JPH0219967B2 - - Google Patents
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- JPH0219967B2 JPH0219967B2 JP15866485A JP15866485A JPH0219967B2 JP H0219967 B2 JPH0219967 B2 JP H0219967B2 JP 15866485 A JP15866485 A JP 15866485A JP 15866485 A JP15866485 A JP 15866485A JP H0219967 B2 JPH0219967 B2 JP H0219967B2
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- growth
- crystal
- solution
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- growth solution
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
- Recrystallisation Techniques (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は結晶成長方法に係り、特に、−属
など、化合物半導体の結晶成長方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a method for growing crystals, and particularly to a method for growing crystals of compound semiconductors such as - group semiconductors.
GaAsやInPなどの−属化合物半導体装置
は光通信マイクロ波デバイスに必須なものとなつ
ているが、化合物は性質の異なる2つ以上(多元
系)の元素の結合であるから、その結晶成長は大
変難しく、組成比の均一化も生易いことではな
い。 - Group compound semiconductor devices such as GaAs and InP have become essential for optical communication microwave devices, but since compounds are a combination of two or more elements with different properties (multi-element system), their crystal growth is difficult. It is very difficult, and it is not easy to make the composition ratio uniform.
しかし、半導体装置の高性能化のためには、こ
のような困難を排して、均一な組成をもつた良質
の結晶の成長が望まれている。 However, in order to improve the performance of semiconductor devices, it is desired to overcome these difficulties and grow high-quality crystals with a uniform composition.
[従来の技術と発明が解決しようとする問題点]
従来、多元系バルス結晶や多元系エピタキシヤ
ル結晶を得ようとする場合、高融点側の化合物を
構成する溶質元素が、成長が進行するにつれて成
長液中で枯涸してくるため、次第に結晶組成がず
れてきて、均一な組成をもつた結晶を成長するこ
とが難しいと云う問題がある。[Prior art and problems to be solved by the invention] Conventionally, when trying to obtain a multi-component bals crystal or a multi-component epitaxial crystal, the solute elements constituting the compound on the high melting point side are As the crystal dries up in the growth solution, the crystal composition gradually shifts, making it difficult to grow crystals with a uniform composition.
例えば、Gax、In1-xAs結晶では、高融点化合
物であるGaAsを構成する溶質元素のGaが、成長
の進行するにつれて成長液中で枯涸して、次第に
Ga成分の少ないGax In1-xAs結晶が成長し、均
一な組成の結晶に成長できない。 For example, in Gax, In 1-x As crystals, as the growth progresses, the solute element Ga that makes up GaAs, a high melting point compound, dries up in the growth solution and gradually
Gax In 1-x As crystals with low Ga content grow and cannot grow into crystals with uniform composition.
それは、多元素バルク結晶を成長させるための
引上げ成長法でも、また、多元系エピタキシヤル
結晶を成長させるための液相エピタキシヤル成長
法においても同じである。 The same applies to the pull growth method for growing multi-element bulk crystals and the liquid phase epitaxial growth method for growing multi-element epitaxial crystals.
第4図は従来の引上げ成長法(バルク結晶の成
長法)の概要図を示しており、1は容器(坩堝)、
2は成長液、3は種結晶、4は酸化硼素(B2O3)
膜は、5は回転引上げ棒、6は加熱体で、B2O3
膜4は成長液から蒸発する揮発分を抑えるための
被覆膜であり、このような成長法はLEC法
(liquid Encapsulated Czochalski method:液
封じ法)とも称されている。加熱体6で成長液2
を加熱し、種結晶3を回転引上げ棒5で回転しな
がら引き上げて、種結晶に所望の結晶を成長液2
から析出させる方法である。 Figure 4 shows a schematic diagram of the conventional pulling growth method (bulk crystal growth method), where 1 is a container (crucible);
2 is a growth solution, 3 is a seed crystal, 4 is boron oxide (B 2 O 3 )
5 is a rotating pulling rod, 6 is a heating element, and the membrane is made of B 2 O 3
The film 4 is a coating film for suppressing volatile matter evaporated from the growth solution, and this growth method is also called the LEC method (liquid encapsulated Czochalski method). Growth liquid 2 with heating element 6
is heated, the seed crystal 3 is pulled up while rotating with the rotating pulling rod 5, and the desired crystal is placed on the seed crystal in the growth solution 2.
