JPH02203932A - 超微粒子の製造方法及び製造装置 - Google Patents

超微粒子の製造方法及び製造装置

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JPH02203932A
JPH02203932A JP1023599A JP2359989A JPH02203932A JP H02203932 A JPH02203932 A JP H02203932A JP 1023599 A JP1023599 A JP 1023599A JP 2359989 A JP2359989 A JP 2359989A JP H02203932 A JPH02203932 A JP H02203932A
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JP
Japan
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raw material
plasma
ultrafine particles
frequency induction
supply pipe
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JP1023599A
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Tatsuo Tokiai
健生 時合
Takashi Uesugi
隆 上杉
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Idemitsu Petrochemical Co Ltd
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Idemitsu Petrochemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、金属、セラミックス等の超微粒子の製造方法
及び製造装置に関し、粉体、粉末冶金、電子材料の機能
性原料粉等の製造に利用することができる。
[従来の技術] 高周波誘導プラズマにより発生した1万にの高温熱プラ
ズマに粉末原料(及び反応性ガス)を導入して溶融、蒸
発(場合により反応を)させた後、象、冷して凝固させ
ることにより、超微粒子を製造する方法がある。得られ
た超微粒子は、磁気特性、熱電特性、熱伝導特性、粉体
特性等が良好であるため、超微粒子をそのまま、あるい
はこれを焼結し、各種の機能性材料として広範囲に使用
されている。そして、従来の製造方法に伴う問題点を解
決するための各種の改良方法が提案されている。
例えば、特開昭62−171902号公報に係る窒化ア
ルミニウム微粉末の合成法によれば、原料として金属ア
ルミニウム、アルゴン、窒素、水素、アンモニアめ他に
メタンを使用することにより、微粒子中の不純物酸素を
除去でき、また炭化アルミニラλ微粉末が均一に混合さ
□れた窒′化アルミニウム微粉末が得られる。
また、特開昭63−85007号公報に係る窒化アルミ
ニウム超微粒子の製造方法によれば、磁気ポンプ効果を
抑止するためにプラズマフレーム中に金属アルミニウム
粉末が含まれるキャリアガスを周方向から連続′的に強
制導入すると共に、高純度超微粒子を得るためにキャリ
アガス導入後のプラズマフレーム中のやや温度が低い周
縁部へアンモニアガスを連続的に導入することを特徴と
している。
4れらの従来の超微粒子の製造方法で使用する製造装置
においては、第2図に示すように、原料供給管26は、
高周波誘導コイル帯域24を構成するワークコイル24
A〜24Zより上に位置するように設けられ、この吐出
口25から下方のプラズマフレーム29に粉末原料27
を供給するようにしている。また、石英製のプラズマ発
生管22は、□上部から下部の出口23まで径が等しい
円筒状に形成されている。
丸1L1 [発明が解決しようとする課題] 上述し、たような従来の製造装置を使用して超微粒子を
製造すると、導入された粉末原料27又は生成した超微
粒子28がプラズマ発生管22に付着して加熱されたプ
ラズマ発傅管22が冷却されるため、管22が温度履歴
サイクルを受けて変質し、破壊され、その結果、装置の
連続運転が困難になる虞れがあった。また、このような
粉末原料27又は微粒子28のプラズマ発生管22への
付着を考慮して原料供給量を抑えると、原料の大量処理
ができず、従って生産能率が低くなるという問題点が生
じていた。
本発明は、生産能率を向上させることができ、また連続
生産を可能とする超微粒子の製造方法及び製造装置を提
供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明は、高周波誘導プラズ□マを用いた超微粒子の製
造方法において、粉末原料をプラズマフレーム中に直□
接供給することを特徴とする。
前記粉末原料は、1種類の金属単体粉末<’M g、Z
r、Cr、W、AI、Fe等)、複数種の金属単体の混
合粉末、合金粉末(Tic、WC等)、セラミックス粉
末(A l 203、A I N、、’S”””i N
、B”’N 、 S’ i C、B 4 C等)等任意
である。
この製造方法を実施するため゛の高周波誘導プラズマを
用いた超微粒子の製造装置“において、原料供”給管の
吐出口を高周波誘導コイル帯域内に設けたことを特徴と
する。
この原料供給管から、粉末原料と共に、あるいは別の供
給管から所要のプラズマ発生ガスを供給することができ
る。また、必要によりキャリアガス□あるいは反応ガス
としての牽゛素、アンモニア等も同時に供給してもよい
また、この超微粒子の製造装置において、前記高周波誘
導コイル帯域より下方のプラズマ発注管とチャンバーと
の連結部を、その径が出口に向かって大となるように形
成したことを特徴とする。
この連結部の具体的形状は、椀状、円錐状等任意である
[作用] 本発明によれば、原料供給管の吐出口を高周波誘導コイ
ル帯域内に設けて、粉末原料をプラズマフレーム中に直
接供給するようにしたので、プラズマ発生管内における
粉末原料の吐出位置及び生成された超微粒子の降下位置
が相対的に低くなる。
この結果、粉末原料の吐出時及び超微粒予め降下時に、
粉末原料及び超微粒子が円周方向に拡散してもプラズマ
発生管に付着することがなくなる。
また、このように構成することによって、プラズマフレ
ームのよめ安定化が図れる。
そして、本製造装置において、高周波誘導コイル帯域よ
り下方の連結部を、その径が出口に向かって大となるよ
うに形成すれば、上記構成に加えて、更に粉末原料及び
超微粒子のプラズマ発生管への付着現象を防止し、粉末
原料の大量、かつ連続処理が可能になる。
[実施例] 第1図を参照して本発明の一実施例に係る超微粒子の製
造装置を説明する。
この製造装置は、チャンバー1と、このチャンバー1の
上部中央に設けられた石英製のプラズマ発生管2とを有
し、チャンバー1の側面には図示しない超微粒子捕集装
置と排気装置を備えている。
プラズマ発生管2の側面には、アルゴンガス等のプラズ
マガス供給口11が設けられている。
このプラズマ発生管2は、高周波誘導コイル帯域4を構
成するワークコイル4A〜4Zが外周に沿って複数回巻
装される円筒部2Aより成り、この下に出口3に向かっ
て径が次第に大きくなっているプラズマ発生管2とチャ
ンバー1との連結部12を有する。なお、この連結部1
2の形状は、図示の椀状以外にも、円錐状等でもよい。
出口3近傍には、外周に沿って、蒸発した粉末原料7の
冷却用ガス(アルゴンガス等)の導入孔10を設けてお
く。
そして、プラズマ発生管2の中央には、吐出口5が高周
波誘導コイル帯域4内に位置するように原料供給管6を
設ける。この際、第1周円のワークコイル4Aから最後
のワークコイル4zまでの距離をH1第1周目のワーク
コイル4Aからプラズマ発生管2の吐出口5までの距離
をhとしたとき、h>1/3Hとするのが、粉末原料7
及び生成・した超微粒子8のプラズマ発生管2内面への
付着を防止する上で好ましい。また、吐出口5は、高周
波誘導コイル帯域4を越えて下方迄挿入することもでき
るが、高周波誘導コイル帯域4内がよく、少なくともプ
ラズマフレーム9内である必要がある。しかし、あまり
深く挿入すると、粉末原料7とプラズマとの接触時間が
少なくなって微粒子化に影響があるため好ましくない。
なお、原料供給管6として使用する材質は、プラズマの
出力によって異なる。例えば、低出力の20〜30kW
程度では銅製の水冷管でもよいが、高出力に対応させる
ためには高融点材料である窒化ホウ素(BN)等の管を
用いるのがよい。また、原料供給管6の直径は、30価
以下とするのがよい。
上記構成に係る製造装置を使用して、次のように各実施
例に係る超微粒子を製造した。
m± 上記製造装置において、内径57mmのプラズマ発生管
2及び外径20mm、導入径2 mmの水冷式銅製原料
供給管6を使用し、吐出口5が第1周円のワークコイル
4Aから12mm下方に位置するように原料供給管6を
プラズマ発生管2内に設けた。
このプラズマ発生管2内にプラズマフレーム9を発生さ
せ、このプラズマフレーム9中に直接粉末原料7である
鉄シリサイドFeSi2粉末を供給して、溶融、蒸発さ
せ、そしてArガスで象、冷凝固させることによりFe
Si2超微粒子8を製造した。製造時の具体的な諸条件
は下記の通りである。
RFパワー   ・・・・・・・・・・・・26kW粉
末原料供給量 ・・・・・・・・・・・・150 g 
/minプラズマAr流量・・・・・・・・・・・・7
51/m1nH2流量    ・・・・・・・・・・・
・2I!/mjn処理時間    ・・・・・・・・・
・・・20時間なお、プラズマAr流量とは、粉末原料
7のキャリア用ガスと側面から供給するArガスの総量
である。また、H2は、RFプラズマ炉1内に供給し、
アルゴンプラズマの温度制御とプラズマを安定化させる
作用を有する。
得られたFe5iz超微粒子8は、1500人前後の粒
径を有していた。
この製造装置により、150 g /min という大
量の粉末原料7を処理することができた。そして、製造
時において従来のような原料粉末7及び化成した超微粒
子8のプラズマ発生管2内面への付着は発生しなかった
。また、吐出口5が高周波誘導コイル帯域4内に位置す
るように銅製原料供給管6をプラズマ発生管2内に設け
たにも拘らず、比較的低出力であり、且つ、原料供給管
6を水冷式としたため、原料供給管6の溶解は発生せず
