持、
搬送するようになっている。 この場合の各ローラ51
.52の回転駆動は、モータ、ギア等で構成される所定
の駆動系(図示せず)により行われる。
ーバローラ52は、処理液に対する耐薬品性を有する材
料として、例えば塩化ビニル、フェノール樹脂、ナイロ
ン等のプラスチック、もしくは金属等で構成され、これ
らの全部または一部が回転駆動されて感光材料を挟持、
搬送するようになっている。 この場合の各ローラ51
.52の回転駆動は、モータ、ギア等で構成される所定
の駆動系(図示せず)により行われる。
一方、現像槽2の上部には、現像槽2の上部空間(遮蔽
を要する空間)6aを囲むカバー6が設置されている。
を要する空間)6aを囲むカバー6が設置されている。
このカバー6の図中左右の側壁部は現像槽2の左右の槽
壁の頂部に接合され、空間6aを外気に対して実質的に
密閉するように構成されている。 そのため、現像槽2
内の現像液20の蒸散および液温の低下、変質、劣化等
が防止される。
壁の頂部に接合され、空間6aを外気に対して実質的に
密閉するように構成されている。 そのため、現像槽2
内の現像液20の蒸散および液温の低下、変質、劣化等
が防止される。
第1図に示すように、密閉式の連絡搬送路201は、こ
のカバー6の図中右側の側壁61を貫通する状態で設置
されている。
のカバー6の図中右側の側壁61を貫通する状態で設置
されている。
即ち、連絡搬送路201は、搬送される感光材料Sが通
過可能な中空通路202を有する矩形環断面の部材とし
て形成され、その両端の開口部203および204が、
隣接する処理槽2および3内の各処理液20および30
の液面より下方に位置するように、例えば逆U字型(ア
ーチ型)のブリッジとして構成されている。
過可能な中空通路202を有する矩形環断面の部材とし
て形成され、その両端の開口部203および204が、
隣接する処理槽2および3内の各処理液20および30
の液面より下方に位置するように、例えば逆U字型(ア
ーチ型)のブリッジとして構成されている。
この場合、現像槽2の搬出側の半没状搬送ローラ512
は、連絡搬送路201の左側の開口部203の内側に位
置し、定着槽3の搬入側の半没状搬送ローラ511は、
図中右側の開口部204の内側に位置している。
は、連絡搬送路201の左側の開口部203の内側に位
置し、定着槽3の搬入側の半没状搬送ローラ511は、
図中右側の開口部204の内側に位置している。
そして、中空通路202は、搬送される感光材料Sが余
裕をもって移動できる範囲内で最小限の巾寸法と高さ(
厚さ)寸法とを有する断面形状とし、通路部容積をでき
る限り小さくするように設定するのが好ましい。
裕をもって移動できる範囲内で最小限の巾寸法と高さ(
厚さ)寸法とを有する断面形状とし、通路部容積をでき
る限り小さくするように設定するのが好ましい。
この連絡搬送路201の構成材料としては、前述の各ロ
ーラの場合と同様に、処理液20.30に対する耐薬品
性および気体不透過性を有する材料として、例えば塩化
ビニル、フェノール樹脂、ナイロン等のプラスチック、
もしくはステンレス、チタンのような金属等を挙げるこ
とができる。
ーラの場合と同様に、処理液20.30に対する耐薬品
性および気体不透過性を有する材料として、例えば塩化
ビニル、フェノール樹脂、ナイロン等のプラスチック、
もしくはステンレス、チタンのような金属等を挙げるこ
とができる。
また、中空通路202の外周とカバー6の側壁部61と
の間は、例えば弾性材料によるシール部材(図示せず)
のごとき適宜の気密化手段によって密閉されているのが
好ましい。
の間は、例えば弾性材料によるシール部材(図示せず)
のごとき適宜の気密化手段によって密閉されているのが
好ましい。
なお、連絡搬送路201の右側の開口部204に近い位
置に、比較的小さな開口面積の通気孔(図示せず)を設
けることも可能である。 この場合には、中空通路20
2内の定着液30の蒸気を外部に排気することができ、
中空通路202内での現像液20の蒸気との混合を防止
することができる。
置に、比較的小さな開口面積の通気孔(図示せず)を設
けることも可能である。 この場合には、中空通路20
2内の定着液30の蒸気を外部に排気することができ、
中空通路202内での現像液20の蒸気との混合を防止
することができる。
なお、感光材料Sが中空通路202内を通過する際には
、感光材料Sは中空通路202の外周側内壁面207と
接触しつつ通過するため、感光材料Sの表面(特に乳剤
面)のキズ付防止の観点から、外周側内壁面207に対
し、例えば表面研磨等による平滑化処理、またはシリコ
ーン、テフロン等のコーティングといった表面処理を施
しておくのが好ましい。
、感光材料Sは中空通路202の外周側内壁面207と
接触しつつ通過するため、感光材料Sの表面(特に乳剤
面)のキズ付防止の観点から、外周側内壁面207に対
し、例えば表面研磨等による平滑化処理、またはシリコ
ーン、テフロン等のコーティングといった表面処理を施
しておくのが好ましい。
カバー6の図中左側の側壁60には、感光材料Sを現像
槽2内へ搬入するための搬入口65が形成され、また、
この搬入口65には搬入口を開閉し得るシャッター手段
7が設置されている。 このシャッター手段7の具体的
構成にっいては後述する。
槽2内へ搬入するための搬入口65が形成され、また、
この搬入口65には搬入口を開閉し得るシャッター手段
7が設置されている。 このシャッター手段7の具体的
構成にっいては後述する。
このような構成の感光材料処理装置1では、現像槽2の
上方空間である空間6aがカバー6により覆われ、また
、画処理槽2.3内の処理液液面によって両端開口部2
03.204が密閉されている連絡搬送路201により
、現像槽2から定着槽3に向うクロスオーバ空間が密閉
されるため、現像槽2の上方空間6aは実質的に密閉さ
れることになる。
上方空間である空間6aがカバー6により覆われ、また
、画処理槽2.3内の処理液液面によって両端開口部2
03.204が密閉されている連絡搬送路201により
、現像槽2から定着槽3に向うクロスオーバ空間が密閉
されるため、現像槽2の上方空間6aは実質的に密閉さ
れることになる。
その結果、現像機能処理槽2内の現像液20の蒸発、温
度の低下および変質、劣化が防止され、さらに、定着槽
3から蒸発する定着液30の蒸気が空間6aに侵入して
現像液20の蒸気と混合し、析出物を生じることが防止
される。
度の低下および変質、劣化が防止され、さらに、定着槽
3から蒸発する定着液30の蒸気が空間6aに侵入して
現像液20の蒸気と混合し、析出物を生じることが防止
される。
この場合連絡搬送路201は、可動部を有さない部材で
構成されたものであるため、例えば処理槽2.3間にシ
ャッター手段7を設置した場合(第1O図参照)に比べ
、構造が簡単で故障もなく、製造コストも安価である。
構成されたものであるため、例えば処理槽2.3間にシ
