JPH0220135B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0220135B2 JPH0220135B2 JP58050506A JP5050683A JPH0220135B2 JP H0220135 B2 JPH0220135 B2 JP H0220135B2 JP 58050506 A JP58050506 A JP 58050506A JP 5050683 A JP5050683 A JP 5050683A JP H0220135 B2 JPH0220135 B2 JP H0220135B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- chamber
- suction
- photoresist
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F15/00—Details of, or accessories for, apparatus of groups G01F1/00 - G01F13/00 insofar as such details or appliances are not adapted to particular types of such apparatus
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Details Of Reciprocating Pumps (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液体を定量排出させた後、余分の液
体がパイプ等の先端から滴下するのを防止するた
めに用いられるサツクバツクポンプに関するもの
である。
体がパイプ等の先端から滴下するのを防止するた
めに用いられるサツクバツクポンプに関するもの
である。
各種液体を定量だけ排出させるということは
種々の分野で要求される機能であるが、この場合
特に解決しなければならないことの一つに定量排
出後の余剰滴下の防止ということがある。例えば
IC製造技術においては、シリコンウエハー表面
に微細パターンを形成するにあたり、フオトエツ
チング技術が利用されているが、このためにはウ
エハー表面にフオトレジストを均一な厚さに塗布
する必要がある。この塗布には、ウエハーにフオ
トレジストを所定量滴下し、ウエハーの回転によ
る遠心力を利用してフオトレジストを均一に広げ
る方法が用いられている。このような回転塗布法
では、所定量のフオトレジストをウエハーに滴下
させた後に、余剰分のフオトレジストが滴下した
場合には膜厚のムラが発生し、後の処理中で不要
なトラブルが発生することになる。
種々の分野で要求される機能であるが、この場合
特に解決しなければならないことの一つに定量排
出後の余剰滴下の防止ということがある。例えば
IC製造技術においては、シリコンウエハー表面
に微細パターンを形成するにあたり、フオトエツ
チング技術が利用されているが、このためにはウ
エハー表面にフオトレジストを均一な厚さに塗布
する必要がある。この塗布には、ウエハーにフオ
トレジストを所定量滴下し、ウエハーの回転によ
る遠心力を利用してフオトレジストを均一に広げ
る方法が用いられている。このような回転塗布法
では、所定量のフオトレジストをウエハーに滴下
させた後に、余剰分のフオトレジストが滴下した
場合には膜厚のムラが発生し、後の処理中で不要
なトラブルが発生することになる。
前述したフオトレジストの余剰滴下を防ぐため
には、定量送り出し後にその送り出し系路内で若
干の吸引力を生じさせ、送り出しノズルからフオ
トレジストを引き込む方法が用いられている。こ
のような方法を実施するにあたり、従来では、例
えばテフロンチユーブなどのような弾性をもつチ
ユーブに、その径方向から圧力を加えて若干押し
つぶした状態で定量のフオトレジストを送り出
し、その後チユーブに加えていた圧力を解いてチ
ユーブが弾性で復帰する際に生ずる吸引力を利用
したり、また送り出し径路内にベローズポンプを
設け、定量送り出し後にベローズポンプを作動し
て、ベローズ内に液体を吸い戻したりしている。
には、定量送り出し後にその送り出し系路内で若
干の吸引力を生じさせ、送り出しノズルからフオ
トレジストを引き込む方法が用いられている。こ
のような方法を実施するにあたり、従来では、例
えばテフロンチユーブなどのような弾性をもつチ
ユーブに、その径方向から圧力を加えて若干押し
つぶした状態で定量のフオトレジストを送り出
し、その後チユーブに加えていた圧力を解いてチ
ユーブが弾性で復帰する際に生ずる吸引力を利用
したり、また送り出し径路内にベローズポンプを
設け、定量送り出し後にベローズポンプを作動し
て、ベローズ内に液体を吸い戻したりしている。
しかしながら、上述の従来技術ではいずれにし
ても、装置の劣化が著しい。すなわち、弾性チユ
ーブを繰り返し変形させていると、その変形部位
の劣化が避けられず、またベローズポンプを利用
する場合もベローズの折り曲げ部の変形量が大き
いために、その劣化が避けられず、たとえステン
レス製ベローズを用いても耐久性が充分なものと
は言えない。また、従来の技術では、例えば粘度
の異なるフオトレジストに交換した際には、定量
送り出し後の吸い戻しが正常に行われないことが
ある。
ても、装置の劣化が著しい。すなわち、弾性チユ
ーブを繰り返し変形させていると、その変形部位
の劣化が避けられず、またベローズポンプを利用
する場合もベローズの折り曲げ部の変形量が大き
いために、その劣化が避けられず、たとえステン
レス製ベローズを用いても耐久性が充分なものと
は言えない。また、従来の技術では、例えば粘度
の異なるフオトレジストに交換した際には、定量
送り出し後の吸い戻しが正常に行われないことが
ある。
本発明は、このような事情に鑑みなされたもの
で、その目的は、液体の粘度が変化しても、液体
の定量送り出し後の余剰液体の滴下を確実に防止
し、しかも耐久性に富むサツクバツクポンプを提
供することにある。
で、その目的は、液体の粘度が変化しても、液体
の定量送り出し後の余剰液体の滴下を確実に防止
し、しかも耐久性に富むサツクバツクポンプを提
供することにある。
上記目的を達成するため、本発明は、液体の流
入口に接続された第1室と液体の流出口に接続さ
れた第2室を有し、前記流出口からパイプに液体
が送り出された後、前記第1室と前記第2室を連
通する連通路を閉止弁で閉鎖すると共に、吸引弁
で前記第2室の容積を増加させることにより、前
記パイプ内の液体を前記第2室へ向けて吸い戻す
サツクバツクポンプにおいて、前記閉止弁の移動
を制御するための閉止弁用シリンダに供給される
加圧気体(加圧空気)の一部を前記吸引弁の移動
を制御するための吸引弁用シリンダに供給する流
路を設けると共に、この流路に通過気体の流量を
調整する調整弁(ニードル弁)を設けている。
入口に接続された第1室と液体の流出口に接続さ
れた第2室を有し、前記流出口からパイプに液体
が送り出された後、前記第1室と前記第2室を連
通する連通路を閉止弁で閉鎖すると共に、吸引弁
で前記第2室の容積を増加させることにより、前
記パイプ内の液体を前記第2室へ向けて吸い戻す
サツクバツクポンプにおいて、前記閉止弁の移動
を制御するための閉止弁用シリンダに供給される
加圧気体(加圧空気)の一部を前記吸引弁の移動
を制御するための吸引弁用シリンダに供給する流
路を設けると共に、この流路に通過気体の流量を
調整する調整弁(ニードル弁)を設けている。
また、望ましい態様によれば、前記流路は前記
閉止弁用シリンダと前記吸引弁用シリンダを連通
し、前記閉止弁が所定量移動した後に、前記加圧
気体の一部が前記閉止弁用シリンダから前記流路
を通して前記吸引弁用シリンダに供給され、前記
吸引弁の移動が開始されるようにしている。更に
は、前記閉止弁の前記連通路を閉鎖する方向への
移動によつて前記第1室の容積が減少し、前記第
2室を通して一定量の液体が前記流出口から前記
パイプに送り出されるようにしている。
閉止弁用シリンダと前記吸引弁用シリンダを連通
し、前記閉止弁が所定量移動した後に、前記加圧
気体の一部が前記閉止弁用シリンダから前記流路
を通して前記吸引弁用シリンダに供給され、前記
吸引弁の移動が開始されるようにしている。更に
は、前記閉止弁の前記連通路を閉鎖する方向への
移動によつて前記第1室の容積が減少し、前記第
2室を通して一定量の液体が前記流出口から前記
パイプに送り出されるようにしている。
以下、添付した図面に従つて本発明の一実施例
を詳述する。
を詳述する。
第1図は本発明を用いたフオトレジストの塗布
装置の概略を示すものである。タンク1はその内
部にフオトレジストが貯留されており、パイプ2
を介してサツクバツクポンプ3に接続されてい
る。このパイプ2の途中に定量送り出しポンプ4
が設けられており、一定量のフオトレジストを間
欠的にサツクバツクポンプ3に送る。このサツク
バツクポンプ3は、流入口にパイプ2が接続され
ており、流入口から入つたフオトレジストがその
内部を素通りして流出口に達する。この流出口に
はパイプ5が接続されており、その先端から一定
量のフオトレジストがウエハー6上に滴下され
る。このウエハー6は、モータ7で回転されるテ
ーブル8上に装着されており、滴下されたフオト
レジストが遠心力によつて均一の厚みに広げられ
る。
装置の概略を示すものである。タンク1はその内
部にフオトレジストが貯留されており、パイプ2
を介してサツクバツクポンプ3に接続されてい
る。このパイプ2の途中に定量送り出しポンプ4
が設けられており、一定量のフオトレジストを間
欠的にサツクバツクポンプ3に送る。このサツク
バツクポンプ3は、流入口にパイプ2が接続され
ており、流入口から入つたフオトレジストがその
内部を素通りして流出口に達する。この流出口に
はパイプ5が接続されており、その先端から一定
量のフオトレジストがウエハー6上に滴下され
る。このウエハー6は、モータ7で回転されるテ
ーブル8上に装着されており、滴下されたフオト
レジストが遠心力によつて均一の厚みに広げられ
る。
前記サツクバツクポンプ3は、ウエハー6上に
一定量のフオトレジストを滴下した後、パイプ5
の先端からフオトレジストが余分にウエハー6上
に滴下しないようにするために、パイプ5内に残
つているフオトレジストの一部を吸い戻す。これ
により、パイプ5の先端から膨出していたフオト
レジストの液面は、パイプ5内へ入り込むため、
フオトレジストの滴下が防止される。
一定量のフオトレジストを滴下した後、パイプ5
の先端からフオトレジストが余分にウエハー6上
に滴下しないようにするために、パイプ5内に残
つているフオトレジストの一部を吸い戻す。これ
により、パイプ5の先端から膨出していたフオト
レジストの液面は、パイプ5内へ入り込むため、
フオトレジストの滴下が防止される。
前記サツクバツクポンプ3は、第2図に詳細に
示すように、加圧空気で作動されるようになつて
おり、このために加圧空気を作るエアーポンプ9
と、加圧空気をサツクバツクポンプ3へ送るため
のパイプ10と、パイプ10の途中に設けられた
切換弁11とが設けられている。この切換弁11
は、定量送り出しポンプ4に連動して作動し、エ
アーポンプ9からの加圧空気をサツクバツクポン
プ3に送つたり、サツクバツクポンプ3内の加圧
空気を外部へ逃がしたりする。
示すように、加圧空気で作動されるようになつて
おり、このために加圧空気を作るエアーポンプ9
と、加圧空気をサツクバツクポンプ3へ送るため
のパイプ10と、パイプ10の途中に設けられた
切換弁11とが設けられている。この切換弁11
は、定量送り出しポンプ4に連動して作動し、エ
アーポンプ9からの加圧空気をサツクバツクポン
プ3に送つたり、サツクバツクポンプ3内の加圧
空気を外部へ逃がしたりする。
第2図は本発明のサツクバツクポンプを示すも
のである。サツクバツクポンプ3は、パイプ2が
接続される流入口12と、パイプ5が接続される
流出口13と、パイプ10が接続されるエアー入
口14とを備えている。流入口12からサツクバ
ツクポンプ3内に送られたフオトレジストは、ボ
ール15とスプリング16とからなる逆止弁を経
て第1室17に入る。この第1室17は、連通路
18を介して第2室19に連通しており、第2室
19に入つたフオトレジストは流出口13から排
出される。
のである。サツクバツクポンプ3は、パイプ2が
接続される流入口12と、パイプ5が接続される
流出口13と、パイプ10が接続されるエアー入
口14とを備えている。流入口12からサツクバ
ツクポンプ3内に送られたフオトレジストは、ボ
ール15とスプリング16とからなる逆止弁を経
て第1室17に入る。この第1室17は、連通路
18を介して第2室19に連通しており、第2室
19に入つたフオトレジストは流出口13から排
出される。
前記第1室17内には周縁の可撓部に穴を有
し、下降した時に連通路18を閉鎖する閉止弁2
0が収納されている。また第2室19内には、周
端縁がその室内壁に水密に止着され、かつ室内を
仕切るとともに、仕切られた区画内の容積を増減
するように移動する吸引弁21が設けられてい
る。これらの弁20,21には例えばsusステン
レス、ゴムなどが利用できる。また閉止弁20、
吸引弁21はそれぞれ加圧空気で作動されるピス
トン22,23に連結されている。これらのピス
トン22,23はそれぞれバネ24,25によ
り、図示の初期状態に向かつて復帰習性が与えら
れている。
し、下降した時に連通路18を閉鎖する閉止弁2
0が収納されている。また第2室19内には、周
端縁がその室内壁に水密に止着され、かつ室内を
仕切るとともに、仕切られた区画内の容積を増減
するように移動する吸引弁21が設けられてい
る。これらの弁20,21には例えばsusステン
レス、ゴムなどが利用できる。また閉止弁20、
吸引弁21はそれぞれ加圧空気で作動されるピス
トン22,23に連結されている。これらのピス
