JPH02202864A - ２，３―ジシアノ―６―ナフチルメタノール誘導体およびその製法 - Google Patents
２，３―ジシアノ―６―ナフチルメタノール誘導体およびその製法Info
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- JPH02202864A JPH02202864A JP2354989A JP2354989A JPH02202864A JP H02202864 A JPH02202864 A JP H02202864A JP 2354989 A JP2354989 A JP 2354989A JP 2354989 A JP2354989 A JP 2354989A JP H02202864 A JPH02202864 A JP H02202864A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、２，３−ジシアノ−６−ナフチルメタノール
誘導体およびその製法に係わり、けい光体、または光情
報記録媒体、電子写真感光体の原料化合物に関する。
誘導体およびその製法に係わり、けい光体、または光情
報記録媒体、電子写真感光体の原料化合物に関する。
ジシアノナフタレン誘導体は、アルキル基あるいはアル
コキシ基が、２，３−ジシアノナフタレン環に直接結合
したものが知られている〔特開昭６０−２３４５１号、
特開昭６１−２１５６６３号、およびジュルナール・オ
ブシエイ・キミー（Ｚｈ、Ｏｂｓ、 Ｋｈｉｍ、）４２
巻、６９６〜６９９頁（１９７２年）〕。
コキシ基が、２，３−ジシアノナフタレン環に直接結合
したものが知られている〔特開昭６０−２３４５１号、
特開昭６１−２１５６６３号、およびジュルナール・オ
ブシエイ・キミー（Ｚｈ、Ｏｂｓ、 Ｋｈｉｍ、）４２
巻、６９６〜６９９頁（１９７２年）〕。
前記ジシアノナフタレン誘導体は、アルキル基あるいは
アルコキシ基が、２，３−ジシアノナフタレン環に直接
結合しているために、有機溶媒に対する溶解性が十分で
なかった。従って、その応用展開を図る上でのネックと
なっていた。
アルコキシ基が、２，３−ジシアノナフタレン環に直接
結合しているために、有機溶媒に対する溶解性が十分で
なかった。従って、その応用展開を図る上でのネックと
なっていた。
本発明の目的は、有機溶媒に対する溶解性のよい２，３
−ジシアノ−６−ナフチルメタノール誘導体並びにその
製造方法を提供することにある。
−ジシアノ−６−ナフチルメタノール誘導体並びにその
製造方法を提供することにある。
前記目的を達成するための本発明の要旨は、以下に述べ
るとおりである。
るとおりである。
（１）一般式（１）
（式中、Ｒは炭素数１〜２ｏの直鎖１分枝または環状ア
ルキル基あるいは置換基を有することもあるアリール基
、ｎは０または１を表す）で示される２、３−ジシアノ
−６−ナフチルメタノール誘導体。
ルキル基あるいは置換基を有することもあるアリール基
、ｎは０または１を表す）で示される２、３−ジシアノ
−６−ナフチルメタノール誘導体。
（２）ｏ−キシレンと臭素を反応させて、４，５−ジブ
ロモ−〇−キシレンとし、これを白色光線照射下におい
てＮ−ブロモスクシンイミドと反応させて次式（ＩＶ）
で示される４、５−ジブロモ−α。
ロモ−〇−キシレンとし、これを白色光線照射下におい
てＮ−ブロモスクシンイミドと反応させて次式（ＩＶ）
で示される４、５−ジブロモ−α。
α、α′、α′−テトラブロモー〇−キシレンとし、該
化合物（ＩＶ）をヨウ化ナトリウムの存在下でアクリル
酸メチルと反応させて次式（Ｖ）で示される２、３−ジ
ブロモ−６−ナフトエ酸メチルとし、またはハロゲン化
水素でハロゲン化した後次式％式％（） （式中、Ｒは前記と同じ意味を表し、Ｍは水素原子また
はアルカリ金属原子を表す）で示されるアルコールまた
は金属アルコラードと反応し、次式該化合物（Ｖ）を還
元して次式（Ｖｌ）で示される２、３−ジブロモ−６−
ナフチルメタノールとし、（式中、Ｒは前記と同じ意味
を表す）で示される２、３−ジブロモ−６−ナフチルメ
タノール誘導体とし、該化合物（Ｘ）にシアン化第−銅
を反応させることを特徴とする一般式（Ｉ） 該化合物（Ｖｌ）を次式（■）で示されるハロゲン化物
Ｒｃｎ （■）（式中、Ｒ
は炭素数１〜２０の直鎖、分枝または環状アルキル基あ
るいは置換基を有することもあるアリール基を表す）と
反応させるか、（式中、Ｒは前記と同じ意味を表す）で
示される２、３−ジシアノ−６−ナフチルメタノール誘
導体の製法。
化合物（ＩＶ）をヨウ化ナトリウムの存在下でアクリル
酸メチルと反応させて次式（Ｖ）で示される２、３−ジ
ブロモ−６−ナフトエ酸メチルとし、またはハロゲン化
水素でハロゲン化した後次式％式％（） （式中、Ｒは前記と同じ意味を表し、Ｍは水素原子また
はアルカリ金属原子を表す）で示されるアルコールまた
は金属アルコラードと反応し、次式該化合物（Ｖ）を還
元して次式（Ｖｌ）で示される２、３−ジブロモ−６−
ナフチルメタノールとし、（式中、Ｒは前記と同じ意味
を表す）で示される２、３−ジブロモ−６−ナフチルメ
タノール誘導体とし、該化合物（Ｘ）にシアン化第−銅
を反応させることを特徴とする一般式（Ｉ） 該化合物（Ｖｌ）を次式（■）で示されるハロゲン化物
Ｒｃｎ （■）（式中、Ｒ
は炭素数１〜２０の直鎖、分枝または環状アルキル基あ
るいは置換基を有することもあるアリール基を表す）と
反応させるか、（式中、Ｒは前記と同じ意味を表す）で
示される２、３−ジシアノ−６−ナフチルメタノール誘
導体の製法。
（３）前項（２）において、次式（ＩＶ）で示される該
化合物（ＩＶ）をヨウ化ナトリウムの存在下でアクリル
酸メチルと反応させて次式（Ｖ）（式中、Ｒは前記と同
じ意味を表す）で示される２、３−ジシアノ−６−ナフ
チルメタノール誘導体の製法。
化合物（ＩＶ）をヨウ化ナトリウムの存在下でアクリル
酸メチルと反応させて次式（Ｖ）（式中、Ｒは前記と同
じ意味を表す）で示される２、３−ジシアノ−６−ナフ
チルメタノール誘導体の製法。
（４）前項（２）において、次式（ＩＶ）で示される２
、３−ジブロモ−６−ナフトエ酸メチルを加水分解して
次式（■）で示される２、３−ジブロモ−６−ナフトエ
酸とし、 該化合物（■）を還元して次式（ＶＩ）で示される４、
５−ジブロモ−α、α、α′、α′テトラブロモー〇−
キシレンをアクリル酸と反応させて、次式（■）で示さ
れる゛２，３−ジブロモー６−ナフトエ酸とし、 該化合物（■）を還元して次式（ＶＩ）で示される２、
３−ジブロモ−６−ナフチルメタノールとすることを特
徴とする一般式（Ｉ）で示される２、３−ジブロモ−６
−ナフチルメタノールとすることを特徴とする一般式（
１）（式中、Ｒは前記と同じ意味を表す）で示される２
、３−ジシアノ−６−ナフチルメタノール誘導体の製法
。
、３−ジブロモ−６−ナフトエ酸メチルを加水分解して
次式（■）で示される２、３−ジブロモ−６−ナフトエ
酸とし、 該化合物（■）を還元して次式（ＶＩ）で示される４、
５−ジブロモ−α、α、α′、α′テトラブロモー〇−
キシレンをアクリル酸と反応させて、次式（■）で示さ
れる゛２，３−ジブロモー６−ナフトエ酸とし、 該化合物（■）を還元して次式（ＶＩ）で示される２、
３−ジブロモ−６−ナフチルメタノールとすることを特
徴とする一般式（Ｉ）で示される２、３−ジブロモ−６
−ナフチルメタノールとすることを特徴とする一般式（
１）（式中、Ｒは前記と同じ意味を表す）で示される２
、３−ジシアノ−６−ナフチルメタノール誘導体の製法
。
（５） ｏ−キシレンと臭素を反応させて、４，５−ジ
ブロモ−〇−キシレンとし、これを白色光線照射下にお
いてＮ−ブロモスクシンイミドと反応させて次式（ＩＶ
）で示される４、５−ジブロモ−α、α、α′、α′−
テトラブロモ−〇−キシレンとし、 該化合物（Ｖ）を還元して次式（Ｗ）で示される２、３
−ジブロモ−６−ナフチルメタノールとし、該化合物（
Ｖ［）を次式（Ｘ［）で示される酸ハライドＲＣＯＸ
（Ｘ［）（式中、Ｒは炭素
数１〜２０の直鎖９分枝または環状アルキル基あるいは
置換基を有することもあるアリール基、ＸはＣｆｆ、Ｂ
ｒ、ｌを表す）と反応させて次式（Ｘ［ｌ）で示される
２、３−ジブロモ−６−ナフチルメタノール誘導体とし