ャッター手段7を設置した場合(第1O図参照)に比べ
、構造が簡単で故障もなく、製造コストも安価である。
なお、第1図に示す感光材料処理装置1において、連絡
搬送路201の開口部204が存在する部分を除く定着
槽3の液面領域を、例えば適宜の浮蓋または固定蓋で覆
うことも可能である。
搬送路201の開口部204が存在する部分を除く定着
槽3の液面領域を、例えば適宜の浮蓋または固定蓋で覆
うことも可能である。
第2図は、連絡搬送路の構成が異なる感光材料処理装置
の主要部分を示す部分断面正面図である。
の主要部分を示す部分断面正面図である。
この構成例では、定着槽3内に搬入側の半没状搬送ロー
ラ511がなく、また、現像槽2内の搬出側の搬送ロー
ラ512は、その一方が現像液20に半没状態、他方が
全没状態となっており、感光材料Sを鉛直方向に対し所
定角度傾斜した方向に送り出すようになっている。
ラ511がなく、また、現像槽2内の搬出側の搬送ロー
ラ512は、その一方が現像液20に半没状態、他方が
全没状態となっており、感光材料Sを鉛直方向に対し所
定角度傾斜した方向に送り出すようになっている。
連絡搬送路201°は、現像槽2側から定着槽側に向け
て中空通路206の厚さが漸減し、定着液30内に浸漬
される開口部205は、最も狭いスリット状の開口とな
っている。
て中空通路206の厚さが漸減し、定着液30内に浸漬
される開口部205は、最も狭いスリット状の開口とな
っている。
このような構成の連絡搬送路201°によれば、現像槽
2からの感光材料Sを定着槽3の最初の搬送ローラ51
.51間に確実に誘導できるとともに、開口部205の
開口面積が小さいため、定着液30の中空通路206内
への蒸発がほとんどなく、中空通路206内での析出物
の発生が皆無となる。
2からの感光材料Sを定着槽3の最初の搬送ローラ51
.51間に確実に誘導できるとともに、開口部205の
開口面積が小さいため、定着液30の中空通路206内
への蒸発がほとんどなく、中空通路206内での析出物
の発生が皆無となる。
第3図は、前述の連絡搬送路201(または201”)
が複数個設置された場合の感光材料処理装置の構成例を
示す断面正面図である。
が複数個設置された場合の感光材料処理装置の構成例を
示す断面正面図である。
この感光材料処理装置1°では、現像槽2および定着槽
3の各上方空間6aおよび6bを、2連式カバー6°に
よりそれぞれを分離した状態で覆うようになっている。
3の各上方空間6aおよび6bを、2連式カバー6°に
よりそれぞれを分離した状態で覆うようになっている。
そして、連絡搬送路201(201°)は、空間6a、
6bの間を区画する隔壁63と2連式カバー6°の右側
の側壁62とを、それぞれ貫通するように設けられてい
る。
6bの間を区画する隔壁63と2連式カバー6°の右側
の側壁62とを、それぞれ貫通するように設けられてい
る。
このような構成の感光材料処理装置1゛にょれば、現像
液20と定着液30の双方の蒸散、劣化等が防止される
とともに、2つの空間6aおよび6bが隔壁63により
分離されるため、前記と同様、現像液20の蒸気と定着
液30の蒸気との混合による析出物の発生が防止される
。
液20と定着液30の双方の蒸散、劣化等が防止される
とともに、2つの空間6aおよび6bが隔壁63により
分離されるため、前記と同様、現像液20の蒸気と定着
液30の蒸気との混合による析出物の発生が防止される
。
なお、第1図〜第3図に示す各構成例は、いずれも現像
槽、定着槽および水洗槽を並設したものであるが、処理
槽の構成および配置はこれに限定されない。 例えば、
現像槽に漂白槽、定着槽、漂白・定着槽、洗浄槽、安定
化槽、反転槽および水洗槽の内の適宜のものを適宜数組
み合せたもの等が可能である。
槽、定着槽および水洗槽を並設したものであるが、処理
槽の構成および配置はこれに限定されない。 例えば、
現像槽に漂白槽、定着槽、漂白・定着槽、洗浄槽、安定
化槽、反転槽および水洗槽の内の適宜のものを適宜数組
み合せたもの等が可能である。
また、使用される処理液は処理される感光材料に応じて
適宜変更される。
適宜変更される。
しかして、前述したシャッター手段の構成例を第4図〜
第7図に基づいて説明する。
第7図に基づいて説明する。
第4図に示すシャッター手段7は、カバー6(または6
°)の搬入口65の内側に向って円弧状断面の溝650
.650が対向して形成され、これらの溝650内に円
柱状(溝の径より若干小径)の遮蔽部材70が回動可能
に収納された構成のものである。
°)の搬入口65の内側に向って円弧状断面の溝650
.650が対向して形成され、これらの溝650内に円
柱状(溝の径より若干小径)の遮蔽部材70が回動可能
に収納された構成のものである。
この遮蔽部材70には感光材料Sが通過するためのスリ
ット71が形成されている。 このスリット71の幅は
、搬入口65の幅にほぼ等しいものとするのが好ましい
。
ット71が形成されている。 このスリット71の幅は
、搬入口65の幅にほぼ等しいものとするのが好ましい
。
遮蔽部材70は、通常はスリット71が搬入口65の感
光材料通過方向に対し所定角度θ傾斜した状態(第4図
中の点線で示す位置)で停止し、よって搬入口65を閉
止した状態となっている。 また、感光材料Sが搬入口
65を通過する際には、遮蔽部材70は、スリット71
が感光材料通過方向と平行になる状態まで回動しく第4
図中の実線で示す位置)、よって搬入口65が開放した
状態となり、感光材料Sの通過が可能となる。
光材料通過方向に対し所定角度θ傾斜した状態(第4図
中の点線で示す位置)で停止し、よって搬入口65を閉
止した状態となっている。 また、感光材料Sが搬入口
65を通過する際には、遮蔽部材70は、スリット71
が感光材料通過方向と平行になる状態まで回動しく第4
図中の実線で示す位置)、よって搬入口65が開放した
状態となり、感光材料Sの通過が可能となる。
このような遮蔽部材70の回動け、第5図に示す駆動手
段73により行われる。 遮蔽部材70の回転軸72の
一端は、駆動源であるロータリーソレノイド74のロー
ター回転軸に連結されている。
段73により行われる。 遮蔽部材70の回転軸72の
一端は、駆動源であるロータリーソレノイド74のロー
ター回転軸に連結されている。
ロータリーソレノイド74の端子は、リレースイッチ7
5を介して電源76に接続されている。 また、搬入口
65の近傍には感光材料Sの存在を検出するセンサー(
例えば、タッチリミットスイッチ)77が設置され、こ
のセンサー77はマイクロコンピュータ等を内蔵する制
御部78に接続されている。 この制御部78はリレー
スイッチ75とも接続されている。
5を介して電源76に接続されている。 また、搬入口
65の近傍には感光材料Sの存在を検出するセンサー(
例えば、タッチリミットスイッチ)77が設置され、こ
のセンサー77はマイクロコンピュータ等を内蔵する制