This is a method of precipitating from.
その場合に、例えば、上記実施例では、成長液
2の中でGaが段々と少なくなつて、Gaの組成が
変化したGax In1-xAs結晶が成長する。 In that case, for example, in the above embodiment, Ga gradually decreases in the growth solution 2, and a Gax In 1- xAs crystal with a changed Ga composition grows.
尚、ここに、成長液とは成長用溶液と成長用融
液との両方を意味しており、溶液とは溶媒中に溶
質を溶かしたもので、また、融液とは溶媒と溶質
とが同一組成(例えば、InGaAsではIn+Gaの液
中の組成とAsの液中の組成とが同一である液)
の液のことである。本例では以下に、溶液を例に
とつて説明するが、融液の場合も全く同じであ
る。 The term "growth solution" here refers to both a solution for growth and a melt for growth. A solution is a solution in which a solute is dissolved in a solvent, and a melt is a solution in which a solute is dissolved in a solvent. Same composition (for example, in InGaAs, the composition of In + Ga and As are the same)
It refers to the liquid. This example will be explained below using a solution as an example, but the same applies to a melt.
上記のような欠点に鑑みて、先日、発明者は成
長結晶の組成の均一化を目的にした結晶成長方法
を提案した(特願昭58−171174号参照)。 In view of the above-mentioned drawbacks, the inventor recently proposed a crystal growth method aimed at uniformizing the composition of the grown crystal (see Japanese Patent Application No. 171174/1982).
第5図はその一例を図示しており、本例は引上
げ成長法の概要図である。第4図と同一部材には
同じ記号が付してあるが、容器のうち、11はボ
ロンナイトライド(BN:窒化硼素)からなる絶
縁体で、12はソース材料、13は成長液を保持
する容器を兼ねたカーボン電極、14はソース材
料に接続するカーボン電極である。かくして、カ
ーボン電極13を+電源S+に接続し、カーボン
電極14を−電源S-に接続して、成長液2から
ソース材料12の方向に直流電流を流して発熱さ
せ、その電流量に応じたソース材料を成長液に溶
解させる。 FIG. 5 shows an example of this, and this example is a schematic diagram of the pulling growth method. The same members as in Figure 4 are given the same symbols, but in the container, 11 is an insulator made of boron nitride (BN: boron nitride), 12 is a source material, and 13 is a container that holds a growth solution. A carbon electrode 14 also serves as a container and is connected to the source material. In this way, the carbon electrode 13 is connected to the + power source S + , the carbon electrode 14 is connected to the − power source S - , and a direct current is passed from the growth solution 2 toward the source material 12 to generate heat, and the amount of heat is generated according to the amount of current. Dissolve the source material in the growth solution.
そうすると、結晶の成長と共に、ソース材料が
成長液の中に溶解され、溶液組成の変化が少なく
なつて、成長結晶の組成が均一化される。且つ、
溶液から化合物ソースの方向に直流電流を流す
と、ソース材料自体の抵抗発熱(ジユール熱)に
よる加熱と、ソース材料と成長液との界面でのペ
ルチエ効果による発熱とが相乗して最も効率的に
加熱される。 Then, as the crystal grows, the source material is dissolved in the growth solution, reducing changes in the solution composition and making the composition of the grown crystal uniform. and,
When a direct current is passed from the solution to the compound source, the heating due to the resistance heat generation (Joule heat) of the source material itself and the heat generation due to the Peltier effect at the interface between the source material and the growth solution combine to produce the most efficient method. heated.
