JPH02205015A - 拡散炉装置 - Google Patents
拡散炉装置Info
- Publication number
- JPH02205015A JPH02205015A JP2487889A JP2487889A JPH02205015A JP H02205015 A JPH02205015 A JP H02205015A JP 2487889 A JP2487889 A JP 2487889A JP 2487889 A JP2487889 A JP 2487889A JP H02205015 A JPH02205015 A JP H02205015A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- boat
- fork
- sensor
- furnace
- mechanism section
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は拡散炉装置に関する。
半導体基板に不純物を導入するために用いられる拡散炉
装置は、炉芯管と、半導体基板をのせたボートを保持す
るフォークと、このフォークを保持し半導体基板を炉芯
管内に搬入・搬出するローグー機構部とから主に構成さ
れている。そしてローグー機構部により半導体基板を炉
芯管内に搬入し、半導体基板に所望の不純物による拡散
処理や熱処理を行い、処理後再び半導体基板をローグー
機構部により炉芯管外に搬出させている。
装置は、炉芯管と、半導体基板をのせたボートを保持す
るフォークと、このフォークを保持し半導体基板を炉芯
管内に搬入・搬出するローグー機構部とから主に構成さ
れている。そしてローグー機構部により半導体基板を炉
芯管内に搬入し、半導体基板に所望の不純物による拡散
処理や熱処理を行い、処理後再び半導体基板をローグー
機構部により炉芯管外に搬出させている。
炉芯管外に搬出された半導体基板は、ボートから自動立
替により離脱させられ次工程に移送される。そのためロ
ーグー機構部によりボートを所定位置に停止させる必要
がある。従来の拡散炉装置においては、ロータ一機構部
を停止位置に停止させることによりボートの停止位置を
決定していた。
替により離脱させられ次工程に移送される。そのためロ
ーグー機構部によりボートを所定位置に停止させる必要
がある。従来の拡散炉装置においては、ロータ一機構部
を停止位置に停止させることによりボートの停止位置を
決定していた。
上述した従来の拡散炉装置においては、ロータ一機構部
の停止位置を正確に位置決め出来たとしても搬出された
ボートのフォーク上のにおける搭載状態によっては、搬
出されたボートの停止位置は正確でなくなる。そのため
に自動立替時にボートが予定位置よりずれているという
問題や、次の処理をそのままの状態で行うと炉内の所定
位置で半導体基板が処理されないという問題が生じる。
の停止位置を正確に位置決め出来たとしても搬出された
ボートのフォーク上のにおける搭載状態によっては、搬
出されたボートの停止位置は正確でなくなる。そのため
に自動立替時にボートが予定位置よりずれているという
問題や、次の処理をそのままの状態で行うと炉内の所定
位置で半導体基板が処理されないという問題が生じる。
又ソフトランディング拡散炉の場合、フォーク上のボー
トの位置が熱によるフォークの膨張のためずれてしまい
、処理サイクルの繰り返しによってますます炉内でのボ
ートの処理位置が大きく変わって処理が不完全となり、
半導体装置の信頼性及び歩留が低下するという欠点があ
る。
トの位置が熱によるフォークの膨張のためずれてしまい
、処理サイクルの繰り返しによってますます炉内でのボ
ートの処理位置が大きく変わって処理が不完全となり、
半導体装置の信頼性及び歩留が低下するという欠点があ
る。
本発明の拡散炉装置は、炉芯管と、ボートを保持するフ
ォークと、前記フォークを保持してボートを前記炉芯管
内に搬入・搬出するロータ一機構部とを有する拡散炉装
置において、搬出されたボートを規定位置に停止させる
ためのボート検知用センサを備えたものである。
ォークと、前記フォークを保持してボートを前記炉芯管
内に搬入・搬出するロータ一機構部とを有する拡散炉装
置において、搬出されたボートを規定位置に停止させる
ためのボート検知用センサを備えたものである。
次に本発明の実施例を図面を参照して説明する。第１図
は本発明の第１の実施例の正面図である。
は本発明の第１の実施例の正面図である。
第１図において拡散炉装置は、炉芯管７と、半導体基板
３を搭載したボート４を保持するフォーク５と、このフ
ォーク５を保持してこれを炉芯管７内に搬入・搬出させ
るローグー機構部６とから主に構成されている。ローグ
ー機構部６はネジ棒６ａの駆動送りによりフォーク５を
図の左右に移動させるギアシステムと、フォーク５を保
持し上下動させる機構とを有している。そして特に本第
１の実施例は、対をなす発光素子１と受光素子２とから
なるセンサＳを炉芯膚７の管外６二設★し、ボート４の
停止位置Ｔに対応して配設したものである。
３を搭載したボート４を保持するフォーク５と、このフ
ォーク５を保持してこれを炉芯管７内に搬入・搬出させ
るローグー機構部６とから主に構成されている。ローグ
ー機構部６はネジ棒６ａの駆動送りによりフォーク５を
図の左右に移動させるギアシステムと、フォーク５を保
持し上下動させる機構とを有している。そして特に本第