御部78に接続されている。 この制御部78はリレー
スイッチ75とも接続されている。
ロータリーソレノイド74は、通電時には内部のロータ
ーが所定角度、即ち前記スリット71の傾斜角θだけ回
動してその状態(搬入口65が開放状態)を維持しつづ
け、切電すると元の位置(搬入口65が閉止状態)に復
帰するよう作動するものである。
ーが所定角度、即ち前記スリット71の傾斜角θだけ回
動してその状態(搬入口65が開放状態)を維持しつづ
け、切電すると元の位置(搬入口65が閉止状態)に復
帰するよう作動するものである。
センサー77により感光材料Sの存在(搬入口65への
接近)が検出されているときには、制御部78によりリ
レースイッチ75がONとなるように制御し、これによ
りロータリーソレノイド74に通電されて遮蔽部材70
が第4図の実線で示す状態となり、搬入口65が開放す
る。
接近)が検出されているときには、制御部78によりリ
レースイッチ75がONとなるように制御し、これによ
りロータリーソレノイド74に通電されて遮蔽部材70
が第4図の実線で示す状態となり、搬入口65が開放す
る。
逆に、センサー77により感光材料Sの存在が検出され
ていないときには、制御部78によりリレースイッチ7
5がOFFとなるように制御し、これによりロータリー
ソレノイド74は切電されて遮蔽部材70が第4図の点
線で示す状態となり、搬入口65が閉止する。
ていないときには、制御部78によりリレースイッチ7
5がOFFとなるように制御し、これによりロータリー
ソレノイド74は切電されて遮蔽部材70が第4図の点
線で示す状態となり、搬入口65が閉止する。
このような構成とすることにより、感光材料Sの搬送と
シャッター手段7による搬入口65の開閉を同期的に行
うことができる。
シャッター手段7による搬入口65の開閉を同期的に行
うことができる。
なお、遮蔽部材70を回動させるための駆動手段と前述
した感光材料搬送用の駆動系とを共用した構成のもので
もよい。
した感光材料搬送用の駆動系とを共用した構成のもので
もよい。
第6図は、遮蔽部材70を回動するための駆動手段73
を必要としないシャッター手段の構成例を示す。
を必要としないシャッター手段の構成例を示す。
同図に示すシャッター手段8は、カバー6(または6゛
)の搬入口65の内側に向って円弧状断面の溝651が
形成されており、この溝651内には、断面がほぼ半円
形(溝の径より若干小径)の遮蔽部材80が収納された
構成のものである。
)の搬入口65の内側に向って円弧状断面の溝651が
形成されており、この溝651内には、断面がほぼ半円
形(溝の径より若干小径)の遮蔽部材80が収納された
構成のものである。
この遮蔽部材80は、回転軸81を有し、この回転軸8
1の両端は、それぞれ軸受(図示せず)を介してカバー
6(または6°)に軸支され、これにより遮蔽部材80
が溝651内で回動し得るようになっている。
1の両端は、それぞれ軸受(図示せず)を介してカバー
6(または6°)に軸支され、これにより遮蔽部材80
が溝651内で回動し得るようになっている。
遮蔽部材80は自由に回動することが可能となっており
、通常(感光材料Sの非通過時)はストッパ一部68に
当接した状態(第6図中の実線で示す位置)で停止し、
よって搬入口65を閉止した状態となっている。
、通常(感光材料Sの非通過時)はストッパ一部68に
当接した状態(第6図中の実線で示す位置)で停止し、
よって搬入口65を閉止した状態となっている。
また、図中矢印方向へ進行する感光材料Sが搬入口65
を通過する際には、遮蔽部材80は、その感光材料Sに
押圧されて図中反時計回りに所定角度回動しく第6図中
の点線で示す位置)、よって搬入口65が開放した状態
となり、感光材料Sの通過が可能となる。
を通過する際には、遮蔽部材80は、その感光材料Sに
押圧されて図中反時計回りに所定角度回動しく第6図中
の点線で示す位置)、よって搬入口65が開放した状態
となり、感光材料Sの通過が可能となる。
なお、カバー6の搬入口65付近には、感光材料Sを導
入し易いようにするためのテーパを設け、または、その
他のガイド等(図示せず)を設けておくのがよい。
入し易いようにするためのテーパを設け、または、その
他のガイド等(図示せず)を設けておくのがよい。
遮蔽部材80を回動させる手段、特に感光材料の非通過
時に遮蔽部材80をストッパ一部68に当接した状態に
維持してお(手段としては、遮蔽部材80の回転軸81
の一端部にアーム82を固着し、このアーム82の先端
に重り83を取り付けた構造とし、これにより回転軸8
1に図中時計回りのトルクを与え、遮蔽部材80の平坦
面端部をストッパ一部68に当接、密着させる。
時に遮蔽部材80をストッパ一部68に当接した状態に
維持してお(手段としては、遮蔽部材80の回転軸81
の一端部にアーム82を固着し、このアーム82の先端
に重り83を取り付けた構造とし、これにより回転軸8
1に図中時計回りのトルクを与え、遮蔽部材80の平坦
面端部をストッパ一部68に当接、密着させる。
感光材料Sが搬入口65を通過する際には、感光材料S
の押圧により回転軸81に付与されたトルクに抗して遮
蔽部材80が図中反時計回りに回動し、搬入口65が開
放する。
の押圧により回転軸81に付与されたトルクに抗して遮
蔽部材80が図中反時計回りに回動し、搬入口65が開
放する。
感光材料Sが搬入口65を通過した後は、回転軸81に
付与された重り83によるトルクによって、再び遮蔽部
材80が図中時計回りに回動し、ストッパ一部68に当
接して搬入口65が閉止される。
付与された重り83によるトルクによって、再び遮蔽部
材80が図中時計回りに回動し、ストッパ一部68に当
接して搬入口65が閉止される。
なお、遮蔽部材80を回動させる手段は、上記構成に限
らず、バネ等の付勢手段により回転軸81に回転力を与
えるような構成としてもよい。
らず、バネ等の付勢手段により回転軸81に回転力を与
えるような構成としてもよい。
第7図は、変形可能な遮蔽部材で構成されたシャッター
手段9を示す。 同図に示すように、カバー6(または
6゛)に形成された搬入口65には、この搬入口の長さ
(感光材料Sの幅方向の長さ)とほぼ等しい長さを有す
る一対の遮蔽部材90.90が装着されている。
手段9を示す。 同図に示すように、カバー6(または
6゛)に形成された搬入口65には、この搬入口の長さ
(感光材料Sの幅方向の長さ)とほぼ等しい長さを有す
る一対の遮蔽部材90.90が装着されている。
遮蔽部材90は、実質的に変形しないフランジ部91と
、先端へ向って厚さが漸減し、感光材料Sの進入によっ
て容易に変形可能な薄肉部92とで構成され、遮蔽部材
9oは、そのフランジ部91にて例えばボルト93等の
固定具により搬入口65の対向する両縁部69.69に
取り付けられている。
、先端へ向って厚さが漸減し、感光材料Sの進入によっ
て容易に変形可能な薄肉部92とで構成され、遮蔽部材
