JPH0220328U - - Google Patents

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JPH0220328U
JPH0220328U JP9815188U JP9815188U JPH0220328U JP H0220328 U JPH0220328 U JP H0220328U JP 9815188 U JP9815188 U JP 9815188U JP 9815188 U JP9815188 U JP 9815188U JP H0220328 U JPH0220328 U JP H0220328U
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inert gas
semiconductor wafers
heat
evacuation chamber
preliminary evacuation
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示す縦断面図、第
2図は従来例の熱処理装置を示す縦断面図である
。 1……炉芯管、2……ヒータ、3……ガス、4
……不活性ガス源、5……半導体ウエーハ、6…
…ウエーハボート、7……真空ポンプ、8……排
気バルブ、9……不活性ガス導入バルブ、10a
,10b……扉、12……ロードロツク、13…
…排気ダクト配管バルブ、14……排気ダクト、
15……圧力ゲージ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半導体ウエーハを大気圧にて熱処理する装置に
    おいて、半導体ウエハの熱処理用炉芯管の開口部
    に連結され、真空排気される予備真空排気室と、
    該予備真空排気室内に不活性ガスを導入しその内
    部を不活性ガス雰囲気に置換する不活性ガス源と
    を有することを特徴とする半導体ウエーハの熱処
    理装置。
JP9815188U 1988-07-25 1988-07-25 Pending JPH0220328U (ja)

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