トン22,23はそれぞれバネ24,25によ
り、図示の初期状態に向かつて復帰習性が与えら
れている。
26,27はそれぞれのピストン22,23を
受容するシリンダであり、第1図に示すエアーポ
ンプ9から加圧空気が供給される。ピストンの作
動及びその復帰に寄与するエアー流通路は図示の
とおりで、流路31,32はシリンダ26,27
を連通させており、流路31にはニードル弁34
が、また流路32にはボール弁35がそれぞれ設
けられている。このニードル弁34はつまみ36
をまわすことによつて流路31に沿つて移動し、
流路31内のエアー流量を調節する。
受容するシリンダであり、第1図に示すエアーポ
ンプ9から加圧空気が供給される。ピストンの作
動及びその復帰に寄与するエアー流通路は図示の
とおりで、流路31,32はシリンダ26,27
を連通させており、流路31にはニードル弁34
が、また流路32にはボール弁35がそれぞれ設
けられている。このニードル弁34はつまみ36
をまわすことによつて流路31に沿つて移動し、
流路31内のエアー流量を調節する。
なお、閉止弁20、吸引弁21、ピストン2
2,23の移動を容易にするために、シリンダ2
6,27及び第2室19にエアー抜き用の流路が
設けられている。またピストン22,23の工程
路に面する適宜個所にはOリング38が設けられ
ている。
2,23の移動を容易にするために、シリンダ2
6,27及び第2室19にエアー抜き用の流路が
設けられている。またピストン22,23の工程
路に面する適宜個所にはOリング38が設けられ
ている。
以上の構成になるサツクバツクポンプの作動は
以下に従つてなされる。まず第2図の初期状態で
はそれぞれのピストン22,23は図示実線位置
にあり、パイプ2,5と第1室17及び第2室1
9内はフオトレジストにより満たされているもの
とする。定量送り出しポンプ4により一定量のフ
オトレジストが送り出された直後に、エアーポン
プ9から加圧空気がシリンダ26内に送り込まれ
る。この加圧空気によりピストン22がバネ24
に抗して押し下げられ、よつて閉止弁20は図中
破線位置へと移動してゆき、連通路18を閉鎖す
る。この閉止弁20の可撓部には穴が形成されて
いるので、閉止弁20が下降する時には、フオト
レジストが閉止弁20の背後へ逃げるために、フ
オトレジストが加圧されてサツクバツクポンプ3
から押し出されることはない。
以下に従つてなされる。まず第2図の初期状態で
はそれぞれのピストン22,23は図示実線位置
にあり、パイプ2,5と第1室17及び第2室1
9内はフオトレジストにより満たされているもの
とする。定量送り出しポンプ4により一定量のフ
オトレジストが送り出された直後に、エアーポン
プ9から加圧空気がシリンダ26内に送り込まれ
る。この加圧空気によりピストン22がバネ24
に抗して押し下げられ、よつて閉止弁20は図中
破線位置へと移動してゆき、連通路18を閉鎖す
る。この閉止弁20の可撓部には穴が形成されて
いるので、閉止弁20が下降する時には、フオト
レジストが閉止弁20の背後へ逃げるために、フ
オトレジストが加圧されてサツクバツクポンプ3
から押し出されることはない。
前記ピストン22が下降してゆくと、エアー流
路31が開かれ、加圧空気がシリンダ27内へ送
り込まれる。この際、エアー流路31にはニード
ル弁34が設けられているから、ピストン23が
適当に調整された速さで序々に作動されてゆく。
そしてピストン23と吸引弁21は図中破線位置
へと下降してゆくことになる。これにより第2室
19の容積が増加することになり、パイプ5内に
あるフオトレジストは第2室19へ向かつて吸引
されることになり、定量送り出し後の余剰フオト
レジストの滴下が未然に防止できる。なおこの工
程中においてはシリンダ26側の作用力の方がシ
リンダ27側の作用力よりも若干高いので、ボー
ル弁35が作用してエアー流路32を閉じる。
路31が開かれ、加圧空気がシリンダ27内へ送
り込まれる。この際、エアー流路31にはニード
ル弁34が設けられているから、ピストン23が
適当に調整された速さで序々に作動されてゆく。
そしてピストン23と吸引弁21は図中破線位置
へと下降してゆくことになる。これにより第2室
19の容積が増加することになり、パイプ5内に
あるフオトレジストは第2室19へ向かつて吸引
されることになり、定量送り出し後の余剰フオト
レジストの滴下が未然に防止できる。なおこの工
程中においてはシリンダ26側の作用力の方がシ
リンダ27側の作用力よりも若干高いので、ボー
ル弁35が作用してエアー流路32を閉じる。
前記定量送り出しポンプ4が再び作動する直前
に、切換弁11が作動してパイプ10をエアーポ