、該化合物（ＩＶ）をヨウ化ナトリウムの存在下でアク
リル酸メチルと反応させて次式（Ｖ）で示される２、３
−ジブロモ−６−ナフトエ酸メチルとし、（式中、Ｒは
前記と同じ意味を表す）該化合物（Ｘ［ｌ）にシアン化
第−銅を反応させることを特徴とする−次式（Ｉ） 該化合物（■）を還元して次式（Ｖｌ）（式中、Ｒは前
記と同じ意味を表す）で示される２、３−ジシアノ−６
−ナフチルメタノール誘導体の製法。
ブロモ−〇−キシレンとし、これを白色光線照射下にお
いてＮ−ブロモスクシンイミドと反応させて次式（ＩＶ
）で示される４、５−ジブロモ−α、α、α′、α′−
テトラブロモ−〇−キシレンとし、 該化合物（Ｖ）を還元して次式（Ｗ）で示される２、３
−ジブロモ−６−ナフチルメタノールとし、該化合物（
Ｖ［）を次式（Ｘ［）で示される酸ハライドＲＣＯＸ
（Ｘ［）（式中、Ｒは炭素
数１〜２０の直鎖９分枝または環状アルキル基あるいは
置換基を有することもあるアリール基、ＸはＣｆｆ、Ｂ
ｒ、ｌを表す）と反応させて次式（Ｘ［ｌ）で示される
２、３−ジブロモ−６−ナフチルメタノール誘導体とし
、該化合物（ＩＶ）をヨウ化ナトリウムの存在下でアク
リル酸メチルと反応させて次式（Ｖ）で示される２、３
−ジブロモ−６−ナフトエ酸メチルとし、（式中、Ｒは
前記と同じ意味を表す）該化合物（Ｘ［ｌ）にシアン化
第−銅を反応させることを特徴とする−次式（Ｉ） 該化合物（■）を還元して次式（Ｖｌ）（式中、Ｒは前
記と同じ意味を表す）で示される２、３−ジシアノ−６
−ナフチルメタノール誘導体の製法。
（６）前項（５）において、次式（１’／）で示される
該化合物（ＩＶ）をヨウ化ナトリウムの存在下でアクリ
ル酸メチルと反応させて得られるで示される２、３−ジ
ブロモ−６−ナフチルメタノールとすることを特徴とす
る一般式（１）（式中、Ｒは前記と同じ意味を表す）で
示される２、３−ジシアノ−６−ナフチルメタノール誘
導体の製法。
該化合物（ＩＶ）をヨウ化ナトリウムの存在下でアクリ
ル酸メチルと反応させて得られるで示される２、３−ジ
ブロモ−６−ナフチルメタノールとすることを特徴とす
る一般式（１）（式中、Ｒは前記と同じ意味を表す）で
示される２、３−ジシアノ−６−ナフチルメタノール誘
導体の製法。
（７）前項（７）において、次式（ＩＶ）で示される２
、３−ジブロモ−６−ナフトエ酸メチルを加水分解して
次式（■）で示される２、３ジブロモ−６−ナフトエ酸
とし、 で示される４、５−ジブロモ−α、α、α′！α′テト
ラブロモー０−キシレンをアクリル酸と反応させて、次
式（■）で示される２、３−ジブロモ−６−ナフ１−二
酸とし、 該化合物（■）を還元して次式（Ｖｌ）で示される２、
３−ジブロモ−６−ナフチルメタノールとすることを特
徴とする一般式（１）（式中、Ｒは前記と同じ意味を表
す）で示される２、３−ジシアノ−６−ナフチルメタノ
ール誘導体の製法。
、３−ジブロモ−６−ナフトエ酸メチルを加水分解して
次式（■）で示される２、３ジブロモ−６−ナフトエ酸
とし、 で示される４、５−ジブロモ−α、α、α′！α′テト
ラブロモー０−キシレンをアクリル酸と反応させて、次
式（■）で示される２、３−ジブロモ−６−ナフ１−二
酸とし、 該化合物（■）を還元して次式（Ｖｌ）で示される２、
３−ジブロモ−６−ナフチルメタノールとすることを特
徴とする一般式（１）（式中、Ｒは前記と同じ意味を表
す）で示される２、３−ジシアノ−６−ナフチルメタノ
ール誘導体の製法。
本発明者らが行った、前記式（１）で示す２゜３−ジシ
アノ−６−ナフチルメタノール誘導体の合成プロセスを
まとめて示すと下記に示すような反応経路をとる。
アノ−６−ナフチルメタノール誘導体の合成プロセスを
まとめて示すと下記に示すような反応経路をとる。
国
ゝ＼−−−／′
化合物（ｍ）の製造法は、０−キシレンに対して２〜２
．５ 当量の臭素を０．０１〜０．１当量の鉄及びヨウ
素の存在下に、ハロゲン系の溶媒、例えば四塩化炭素、
クロロホルム、塩化メチレン等の溶媒中で反応させる。
．５ 当量の臭素を０．０１〜０．１当量の鉄及びヨウ
素の存在下に、ハロゲン系の溶媒、例えば四塩化炭素、
クロロホルム、塩化メチレン等の溶媒中で反応させる。
反応温度は０〜５０℃が好適であり、通常は５〜１０時
間で反応は完結する。 また化合物（ＩＶ）の製造法は
、化合物（ｍ）に対して４〜４．５ 当量のＮ−ブロモ
スクシンイミド（ＮＢＳ）を０．０１〜０．０５当量の
過酸化ベンゾイル（ＢＰＯ）の存在下、四塩化炭素中で
白色光線（ｈν）を照射しながら反応させる。反応温度
は５０〜８０℃が好適であり、通常は７〜１２時間で反
応は完結する。
間で反応は完結する。 また化合物（ＩＶ）の製造法は
、化合物（ｍ）に対して４〜４．５ 当量のＮ−ブロモ
スクシンイミド（ＮＢＳ）を０．０１〜０．０５当量の
過酸化ベンゾイル（ＢＰＯ）の存在下、四塩化炭素中で
白色光線（ｈν）を照射しながら反応させる。反応温度
は５０〜８０℃が好適であり、通常は７〜１２時間で反
応は完結する。
化合物（Ｖ）の製造法は、化合物（ＩＶ）に対して１．
５〜４．０当量のアクリル酸メチルを２．０〜７．０
当量のヨウ化ナトリウムの存在下に、高極性溶媒例えば
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド。
５〜４．０当量のアクリル酸メチルを２．０〜７．０
当量のヨウ化ナトリウムの存在下に、高極性溶媒例えば
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド。
ジメチルスルフオキシド等の溶媒中で反応させる。
反応温度は５０〜１００℃が好適であり、通常は３〜１
０時間で反応は完結する。
０時間で反応は完結する。
化合物（ＶＩ）の製造法は、化合物（Ｖ）に対して０．
２５〜１．０当量の水素化リチウムアルミニウムを非プ
ロトン性溶媒、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン中で温度Ｏ〜３０℃。
２５〜１．０当量の水素化リチウムアルミニウムを非プ
ロトン性溶媒、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン中で温度Ｏ〜３０℃。
１０分〜５時間反応させる。
又別の化合物（Ｖｌ）の製造法は、化合物（Ｖ）を硫酸
等で加水分解するかあるいは化合物（ｍＶ）とアクリル
酸を化合物（Ｖ）の製造条件と同じ条件で反応して、化
合物（■）とした後還元反応を行う。
等で加水分解するかあるいは化合物（ｍＶ）とアクリル
酸を化合物（Ｖ）の製造条件と同じ条件で反応して、化
合物（■）とした後還元反応を行う。
化合物（■）の還元反応は１．０〜２．０当量のボラン
を非プロトン性溶媒、例えばジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等の溶媒中で反応させる。反応温度は０〜
１００℃が好適であり１通常は２〜１０時間で反応は完
結する。
を非プロトン性溶媒、例えばジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等の溶媒中で反応させる。反応温度は０〜
１００℃が好適であり１通常は２〜１０時間で反応は完
結する。
化合物（Ｘ）の製造法は、化合物（ＶＩ）の水酸基をハ
ロゲン化水素でハロゲン化した後、アルコールまたは金
属アルコラードあるいはフェノールまたはフェノールの
金属塩と反応するか、別の方法として化合物（ＶＩ）を
直接ハロゲン化物と反応する。
ロゲン化水素でハロゲン化した後、アルコールまたは金
属アルコラードあるいはフェノールまたはフェノールの
金属塩と反応するか、別の方法として化合物（ＶＩ）を
直接ハロゲン化物と反応する。
化合物（ＶＩ）の水酸基のハロゲン化は、１〜５倍モル
のハロゲン化水素酸を０．１〜２．０倍モルの濃硫酸の
存在下、非プロトン性溶媒、例えばｎ−ヘキサン、テト
ラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエ
ン等の溶媒中で反応させる。反応温度は２０〜１００℃
が好適であり、通常は１〜５時間で反応は完結する。
のハロゲン化水素酸を０．１〜２．０倍モルの濃硫酸の
存在下、非プロトン性溶媒、例えばｎ−ヘキサン、テト
ラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエ
ン等の溶媒中で反応させる。反応温度は２０〜１００℃
が好適であり、通常は１〜５時間で反応は完結する。
得られたハロメチル化物を１〜２倍モルの金属アルコラ
ードあるいはフェノールの金属塩と反応するかまたは、
１〜２倍モルのアミンの存在下にアルコールあるいはフ
ェノールと反応して容易に化合物（Ｘ）が得られる。反
応は非プロトン性溶媒、例えばベンゼン、トルエン、キ
シレン中で行われる。反応温度は使用する溶媒により異
なるが１０〜１５０℃が好適であり、通常は１〜５時間
で完結する。
ードあるいはフェノールの金属塩と反応するかまたは、
１〜２倍モルのアミンの存在下にアルコールあるいはフ
ェノールと反応して容易に化合物（Ｘ）が得られる。反
応は非プロトン性溶媒、例えばベンゼン、トルエン、キ
シレン中で行われる。反応温度は使用する溶媒により異
なるが１０〜１５０℃が好適であり、通常は１〜５時間
で完結する。
化合物（ＶＩ）とハロゲン化アルキルあるいはアリール
との反応による化合物（Ｘ）の製造法は、化合物（ＶＩ
）に対して１〜２．５ 当量のハロゲン化物を１〜２．
５ 当量のアミンの存在下に、非プロトン性の溶媒、例
えばベンゼン、トルエン、キシレン等の溶媒中で反応さ
せる。反応温度は使用する溶媒により異なるが、５０〜
１５０℃が好適であり、通常は１〜５時間で反応は完結
する。
との反応による化合物（Ｘ）の製造法は、化合物（ＶＩ
）に対して１〜２．５ 当量のハロゲン化物を１〜２．
５ 当量のアミンの存在下に、非プロトン性の溶媒、例
えばベンゼン、トルエン、キシレン等の溶媒中で反応さ
せる。反応温度は使用する溶媒により異なるが、５０〜
１５０℃が好適であり、通常は１〜５時間で反応は完結
する。
化合物（ビ）の製造法は、化合物（Ｘ）に対して２〜３
当量のシアン化第−銅を高極性溶媒、例えばＮ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルフオキシド等の溶媒
中で反応させる。反応温度は１００〜２００℃が好適で
あり、通常は１〜５時間で完結する。
当量のシアン化第−銅を高極性溶媒、例えばＮ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルフオキシド等の溶媒
中で反応させる。反応温度は１００〜２００℃が好適で
あり、通常は１〜５時間で完結する。
化合物（Ｘｌｌ）の製造法は、化合物（ＶＩ）に対して
１〜１．５ 当量の酸ハライドを非プロトン性溶媒、例
えばｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン。
１〜１．５ 当量の酸ハライドを非プロトン性溶媒、例
えばｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン。
キシレン等の溶媒中で反応させる。反応温度は溶媒によ
り異なるが５０〜１５０℃が好適であり、通常は１〜５
時間で反応は完結する。
り異なるが５０〜１５０℃が好適であり、通常は１〜５
時間で反応は完結する。
化合物（■“）の製造法は、化合物（Ｘ［ｌ）に対して
２〜３当量のシアン化第−銅を高極性溶媒、例えばＮ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルフオキシド等
の溶媒中で反応させる。反応温度は１００〜２００℃が
好適であり、通常は１〜５時間で完結する。
２〜３当量のシアン化第−銅を高極性溶媒、例えばＮ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルフオキシド等
の溶媒中で反応させる。反応温度は１００〜２００℃が
好適であり、通常は１〜５時間で完結する。
本発明の前記式（１）で示す２，３−ジシアノ−６−ナ
フチルメタノール誘導体の溶剤に対する溶解性がよいの
は、−ＣＨｘＯ−基を有するためと考える。
フチルメタノール誘導体の溶剤に対する溶解性がよいの
は、−ＣＨｘＯ−基を有するためと考える。
実施例１
〔４，５−ジブロモ−０−キシレンの合成〕攪拌機、温
度計２滴下ロートおよび冷却管を装備した２Ｑ四つロフ
ラスコに、塩化メチレン８０註鉄粉１ １．６ｇ （０
．２１モル）、ヨウ素５．３ｇ（０．０２１モル）仕込
み、臭素１３３８ｇ（８．３７モル）を０〜１０℃で７
時間で滴下した。
度計２滴下ロートおよび冷却管を装備した２Ｑ四つロフ
ラスコに、塩化メチレン８０註鉄粉１ １．６ｇ （０
．２１モル）、ヨウ素５．３ｇ（０．０２１モル）仕込
み、臭素１３３８ｇ（８．３７モル）を０〜１０℃で７
時間で滴下した。
滴下終了後２０〜４０℃で熟成し反応を完結させた。反
応後５％亜硫酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、水洗，
乾燥し減圧濃縮したのち、メタノ−ル２０００ｍＲから
再結晶して３ ３ ５．１ ｇ の４。
応後５％亜硫酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、水洗，
乾燥し減圧濃縮したのち、メタノ−ル２０００ｍＲから
再結晶して３ ３ ５．１ ｇ の４。
５−ジブロモ−〇ーキシレンを得た（収率３１％）。
融点：８７．５〜８８．０℃
マススペクトル：２６４（Ｍ＋）
第１図にマススペクトル、第２図にＮＭＲスペクトル、
第３図に赤外線吸収スペクトルを示す。
第３図に赤外線吸収スペクトルを示す。
〔４，５−ジブロモ−α，α，α′，α′−テトラブロ
モ−〇ーキシレンの合成〕 攪拌機，温度計２滴下ロートおよび冷却管を装備した２
Ｑ四つ目フラスコに、４，５−ジブロモ−〇ーキシレン
１５０ｇ（０．５７モル）、Ｎ−ブロモスクシンイミド
４２５ｇ （２．３９モル）、過酸化ベンゾイル２．８
ｇ （０．０ １ ２モル）及び四塩化炭素２０００
ｍＲを仕込み、７０〜８０℃に加熱しなから１５０Ｗの
白熱光線を照射しながら１０時間反応した。冷却後副生
したコハク酸イミドを濾別した後減圧濃縮して残さをシ
クロヘキサン６ ６ ０ ｍ ｎから再結晶して２９３
ｇの４，５−ジプロモーα，α，α′，α′ーテトラブ
ロモー〇−キシレンを得た（収率８７％）。
モ−〇ーキシレンの合成〕 攪拌機，温度計２滴下ロートおよび冷却管を装備した２
Ｑ四つ目フラスコに、４，５−ジブロモ−〇ーキシレン
１５０ｇ（０．５７モル）、Ｎ−ブロモスクシンイミド
４２５ｇ （２．３９モル）、過酸化ベンゾイル２．８
ｇ （０．０ １ ２モル）及び四塩化炭素２０００
ｍＲを仕込み、７０〜８０℃に加熱しなから１５０Ｗの
白熱光線を照射しながら１０時間反応した。冷却後副生
したコハク酸イミドを濾別した後減圧濃縮して残さをシ
クロヘキサン６ ６ ０ ｍ ｎから再結晶して２９３
ｇの４，５−ジプロモーα，α，α′，α′ーテトラブ
ロモー〇−キシレンを得た（収率８７％）。
融点＝１３１〜１３３℃
マススペクトル：５７９（Ｍ＋）
ＩＨＮＭＲスペクトル（２００Ｍ Ｈｚ 。
ＣＤ Ｃｎ ａ）、
δ（ｐｐｍ）６．９ （ｓ 、 ２Ｈ，ＣＨＢ ｒｘ）
７．９ （ｓ、２Ｈ，ベンゼン環） 第４図にマススペクトル、第５図にＮＭＲスペクトル、
第６図に赤外線吸収スペクトルを示す。
７．９ （ｓ、２Ｈ，ベンゼン環） 第４図にマススペクトル、第５図にＮＭＲスペクトル、
第６図に赤外線吸収スペクトルを示す。
〔２，３−ジブロモ−６−ナフトエ酸メチルの合成〕攪
拌機、温度計２滴下ロートおよび冷却管を装備した１Ω
四つ目フラスコに、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（Ｄ
ＭＦ）３００ｍＱ、アクリル酸メチル３７．６ ｇ （
０，４４モル）、ヨウ化ナトリウム９５．３ｇ （０，
６４モル）を仕込み、４，５−ジブロモ−α、α、α′
、α′−テトラブロモ０−キシレン１２６．５ｇ （０
，２１モル）をＤＭＦ２００ ｍ Ｑに溶かした溶液を
７０〜８０℃で２時間で滴下した。滴下終了後同温度で
熟成し反応を完結させた。冷却後５％亜硫酸水素ナトリ
ウム水溶液に注ぎ晶析した結晶を濾別後、水洗、乾燥後
アセトン２７０ ｍ ｍから再結晶して５３．７ｇの２
゜３−ジブロモ−６−ナフトエ酸メチルを得た（収率７
４％）。
拌機、温度計２滴下ロートおよび冷却管を装備した１Ω