9oは、そのフランジ部91にて例えばボルト93等の
固定具により搬入口65の対向する両縁部69.69に
取り付けられている。
この遮蔽部材90は、例えばNR1lR1SBR,BR
,CR,NBR,NIRlNBIRのようなジエン系ゴ
ム、IIRlEPM、EPDM、U、Q、CM等の非ジ
エン系ゴム等の各種ゴム、フッソ樹脂、シリコーン樹脂
、テフロン等の軟質樹脂等の弾性材料(エラストマー)
、またはこれらのうち2以上を組み合せたもので構成さ
れており、感光材料Sの非搬送時には、薄肉部92の先
端部同士が密着し、搬入口65を遮蔽する。
,CR,NBR,NIRlNBIRのようなジエン系ゴ
ム、IIRlEPM、EPDM、U、Q、CM等の非ジ
エン系ゴム等の各種ゴム、フッソ樹脂、シリコーン樹脂
、テフロン等の軟質樹脂等の弾性材料(エラストマー)
、またはこれらのうち2以上を組み合せたもので構成さ
れており、感光材料Sの非搬送時には、薄肉部92の先
端部同士が密着し、搬入口65を遮蔽する。
なお、通常、薄肉部92間士の密着力は、薄肉部の弾性
力により与えられているが、薄肉部92内に磁性材料を
配合しく例えばゴム磁石のようなもの)、薄肉部同士を
吸引させて密着力を与え、または高めることも可能であ
る。
力により与えられているが、薄肉部92内に磁性材料を
配合しく例えばゴム磁石のようなもの)、薄肉部同士を
吸引させて密着力を与え、または高めることも可能であ
る。
第7図に示すように、感光材料Sが搬入口65を通過す
る際には、感光材料Sが遮蔽部材90.90の薄肉部9
2.92間に進入し、密着していた薄肉部92.92が
感光材料Sの厚さ分だけ押し広げられる。
る際には、感光材料Sが遮蔽部材90.90の薄肉部9
2.92間に進入し、密着していた薄肉部92.92が
感光材料Sの厚さ分だけ押し広げられる。
この状態で感光材料Sは、その両面が薄肉部92.92
の内側面に接触しつつ図中矢印方向へ通過する。 この
とき、感光材料Sは、その両薄肉部の内側面に接触しつ
つ通過するため、感光材料の通過中においても、搬入口
65を境いに空間6aと外部とが連通せず、よって、処
理液20の蒸発、温度低下および変質、劣化を防止する
効果が高い。
の内側面に接触しつつ図中矢印方向へ通過する。 この
とき、感光材料Sは、その両薄肉部の内側面に接触しつ
つ通過するため、感光材料の通過中においても、搬入口
65を境いに空間6aと外部とが連通せず、よって、処
理液20の蒸発、温度低下および変質、劣化を防止する
効果が高い。
なお、感光材料Sの乳剤面は、薄肉部92との摺動によ
るもキズ付き等の悪影響はほとんど生じないが、これが
無視できない場合、または、摺動抵抗の減少を図る場合
には、薄肉部92の内側面に平滑化処理を施し、または
、内側面にシリコーン、テフロン等の潤滑剤をコーティ
ングする等の表面処理を施すことで対応すればよい。
るもキズ付き等の悪影響はほとんど生じないが、これが
無視できない場合、または、摺動抵抗の減少を図る場合
には、薄肉部92の内側面に平滑化処理を施し、または
、内側面にシリコーン、テフロン等の潤滑剤をコーティ
ングする等の表面処理を施すことで対応すればよい。
感光材料Sが搬入口65を通過した後は、遮蔽部材90
は元の状態に復帰し、薄肉部材92同士が密着して再び
搬入口65を遮蔽する。
は元の状態に復帰し、薄肉部材92同士が密着して再び
搬入口65を遮蔽する。
なお、図示の構成例では、搬入口65に対して一対の遮
蔽部材90を装着した構成となっているが、本発明では
搬入口65に対し感光材料Sの進行方向に沿って二対以
上の遮蔽部材を多段に設置することもできる。 この場
合には搬入口65の遮蔽効果が増す。
蔽部材90を装着した構成となっているが、本発明では
搬入口65に対し感光材料Sの進行方向に沿って二対以
上の遮蔽部材を多段に設置することもできる。 この場
合には搬入口65の遮蔽効果が増す。
なお、第6図および第7図に示すシャッター手段は、第
4図のものと比べ、遮蔽部材を回動するための駆動源や
その制御手段等が不要となるため、装置の構造をより簡
素化することができる。
4図のものと比べ、遮蔽部材を回動するための駆動源や
その制御手段等が不要となるため、装置の構造をより簡
素化することができる。
なお、シャッター手段の構成は上述したものに限定され
ないことは言うまでもない。
ないことは言うまでもない。
また、本発明ではシャッター手段の設置は必須な条件で
はないが、シャッター手段を設置しない場合には、処理
液の蒸発等を防止するために搬入口65を狭幅のスリッ
ト状とする等、搬入口65の開口面積を可能な限り小さ
(することが必要となる。
はないが、シャッター手段を設置しない場合には、処理
液の蒸発等を防止するために搬入口65を狭幅のスリッ
ト状とする等、搬入口65の開口面積を可能な限り小さ
(することが必要となる。
ところで、シャッター手段7.8または9を設置したと
しても、空間6aは完全に密閉されるわけではない。
そこで、本発明では、空間6aの密閉度を次のように設
定するのが好ましい。
しても、空間6aは完全に密閉されるわけではない。
そこで、本発明では、空間6aの密閉度を次のように設
定するのが好ましい。
即ち、カバー6により囲まれる空間6aの体積を■、そ
の空間と外部とが連通ずる部分(主に搬入口65)の実
質開口面積をSとしたとき、その空間の密閉度S (c
m”)/V (Cm”)を、S (0m2)/V (C
m3)≦0.060、より好ましくは、O≦S (0m
2)/V (cm”)≦0.006とする。
の空間と外部とが連通ずる部分(主に搬入口65)の実
質開口面積をSとしたとき、その空間の密閉度S (c
m”)/V (Cm”)を、S (0m2)/V (C
m3)≦0.060、より好ましくは、O≦S (0m
2)/V (cm”)≦0.006とする。
また、観点を変えれば、空間6aの密閉度は、その空間
の処理体止時における1時間当りの空気交換率Xを、2
50X100%以下、より好ましくは0〜10×100
%とする。
の処理体止時における1時間当りの空気交換率Xを、2
50X100%以下、より好ましくは0〜10×100
%とする。
なお、密閉度を上記いずれかの範囲とすることによって
、上記した本発明の作用、効果を十分に得ることができ
る。
、上記した本発明の作用、効果を十分に得ることができ
る。
本発明に係る感光材料処理装置は、黒白現像処理にも、
カラー現像処理にも適用される。
カラー現像処理にも適用される。
黒白現像液としては、ジヒドロキシベンゼン類(例えば
ハイドロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例
えばN−メチル−p−アミノフェノール)等の現像主薬
を単独あるいは組合わせて用いることができる。
ハイドロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例
えばN−メチル−p−アミノフェノール)等の現像主薬