ンプ9から切り離して外気へ開放する。これによ
りシリンダ26内の加圧空気は外部へ放出され、
上部ピストン22がバネ24の畜勢力によつて直
ちに上昇して初期位置へ戻る。一方、上部シリン
ダ26内の圧力低下により、下部シリンダ27内
の加圧空気が通路32内を通り、ボール弁35を
持ち上げて上部シリンダ26内へ入ることができ
る。したがつて、下部ピストン23も上部ピスト
ン22と一緒に上昇して直ちに初期位置へ戻るこ
とができる。この上部ピストン22の上昇によつ
て閉止弁20が開かれ、また下部ピストン23の
上昇によつて吸引弁21が初期位置へ戻る。
に、切換弁11が作動してパイプ10をエアーポ
ンプ9から切り離して外気へ開放する。これによ
りシリンダ26内の加圧空気は外部へ放出され、
上部ピストン22がバネ24の畜勢力によつて直
ちに上昇して初期位置へ戻る。一方、上部シリン
ダ26内の圧力低下により、下部シリンダ27内
の加圧空気が通路32内を通り、ボール弁35を
持ち上げて上部シリンダ26内へ入ることができ
る。したがつて、下部ピストン23も上部ピスト
ン22と一緒に上昇して直ちに初期位置へ戻るこ
とができる。この上部ピストン22の上昇によつ
て閉止弁20が開かれ、また下部ピストン23の
上昇によつて吸引弁21が初期位置へ戻る。
前記実施例では、閉止弁20の可撓性部分に穴
を設けてあるが、この穴をなくして吸引弁21と
同じ構成にすれば、閉止弁20の下降時にフオト
レジストを流出口13から押し出すことができ
る。この場合には、閉止弁20が定量送り出しポ
ンプとしても機能するから、第1図に示す定量送
り出しポンプ4を省略することができる。
を設けてあるが、この穴をなくして吸引弁21と
同じ構成にすれば、閉止弁20の下降時にフオト
レジストを流出口13から押し出すことができ
る。この場合には、閉止弁20が定量送り出しポ
ンプとしても機能するから、第1図に示す定量送
り出しポンプ4を省略することができる。
以上説明したように、本発明によれば、閉止弁
と吸引弁の移動を閉止弁用シリンダと吸引弁シリ
ンダに供給される加圧気体によつて制御できるの
で、閉止弁と吸引弁のそれぞれを例えば変形の少
ないダイヤフラム式のものにすることもでき、こ
の場合にはベローズを用いたものに比して、耐久
性、作動の確実性が向上する。また、本発明によ
れば、閉止弁用シリンダに供給される加圧気体の
一部を吸引弁シリンダに供給する際の気体流量を
調整できるので、液体の粘度が変化した場合に
も、閉止弁に対する吸引弁の移動を常に最適に調
整でき、液体の定量送り出し後の余剰液体の吸い
戻しを常に確実なものにできる。
と吸引弁の移動を閉止弁用シリンダと吸引弁シリ
ンダに供給される加圧気体によつて制御できるの
で、閉止弁と吸引弁のそれぞれを例えば変形の少
ないダイヤフラム式のものにすることもでき、こ
の場合にはベローズを用いたものに比して、耐久
性、作動の確実性が向上する。また、本発明によ
れば、閉止弁用シリンダに供給される加圧気体の
一部を吸引弁シリンダに供給する際の気体流量を
調整できるので、液体の粘度が変化した場合に
も、閉止弁に対する吸引弁の移動を常に最適に調
整でき、液体の定量送り出し後の余剰液体の吸い
戻しを常に確実なものにできる。
第1図は本発明装置を用いたフオトレジストの
塗布装置を示す概略図、第2図は本発明の実施例
を示す断面図である。 1……タンク、3……サツクバツクポンプ、4
……定量送り出しポンプ、6……ウエハー、7…
…モータ、8……テーブル、9……エアーポン
プ、11……切換弁、17……第1室、18……
連通路、19……第2室、20……閉止弁、21
……吸引弁、22……ピストン、23……ピスト
ン、34……ニードル弁。
塗布装置を示す概略図、第2図は本発明の実施例
を示す断面図である。 1……タンク、3……サツクバツクポンプ、4
……定量送り出しポンプ、6……ウエハー、7…
…モータ、8……テーブル、9……エアーポン
プ、11……切換弁、17……第1室、18……
連通路、19……第2室、20……閉止弁、21
……吸引弁、22……ピストン、23……ピスト
ン、34……ニードル弁。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 液体の流入口に接続された第1室と液体の流
出口に接続された第2室を有し、前記流出口から
パイプに液体が送り出された後、前記第1室と前
記第2室を連通する連通路を閉止弁で閉鎖すると
共に、吸引弁で前記第2室の容積を増加させるこ
とにより、前記パイプ内の液体を前記第2室へ向
けて吸い戻すサツクバツクポンプにおいて、 前記閉止弁の移動を制御するための閉止弁用シ