しかし、その一方、ソース材料から溶けた溶質
元素は、溶液中を移動して成長結晶(種結晶)に
到達する際、その溶質元素の移動がエレクトロマ
イグレーシヨンによる効果、濃度差による拡散効
果、比重差による対流効果(浮上効果)など、多
くの移動効果が組み合わさつた複雑な形態にな
り、この成長液中での溶質元素の移動状態を制御
することが大変に難しくなる。 However, on the other hand, when the solute element dissolved from the source material moves through the solution and reaches the growing crystal (seed crystal), the movement of the solute element is caused by electromigration effects, diffusion effects due to concentration differences, and specific gravity. This results in a complex form in which many movement effects, such as the convection effect (levitation effect) due to differences, are combined, and it becomes very difficult to control the movement state of solute elements in this growth liquid.
本発明は、このような多元系成長液(溶液また
は融液)に、多元系結晶の構成成分が1つ以上含
まれる化合物を制御性良く補給すると同時に、溶
質元素の制御性良く成長結晶を析出させる成長方
法を提案するものである。 The present invention is capable of replenishing such a multi-component growth solution (solution or melt) with a compound containing one or more constituents of a multi-component crystal with good controllability, and at the same time precipitating the growing crystal with good control of solute elements. This paper proposes a growth method that will make the plant grow.
[問題点を解決するための手段]
その目的は、多元素化合物半導体結晶を構成す
る元素が1つ以上含まれるソース材料を、該多元
系化合物半導体結晶の成長液に接触させて、前記
ソース材料自体に直流、または交流の電流を流し
て発熱させ、該電流量に応じたソース材料を前記
成長液に溶解させて成長液の組成を制御するよう
にした結晶成長方法によつて達成される。[Means for solving the problem] The purpose is to bring a source material containing one or more elements constituting a multi-element compound semiconductor crystal into contact with a growth solution for the multi-element compound semiconductor crystal, and to This is achieved by a crystal growth method in which a direct or alternating current is passed through the crystal to generate heat, and a source material corresponding to the amount of current is dissolved in the growth solution to control the composition of the growth solution.
[作用]
即ち、本発明はソース材料にのみ直流、又は交
流の電流を流して発熱させ、成長液にソース材料
料を溶解させて、成長液の組成を一定に保持す
る。[Operation] That is, in the present invention, a direct current or an alternating current is passed only through the source material to generate heat, and the source material is dissolved in the growth solution, thereby maintaining the composition of the growth solution constant.
そうすると、容器(坩堝など)の構造が簡単に
なると同時に、エレクトロマイグレーシヨンによ
る移動効果が除かれて、ソース材料から成長液に
溶解する溶質元素の移動が制御し易くなる。 This simplifies the structure of the container (such as a crucible), and at the same time eliminates the movement effect due to electromigration, making it easier to control the movement of solute elements dissolved from the source material into the growth solution.
[実施例]
以下、図面を参照して実施例によつて詳細に説
明する。[Examples] Hereinafter, examples will be described in detail with reference to the drawings.
第1図は本発明にかかる結晶成長法のうち、引
上げ成長法の一実施例の概要図を示している。図
において、第5図と同一部材には同じ記号が付し
てあるが、容器のうち、11はボロンナイトライ
ド(BN:窒化硼素)からなる絶縁体で、容器の
中にソース材料12が収容されて、ソース材料の
一面が成長液に接しており、且つ、そのソース材
料12の両側にカーボン電極13を接続してい
る。そうして、加熱体6で成長液2が加熱される
と同時に、直流電源S+、S-によつて直流電流を
カーボン電極13の間に流し、ソース材料12を
それ自体の抵抗発熱(ジユール熱)によつて加熱
する。 FIG. 1 shows a schematic diagram of one embodiment of the pulling growth method among the crystal growth methods according to the present invention. In the figure, the same members as those in FIG. One side of the source material is in contact with the growth solution, and carbon electrodes 13 are connected to both sides of the source material 12. Then, at the same time as the growth liquid 2 is heated by the heating element 6, a DC current is passed between the carbon electrodes 13 by the DC power sources S + and S - , and the source material 12 is heated by its own resistance heating (jul). heat).