、従って管材の溶解による超微粒子8への汚染も生じな
かった。加えて、原料供給管6が高周波誘導コイル帯域
4内に位置しているが、安定なプラズマフレーム9が得
られた。
一実1L性」− 上記製造装置において、内径80mmのプラズマ発生管
2及び外径9胴、導入径1.5+nn+の窒化ホウ素(
BNi製の原料供給管6を使用し、吐出口5が第1同口
のワークコイル4Aから21 +nm下方に位置するよ
うに原料供給管6をプラズマ発生管2内に設けた。
このプラズマ発生管2内にプラズマフレーム9を発生さ
せ、このプラズマフレーム9中どこ直接粉末原料7tあ
るタンゲス夢ンカーバイド(WC)粉末を供給して、W
C超微粒子8を製造した。製造時の具体的な諸条件は下
記の通りである。
RFパワー   ・・・・・・・・・・・・79kW粉
末原料供給量 ・・・・・・・・・・・・210 g 
/ min”□:□プラズマAr流量・・・・・・・・
・・・・105427m1nH2流量    ・・・・
・・・・・・・・11 l/min処理時間    ・
・・・・・・・・・・・22時間得られti Wc超微
粒子8は、1000人前後の粒径を有していた。
上記実施例1と同様、この製造装置によっても、210
 g /min という大量の粉末原料7を処理するこ
とができた。そして、製造時において粉末原料7及び生
成した超微粒子8のプラズマ発生管2内面への付着は発
生しなかった。また、吐出口5が高周波誘導コイル帯域
4内に位置するように原料供給管6をプラズマ発生管2
内に設け、RFパワーが高出力であったにも拘らず、B
N製原料供給管6を使用したため、原料供給管6の溶解
は発生せず、従って管材の溶解による超微粒子8への汚
染も生じなかった。加えで、原料供給管6が高周波誘導
コイル帯域4内に位置しているが、安定なプラズマフレ
ーム9が得られた。
北笠貰 第2図に示ず従来の製造装置において、内径51mmd
)プラズマ発生管22及び外径20胴、導入径2 mm
の銅製原料供給*26を使用し、吐出口25が第1同口
のワークコイル24Aから15mm上方に位置するよう
に原料供給管26をブラズオ発生簀22内に設けた。
このプラズマ発生管22内にプラズマブレームン9を発
生させ、このプラズマフレーム29の上分から福末原料
27である秩シリサイドFe5i”z物末番供給して、
Fe’5izl微粒子28を製造した。製造時の具体的
な諸条件は下記の通りである。
RFパワー   ・・・・・・・・・・・・2 ’6 
k W粉末原料供給量 ・・・・・・・・・・・・15
−Og /minプラズマAr流量・・・・・・・・・
・・・75ffi/m1nH8流量    ・・・・・
・・・・・・・21/min処理時間    ・・・・
・・・・・・・・セ0時間  ・ ニー1□□′□得ら
れたFe’Siz超微粒子′28は、1400人前後の
粒径を有していた。
□ 上記実施例1と同様に150 g /minの大量
の粉末原料27を処理したところ、供給し□た粉末原料
27と生成した超微粒子2日がプラズマ発生管22内面
に付着し、プラズマ発生管22が温i!艙歴サイクルを
受ける結果□、・プラズマ発生管22に破損の広れが生
じた。そして、原料の処理量をlO′・Og/1lli
n に落とした場合には、プラズマ発生管22への粉末
原料27の付着は生じなかった。
従って、従来の峻造装置によれば、上記実施例のような
大量処理は無却であった。なお、本比較例の場合、原料
供給管26は高周波誘導コイル帯域24より上方に設置
すられているので、当然原料供給管26の熔解も管材の
超微粒子28への汚染も生じなかった。しかし、プラズ
マブレーム29は不安定で、得られた超微粒子28中に
は、かなりの未処理の原料である粗粒の存在が認められ
た。
[発明の効果] 本発明によれば、高品質超微粒子の大量生産及び装置の
連続運転が可能になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例に係る超微粒子の製造装置の要部断面図
、第2図は従来例に係る超微粒子の製造装置の要部断面
図である。 2.22・・・プラズマ発生管、3.23・・・出口、
4.24・・・高周波誘導コイル帯域、5,25・・・
吐出口、6.26・・・原料供給管、7 料、8,28・・・超微粒子、9 レーム、12・・・連結部。 27・・・粉末原 29・・・プラスマフ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)高周波誘導プラズマを用いた超微粒子の製造方法
    において、粉末原料をプラズマフレーム中に直接供給す
    ることを特徴とする超微粒子の製造方法。
  2. (2)高周波誘導プラズマを用いた超微粒子の製造装置
    において、原料供給管の吐出口を高周波誘導コイル帯域
    内に設けたことを特徴とする超微粒子の製造装置。
  3. (3)第2請求項記載の超微粒子の製造装置において、
    前記高周波誘導コイル帯域より下方のプラズマ発生管と
    チャンバーとの連結部を、その径が出口に向かって大と
    なるように形成したことを特徴とする超微粒子の製造装
    置。
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