四つ目フラスコに、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（Ｄ
ＭＦ）３００ｍＱ、アクリル酸メチル３７．６ ｇ （
０，４４モル）、ヨウ化ナトリウム９５．３ｇ （０，
６４モル）を仕込み、４，５−ジブロモ−α、α、α′
、α′−テトラブロモ０−キシレン１２６．５ｇ （０
，２１モル）をＤＭＦ２００ ｍ Ｑに溶かした溶液を
７０〜８０℃で２時間で滴下した。滴下終了後同温度で
熟成し反応を完結させた。冷却後５％亜硫酸水素ナトリ
ウム水溶液に注ぎ晶析した結晶を濾別後、水洗、乾燥後
アセトン２７０ ｍ ｍから再結晶して５３．７ｇの２
゜３−ジブロモ−６−ナフトエ酸メチルを得た（収率７
４％）。
融点＝１３４〜１３５℃
マススペクトル：３４４（Ｍ＋）
工ＨＮＭＲスペクトル（２００，ＭＨｚ 。
ＣＤＣΩ８）、
δ（ｐｐｍ）３．９５（ｓ、３Ｈ，ＣＨａＣＯＯ−）７
．６−８．４（ｍ、５Ｈ，ナフタレン環） 第７図にマススペクトル、第８図にＮＭＲスペクトル、
第９図に赤外線吸収スペクトルを示す。
．６−８．４（ｍ、５Ｈ，ナフタレン環） 第７図にマススペクトル、第８図にＮＭＲスペクトル、
第９図に赤外線吸収スペクトルを示す。
〔２，３−ジブロモ−６−ナフトエ酸の合成〕■Ａ法
攪拌機、温度計９滴下ロートおよび冷却管を装備した２
ａ四つ目フラスコに、２，３−ジブロモ−６−ナフトエ
酸メチル１７７ｇ （０，５１モル）、酢酸５６０ ｍ
ｍ 、水１８０ ｍ Ｑ及び濃硫酸１７７ｇを仕込み
、１０６〜１１１℃に加熱しながら還流下に７時間反応
した。反応後水９３０ｍΩを注加し晶析させ結晶を濾別
した後水洗、乾燥しテトラヒドロフラン１０００ ｍ
（１，から再結晶して１５６ｇの２，３−ジブロモ−６
−ナフトエ酸を得た（収率９２％）。
ａ四つ目フラスコに、２，３−ジブロモ−６−ナフトエ
酸メチル１７７ｇ （０，５１モル）、酢酸５６０ ｍ
ｍ 、水１８０ ｍ Ｑ及び濃硫酸１７７ｇを仕込み
、１０６〜１１１℃に加熱しながら還流下に７時間反応
した。反応後水９３０ｍΩを注加し晶析させ結晶を濾別
した後水洗、乾燥しテトラヒドロフラン１０００ ｍ
（１，から再結晶して１５６ｇの２，３−ジブロモ−６
−ナフトエ酸を得た（収率９２％）。
融点：２８４℃
マススペクトル：３３０（Ｍ＋）
ＩＨＮＭＲスペクトル（２００Ｍ Ｈｚ 。
ＣＤＣｆ１＋ｄＧ−ＤＭＳＯ）
δ（ｐｐｍ）７．８〜Ｒ，６（ｍ、６Ｈ，ナフタレン環
＋Ｃ００Ｈ） 第１０図にマススペクトル、第１１図にＮＭＲスペクト
ル、第１２図に赤外線吸収スペクトルを示す。
＋Ｃ００Ｈ） 第１０図にマススペクトル、第１１図にＮＭＲスペクト
ル、第１２図に赤外線吸収スペクトルを示す。
■Ｂ法
攪拌機、温度計２滴下ロートおよび冷却管を装備した３
００ｍＱ四つロフラスコに、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（ＤＭＦ）１６０ｍｎ、アクリル酸１４．４ｇ （
０，２０モル）、ヨウ化ナトリウム４５．０ｇ （０，
３０モル）を仕込み、４，５−ジプロモーα、α、α′
、α′−テトラブロモー〇−キシレン２９．０ｇ（０，
０５モル）をＤＭＦ６０ ｍ ｍに溶かした溶液を７０
〜８０℃で２時間で滴下した。滴下終了後同温度で熟成
し反応を完結させた。冷却後５％亜硫酸水素ナトリウム
水溶液に注ぎ晶析した結晶を濾別後、水洗、乾燥しテト
ラヒドロフランＬｏｏｍΩから再結晶して１１．７ｇの
２，３−ジブロモ−６−ナフトエ酸を得た（収率７１％
）。
００ｍＱ四つロフラスコに、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（ＤＭＦ）１６０ｍｎ、アクリル酸１４．４ｇ （
０，２０モル）、ヨウ化ナトリウム４５．０ｇ （０，
３０モル）を仕込み、４，５−ジプロモーα、α、α′
、α′−テトラブロモー〇−キシレン２９．０ｇ（０，
０５モル）をＤＭＦ６０ ｍ ｍに溶かした溶液を７０
〜８０℃で２時間で滴下した。滴下終了後同温度で熟成
し反応を完結させた。冷却後５％亜硫酸水素ナトリウム
水溶液に注ぎ晶析した結晶を濾別後、水洗、乾燥しテト
ラヒドロフランＬｏｏｍΩから再結晶して１１．７ｇの
２，３−ジブロモ−６−ナフトエ酸を得た（収率７１％
）。
融点＝２８４℃
マススペクトル：３３０（Ｍ＋）
ＩＨＮＭＲスペクトル（２００ＭＨｚ。
ＣＤＣｆ１＋ｄＧ−ＤＭＳＯ）
δ（ｐｐｍ） ７ 、８〜８．６（ｍ、６Ｈ，ナフタレ
ン環＋−ＣＯＯＨ） 〔２，３−ジブロモ−６−ナフチルメタノールの合成〕 ■Ａ法 攪拌機、温度計、滴下ロートおよび冷却管を装備した１
００ｍＭ四つロフラスコに、テトラヒドロフラン１０
ｍ Ｑ 、水素化リチウムアルミニウム０．１４ｇ （
３，５ミリモル）を仕込み、２，３−ジブロモ−６−ナ
フトエ酸メチル２．０ｇ （５，８ミリモル）をテトラ
ヒドロフラン１０ｍＱに溶かした溶液を０〜１０℃で３
０分で滴下した。滴下終了後同温度で１時間熟成し反応
を完結させた。冷却後１０％塩酸を加え分解し、水洗、
乾燥後シリカゲルクロマトにより精製し０．５５ ｇの
２，３ジブロモ−６−ナフチルメタノールを得た（収率
３０％）。
ン環＋−ＣＯＯＨ） 〔２，３−ジブロモ−６−ナフチルメタノールの合成〕 ■Ａ法 攪拌機、温度計、滴下ロートおよび冷却管を装備した１
００ｍＭ四つロフラスコに、テトラヒドロフラン１０
ｍ Ｑ 、水素化リチウムアルミニウム０．１４ｇ （
３，５ミリモル）を仕込み、２，３−ジブロモ−６−ナ
フトエ酸メチル２．０ｇ （５，８ミリモル）をテトラ
ヒドロフラン１０ｍＱに溶かした溶液を０〜１０℃で３
０分で滴下した。滴下終了後同温度で１時間熟成し反応
を完結させた。冷却後１０％塩酸を加え分解し、水洗、
乾燥後シリカゲルクロマトにより精製し０．５５ ｇの
２，３ジブロモ−６−ナフチルメタノールを得た（収率
３０％）。
融点：１４０〜１４．１ ℃
マススペクトル：３１６（Ｍ＋）
ＩＨＮＭＲスペクトル（２００Ｍ Ｈｚ 。
ＣＤＣΩ８）
δ（ｐｐｍ） １．８ （ｓ 、 Ｌ Ｈ，−ＣＨ２０
Ｈ）４．８ （ｓ、２Ｈ，−ＣＨ２０Ｈ） ７ 、２−８ 、２ （ｍ 、 ５ Ｈ、ナフタレン環
） 第１３図にマススペクトル、第１４図にＮＭＲスペクト
ル、第１５図に赤外線吸収スペクトルを示す。
Ｈ）４．８ （ｓ、２Ｈ，−ＣＨ２０Ｈ） ７ 、２−８ 、２ （ｍ 、 ５ Ｈ、ナフタレン環
） 第１３図にマススペクトル、第１４図にＮＭＲスペクト
ル、第１５図に赤外線吸収スペクトルを示す。
■Ｂ法
攪拌機、温度計２滴下ロートおよび冷却管を装備した３
Ω四つ目フラスコに、２，３−ジブロモ−６−ナフトエ
酸１５６ｇ （０，４７モル）及びテトラヒドロフラン
１９００ｍΩを仕込み、系全体をＡｒガスで置換した後
、０〜１０℃でＩＭのボラン−テトラヒドロフラン溶液
６００ｍｕ（０，６モル）を１．５時間で滴下した。滴
下終了後３０〜４０℃で２．５時間熟成し反応を完結さ
せた。
Ω四つ目フラスコに、２，３−ジブロモ−６−ナフトエ
酸１５６ｇ （０，４７モル）及びテトラヒドロフラン
１９００ｍΩを仕込み、系全体をＡｒガスで置換した後
、０〜１０℃でＩＭのボラン−テトラヒドロフラン溶液
６００ｍｕ（０，６モル）を１．５時間で滴下した。滴
下終了後３０〜４０℃で２．５時間熟成し反応を完結さ
せた。
冷却後水１５０ ｍ Ｑを滴下して加水分解後、水洗。
乾燥した後減圧濃縮し残さをイソプロピルアルコール６
００ ｍ Ｑから再結晶して１４４ｇの２，３−ジブロ
モ−６−ナフチルメタノールを得た（収率９５％）。
００ ｍ Ｑから再結晶して１４４ｇの２，３−ジブロ
モ−６−ナフチルメタノールを得た（収率９５％）。
融点＝１４０〜１４１℃
マススペクトル： ３１６ （Ｍ＋）
”ＨＮＭＲスペクトル（２００Ｍ Ｈｚ 。
ＣＤ ＣＱ ｓ）
δ（ｐｐｍ）１．８−（ｓ、ＩＨ，−ＣＨｚＯＨ）４．
８ （ｓ、２Ｈ，−ＣＨ２０Ｈ） ７．２〜８．２（ｍ、５Ｈ，ナフタレ ン環） 〔６−プロモメチルー２，３−ジブロモナフタレンの合
成〕 攪拌機、温度計、および冷却管を装備した３００ｍＡの
三つロフラスコに、２，３−ジブロモ−６−ナフチルメ
タノール８．０ｇ （２５ミリモル）、４７％臭化水素
酸１６ｇ、ベンゼン３０ｍＡ及び濃硫酸４ｇを仕込み、
還流下２時間反応した。
８ （ｓ、２Ｈ，−ＣＨ２０Ｈ） ７．２〜８．２（ｍ、５Ｈ，ナフタレ ン環） 〔６−プロモメチルー２，３−ジブロモナフタレンの合