このような構造によると、ソース材料はジユー
ル熱によつてのみ加熱され、ベルチエ効果は加わ
らない。他方、ソース材料から溶解した溶質元素
が成長液中を移動して成長結晶(種結晶)に到達
する際、その溶質元素の移動は濃度差による拡散
効果と比重差による対流効果(浮上効果)だけに
なり、エレクトロマイグレーシヨンによる効果が
除かれる。そのため、溶液元素の成長液中での移
動制御が容易になる。 According to such a structure, the source material is heated only by Joule heat, and the Bertier effect is not added. On the other hand, when solute elements dissolved from the source material move through the growth solution and reach the growing crystal (seed crystal), the only movement of the solute elements is the diffusion effect due to the concentration difference and the convection effect (floating effect) due to the specific gravity difference. , and the effect of electromigration is removed. Therefore, it becomes easy to control the movement of solution elements in the growth solution.
本法を適用する実施例を記載すると、例えば、
ソース材料12は成長容器と同一材料で、例え
ば、溶質をGaとAsとする溶液とすると、ソース
材料はGaAs化合物にする。 Examples of applying this method include:
The source material 12 is the same material as the growth container. For example, if the solute is a solution of Ga and As, the source material is a GaAs compound.
尚、本発明における成長方法では、直流電源を
交流電源に取り替えて、交流電流を流しても同様
となり、上記の実施例および以下の実施例におい
ては交直の流電源を適用できるものである。図
中、交流電源を点線で示している。 Incidentally, in the growth method of the present invention, the same effect can be achieved even if the DC power source is replaced with an AC power source and an alternating current is passed, and an AC/DC current power source can be applied in the above embodiments and the following examples. In the figure, the AC power source is indicated by a dotted line.
次に、第2図に示す引上げ成長法の例は、これ
を一層高精度に調整するための方法を示す例であ
る。即ち、本例は加熱体6′を調整して、成長液
の下部と上部との間の温度勾配を大きくしてい
る。上部の種結晶3近傍の温度は一定しているた
め、下部の方を高温度にして、それには、例え
ば、ヒータやコイルの巻数を下方で密にする等の
処置によつて調整する。そうすると、上記例の濃
度差に加えて、温度差が大きくなるから拡散およ
び対流効果が大きくなり、成長液の中での成長材
料の補給が迅速になる。この効果はソース材料自
体の加熱によつて一層正確かつ効果的に成長液中
に温度差をつけることができる。このように、拡
散および対流の効果を大きくして、成長結晶の組
成を更に均一化できるが、その成長液中を移動す
る溶質元素の制御性が、第5図に説明した従来の
成長法に比べ、本例では一層容易になる。 Next, the example of the pulling growth method shown in FIG. 2 is an example showing a method for adjusting this method with higher precision. That is, in this example, the heating element 6' is adjusted to increase the temperature gradient between the lower part and the upper part of the growth liquid. Since the temperature in the vicinity of the upper seed crystal 3 is constant, the lower part is made to have a higher temperature, and this is adjusted by, for example, making the number of turns of the heater or coil denser in the lower part. In this case, in addition to the concentration difference in the above example, the temperature difference becomes large, so that diffusion and convection effects become large, and the growth material can be quickly replenished in the growth solution. This effect can more accurately and effectively create a temperature difference in the growth solution by heating the source material itself. In this way, the composition of the grown crystal can be made more uniform by increasing the effects of diffusion and convection, but the controllability of the solute elements moving in the growth solution is different from that of the conventional growth method explained in Figure 5. In comparison, this example is much easier.
更に、第2図では、ソース材料12とカーボン
電極13との間に接触金属15を介在させてい
る。それは、ソース材料12とカーボン電極13
との接触が必ずしも十分ではないから、その接触
抵抗を少なくするために設けるもので、例えば、
In金属などが用いられる。また、図中に交流電源
を点線で示しており、直流電源と同様の効果があ
る。 Furthermore, in FIG. 2, a contact metal 15 is interposed between the source material 12 and the carbon electrode 13. It consists of source material 12 and carbon electrode 13
This is provided to reduce the contact resistance since the contact with the
In metal etc. are used. Further, in the figure, an AC power source is indicated by a dotted line, which has the same effect as a DC power source.