リンダに供給される加圧気体の一部を前記吸引弁
の移動を制御するための吸引弁用シリンダに供給
する流路を設けると共に、この流路に通過気体の
流量を調節する調整弁を設けたことを特徴とする
サツクバツクポンプ。 2 前記流路は前記閉止弁用シリンダと前記吸引
弁用シリンダを連通し、前記閉止弁が所定量移動
した後に、前記加圧気体の一部が前記閉止弁用シ
リンダから前記流路を通して前記吸引弁用シリン
ダに供給され、前記吸引弁の移動が開始されるよ
うにしたことを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載のサツクバツクポンプ。 3 前記閉止弁の前記連通路を閉鎖する方向への
移動によつて前記第1室の容積が減少し、前記第
2室を通して一定量の液体が前記流出口から前記
パイプに送り出されることを特徴とする特許請求
の範囲第2項記載のサツクバツクポンプ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58050506A JPS59177929A (ja) | 1983-03-28 | 1983-03-28 | サツクバツクポンプ |
| US06/593,704 US4597719A (en) | 1983-03-28 | 1984-03-26 | Suck-back pump |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58050506A JPS59177929A (ja) | 1983-03-28 | 1983-03-28 | サツクバツクポンプ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59177929A JPS59177929A (ja) | 1984-10-08 |
| JPH0220135B2 true JPH0220135B2 (ja) | 1990-05-08 |
Family
ID=12860840
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58050506A Granted JPS59177929A (ja) | 1983-03-28 | 1983-03-28 | サツクバツクポンプ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4597719A (ja) |
| JP (1) | JPS59177929A (ja) |
Families Citing this family (64)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5167837A (en) | 1989-03-28 | 1992-12-01 | Fas-Technologies, Inc. | Filtering and dispensing system with independently activated pumps in series |
| JP2803859B2 (ja) * | 1989-09-29 | 1998-09-24 | 株式会社日立製作所 | 流動体供給装置およびその制御方法 |
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| US5516545A (en) * | 1991-03-26 | 1996-05-14 | Sandock; Leonard R. | Coating processes and apparatus |
| US5195655A (en) * | 1991-05-24 | 1993-03-23 | Motorola, Inc. | Integrated fluid dispense apparatus to reduce contamination |
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-
1983
- 1983-03-28 JP JP58050506A patent/JPS59177929A/ja active Granted
-
1984
- 1984-03-26 US US06/593,704 patent/US4597719A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4597719A (en) | 1986-07-01 |
| JPS59177929A (ja) | 1984-10-08 |
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