成〕 攪拌機、温度計、および冷却管を装備した３００ｍＡの
三つロフラスコに、２，３−ジブロモ−６−ナフチルメ
タノール８．０ｇ （２５ミリモル）、４７％臭化水素
酸１６ｇ、ベンゼン３０ｍＡ及び濃硫酸４ｇを仕込み、
還流下２時間反応した。
冷却後分液し、ベンゼン層を水洗後乾燥して、減圧濃縮
後得られた残さをアセトン４０ｍＱより再結晶して８，
５ ｇの６−プロモメチルー２，３ジブロモナフタレン
を得た（収率９ｏ％）。
後得られた残さをアセトン４０ｍＱより再結晶して８，
５ ｇの６−プロモメチルー２，３ジブロモナフタレン
を得た（収率９ｏ％）。
融点：１０５〜１０６℃
マススペクトル： ３７８ （Ｍ＋）
工ＨＮＭＲスペクトル（２００ＭＨｚ。
ＣＤＣｆ１ａ）
δ（ｐｐｍ） ４．６ （ｓ 、 ２Ｈ，−ＣＨｚＢ
ｒ）７．４〜８．２（ｍ、５Ｈ，ナフタレ ン環） 第１６図にマススペクトル、第１７図にＮＭＲスペクト
ル、第１８図に赤外線吸収スペクトルを示す。
ｒ）７．４〜８．２（ｍ、５Ｈ，ナフタレ ン環） 第１６図にマススペクトル、第１７図にＮＭＲスペクト
ル、第１８図に赤外線吸収スペクトルを示す。
［６−ｔｅｒｔ−ブトキシメチル−２，３−ジブロモナ
フタレンの合成］ 攪拌機、温度計、および冷却管を装備した１００ｍμ三
つロフラスコに、トルエン４０ｍＲ，ｔｅｒｔ−ブトキ
シカリウム２．６ｇ （２３，３ミリモル）を仕込み、
６−プロモメチルー２，３−ジブロモナフタレン６．０
ｇ（１５，５ミリモル）をテトラヒドロフラン２０ｍＱ
に溶かした溶液を２０〜３０℃で３０分で滴下した。滴
下終了後同温度で３時間熟成し反応を完結させた。反応
後水洗、乾燥し減圧濃縮して残さをシリカゲルクロマト
グラフィーにより精製し、ｎ−ヘキサン／ベンゼン＝８
／２で溶出された部分より５．０ ｇの６−ｔｅｒｔ
−ブトキシメチル−２，３−ジブロモナフタレンを得た
（収率８６％）。
フタレンの合成］ 攪拌機、温度計、および冷却管を装備した１００ｍμ三
つロフラスコに、トルエン４０ｍＲ，ｔｅｒｔ−ブトキ
シカリウム２．６ｇ （２３，３ミリモル）を仕込み、
６−プロモメチルー２，３−ジブロモナフタレン６．０
ｇ（１５，５ミリモル）をテトラヒドロフラン２０ｍＱ
に溶かした溶液を２０〜３０℃で３０分で滴下した。滴
下終了後同温度で３時間熟成し反応を完結させた。反応
後水洗、乾燥し減圧濃縮して残さをシリカゲルクロマト
グラフィーにより精製し、ｎ−ヘキサン／ベンゼン＝８
／２で溶出された部分より５．０ ｇの６−ｔｅｒｔ
−ブトキシメチル−２，３−ジブロモナフタレンを得た
（収率８６％）。
融点：５８〜５９°Ｃ
マススペクトル：３７２（Ｍ＋）
”ＨＮＭＲスペクトル（２００Ｍ Ｈｚ 。
ＣＤＣＱａ）
δ（ＰＰｍ） １．３ （ｓ 、 ９ Ｈ，−Ｃ（
旦■ユｈ）４．６（ｓ、２Ｈ，−ＣＨ２０ ７，４−８，１（ｍ、５Ｈ，ナフタ レン環） 第１９図にマススペクトル、第２０図にＮＭＲスペクト
ル、第２１図に赤外線吸収スペク１−ルを示す。
旦■ユｈ）４．６（ｓ、２Ｈ，−ＣＨ２０ ７，４−８，１（ｍ、５Ｈ，ナフタ レン環） 第１９図にマススペクトル、第２０図にＮＭＲスペクト
ル、第２１図に赤外線吸収スペク１−ルを示す。
（６−ｔｅｒｔ−ブトキシメチル−２，３−ジシアノナ
アタレンの合成〕 攪拌機、温度計、および冷却管を装備した１００ｍΩの
三つロフラスコに、６−ｔｅｒｔ−ブトキシメチル−２
，３−ジブロモナフタレン２．１ｇ（５，６ミリモル）
、シアン化第−銅１．６ｇ（１７ミリモル）及びＮ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド２５ｍＱを仕込み、１５０〜１
５５℃で２時間反応した。
アタレンの合成〕 攪拌機、温度計、および冷却管を装備した１００ｍΩの
三つロフラスコに、６−ｔｅｒｔ−ブトキシメチル−２
，３−ジブロモナフタレン２．１ｇ（５，６ミリモル）
、シアン化第−銅１．６ｇ（１７ミリモル）及びＮ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド２５ｍＱを仕込み、１５０〜１
５５℃で２時間反応した。
冷却後反応液を１５％アンモニア水７５ｍＱに注ぎ結晶
を晶析させた。晶析した結晶をベンゼン１００ ｍ Ｑ
で抽出後、減圧濃縮し得られた残さをシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製し、ベンゼン／酢酸エチ
ル−９８７２により溶出してきた部分より６−ｔｅｒｔ
−ブトキシメチル−２゜３−ジシアノナフタレン０．９
５ｇ を得た（収率６３％）。
を晶析させた。晶析した結晶をベンゼン１００ ｍ Ｑ
で抽出後、減圧濃縮し得られた残さをシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製し、ベンゼン／酢酸エチ
ル−９８７２により溶出してきた部分より６−ｔｅｒｔ
−ブトキシメチル−２゜３−ジシアノナフタレン０．９
５ｇ を得た（収率６３％）。
融点＝１３０〜１３１°Ｃ
マススペクトル：２６４（Ｍ＋）
”ＨＮＭＲスペクトル（２００Ｍ Ｈｚ 。
ＣＤＣΩ３）
δ（ｐｐｍ）１．３（ｓ、９Ｈ，−Ｃ（ｐＨｓ庁）４．
６５（ｓ、２Ｈ，−ＣＨ２Ｏ−） ７．７−８．３（ｍ、５Ｈ，ナフタ レン環） ＩＲスペクｌ〜ル（νＣＮ）２２００印−１第２２図に
マススペクトル、第２３図にＮＭＲスペクトル、第２４
図に赤外線吸収スペクトルを示す。
６５（ｓ、２Ｈ，−ＣＨ２Ｏ−） ７．７−８．３（ｍ、５Ｈ，ナフタ レン環） ＩＲスペクｌ〜ル（νＣＮ）２２００印−１第２２図に
マススペクトル、第２３図にＮＭＲスペクトル、第２４
図に赤外線吸収スペクトルを示す。
実施例２
〔６−アミロキシメチル−２，３−ジブロモナフタレン
の合成〕 一４〇− 攪拌機、温度計、および冷却管を装備した１００ｍＱ三
つロフラスコに、トルエン３００ ｍ Ｑ、及びナトリ
ウムアミロキサイド４４．３ｇ（４００ミリモル）を仕
込み、６−プロモメチルー２，３−ジブロモナフタレン
１１９．８ｇ（３１０ミリモル）をトルエン３００ ｍ
Ｑに溶かした溶液を１０８〜１１０℃で１時間で滴下
した。滴下終了後同温度で３時間熟成し反応を完結させ
た。反応後水洗。
の合成〕 一４〇− 攪拌機、温度計、および冷却管を装備した１００ｍＱ三
つロフラスコに、トルエン３００ ｍ Ｑ、及びナトリ
ウムアミロキサイド４４．３ｇ（４００ミリモル）を仕
込み、６−プロモメチルー２，３−ジブロモナフタレン
１１９．８ｇ（３１０ミリモル）をトルエン３００ ｍ
Ｑに溶かした溶液を１０８〜１１０℃で１時間で滴下
した。滴下終了後同温度で３時間熟成し反応を完結させ
た。反応後水洗。
乾燥し減圧濃縮して残さをシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製し、ｎ−ヘキサン／ベンゼン＝８／２で溶
出された部分より１２０．２ｇの６−アミロキシメチル
−２，３−ジブロモナフタレンを得た（収率１００％）
。
ーにより精製し、ｎ−ヘキサン／ベンゼン＝８／２で溶
出された部分より１２０．２ｇの６−アミロキシメチル
−２，３−ジブロモナフタレンを得た（収率１００％）
。
マススペクトル：３８６（Ｍ＋）
”ＨＮＭＲスペクトル（２００ＭＨｚ。
ＣＤＣ１１ｇ）
δ（ｐｐｍ） ｏ、ｓ−３，６（ｍ、１１Ｈ。
ｎ −Ｃ５Ｈｘｘ○−）
４．６（ｓ、２．Ｈ，−ＣＨ２０）
７．４−８．１（ｍ、５Ｈ，ナフタレ
ン環）
第２５図にマススペクトル、第２６図にＮＭＲスペクト
ル、第２７図に赤外線吸収スペクトルを示す。
ル、第２７図に赤外線吸収スペクトルを示す。
〔６−アミロキシメチル−２，３−ジシアノナフタレン
の合成〕 攪拌機、温度計、および冷却管を装備した３Ｑの三つロ
フラスコに、６−アミロキシメチル−２゜３−ジブロモ
ナフタレン１２０ｇ （３１０ミリモル）、シアン化第
−銅８６ｇ （９３０ミリモル）及びＮ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド１．３０を仕込み、１５０〜１５５℃で３
時間反応した。冷却後反応液を１５％アンモニア水３．
３０ に注ぎ結晶を晶析させた。晶析した結晶をベンゼ
ン１．５Ｑで抽出後、減圧濃縮し得られた残さをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、ベンゼン