なお、ソース材料を2つ以上収容したり、ま
た、2種類以上のソース材料を収容して補給する
方法を採つても良い。例えば、InGaAsP4元バル
ク結晶のIn溶媒を用いた溶液成長に対して、
GaAsとInPとのソース材料によつてGa、As、P
の溶質元素を補給して、溶液成分を調整する等で
ある。 Note that it is also possible to adopt a method of accommodating two or more source materials or accommodating and replenishing two or more types of source materials. For example, for solution growth of InGaAsP quaternary bulk crystal using In solvent,
Ga, As, P depending on the source material of GaAs and InP
This includes replenishing solute elements and adjusting solution components.
次に、第3図は液層エピタキシヤル成長法の概
要図を示している。図において、20は成長液、
21はボロンナイトライド(BN)、22はソー
ス材料、23はカーボン電極、31はBNボート
で、24はカーボンスライド、24は被成長基板
である。第1図の例と同様に、直流電源S+、S-
によつて直流電流をカーボン電極13の間に流
し、ソース材料12をそれ自体のジユール熱によ
つて加熱する。また、図中に交流電電源を点線で
示しており、直流電源と同様の効果がある。 Next, FIG. 3 shows a schematic diagram of the liquid layer epitaxial growth method. In the figure, 20 is a growth solution;
21 is boron nitride (BN), 22 is a source material, 23 is a carbon electrode, 31 is a BN boat, 24 is a carbon slide, and 24 is a growth substrate. Similar to the example in Figure 1, DC power supplies S + , S -
, a direct current is passed between the carbon electrodes 13 and the source material 12 is heated by its own Joule heat. Further, in the figure, an AC power source is shown by a dotted line, which has the same effect as a DC power source.
この時、ソース材料から溶解した溶質元素が成
長液中を移動して成長結晶(種結晶)に到達する
際、その溶質元素の移動は濃度差による拡散効果
と比重差による対流効果)浮上効果)だけにな
り、エレクトロマイグレーシヨンによる効果が除
かれる。そのため、溶液元素の成長液中での移動
制御性が高められる。 At this time, when the solute element dissolved from the source material moves through the growth liquid and reaches the growing crystal (seed crystal), the movement of the solute element is caused by the diffusion effect due to the concentration difference and the convection effect due to the specific gravity difference (floating effect) The effect of electromigration is removed. Therefore, the controllability of movement of solution elements in the growth solution is improved.
尚、第3図では加熱体を図示していないが、そ
れは全体を加熱炉に挿入する方法が用いられるか
らである。 Although the heating body is not shown in FIG. 3, this is because the entire body is inserted into a heating furnace.
従つて、本発明によれば制御性良く溶質が成長
結晶(種結晶)の近傍に補充されて、成長結晶の
組成が均一化される。 Therefore, according to the present invention, the solute is replenished in the vicinity of the growing crystal (seed crystal) with good controllability, and the composition of the growing crystal is made uniform.
[発明の効果]
上記の説明から明らかなように、本発明によれ
ばバルク結晶および液相エピタキシヤル結晶の成
長法において、成長液中での溶質元素の移動制御
が容易になり、成長結晶の組成が均一化されて、
化合物半導体装置の高性能化に著しい効果のある
ものである。[Effects of the Invention] As is clear from the above description, according to the present invention, in the growth method of bulk crystals and liquid phase epitaxial crystals, the movement of solute elements in the growth solution can be easily controlled, and the growth of the grown crystal can be easily controlled. The composition is homogenized,
This has a remarkable effect on improving the performance of compound semiconductor devices.