を単独あるいは組合わせて用いることができる。
黒白現像処理の中でも、本発明の処理装置は米国特許筒
4,224,401号、同第4,168.977号、同
第4,166.742号、同第4,311,781号、
同第4,272゜606号、同第4,211,857号
、同第4.243,739号等に記載されているヒドラ
ジン誘導体を用いて超硬調の画像を得る方法に適用する
のが特に好適である。
4,224,401号、同第4,168.977号、同
第4,166.742号、同第4,311,781号、
同第4,272゜606号、同第4,211,857号
、同第4.243,739号等に記載されているヒドラ
ジン誘導体を用いて超硬調の画像を得る方法に適用する
のが特に好適である。
この超硬調画像形成方法においては、現像主薬としてジ
ヒドロキシベンゼン系現像主薬を用い、補助現像主薬と
してp−アミノフェノール系現像主薬または3−ピラゾ
リドン系現像主薬を用いるのが好ましい。
ヒドロキシベンゼン系現像主薬を用い、補助現像主薬と
してp−アミノフェノール系現像主薬または3−ピラゾ
リドン系現像主薬を用いるのが好ましい。
ジヒドロキシベンゼン系現像主薬は、通常0.05〜0
.8モル/ρの量で用いられるのが好ましい。
.8モル/ρの量で用いられるのが好ましい。
また、ジヒドロキシベンゼン類と1−フェニル−3−ピ
ラゾリドン類またはp−アミノフェノール類との組合わ
せを用いる場合には、前者を0.05〜0.5モル/I
2.、後者を0.06モル/ρ以下の量で用いるのが好
ましい。
ラゾリドン類またはp−アミノフェノール類との組合わ
せを用いる場合には、前者を0.05〜0.5モル/I
2.、後者を0.06モル/ρ以下の量で用いるのが好
ましい。
上記超硬調画像形成方法に用いられる現像液の特長の1
つは、従来のリス現像液に比べて多量の亜硫酸塩保恒剤
の添加を許容しうることである。
つは、従来のリス現像液に比べて多量の亜硫酸塩保恒剤
の添加を許容しうることである。
亜硫酸塩保恒剤としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カ
リウム、亜硫酸リチウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重
亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウム
等がある。
リウム、亜硫酸リチウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重
亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウム
等がある。
亜硫酸塩は0.3モル/℃以上用いられるが、余りに多
量添加すると現像液中で沈殿して液汚染を引き起こすの
で、上限は12モル/℃とするのが好ましい。
量添加すると現像液中で沈殿して液汚染を引き起こすの
で、上限は12モル/℃とするのが好ましい。
また、この現像液には現像促進剤として第三級アミン化
合物、特に米国特許第4,269゜929号に記載の化
合物を含有することができる。
合物、特に米国特許第4,269゜929号に記載の化
合物を含有することができる。
現像液にはその他、ホウ酸、ホウ砂、第三リン酸ナトリ
ウム、第三リン酸カリウムの如きpH緩衝剤、それ以外
に特開昭60−93433号に記載のpH緩衝剤を用い
ることができる。
ウム、第三リン酸カリウムの如きpH緩衝剤、それ以外
に特開昭60−93433号に記載のpH緩衝剤を用い
ることができる。
:臭化カリウム、沃化カリウムの如き現像抑制剤:エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ジメチルホルムアミド、メチルセロソルブ
、ヘキシレングリコール、エタノール、メタノールの如
き有機溶剤;5−ニトロインダゾール等のインダゾール
系化合物、2−メルカプトベンツイミダゾール−5−ス
ルホン酸ナトリウム、5−メチルベンツトリアゾールな
どのベンツトリアゾール系化合物等のカブリ防止剤ない
しは黒ボッ(black pepper)防止剤:を含
んでもよく、特に5−ニトロインダゾール等の化合物を
用いるときは、ジヒドロキシベンゼン系現像主薬や亜硫
酸塩保恒剤を含む部分とは別の部分にあらかじめ溶解し
ておき使用時に画部分を混合して水を加えること等が一
般的である。
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ジメチルホルムアミド、メチルセロソルブ
、ヘキシレングリコール、エタノール、メタノールの如
き有機溶剤;5−ニトロインダゾール等のインダゾール
系化合物、2−メルカプトベンツイミダゾール−5−ス
ルホン酸ナトリウム、5−メチルベンツトリアゾールな
どのベンツトリアゾール系化合物等のカブリ防止剤ない
しは黒ボッ(black pepper)防止剤:を含
んでもよく、特に5−ニトロインダゾール等の化合物を
用いるときは、ジヒドロキシベンゼン系現像主薬や亜硫
酸塩保恒剤を含む部分とは別の部分にあらかじめ溶解し
ておき使用時に画部分を混合して水を加えること等が一
般的である。
さらに、5−ニトロインダゾールの溶解せしめる部分を
アルカリ性にしておくと黄色く着色し、取扱い等に便利
である。
アルカリ性にしておくと黄色く着色し、取扱い等に便利
である。
さらに、必要に応じて色調・剤、界面活性剤、硬水軟化
剤、硬膜剤などを含んでもよい。
剤、硬膜剤などを含んでもよい。
現像液のpHとしては、好ましくはpH9,5以上の高
pHのもの、より好ましくは10〜12.3である。
pHのもの、より好ましくは10〜12.3である。
定着液としては、一般に用いられている組成のものを用
いることができる。 定着剤としては、チオ硫酸塩、チ
オシアン酸塩の他、定着剤としての効果が知られている
有機硫黄化合物を用いることができる。
いることができる。 定着剤としては、チオ硫酸塩、チ
オシアン酸塩の他、定着剤としての効果が知られている
有機硫黄化合物を用いることができる。
定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウム塩、例えば
硫酸アルミニウム、明パンなどを含んでもよい。 ここ
で水溶性アルミニウム塩の量としては、通常O〜3.O
gAβ/ρである。 また酸化剤としてエチレンジアミ
ン四酢酸鉄(III )錯塩を用いてもよい。
硫酸アルミニウム、明パンなどを含んでもよい。 ここ
で水溶性アルミニウム塩の量としては、通常O〜3.O
gAβ/ρである。 また酸化剤としてエチレンジアミ
ン四酢酸鉄(III )錯塩を用いてもよい。
カラー現像液は、一般に発色現像主薬を含むアルカリ性
水溶液から構成される。
水溶液から構成される。
発色現像主薬は、−級芳香族アミン現像剤、例えばフェ
ニレンジアミン類(例えば4−アミノ−N、N−ジエチ