／酢酸エチル＝９５１５により溶出してきた部分より６
−アミロキシメチル−２，３−ジシアノナフタレン５５
．３ ｇを得た（収率６４％）。
の合成〕 攪拌機、温度計、および冷却管を装備した３Ｑの三つロ
フラスコに、６−アミロキシメチル−２゜３−ジブロモ
ナフタレン１２０ｇ （３１０ミリモル）、シアン化第
−銅８６ｇ （９３０ミリモル）及びＮ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド１．３０を仕込み、１５０〜１５５℃で３
時間反応した。冷却後反応液を１５％アンモニア水３．
３０ に注ぎ結晶を晶析させた。晶析した結晶をベンゼ
ン１．５Ｑで抽出後、減圧濃縮し得られた残さをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、ベンゼン
／酢酸エチル＝９５１５により溶出してきた部分より６
−アミロキシメチル−２，３−ジシアノナフタレン５５
．３ ｇを得た（収率６４％）。
融点＝７６〜７８℃
マススペクトル：２７８（Ｍ＋）
工ＨＮＭＲスペクトル（２００Ｍ Ｈｚ 。
ＣＤＣＱａ）
δ（ｐｐｍ）０．８−３．６（ｍ、１１Ｈ。
ｎ−Ｃ６Ｈ工１−〇−）
４ 、７ （ｓ 、 ２ Ｈ、−ＣＨ２−○−）７．７
−８．３（ｍ、５Ｈ，ナフタ レン環） ＩＲスペクトル（ｖ ＣＮ） ２２１０ａｎ−’第２８
図にマススペクトル、第２９図にＮＭＲスペクトル、第
３０図に赤外線吸収スペクトルを示す。
−８．３（ｍ、５Ｈ，ナフタ レン環） ＩＲスペクトル（ｖ ＣＮ） ２２１０ａｎ−’第２８
図にマススペクトル、第２９図にＮＭＲスペクトル、第
３０図に赤外線吸収スペクトルを示す。
実施例３
〔６−カプリロイルオキシメチル−２，３−ジブロモナ
フタレンの合成〕 攪拌機、温度計、滴下ロートおよび冷却管を装備した５
００ｍΩの四つ目フラスコに、２，３−ジブロモ−６−
ナフチルメタノール７９．０ｇ（０，２４，４モル）及
びトルエン３００ｍΩを仕込み、ｎ−カプリル酸クロリ
ド４．４．５ｇ（０，２７モル）を１０５〜１１０℃で
１時間で滴下した。
フタレンの合成〕 攪拌機、温度計、滴下ロートおよび冷却管を装備した５
００ｍΩの四つ目フラスコに、２，３−ジブロモ−６−
ナフチルメタノール７９．０ｇ（０，２４，４モル）及
びトルエン３００ｍΩを仕込み、ｎ−カプリル酸クロリ
ド４．４．５ｇ（０，２７モル）を１０５〜１１０℃で
１時間で滴下した。
滴下終了後１１０〜１１５℃で熟成し反応を完結させた
。冷却後６％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後水洗、
乾燥し、減圧濃縮し得られた残さをアセトン６００ｍＱ
より再結晶して１０３ｇの６−カプリロイルオキシメチ
ル−２，３−ジブロモナフタレンを得た（収率９１％）
。
。冷却後６％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後水洗、
乾燥し、減圧濃縮し得られた残さをアセトン６００ｍＱ
より再結晶して１０３ｇの６−カプリロイルオキシメチ
ル−２，３−ジブロモナフタレンを得た（収率９１％）
。
融点＝４３〜４４℃
マススペクトル：４４２（Ｍ＋）
”ＨＮＭＲスペクトル（２００Ｍ Ｈｚ 。
ＣＤＣＱａ）
δ（Ｐ ｐｍ） ０．７〜２−５ （ｍ ＋ １５
Ｈ＋ｎ−Ｃ７Ｈ１１１ＣＯＯ−） ５．２（ｓ、２Ｈ，−ＣＨｚＯＣＯ） ７．４−８．１（ｍ、５Ｈ，ナフタレ ン環） 第３１図にマススペクトル、第３２図にＮＭＲスペクト
ル、第３３図に赤外線吸収スペクトルを示す。
Ｈ＋ｎ−Ｃ７Ｈ１１１ＣＯＯ−） ５．２（ｓ、２Ｈ，−ＣＨｚＯＣＯ） ７．４−８．１（ｍ、５Ｈ，ナフタレ ン環） 第３１図にマススペクトル、第３２図にＮＭＲスペクト
ル、第３３図に赤外線吸収スペクトルを示す。
〔６−カプリロイルオキシメチル−２，３−ジシ躬
アノナフタレンの合成〕
攪拌機、温度計、滴下ロートおよび冷却管を装備した２
Ｑの四つロフラスコに、６−カプリロイルオキシメチル
−２，３−ジブロモナフタレン９４．０ｇ（０，２１１
モル）、シアン化第−銅及びＮ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド８００ｍΩを仕込み、１５０〜１５５℃で２時間反
応した。冷却後反応液を１５％アンモニア水２０００ｍ
ｆｌに注ぎ結晶を晶析させた。晶析した結晶をテトラヒ
ドロフラン２０００ ｍ Ｑで抽出後、減圧濃縮し得ら
れた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し、ベンゼン／酢酸エチル＝９８／２により溶出し
てきた部分より６−カプリロイルオキシメチル−２，３
−ジシアノナフタレン５１ｇを得た（収率７２％）。
Ｑの四つロフラスコに、６−カプリロイルオキシメチル
−２，３−ジブロモナフタレン９４．０ｇ（０，２１１
モル）、シアン化第−銅及びＮ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド８００ｍΩを仕込み、１５０〜１５５℃で２時間反
応した。冷却後反応液を１５％アンモニア水２０００ｍ
ｆｌに注ぎ結晶を晶析させた。晶析した結晶をテトラヒ
ドロフラン２０００ ｍ Ｑで抽出後、減圧濃縮し得ら
れた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し、ベンゼン／酢酸エチル＝９８／２により溶出し
てきた部分より６−カプリロイルオキシメチル−２，３
−ジシアノナフタレン５１ｇを得た（収率７２％）。
融点＝８７〜８８°Ｃ
マススペクトル：３３４（Ｍ＋）
ＩＨＮＭＲスペクトル（２００Ｍ Ｈｚ 。
ＣＤＣｕａ）
δ（ｐｐｍ）０．７−２．５（ｍ、１５Ｈ，ｎＣ７Ｈ１
５ＣＯＯ−） ５．３（ｓ、２Ｈ，−ＣＨｚＯＣＯ−）７．７〜８．４
（ｍ、５Ｈ，ナフタレ ン環） ＩＲスペクトル（νＣＮ）２２１０Ｇ−１第３４図にマ
ススペクトル、第３５図にＮＭＲスペクトル、第３６図
に赤外線吸収スペクトルを示す。
５ＣＯＯ−） ５．３（ｓ、２Ｈ，−ＣＨｚＯＣＯ−）７．７〜８．４
（ｍ、５Ｈ，ナフタレ ン環） ＩＲスペクトル（νＣＮ）２２１０Ｇ−１第３４図にマ
ススペクトル、第３５図にＮＭＲスペクトル、第３６図
に赤外線吸収スペクトルを示す。
実施例４
〔６−カプロイロキジメチルー２，３−ジブロモナフタ
レンの合成〕 攪拌機、温度計２滴下ロートおよび冷却管を装備した５
００ ｍ （ｌの四つ目フラスコに、２，３−ジブロ
モ−６−ナフチルメタノール８７．０ｇ（０，２７モル
）及びトルエン２６０ｍΩを仕込み、ｎ−カプロン酸ク
ロリド４７．３ ｇ （０，３５モル）を１０５〜１１
０℃で３０分で滴下した。滴下終了後１１０〜１１５℃
で熟成し反応を完結させた。
レンの合成〕 攪拌機、温度計２滴下ロートおよび冷却管を装備した５
００ ｍ （ｌの四つ目フラスコに、２，３−ジブロ
モ−６−ナフチルメタノール８７．０ｇ（０，２７モル
）及びトルエン２６０ｍΩを仕込み、ｎ−カプロン酸ク
ロリド４７．３ ｇ （０，３５モル）を１０５〜１１
０℃で３０分で滴下した。滴下終了後１１０〜１１５℃
で熟成し反応を完結させた。
冷却後６％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後水洗、乾
燥し、減圧濃縮し得られた残さをアセトン５００ ｍ
Ａより再結晶して１１１ｇの６−カプロイロキジメチル
ー２，３−ジブロモナフタレンを得た（収率９９％）。
燥し、減圧濃縮し得られた残さをアセトン５００ ｍ
Ａより再結晶して１１１ｇの６−カプロイロキジメチル
ー２，３−ジブロモナフタレンを得た（収率９９％）。
融点：４４〜４５℃
マススペクトル：４１４（Ｍ＋）
”ＨＮＭＲスペクトル（２００Ｍ Ｈｚ 。
ＣＤＣＲａ）
δ（ｐｐｍ）０．８〜２．５（ｍ、１１Ｈ。
ｎ −Ｃ５Ｈｉｆ ＣＯ０−）
５．２（ｓ、２Ｈ，−ＣＨｚＯＣＯ−）７．４−８．１
（ｍ、５Ｈ，ナフタ レン環） 第３７図にマススペクトル、第３８図にＮＭＲスペクト
ル、第３９図に赤外線吸収スペクトルを示す。
（ｍ、５Ｈ，ナフタ レン環） 第３７図にマススペクトル、第３８図にＮＭＲスペクト
ル、第３９図に赤外線吸収スペクトルを示す。