第1図および第2図は本発明にかかる引上げ成
長法の概要図、第3図は本発明にかかる液相エピ
タキシヤル成長法の概要図、第4図および第5図
は従来の引上げ成長法の概要図である。
図において、1は容器、2,20は成長液、3
は種結晶、4はB2O3膜、5は回転引上げ棒、6,
6′は加熱体、11,21はBN、12,22は
ソース材料、13,14,23はカーボン電極、
15は接触金属、31はBNボート、24はカー
ボンスライダ、25は被成長基板を示している。
1 and 2 are schematic diagrams of the pulling growth method according to the present invention, FIG. 3 is a schematic diagram of the liquid phase epitaxial growth method according to the present invention, and FIGS. 4 and 5 are schematic diagrams of the conventional pulling growth method. FIG. In the figure, 1 is a container, 2 and 20 are growth liquids, and 3
is a seed crystal, 4 is a B 2 O 3 film, 5 is a rotating pulling rod, 6,
6' is a heating element, 11 and 21 are BN, 12 and 22 are source materials, 13, 14 and 23 are carbon electrodes,
15 is a contact metal, 31 is a BN boat, 24 is a carbon slider, and 25 is a growth substrate.
Claims (1)
つ以上含まれるソース材料を、該多元系化合物半
導体結晶の成長液に接触させて、前記ソース材料
自体に直流、または交流の電流を流して発熱さ
せ、該電流量に応じたソース材料を前記成長液に
溶解させて成長液の組成を制御するようにしたこ
とを特徴とする結晶成長方法。 2 前記多元系化合物半導体結晶がバルク結晶で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の結晶成長方法。 3 前記多元系化合物半導体結晶が液相エピタキ
シヤル結晶であることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の結晶成長方法。 4 上記成長液が、被成長基板の下に位置して、
該被成長基板の表面と前記成長液の表面とが接触
していることを特徴とする特許請求の範囲第3項
記載の結晶成長方法。 5 上記ソース材料が、上記成長液に対して任意
の位置で接触し、該成長液の濃度差によるソース
材料の拡散によつて、前記成長液の組成が制御さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の結晶成長方法。 6 上記ソース材料が、上記成長液の下部に位置
して接触し、ソース材料の浮上効果によつて、前
記成長液の組成が制御されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の結晶成長方法。 7 上記ソース材料を複数配置したことを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の結晶成長方法。[Claims] 1. The elements constituting the multi-compound semiconductor crystal are 1.
A source material containing at least one source material is brought into contact with the growth solution for the multi-component compound semiconductor crystal, a direct current or an alternating current is passed through the source material itself to generate heat, and the source material according to the amount of current is grown in the growth solution. A crystal growth method characterized by controlling the composition of a growth solution by dissolving it in a solution. 2. The crystal growth method according to claim 1, wherein the multi-compound semiconductor crystal is a bulk crystal. 3. The crystal growth method according to claim 1, wherein the multi-compound semiconductor crystal is a liquid phase epitaxial crystal. 4 The growth solution is located below the growth substrate,
4. The crystal growth method according to claim 3, wherein the surface of the growth substrate and the surface of the growth liquid are in contact with each other. 5. A patent characterized in that the source material contacts the growth solution at an arbitrary position, and the composition of the growth solution is controlled by diffusion of the source material due to a concentration difference in the growth solution. A crystal growth method according to claim 1. 6. Claim 1, wherein the source material is located below and in contact with the growth solution, and the composition of the growth solution is controlled by the floating effect of the source material. crystal growth method. 7. The crystal growth method according to claim 1, characterized in that a plurality of the source materials are arranged.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15866485A JPS6218706A (en) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | Crystal growth method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15866485A JPS6218706A (en) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | Crystal growth method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6218706A JPS6218706A (en) | 1987-01-27 |
| JPH0219967B2 true JPH0219967B2 (en) | 1990-05-07 |
Family
ID=15676655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15866485A Granted JPS6218706A (en) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | Crystal growth method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6218706A (en) |
-
1985
- 1985-07-17 JP JP15866485A patent/JPS6218706A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6218706A (en) | 1987-01-27 |
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