ルアニリン、3−メチル4−アミノ−N、N−ジエチル
アニリン、4アミノ−N−エチル−N−β−ヒドロキシ
エチルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N−エチル
−N−β−ヒドロキシエチルアニリン、3−メチル−4
−アミノ−N−エチル−Nβ−メタンスルホンアミドエ
チルアニリン、4−アミノ−3−メチル−N−エチル−
N−〇−メトキシエチルアニリン等)を用いることがで
きる。
ニレンジアミン類(例えば4−アミノ−N、N−ジエチ
ルアニリン、3−メチル4−アミノ−N、N−ジエチル
アニリン、4アミノ−N−エチル−N−β−ヒドロキシ
エチルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N−エチル
−N−β−ヒドロキシエチルアニリン、3−メチル−4
−アミノ−N−エチル−Nβ−メタンスルホンアミドエ
チルアニリン、4−アミノ−3−メチル−N−エチル−
N−〇−メトキシエチルアニリン等)を用いることがで
きる。
発色現像液は、そのほかpH緩衝剤、現像抑制剤ないし
カブリ防止剤等を含むことができる。
カブリ防止剤等を含むことができる。
また必要に応じて、硬水軟化剤、保恒剤、有機溶剤、現
像促進剤、色素形成カプラー、競争カプラー、かぶらせ
剤、補助現像薬、粘性付与剤、ポリカルボン酸系キレー
ト剤、酸化防止剤、アルカリ剤、溶解助剤、界面活性剤
、消泡剤等を含んでいてもよい。
像促進剤、色素形成カプラー、競争カプラー、かぶらせ
剤、補助現像薬、粘性付与剤、ポリカルボン酸系キレー
ト剤、酸化防止剤、アルカリ剤、溶解助剤、界面活性剤
、消泡剤等を含んでいてもよい。
漂白液としては、漂白剤としてポリカルボン酸の鉄塩、
赤血塩、ブロメート化合物、コバルトへキサミン等を含
むものが挙げられる。
赤血塩、ブロメート化合物、コバルトへキサミン等を含
むものが挙げられる。
これらのうち、フェリシアン化カリ、エチレンジアミン
四酢酸鉄(II)ナトリウムおよびエチレンジアミン四
酢酸鉄(II+ )アンモニウムは特に有用である。
四酢酸鉄(II)ナトリウムおよびエチレンジアミン四
酢酸鉄(II+ )アンモニウムは特に有用である。
また、上記漂白剤および定着剤の双方を含む漂白・定着
液とすることもできる。
液とすることもできる。
定着液(漂白・定着液)には、定着剤の他に、通常、亜
硫酸ナトリウム等の保恒剤、酸剤、緩衝剤、硬膜剤など
の定着助剤を含有させることができる。
硫酸ナトリウム等の保恒剤、酸剤、緩衝剤、硬膜剤など
の定着助剤を含有させることができる。
また、漂白液(漂白・定着液)には、米国特許第3,0
42,520号、同第3,241゜966号、特公昭4
5−8506号、特公昭45−8636号などに記載の
漂白促進剤、特開昭53−65732号に記載のチオー
ル化合物の他、種々の添加剤を加えることもできる。
42,520号、同第3,241゜966号、特公昭4
5−8506号、特公昭45−8636号などに記載の
漂白促進剤、特開昭53−65732号に記載のチオー
ル化合物の他、種々の添加剤を加えることもできる。
洗浄水としては、水(水道水、蒸留水、イオン交換水等
)またはこの水に必要に応じて添加剤を含有させること
ができる。
)またはこの水に必要に応じて添加剤を含有させること
ができる。
この添加剤は、例えば、無機リン酸、アミノポリカルボ
ン酸、有機リン酸等のキレート剤、各種バクテリアや藻
の増殖を防止する殺菌剤、防ばい剤、マグネシウム塩、
アルミニウム塩等の硬膜剤、乾燥負荷、ムラを防止する
ための界面活性剤等が挙げられる。 または、L、EW
est、 ”Water Quality Cr1te
ria”Phot、Sci、andEng、、vol、
9 No、6 P344−359(1965)等に記載
の化合物を用いることもできる。
ン酸、有機リン酸等のキレート剤、各種バクテリアや藻
の増殖を防止する殺菌剤、防ばい剤、マグネシウム塩、
アルミニウム塩等の硬膜剤、乾燥負荷、ムラを防止する
ための界面活性剤等が挙げられる。 または、L、EW
est、 ”Water Quality Cr1te
ria”Phot、Sci、andEng、、vol、
9 No、6 P344−359(1965)等に記載
の化合物を用いることもできる。
安定液としては、色素画像を安定化する処理液が用いら
れる。 例えば、pH3〜6の緩衝能を有する液、アル
デヒド(例えば、ホルマリン)を含有した液などを用い
ることができる。 安定液には、必要に応じて蛍光増白
剤、キレート剤、殺菌剤、防ばい剤、硬膜剤、界面活性
剤等を用いることができる。
れる。 例えば、pH3〜6の緩衝能を有する液、アル
デヒド(例えば、ホルマリン)を含有した液などを用い
ることができる。 安定液には、必要に応じて蛍光増白
剤、キレート剤、殺菌剤、防ばい剤、硬膜剤、界面活性
剤等を用いることができる。
本発明の感光材料処理装置に適用される感光材料の種類
は特に限定されず、例えば、カラーネガフィルム、カラ
ー反転フィルム、カラー印画紙、カラーポジフィルム、
カラー反転印画紙、製版用写真感光材料、X線写真感光
材料、黒白ネガフィルム、黒白印画紙、マイクロ用感光
材料等、各種感光材料が挙げられる。
は特に限定されず、例えば、カラーネガフィルム、カラ
ー反転フィルム、カラー印画紙、カラーポジフィルム、
カラー反転印画紙、製版用写真感光材料、X線写真感光
材料、黒白ネガフィルム、黒白印画紙、マイクロ用感光
材料等、各種感光材料が挙げられる。
なお、本発明の感光材料処理装置は、例えば、湿式の複
写機、自動現像機、プリンタープロセッサー、ビデオプ
リンタープロセッサー写真プリント作成コインマシーン
、検版用カラーペーパー処理機等の各種感光材料処理装
置に適用することができる。
写機、自動現像機、プリンタープロセッサー、ビデオプ
リンタープロセッサー写真プリント作成コインマシーン
、検版用カラーペーパー処理機等の各種感光材料処理装
置に適用することができる。
以上、本発明の構成例を挙げて説明したが、本発明は、
これらに限定されるものではないことは言うまでもない
。
これらに限定されるものではないことは言うまでもない
。
〈実験例〉
以下、本発明の実験例について説明する。
(本発明1.2および3)
第1図、第2図および第3図に示す構造の各自動現像機
を用い、感光材料を処理した。 その条件は次の通りで
ある。
を用い、感光材料を処理した。 その条件は次の通りで
ある。
〈自動現像機の仕様〉
1)現像槽、定着槽および水洗槽の3槽構造2)処理液
液量は、各種ともに12.543)装置稼動時の空気接
触液面積は、各種ともに20000m” 4)シャッター手段は、第4図〜第6図に示す構造 5)処理液温度 現像液:34℃ 定着液=32〜33℃ 洗浄液:14〜18℃ 6)カバーの密閉性 空間6aの体積V=4500cm3 搬入口65の実質開口面積S = 20 cm2S/V
