JPH0220328U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0220328U JPH0220328U JP1988098151U JP9815188U JPH0220328U JP H0220328 U JPH0220328 U JP H0220328U JP 1988098151 U JP1988098151 U JP 1988098151U JP 9815188 U JP9815188 U JP 9815188U JP H0220328 U JPH0220328 U JP H0220328U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inert gas
- semiconductor wafers
- heat
- evacuation chamber
- preliminary evacuation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Description
第１図は本考案の一実施例を示す縦断面図、第
２図は従来例の熱処理装置を示す縦断面図である
。 １……炉芯管、２……ヒータ、３……ガス、４
……不活性ガス源、５……半導体ウエーハ、６…
…ウエーハボート、７……真空ポンプ、８……排
気バルブ、９……不活性ガス導入バルブ、１０ａ
，１０ｂ……扉、１２……ロードロツク、１３…
…排気ダクト配管バルブ、１４……排気ダクト、
１５……圧力ゲージ。
２図は従来例の熱処理装置を示す縦断面図である
。 １……炉芯管、２……ヒータ、３……ガス、４
……不活性ガス源、５……半導体ウエーハ、６…
…ウエーハボート、７……真空ポンプ、８……排
気バルブ、９……不活性ガス導入バルブ、１０ａ
，１０ｂ……扉、１２……ロードロツク、１３…
…排気ダクト配管バルブ、１４……排気ダクト、
１５……圧力ゲージ。
Claims (1)
- 半導体ウエーハを大気圧にて熱処理する装置に
おいて、半導体ウエハの熱処理用炉芯管の開口部
に連結され、真空排気される予備真空排気室と、
該予備真空排気室内に不活性ガスを導入しその内
部を不活性ガス雰囲気に置換する不活性ガス源と
を有することを特徴とする半導体ウエーハの熱処
理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988098151U JPH0220328U (ja) | 1988-07-25 | 1988-07-25 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988098151U JPH0220328U (ja) | 1988-07-25 | 1988-07-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0220328U true JPH0220328U (ja) | 1990-02-09 |
Family
ID=31324158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988098151U Pending JPH0220328U (ja) | 1988-07-25 | 1988-07-25 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0220328U (ja) |
-
1988
- 1988-07-25 JP JP1988098151U patent/JPH0220328U/ja active Pending