〔６−カプロイロキジメチルー２，３−ジシアノナフタ
レンの合成〕 攪拌機、温度計９滴下ロートおよび冷却管を装備した３
Ｑの四つロフラスコに、６−カプロイロキジメチルー２
，３−ジブロモナフタレン１１１ｇ （０，２７モ／Ｌ
／） 、 シフ”／化第−銅７３．０ ｇ（０，８０モ
ル）及びＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドＩＱ、を仕込み
、１５０〜１５５℃で３時間反応した。冷却後反応液を
１５％アンモニア水２５００ｍＱに注ぎ結晶を晶析させ
た。晶析した結晶をベンゼン１５００ｍＱで抽出後、減
圧濃縮し得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、ベンゼン／酢酸エチル＝９８／２
により溶出してきた部分より６−カプロイロキジメチル
ー２，３−ジシアノナフタレン５６．４ ｇを得た（収
率６８％）。
レンの合成〕 攪拌機、温度計９滴下ロートおよび冷却管を装備した３
Ｑの四つロフラスコに、６−カプロイロキジメチルー２
，３−ジブロモナフタレン１１１ｇ （０，２７モ／Ｌ
／） 、 シフ”／化第−銅７３．０ ｇ（０，８０モ
ル）及びＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドＩＱ、を仕込み
、１５０〜１５５℃で３時間反応した。冷却後反応液を
１５％アンモニア水２５００ｍＱに注ぎ結晶を晶析させ
た。晶析した結晶をベンゼン１５００ｍＱで抽出後、減
圧濃縮し得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、ベンゼン／酢酸エチル＝９８／２
により溶出してきた部分より６−カプロイロキジメチル
ー２，３−ジシアノナフタレン５６．４ ｇを得た（収
率６８％）。
融点＝１１４〜１１５℃
マススペクトル：３０６（Ｍ＋）
”ＨＮＭＲスペクトル（２００ＭＨｚ。
ＣＤ ＣＱ ｓ）
δ（ｐｐｍ）０．８−２．５（ｍ、１１Ｈ。
ｎ −Ｃｓ Ｈ１１ＣＯＯ−）
５．３（ｓ、２Ｈ，ＣＨｚＯＣＯ）
７．７−８．４（ｍ、５Ｈ，ナツタ
レン環）
ＩＲスペクトル（ｖ ＣＮ） ２２００ａｎ−’第４０
図にマススペクトル、第４１図にＮＭＲスペクトル、第
４２図に赤外線吸収スペクトルを示す。
図にマススペクトル、第４１図にＮＭＲスペクトル、第
４２図に赤外線吸収スペクトルを示す。
実施例５
６−ｔｅｒｔ−ブトキシメチル−２，３−ジシアノナフ
タレン、６−アミロキシメチル−２，３−ジシアノナフ
タレン、６−カプリロイルオキシメチル−２，３−ジシ
アノナフタレン、６−カプロイロキジメチルー２，３−
ジシアノナフタレンの、エタノール、ベンゼン、トルエ
ン、シクロヘキサン、メチルエチルケトン、クロロホル
ムに対する溶解性を調べたところ、いずれも良好な可溶
性を示した。
タレン、６−アミロキシメチル−２，３−ジシアノナフ
タレン、６−カプリロイルオキシメチル−２，３−ジシ
アノナフタレン、６−カプロイロキジメチルー２，３−
ジシアノナフタレンの、エタノール、ベンゼン、トルエ
ン、シクロヘキサン、メチルエチルケトン、クロロホル
ムに対する溶解性を調べたところ、いずれも良好な可溶
性を示した。
また、けい光スペクトルは溶媒効果を受けるので、それ
ぞれをエタノール溶液（１０−’ｍｏΩ／Ｑ）として、
けい光スペクトルを測定（日立層ＭＰＦ−４型けい光ス
ペクトル測定装置、光源：キャノンランプ）した。測定
結果を第１表に示す。
ぞれをエタノール溶液（１０−’ｍｏΩ／Ｑ）として、
けい光スペクトルを測定（日立層ＭＰＦ−４型けい光ス
ペクトル測定装置、光源：キャノンランプ）した。測定
結果を第１表に示す。
第 １ 表
〔発明の効果〕
本発明の化合物は、汎用の有機溶媒に十分な溶解性を有
すると云う効果があるので、原料化合物として・の応用
展開性に優れている。また、新規なけい光物質としても
有用である。
すると云う効果があるので、原料化合物として・の応用
展開性に優れている。また、新規なけい光物質としても
有用である。
第１図、第４図、第７図、第１０図、第１３図。
第１６図、第１９図、第２２図、第２５図、第２８図、
第３１図、第３４図、第３７図および第４０図は本発明
の実施例で合成した化合物のマススペクトル図、第２図
、第５図、第８図、第１１図、第１４図、第１７図、第
２０図、第２３図。 第２６図、第２９図、第３２図、第３５図、第３８図お
よび第４１図は本発明の実施例で合成した化合物のＮＭ
Ｒスペクトル図、第３図、第６図。 第９図、第１２図、第１５図、第１８図、第２１図、第
２４図、第２７図、第３０図、第３３図。 第３６図、第３９図および第４２図は本発明の実施例で
合成した化合物の赤外線吸収スペクトル図である。 ■ 嶋 廼 コ； マ、 哀 昼 ペ 偽 ≧、 爺 逸 くミ Σ ス 手続補正書彷幻
第３１図、第３４図、第３７図および第４０図は本発明
の実施例で合成した化合物のマススペクトル図、第２図
、第５図、第８図、第１１図、第１４図、第１７図、第
２０図、第２３図。 第２６図、第２９図、第３２図、第３５図、第３８図お
よび第４１図は本発明の実施例で合成した化合物のＮＭ
Ｒスペクトル図、第３図、第６図。 第９図、第１２図、第１５図、第１８図、第２１図、第
２４図、第２７図、第３０図、第３３図。 第３６図、第３９図および第４２図は本発明の実施例で
合成した化合物の赤外線吸収スペクトル図である。 ■ 嶋 廼 コ； マ、 哀 昼 ペ 偽 ≧、 爺 逸 くミ Σ ス 手続補正書彷幻
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒは炭素数１〜２０の直鎖、分枝または環状ア
ルキル基あるいは置換基を有することもあるアリール基
、ｎは０または１を表す）で示される２，３−ジシアノ
−６−ナフチルメタノール誘導体。 ２、ｏ−キシレンと臭素を反応させて、４，５−ジブロ
モ−ｏ−キシレンとし、これを白色光線照射下において
Ｎ−ブロモスクシンイミドと反応させて次式（IV）で示
される４，５−ジブロモ−α，α，α′，α′−テトラ
ブロモ−ｏ−キシレンとし、 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 該化合物（IV）をヨウ化ナトリウムの存在下でアクリル
酸メチルと反応させて次式（Ｖ）で示される２，３−ジ
ブロモ−６−ナフトエ酸メチルとし、 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 該化合物（Ｖ）を還元して次式（VI）で示される２，３
−ジブロモ−６−ナフチルメタノールとし、 ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） 該化合物（VI）を次式（VIII）で示されるハロゲン化物 ＲＣｌ（VIII） （式中、Ｒは炭素数１〜２０の直鎖、分枝または環状ア
ルキル基あるいは置換基を有することもあるアリール基
を表す）と反応させるか、またはハロゲン化水素でハロ
ゲン化した後、次式（IX） ＲＯＭ（IX） （式中、Ｒは前記と同じ意味を表し、Ｍは水素原子また
はアルカリ金属原子を表す）で示されるアルコールまた
は金属アルコラードと反応し、次式（Ｘ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） （式中、Ｒは前記と同じ意味を表す）で示される２，３
−ジブロモ−６−ナフチルメタノール誘導体とし、該化
合物（Ｘ）にシアン化第一銅を反応させることを特徴と
する一般式（ I ）▲数式、化学式、表等があります▼
（ I ） （式中、Ｒは前記と同じ意味を表す）で示される２，３
−ジシアノ−６−ナフチルメタノール誘導体の製法。 ３、請求項第２項において、次式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） で示される該化合物（IV）をヨウ化ナトリウムの存在下
でアクリル酸メチルと反応させて次式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） で示される２，３−ジブロモ−６−ナフトエ酸メチルを
加水分解して次式（VII）で示される２，３−ジブロモ