=0.0045 空間6aの1時間当たりの空気交換率 X=約1×100% 7)連絡搬送路の構成 材質二上側/透明アクリル樹脂 下側/5US316系板 中空通路の厚さ: 0.5cm(本発明例1および3) 現像槽側10.5cm、 定着槽側10.3cm(本発明例2) 中空通路外周面の表面処理: 下側SUS板にテフロンコーティング 〈稼動モード〉 1)24時間連続テストランニング 2)テスト環境は常温、常温 3)大金サイズの感光材料を1枚処理 4)感光材料搬送速度は22 、5 mm/sec〈感
光材料〉 2.5モル%の沃化物を含有する0、 3.mの立方体
沃臭化銀乳剤に、アンヒドロ−5,5ジクロロ−9−エ
チル−3,3°−ビス(3スルホプロピル)オキサカル
ボシアニンヒドロキシド・ナトリウム塩(増感色素)を
230mg/銀1モル、ヒドラジン誘導体を1.3g/
銀1モルおよびポリエチレングリコール(分子量的10
00)を300 mg/銀1銀山モル、さらに5−メチ
ルベンツトリアゾール、4−ヒドロキシ−6−メチル−
133a7−テトラザインデン、ポリエチルアクリレー
トの分散物および2−ヒドロキシ−1,3,5トリアジ
ンナトリウム塩を加えた。 このようにして調製した塗
布液をポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上に
銀塗布量が4.0g / m 2、ゼラチン塗布量が2
.5g/m2になるように塗布し、乾燥してフィルムを
得た。
液量は、各種ともに12.543)装置稼動時の空気接
触液面積は、各種ともに20000m” 4)シャッター手段は、第4図〜第6図に示す構造 5)処理液温度 現像液:34℃ 定着液=32〜33℃ 洗浄液:14〜18℃ 6)カバーの密閉性 空間6aの体積V=4500cm3 搬入口65の実質開口面積S = 20 cm2S/V
=0.0045 空間6aの1時間当たりの空気交換率 X=約1×100% 7)連絡搬送路の構成 材質二上側/透明アクリル樹脂 下側/5US316系板 中空通路の厚さ: 0.5cm(本発明例1および3) 現像槽側10.5cm、 定着槽側10.3cm(本発明例2) 中空通路外周面の表面処理: 下側SUS板にテフロンコーティング 〈稼動モード〉 1)24時間連続テストランニング 2)テスト環境は常温、常温 3)大金サイズの感光材料を1枚処理 4)感光材料搬送速度は22 、5 mm/sec〈感
光材料〉 2.5モル%の沃化物を含有する0、 3.mの立方体
沃臭化銀乳剤に、アンヒドロ−5,5ジクロロ−9−エ
チル−3,3°−ビス(3スルホプロピル)オキサカル
ボシアニンヒドロキシド・ナトリウム塩(増感色素)を
230mg/銀1モル、ヒドラジン誘導体を1.3g/
銀1モルおよびポリエチレングリコール(分子量的10
00)を300 mg/銀1銀山モル、さらに5−メチ
ルベンツトリアゾール、4−ヒドロキシ−6−メチル−
133a7−テトラザインデン、ポリエチルアクリレー
トの分散物および2−ヒドロキシ−1,3,5トリアジ
ンナトリウム塩を加えた。 このようにして調製した塗
布液をポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上に
銀塗布量が4.0g / m 2、ゼラチン塗布量が2
.5g/m2になるように塗布し、乾燥してフィルムを
得た。
このフィルムに150線マゼンタコンタクトスクリーン
を用いてセンシトメトリー用露光つエツジを通して露光
した。
を用いてセンシトメトリー用露光つエツジを通して露光
した。
〈処理液処方〉
■現像液組成 (現像液1β当りの添加量)ハイドロ
キノン 50.0gN−メチル−p−
アミノフェ ノール1/2H2SO20,3g 水酸化ナトリウム 18.0g5−スル
ホサリチル酸 55.0g亜硫酸カリウム
110.0gエチレンジアミン四酢酸二 ナトリウム 1.0g臭化カリウ
ム 10.0g5−メチルベンツト
リアゾール 0.4g2−メルカプトベンツイミダ ゾール−5−スルホン酸 0.2g3−(5−
メルカプトテトラ ゾール)ベンゼンスルホン酸 ナトリウム 0.2gC,H。
キノン 50.0gN−メチル−p−
アミノフェ ノール1/2H2SO20,3g 水酸化ナトリウム 18.0g5−スル
ホサリチル酸 55.0g亜硫酸カリウム
110.0gエチレンジアミン四酢酸二 ナトリウム 1.0g臭化カリウ
ム 10.0g5−メチルベンツト
リアゾール 0.4g2−メルカプトベンツイミダ ゾール−5−スルホン酸 0.2g3−(5−
メルカプトテトラ ゾール)ベンゼンスルホン酸 ナトリウム 0.2gC,H。
\
トルエンスルホン酸ナトリウム 8.0g水を加え
て 1で 水酸化カリウムを加えてpHを11.8に調製 ■定着液 チオ硫酸アンモニウム 180gチオ硫酸ナ
トリウム・5水塩 45g亜硫酸ナトリウム
18gニトリロトリ酢酸
0.4g酒石酸 4g
氷酢酸 30g硫酸アルミニ
ウム 8g水を加えて II2 アンモニアを加えてpHを4.7に調製■洗浄水 水道水 (比較例1) 第8図に示すカバーを設けない同型の自動現像機を用い
、上記本発明例1〜3と同様の条件で感光材料の処理を
行った。
て 1で 水酸化カリウムを加えてpHを11.8に調製 ■定着液 チオ硫酸アンモニウム 180gチオ硫酸ナ
トリウム・5水塩 45g亜硫酸ナトリウム
18gニトリロトリ酢酸
0.4g酒石酸 4g
氷酢酸 30g硫酸アルミニ
ウム 8g水を加えて II2 アンモニアを加えてpHを4.7に調製■洗浄水 水道水 (比較例1) 第8図に示すカバーを設けない同型の自動現像機を用い
、上記本発明例1〜3と同様の条件で感光材料の処理を
行った。
(比較例2)
第9図に示す構造のカバーを装着した同型の自動現像機
を用い、上記本発明例1〜3と同様の条件で感光材料の
処理を行った。
を用い、上記本発明例1〜3と同様の条件で感光材料の
処理を行った。
本発明の例1〜3と比較例1および2について、処理液
の空気酸化、濃縮度および析出の発生状況を調べた。
その結果を表1に示す。
の空気酸化、濃縮度および析出の発生状況を調べた。
その結果を表1に示す。
なお、各項目の評価は次の通りである。
[空気酸化]
処理液の酸化の度合を示す。
表1中の数値は、スタート時のpHと24時間経過後の
pnの差分△pHを示す。 △pHが小であるほど酸化
が少ない。
pnの差分△pHを示す。 △pHが小であるほど酸化
が少ない。
[濃縮度コ
処理液中の水分の蒸発量の原処方に対する重量比で示す
。 この値が小であるほど処理液は濃縮されていないこ
ととなる。
。 この値が小であるほど処理液は濃縮されていないこ
ととなる。
[析出の発生状況]
処理後、カバー、ガイド、ローラ、槽壁等に発生した析
出物の量を調べ、下記A、B、Cの3段階で評価した。
出物の量を調べ、下記A、B、Cの3段階で評価した。
A・・・全(なし
B・・・少しあり
C・・・かなりあり
上記表1に示すように、本発明例1〜3は、いずれも処
