JPS63133620A - 拡散炉装置 - Google Patents
拡散炉装置Info
- Publication number
- JPS63133620A JPS63133620A JP28139786A JP28139786A JPS63133620A JP S63133620 A JPS63133620 A JP S63133620A JP 28139786 A JP28139786 A JP 28139786A JP 28139786 A JP28139786 A JP 28139786A JP S63133620 A JPS63133620 A JP S63133620A
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- JP
- Japan
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- loader mechanism
- semiconductor substrates
- furnace
- semiconductor substrate
- core tube
- Prior art date
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- Granted
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- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 39
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は拡散炉装置に関するものである。
この種の拡散炉装置は半導体基板の拡散処理用炉芯管と
、該炉芯管内に半導体基板を搬入搬出するローダ−機構
とを備え、ローダ−機構により半導体基板を炉芯管内に
搬入し該炉芯管内において基板に所望の不純物による拡
散処理を行い、拡散処理後、再び基板をローダ−機構に
より炉芯管外に搬出させている。ところで、炉芯管外に
搬出された半導体鋸板は該基板が搭載されているボート
から自動立替により離脱させられ、次工程に移送される
。そのため、ローダ−機構により半導体基板を所定位置
に停止させる必要がある。
、該炉芯管内に半導体基板を搬入搬出するローダ−機構
とを備え、ローダ−機構により半導体基板を炉芯管内に
搬入し該炉芯管内において基板に所望の不純物による拡
散処理を行い、拡散処理後、再び基板をローダ−機構に
より炉芯管外に搬出させている。ところで、炉芯管外に
搬出された半導体鋸板は該基板が搭載されているボート
から自動立替により離脱させられ、次工程に移送される
。そのため、ローダ−機構により半導体基板を所定位置
に停止させる必要がある。
従来、この種の拡散炉においてはローダ−機構のストッ
プポジションを視認することにより、半導体基板の搬出
後の停止位置を決定していた。
プポジションを視認することにより、半導体基板の搬出
後の停止位置を決定していた。
上述した従来の拡散炉装置においては、ローダ−機構の
停止位置は正確に位置決めできたとしても、半導体基板
の搭載状態によっては、そのローダ−機構によって搬出
された半導体基板の停止位置は正確でなくなる。そのた
めに自動立替時に半導体基板が予定位置よりもずれてし
まうという精度的問題や、ソフトランディング拡散炉の
フォーク上の半導体基板を乗せているボートが熱による
フォークの膨張のため、ズしてしまい、処理サイクルの
繰り返しによってますますボート上の半導体栽板がズし
てしまうという問題がある。
停止位置は正確に位置決めできたとしても、半導体基板
の搭載状態によっては、そのローダ−機構によって搬出
された半導体基板の停止位置は正確でなくなる。そのた
めに自動立替時に半導体基板が予定位置よりもずれてし
まうという精度的問題や、ソフトランディング拡散炉の
フォーク上の半導体基板を乗せているボートが熱による
フォークの膨張のため、ズしてしまい、処理サイクルの
繰り返しによってますますボート上の半導体栽板がズし
てしまうという問題がある。
本発明の目的は炉外に搬出される半導体基板を設定位置
に正確に停止させる機能を有する拡散炉装置を提供する
ことにある。
に正確に停止させる機能を有する拡散炉装置を提供する
ことにある。
本発明は半導体基板の拡散処理用炉芯管と、前記炉芯管
内に半導体基板を搬入搬出するローダ−機構とを有する
拡散炉装置において、炉芯管内から管外に搬出される半
導体基板の搬出停止位置に対応して、搬出される半導体
基板を検出することにより前記ローダ−機構の駆動制御
信号を発するセンサを設けたことを特徴とする拡散炉装
置である。
内に半導体基板を搬入搬出するローダ−機構とを有する
拡散炉装置において、炉芯管内から管外に搬出される半
導体基板の搬出停止位置に対応して、搬出される半導体
基板を検出することにより前記ローダ−機構の駆動制御
信号を発するセンサを設けたことを特徴とする拡散炉装
置である。
以下、本発明の一実施例を図によって説明する。
第1図において、7は炉芯管であり、炉芯管7の外部に
は、半導体基板3を搭載したボート4をフォーク5に支
持してこれを炉芯管7内に搬入搬出させるローダ−機構
6を設ける。該ローダ−機構6はネジ棒6aの駆動速り
により図中左右に移動する。
は、半導体基板3を搭載したボート4をフォーク5に支
持してこれを炉芯管7内に搬入搬出させるローダ−機構
6を設ける。該ローダ−機構6はネジ棒6aの駆動速り
により図中左右に移動する。
本発明は対をなす発光索子1と受光素子2とからなるセ
ンサSを、炉芯管7の管外に設定した半導体基板3の搬
出停止位置Tに対応して配設し、発光素子1と受光索子