１の実施例は、対をなす発光素子１と受光素子２とから
なるセンサＳを炉芯膚７の管外６二設★し、ボート４の
停止位置Ｔに対応して配設したものである。
このように構成された第１の実施例によれば、発光素子
１と受光素子２との間の光路１をボート４の角部が遮光
したときに、ボート４が停止位置Ｔに達したとしてセン
サーＳによりロータ一機構部６の駆動を停止させる。従
ってボート４を停止位置Ｔに正確に停止させることがで
きる。
１と受光素子２との間の光路１をボート４の角部が遮光
したときに、ボート４が停止位置Ｔに達したとしてセン
サーＳによりロータ一機構部６の駆動を停止させる。従
ってボート４を停止位置Ｔに正確に停止させることがで
きる。
第２図は本発明の第２の実施例の正面図であり、ボート
の検知用センサーとして焦点距離可変型の反射型のセン
サー８を用いた場合を示している。
の検知用センサーとして焦点距離可変型の反射型のセン
サー８を用いた場合を示している。
すなわち、焦点をボートの停止位置Ｔに釡わせておくこ
とにより、ボート４の角部の通過を一時に検出し、ボー
ト４を停止させることができる。
とにより、ボート４の角部の通過を一時に検出し、ボー
ト４を停止させることができる。
との第２の実施例では、反射型のセンサー８を用いるた
めに、透過型のセンサーに比べてセンサーの設置が容易
であるという利点がある。
めに、透過型のセンサーに比べてセンサーの設置が容易
であるという利点がある。
以上説明したように本発明は、ボートを所定の位置に精
度よく停止出来るため、自動立替等の作業を正確に行う
事が出来る。又ボートを所定の位置に置いた後ローグー
機構部をも所定の位置におくことができるため毎回の炉
内の半導体基板の処理位置もずれることがなくなるため
、半導体基板の処理は完全となり、半導体装置の信頼性
及び歩留は向上する。
度よく停止出来るため、自動立替等の作業を正確に行う
事が出来る。又ボートを所定の位置に置いた後ローグー
機構部をも所定の位置におくことができるため毎回の炉
内の半導体基板の処理位置もずれることがなくなるため
、半導体基板の処理は完全となり、半導体装置の信頼性
及び歩留は向上する。
１・・・発光素子、２・・・受光素子、３・・・半導体
基板、４・・・ボート、５・・・フォーク、６・・・ロ
ータ一機構部、７・・・炉芯管、８・・・反射型センサ
ー、Ｓ・・・センサー、Ｊ・・・センサー光路、Ｔ・・
・ボード停□止位置。
基板、４・・・ボート、５・・・フォーク、６・・・ロ
ータ一機構部、７・・・炉芯管、８・・・反射型センサ
ー、Ｓ・・・センサー、Ｊ・・・センサー光路、Ｔ・・
・ボード停□止位置。
Claims (1)
- 炉芯管と、ボートを保持するフォークと、前記フォーク
を保持してボートを前記炉芯管内に搬入・搬出するロー
タ一機構部とを有する拡散炉装置において、搬出された
ボートを規定位置に停止させるためのボート検知用セン
サを備えたことを特徴とする拡散炉装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2487889A JPH02205015A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 拡散炉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2487889A JPH02205015A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 拡散炉装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02205015A true JPH02205015A (ja) | 1990-08-14 |
Family
ID=12150454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2487889A Pending JPH02205015A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 拡散炉装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02205015A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS614227A (ja) * | 1984-06-18 | 1986-01-10 | Sharp Corp | ウエハ−ボ−ト位置検出方式 |
| JPS63133620A (ja) * | 1986-11-26 | 1988-06-06 | Nec Kyushu Ltd | 拡散炉装置 |
-
1989
- 1989-02-02 JP JP2487889A patent/JPH02205015A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS614227A (ja) * | 1984-06-18 | 1986-01-10 | Sharp Corp | ウエハ−ボ−ト位置検出方式 |
| JPS63133620A (ja) * | 1986-11-26 | 1988-06-06 | Nec Kyushu Ltd | 拡散炉装置 |
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