−６−ナフトエ酸とし、 ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） 該化合物（VII）を還元して次式（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） で示される２，３−ジブロモ−６−ナフチルメタノール
とすることを特徴とする一般式（ I ）▲数式、化学式
、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒは前記と同じ意味を表す）で示される２，３
−ジシアノ−６−ナフチルメタノール誘導体の製法。 ４、請求項第２項において、次式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） で示される４，５−ジブロモ−α，α，α′，α′−テ
トラブロモ−ｏ−キシレンをアクリル酸と反応させて、
次式（VII）で示される２，３−ジブロモ−６−ナフト
エ酸とし、 ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） 該化合物（VII）を還元して次式（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） で示される２，３−ジブロモ−６−ナフチルメタノール
とすることを特徴とする一般式（ I ）▲数式、化学式
、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒは前記と同じ意味を表す）で示される２，３
−ジシアノ−６−ナフチルメタノール誘導体の製法。 ５、ｏ−キシレンと臭素を反応させて、４，５−ジブロ
モ−ｏ−キシレンとし、これを白色光線照射下において
Ｎ−ブロモスクシンイミドと反応させて次式（IV）で示
される４，５−ジブロモ−α、α、α′、α′−テトラ
ブロモ−ｏ−キシレンとし、 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 該化合物（IV）をヨウ化ナトリウムの存在下でアクリル
酸メチルと反応させて次式（Ｖ）で示される２，３−ジ
ブロモ−６−ナフトエ酸メチルとし、 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 該化合物（Ｖ）を還元して次式（VI）で示される２，３
−ジブロモ−６−ナフチルメタノールとし、▲数式、化
学式、表等があります▼（VI） 該化合物（VI）を次式（Ｘ I ）で示される酸ハライド
ＲＣＯＸ（Ｘ I ） （式中、Ｒは炭素数１〜２０の直鎖、分枝または環状ア
ルキル基あるいは置換基を有することもあるアリール基
、ＸはＣｌ、Ｂｒ、Ｉを表す）と反応させて次式（ＸI
I）で示される２，３−ジブロモ−６−ナフチルメタノ
ール誘導体とし、▲数式、化学式、表等があります▼（
ＸII） （式中、Ｒは前記と同じ意味を表す）該化合物（ＸII）
にシアン化第一銅を反応させることを特徴とする一般式
（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒは前記と同じ意味を表す）で示される２，３
−ジシアノ−６−ナフチルメタノール誘導体の製法。 ６、請求項第５項において、次式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） で示される該化合物（IV）をヨウ化ナトリウムの存在下
でアクリル酸メチルと反応させて得られる次式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） で示される２，３−ジブロモ−６−ナフトエ酸メチルを
加水分解して次式（VII）で示される２，３−ジブロモ
−６−ナフトエ酸とし、 ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） 該化合物（VII）を還元して次式（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） で示される２，３−ジブロモ−６−ナフチルメタノール
とすることを特徴とする一般式（ I ）▲数式、化学式
、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒは前記と同じ意味を表す）で示される２，３
−ジシアノ−６−ナフチルメタノール誘導体の製法。 ７、請求項第５項において、次式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） で示される４，５−ジブロモ−α，α，α′，α′−テ
トラブロモ−ｏ−キシレンをアクリル酸と反応させて、
次式（VII）で示される２，３−ジブロモ−６−ナフト
エ酸とし、 ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） 該化合物（VII）を還元して次式（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） 示される２，３−ジブロモ−６−ナフチルメタノールと
することを特徴とする一般式（ I ）▲数式、化学式、
表等があります▼（ I ） （式中、Ｒは前記と同じ意味を表す）で示される２，３
−ジシアノ−６−ナフチルメタノール誘導体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2354989A JPH02202864A (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | ２，３―ジシアノ―６―ナフチルメタノール誘導体およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2354989A JPH02202864A (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | ２，３―ジシアノ―６―ナフチルメタノール誘導体およびその製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02202864A true JPH02202864A (ja) | 1990-08-10 |
Family
ID=12113567
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2354989A Pending JPH02202864A (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 | ２，３―ジシアノ―６―ナフチルメタノール誘導体およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02202864A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007023006A (ja) * | 2004-08-05 | 2007-02-01 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法 |
| JP2010535746A (ja) * | 2007-08-03 | 2010-11-25 | レ ラボラトワール セルヴィエ | （７−メトキシ−１−ナフチル）アセトニトリル合成のための新規な方法及びアゴメラチンの合成における用途 |
-
1989
- 1989-01-31 JP JP2354989A patent/JPH02202864A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007023006A (ja) * | 2004-08-05 | 2007-02-01 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ハロゲン置換ベンゼンジメタノールの製造方法 |
| JP2010535746A (ja) * | 2007-08-03 | 2010-11-25 | レ ラボラトワール セルヴィエ | （７−メトキシ−１−ナフチル）アセトニトリル合成のための新規な方法及びアゴメラチンの合成における用途 |
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