理液、特に現像液の酸化および濃縮はほとんどなく、し
かも析出の発生も皆無である。
理液、特に現像液の酸化および濃縮はほとんどなく、し
かも析出の発生も皆無である。
これに対し、比較例1では、現像液の酸化および濃縮が
あり、また、カバーを有する比較例2では、現像液の酸
化および濃縮はないものの、大量の析出物が発生してい
る。
あり、また、カバーを有する比較例2では、現像液の酸
化および濃縮はないものの、大量の析出物が発生してい
る。
〈発明の効果〉
本発明の感光材料処理装置によれば、カバーの設置によ
り、設計上の制約等を受けることなく、処理液、特に現
像機能を有する処理液の蒸発、温度低下および変質、劣
化を防止することができる。
り、設計上の制約等を受けることなく、処理液、特に現
像機能を有する処理液の蒸発、温度低下および変質、劣
化を防止することができる。
しかも、隣接処理槽間に感光材料の連絡通路を設置した
ことにより、簡易な構造で、異種処理液の蒸気の混合に
よる析出物の発生を防止することができる。
ことにより、簡易な構造で、異種処理液の蒸気の混合に
よる析出物の発生を防止することができる。
第1図は、本発明の感光材料処理装置の構成例を模式的
に示す断面正面図である。 第2図は、本発明に係る連絡搬送路の他の構成例を示す
部分断面正面図である。 第3図は、本発明の感光材料処理装置の他の構成例を示
す断面正面図である。 第4図および第5図は、それぞれ本発明の感光材料処理
装置に用いられるシャッター手段の構成例を示す断面側
面図および正面図である。 第6図および第7図は、それぞれシャッター手段の他の
構成例を示す断面側面図である。 第8図は、従来の液面開放型の感光材料処理装置を示す
断面正面図である。 第9図および第10図は、それぞれ比較例の感光材料処
理装置の構成を示す断面正面図である。 符号の説明 1.1°・・・感光材料処理装置 2・・・現像槽 20・・・現像液 3・・・定着槽 30・・・定着液 4・・・水洗槽 40・・・洗浄水 5・・・搬送手段 51.511.512・・・搬送ローラ52・・・クロ
スオーバローラ 53・・・ガイド 54・・・反転ガイド 6・・・カバー 6°・・・2連式カバー 6a、6b・・・空間 60.61.62・・・側壁 63・・・隔壁 65・・・搬入口 650.651・・・溝 66・・・通過口 68・・・ストッパ一部 69・・・縁部 7.8.9・・・シャッター手段 70.80.90・・・遮蔽部材 71・・・スリット 72・・・回転軸 73・・・駆動手段 74・・・ロータリーソレノイド 75・・・リレースイッチ 76・・・電源 77・・・センサー 78・・・制御部 81・・・回転軸 82・・・アーム 83・・・重り 91・・・フランジ部 92・・・薄肉部 93・・・ボルト 100.102・・・感光材料処理装置201.201
°・・・連絡搬送路 202・・・中空通路 203.204. 206・・・中空通路 207・・・外周側内壁面 S・・・感光材料 205・・・開口部 F I G、4 F I G、 6 FIG、7
に示す断面正面図である。 第2図は、本発明に係る連絡搬送路の他の構成例を示す
部分断面正面図である。 第3図は、本発明の感光材料処理装置の他の構成例を示
す断面正面図である。 第4図および第5図は、それぞれ本発明の感光材料処理
装置に用いられるシャッター手段の構成例を示す断面側
面図および正面図である。 第6図および第7図は、それぞれシャッター手段の他の
構成例を示す断面側面図である。 第8図は、従来の液面開放型の感光材料処理装置を示す
断面正面図である。 第9図および第10図は、それぞれ比較例の感光材料処
理装置の構成を示す断面正面図である。 符号の説明 1.1°・・・感光材料処理装置 2・・・現像槽 20・・・現像液 3・・・定着槽 30・・・定着液 4・・・水洗槽 40・・・洗浄水 5・・・搬送手段 51.511.512・・・搬送ローラ52・・・クロ
スオーバローラ 53・・・ガイド 54・・・反転ガイド 6・・・カバー 6°・・・2連式カバー 6a、6b・・・空間 60.61.62・・・側壁 63・・・隔壁 65・・・搬入口 650.651・・・溝 66・・・通過口 68・・・ストッパ一部 69・・・縁部 7.8.9・・・シャッター手段 70.80.90・・・遮蔽部材 71・・・スリット 72・・・回転軸 73・・・駆動手段 74・・・ロータリーソレノイド 75・・・リレースイッチ 76・・・電源 77・・・センサー 78・・・制御部 81・・・回転軸 82・・・アーム 83・・・重り 91・・・フランジ部 92・・・薄肉部 93・・・ボルト 100.102・・・感光材料処理装置201.201
°・・・連絡搬送路 202・・・中空通路 203.204. 206・・・中空通路 207・・・外周側内壁面 S・・・感光材料 205・・・開口部 F I G、4 F I G、 6 FIG、7
Claims (1)
- (1)現像機能を有する処理液が入った第1処理槽と、
該第1処理槽に隣接し、前記現像機能を有する処理液と
異なる組成の処理液が入った第2処理槽と、前記各処理
槽内で感光材料を所定経路に沿って搬送する搬送手段と
を有する感光材料処理装置であって、 少なくとも前記第1処理槽の上部空間を実質的に密閉し
得るカバーと、両端開口がそれぞれ前記第1および第2
処理槽の各処理液内に浸漬された感光材料の連絡搬送路
とを設置したことを特徴とする感光材料処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009289A JPH02199453A (ja) | 1989-01-30 | 1989-01-30 | 感光材料処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009289A JPH02199453A (ja) | 1989-01-30 | 1989-01-30 | 感光材料処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02199453A true JPH02199453A (ja) | 1990-08-07 |
Family
ID=12017468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009289A Pending JPH02199453A (ja) | 1989-01-30 | 1989-01-30 | 感光材料処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02199453A (ja) |
-
1989
- 1989-01-30 JP JP2009289A patent/JPH02199453A/ja active Pending
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