2との間の光路Qを半導体基板3が遮光したときに半導
体基板3が停止位置′rに達したとしてセンサSにより
ローダ−機構6の1ψ勅制御信号を発しその信号に基づ
いてローダ−機構6の駆動を停止するようにしたもので
ある。
ンサSを、炉芯管7の管外に設定した半導体基板3の搬
出停止位置Tに対応して配設し、発光素子1と受光索子
2との間の光路Qを半導体基板3が遮光したときに半導
体基板3が停止位置′rに達したとしてセンサSにより
ローダ−機構6の1ψ勅制御信号を発しその信号に基づ
いてローダ−機構6の駆動を停止するようにしたもので
ある。
実施例では発光素子1と受光素子2とを半導体基板3の
搬送路に沿い斜交させて配置し、ボート4に搭載される
半導体基板3のうち搬出時に先頭に位置する半導体基板
3aにより光路Qを遮光させるようにしである。
搬送路に沿い斜交させて配置し、ボート4に搭載される
半導体基板3のうち搬出時に先頭に位置する半導体基板
3aにより光路Qを遮光させるようにしである。
以上説明したように本発明は半導体基板の位置を検知し
て半導体基板の停止位置を決めることにより、ローダ−
機構のズレやフォークとフォーク上のボートのズレなど
に関係なく、半導体基板を予定している停止位置に精度
よく停止でき、自動立替等の作業を正確に行うことがで
きる効果がある。
て半導体基板の停止位置を決めることにより、ローダ−
機構のズレやフォークとフォーク上のボートのズレなど
に関係なく、半導体基板を予定している停止位置に精度
よく停止でき、自動立替等の作業を正確に行うことがで
きる効果がある。
第1図は本発明の拡散炉装置の一実施例を示す概略図で
ある。 1・・・発光素子 2・・・受光素子S・・
・センサ 3,3a・・・半導体基板4・
・・ボート 5・・・フォーク6・・・ロ
ーダ−機構
ある。 1・・・発光素子 2・・・受光素子S・・
・センサ 3,3a・・・半導体基板4・
・・ボート 5・・・フォーク6・・・ロ
ーダ−機構
Claims (1)
- (1)半導体基板の拡散処理用炉芯管と、前記炉芯管内
に半導体基板を搬入搬出するローダー機構とを有する拡
散炉装置において、炉芯管の管外に設定した半導体基板
の搬出停止位置に対応して、搬出される半導体基板を検
知することにより前記ローダー機構の駆動制御信号を発
するセンサを設けたことを特徴とする拡散炉装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61281397A JP2723509B2 (ja) | 1986-11-26 | 1986-11-26 | 拡散炉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61281397A JP2723509B2 (ja) | 1986-11-26 | 1986-11-26 | 拡散炉装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63133620A true JPS63133620A (ja) | 1988-06-06 |
| JP2723509B2 JP2723509B2 (ja) | 1998-03-09 |
Family
ID=17638573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61281397A Expired - Fee Related JP2723509B2 (ja) | 1986-11-26 | 1986-11-26 | 拡散炉装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2723509B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02205015A (ja) * | 1989-02-02 | 1990-08-14 | Nec Kyushu Ltd | 拡散炉装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5983030U (ja) * | 1982-11-26 | 1984-06-05 | 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 | 半導体製造装置 |
| JPS59201414A (ja) * | 1983-04-30 | 1984-11-15 | Toshiba Corp | 拡散ボ−ト受け皿保持装置 |
-
1986
- 1986-11-26 JP JP61281397A patent/JP2723509B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5983030U (ja) * | 1982-11-26 | 1984-06-05 | 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 | 半導体製造装置 |
| JPS59201414A (ja) * | 1983-04-30 | 1984-11-15 | Toshiba Corp | 拡散ボ−ト受け皿保持装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02205015A (ja) * | 1989-02-02 | 1990-08-14 | Nec Kyushu Ltd | 拡散炉装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2723509B2 (ja) | 1998-03-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |