JPH02206002A - 磁気記録再生方法、磁気記録媒体および浮上型磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、潤滑作用および保護作用を有する保護潤滑膜
を有する磁気記録媒体および磁気ヘッドと、これらを用
いる磁気記録再生方法とに関する。

〈従来の技術〉 計算機等に用いられる磁気ディスク駆動装置には、剛性
基板上に磁性層を設層したハードタイプの磁気ディスク
と浮上型磁気ヘッドとが用いられている。

このような磁気ディスク駆動装置においては、従来、塗
布型の磁気ディスクが用いられていたが、磁気ディスク
の大容量化に伴い、磁気特性、記録密度等の点で有利な
ことから、スパッタ法等の気相成膜法等により設層され
る連続薄膜型の磁性層を有する薄膜型磁気ディスクが用
いられるようになっている。

薄膜型磁気ディスクとしては、Ａｌ２系のディスク状金
属板にＮ１−Ｐ下地層をめっきにより設層するか、ある
いはこの金属板表面を酸化してアルマイトを形成したも
のを基板とし、この基板上にＣｒ層、Ｇｏ−Ｎｉ等の金
属磁性層、さらにＣ等の保護潤滑膜をスパッタ法により
順次設層して構成されるものが一般的である。

しかし、Ｃｏ−Ｎｉ等の金属磁性層は耐食性が低（、さ
らに硬度が低く、信頼性に問題が生じる。　これに対し
、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されているよう
な酸化鉄を主成分とする磁性薄膜は化学的に安定なため
腐食の心配がなく、また、充分な硬度を有している。

一方、浮上型磁気ヘッドは浮力を発生するスライダを有
する磁気ヘッドであり、コアがスライダと一体化された
コンポジットタイプのもの、あるいはコアがスライダを
兼ねるモノリシックタイプのものが通常用いられる。

さらに、これらの他、高密度記録が可能であることから
、いわゆる薄膜型の浮上型磁気ヘッドが注目されている
。　薄膜型の浮上型磁気ヘッドは、基体上に磁極層、ギ
ャップ層、コイル層などを気相成膜法等により形成した
ものである。　このような薄膜型の浮上型磁気ヘッドで
は、基体がスライダとしてはたらく。

これらの浮上型磁気ヘッドにおいて、スライダは、各種
フェライト、Ａｌ２２０ｓ−ＴｉＣ１Ｚ　ｒ　０２、Ｓ
ｉＣ，Ａ４２Ｎ等の各種セラミックスから構成される。

浮上型磁気ヘッドを用いる磁気ディスク装置では、コン
タクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ＞時に浮上型磁気
ヘッドの浮揚面（スライダの磁気ディスク側表面）と磁
気ディスクが接触する。　このとき、磁気ディスクおよ
び浮上型磁気ヘッドにキズの発生、破損などが生じたり
、あるいは磁気ディスクへの浮上型磁気ヘッドの吸着が
生じ易い。　このため、磁気ディスクあるいは磁気ヘッ
ド表面に種々の保護膜あるいは潤滑膜を設ける提案がな
されている。

特に、酸化鉄はＣｏ−Ｎｉ等の金属に比べ硬度が高いた
め、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されているよ
うな酸化鉄磁性層を有する磁気ディスクでは、例え磁気
ディスク表面に潤滑膜あるいは保護膜を設けてあっても
Ｃ８Ｓの繰り返しによりヘッド浮揚面がキズつき易く、
また、ヘッドとディスクの間の摩擦が増大し易い。　こ
のため、このような組み合わせにおいては、潤滑膜ある
いは保護膜構成材料の選択には注意を要する。

また、酸化鉄磁性層を有する磁気ディスクとＭ　ｎ　−
Ｚ　ｎフェライト製基体を有する浮上型ヘッドとを組み
合わせて用いる場合、ＭｎＺｎフェライトの硬度が酸化
鉄の硬度よりも低いため、このような問題は一層顕著と
なる。

さらに、酸化鉄磁性層を有する薄膜型磁気ディスクに対
し、Ｍ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライトより硬度の高いＡ　Ａ
　２０　ｓ　　Ｔ　ｉ　Ｃ、Ｚ　ｒ　Ｏ２、ＳｉＣ，Ａ
ｇＮなどの基体を有する浮上型磁気ヘッドを用いる場合
、前記のような問題はある程度解消するが、このような
磁気ディスクおよび浮上型磁気ヘッドの組み合わせにお
いては、磁性層およびスライダのいずれもが高い硬度を
有するため、より高い潤滑および保護効果が必要となる
。　　特に、高密度記録を行なうために薄膜型の浮上型
磁気ヘッドを用いる場合、上記問題はより顕著となる。

すなわち、薄膜型の浮上型磁気ヘッドを用いる磁気ディ
スク駆動装置では、高密度記録を行なうために磁気ディ
スクと磁気ヘッドとの間隔（フライングバイト）を極め
て小さ（設定できるので、磁気ディスクの振動あるいは
駆動装置外部からの衝撃などにより磁気ディスクと浮上
型磁気ヘッドとの接触事故が生じたり、また、フライン
グバイトが小さい場合、Ｃ８Ｓ時に磁気ヘッドおよび磁
気ディスクが受ける被害がより大きくなるからである。

特に、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されている
ような酸化鉄を主成分とする磁性薄膜を存する磁気ディ
スクは、表面が鏡面化されたガラス基板を使用しており
、磁性層の表面粗さが非常に小さなものとなっている。

　このため、好適な保護膜を選定しないと磁気ディスク
と磁気ヘッドとの間の摩擦が大きくなり、Ｃ８Ｓ等の際
に磁気ヘッドがスティックスリップしたり、吸着したり
するという問題を生じる。　このため、このような組み
合わせにおいても、潤滑膜あるいは保護膜構成材料の選
択には注意を要する。

以上に挙げたような浮上型磁気ヘッドおよび磁気記録媒
体に設けられる保護潤滑膜には、種々の潤滑剤が用いら
れている。

び磁気記録媒体にキズあるいは破損が生じにくい磁気記
録媒体および磁気ヘッドと、これらを用いる磁気記録再
生方法とを提供することにある。

〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、従来のフッ素系の高分子量タイプの保護潤滑膜
では十分な保護潤滑効果は得られない。

また、従来の保護潤滑膜では、磁気記録媒体あるいは磁
気ヘッドに薄くしかも均一に成膜することは困難である
。　このため、走行中に磁気配録媒体と磁気ヘッドとの
間の摩擦が大幅に変動し、スティックスリップが発生し
やすい状態となり好ましくない。

本発明の目的は、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間の摩
擦が小さく、かつ、耐久走行中でのその変動が少なく、
つまりスティックスリップが発生しに（（、磁気記録媒
体への磁気ヘッドの吸着が発生しにくく、しかも磁気ヘ
ッドおよ〈課題を解決するための手段〉 このような目的は、下記（１）〜（９）の本発明により
達成される。

（１）剛性基板上に磁性層を有する磁気記録媒体に、浮
上型磁気ヘッドを用いて記録および再生を行う方法であ
って、 前記磁性層上および／または前記浮上型磁気ヘッドの少
なくとも浮揚面上に、融点３０℃未満のアルコールと、
融点３０℃以上の両親媒性化合物とを含有する保護潤滑
膜を有することを特徴とする磁気記録再生方法。

（２）前記浮上型磁気ヘッドが、薄膜型の浮上型磁気ヘ
ッドである上記（１）に記載の磁気記録再生方法。

（３）前記磁性層が酸化鉄を特徴とする特許薄膜であり
、前記浮上型磁気ヘッドの少なくとも浮揚面がビッカー
ス硬度１０００以上のセラミックス材料から構成されて
いるものである上記（１）または（２）に記載の磁気記
録再生方法。

（４）前記磁性層表面と前記浮上型磁気ヘッドの浮揚面
との距離が０．１μｓ以下である上記（１）ないしく３
）のいずれかに記載の磁気記録再生方法。

（５）前記保護潤滑膜がラングミュア・ブロジェット法
により成膜されたものである上記（１）ないしく４）の
いずれかに記載の磁気記録再生方法。

（６）剛性基板上に磁性層を有する磁気記録媒体であっ
て、 前記磁性層が酸化鉄を主成分とする磁性薄膜であり、前
記磁性層上に、融点３０℃未満のアルコールを含有する
保護潤滑膜を有することを特徴とする磁気記録媒体。

（７）前記剛性基板がガラスから構成されるものである
上記（６）に記載の磁気記録媒体。

（８）少なくとも浮揚面がビッカース硬度１０００以上
のセラミックス材料から構成されており、少なくとも前
記浮揚面上に、融点３０℃未満のアルコールを含有する
保護潤滑膜を有することを特徴とする薄膜型の浮上型磁
気ヘッド。

（９）前記セラミックス材料がＡβ＊　Ｏｓ　−ＴｉＣ
を主成分とするセラミックス、Ｚ　ｒ　Ｏ２を主成分と
するセラミックス、ＳｉＣを主成分とするセラミックス
またはＡｌＮを主成分とするセラミックスである上記（
８）に記載の磁気ヘッド。

くイ乍用〉 本発明では、磁気記録媒体の磁性層上および／または浮
上型磁気ヘッドの少なくとも浮揚面上に、融点３０℃未
満のアルコールと、融点３０℃以上の両親媒性化合物を
含有する保護潤滑膜を有する。　このため、磁気記録媒
体と磁気ヘッドとの間の摩擦係数が低く、しかも摩擦変
動が少ないため、耐久走行中でのスティックスリップが
発生しにくく、磁気ヘッドの媒体への接触時に媒体およ
びヘッドの破損、媒体表面へのヘッドの吸着が生じにく
い。

特に、磁気記録媒体の磁性層が酸化鉄を主成分とするも
のであり、しかも、磁気ヘッドの基体がビッカース硬度
１０００以上のセラミックス材料から構成されている場
合は、磁性層と磁気ヘッドとの硬度差が少く、摩擦力が
絶えず安定しているため、耐久走行中にスティックスリ
ップが発生しに＜＜、磁性層および磁気ヘッドのいずれ
もが破損しにくい。

さらに、本発明に用いる保護潤滑膜には、融点３０℃未
満のアルコールが用いられているため、薄くしかも均一
な成膜を行なうことができる。　このため、走行中ある
いは耐久走行後の摩擦変動が少なくなり、良好な記録再
生を行うことができる。

この際、本発明では、融点３０℃以上の両親媒性化合物
を併用するので、これらの効果はさらに高いものとなる
。

また、成膜にラングミュア・ブロジェット法を用いるこ
とができ、この点からもこれらの効果は向上する。

〈具体的構成〉 本発明では、磁気記録媒体の磁性層上および／または浮
上型磁気ヘッドの少なくとも浮揚面上に保護潤滑膜を有
する。

この保護潤滑膜には、融点３０℃未満のアルコールを用
いる。　このようなアルコールとしては例えば以下のよ
うなものが挙げられる。

１価の飽和アルコールとして、 ＣＨｓ　　（ＣＨｉ）　、＋０Ｈ ＣＨ３（ＣＨ２）、ＯＨ 等。

１価の不飽和アルコールとして、 Ｃ，、Ｈ，、ＯＨ（オレイルアルコール）Ｃ１８Ｈｓｈ
ｏ　Ｈ Ｃ＋ａＨ−１ＯＨ Ｃ、、Ｈ，５０Ｈ Ｃ，２Ｈ２，ＯＨ 等。

多価の天然アルコール。

合成アルコールとして、 ドハノール２３ ドハノール２５ ドハノール４５ オキソコール１２１３ オキソコール１２１５ オキソコール１４１５ アルホール１２１４ 等。

このうち、好ましくは１価の飽和ないし不飽和アルコー
ル、より好ましくは直鎖の１価の飽和ないし不飽和アル
コールである。

そして、保護潤滑膜には、１種あるいは２種以上の前記
アルコールを用いる。　このため、均一な薄膜を形成す
ることができる。

さらに本発明では、前記アルコールに加え、両親媒性化
合物が含有される。

保護潤滑膜に含有される両親媒性化合物は、融点が３０
℃以上、好ましくは３９℃以上、より好ましくは５０℃
以上のものである。

このような両親媒性化合物としては、脂肪酸、アルコー
ル、エステルの１種以上を用いることが好ましい。

脂肪酸としては１価ないし多価の飽和脂肪酸、特に１価
の直鎖飽和脂肪酸が挙げられる。

このような化合物の好適な具体例としては、ＣＨ，（Ｃ
Ｈ２）、。Ｃ０ＯＨ。

ＣＨ３（ＣＨ２）　　１２ＣＯＯＨ。

ＣＨ−（ＣＨａ）　　１−ＣＯｏＨｌ ＣＨｓ　　（ＣＨｘ　）　　１６ＣＯＯＨ１ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）　　１．Ｉｃ０ＯＨ１ＣＨ，（ＣＨＩ）、。Ｃ０
ＯＨ。

ＣＨ，（ＣＨ２）２□Ｃ００Ｈ ＣＨ、（ＣＨ２）２４ＣＯＯＨ ＣＨ−（ＣＨ−）２８ＣＯＯＨ ＣＨｓ　　（ＣＨ２）−−ＣＯＯＨ ＣＨ，（ＣＨｘ）ｓ。Ｃ００Ｈ ＣＨ，（ＣＨ２）、□Ｃ００Ｈ ＣＨｓ　　（ＣＨａ）−４ＣＯＯＨ ＣＨ−（ＣＨ２）ｓ８ＣＯＯＨ 等が挙げられる。

なお、これらの具体例として上記に挙げた化合物の金属
塩、あるいは、上記化合物に対応するスルホン酸、リン
酸およびスルホン駿塩、リン酸塩等も同様に好適に用い
ることができる。

また、これらの他、天然脂肪酸としては、１．２−ヒド
ロキシステアリン酸やラノリン脂肪酸等や、各種合成脂
肪酸、脂肪酸誘導体等も使用可能である。

アルコールとしては、１価の飽和アルコールが好適であ
る。

例えば、直鎖飽和１価アルコールの好適な具体的例とし
ては、 ＣＨ，（ＣＨ２）、□ＯＨ。

ＣＨ，（ＣＨ，）、、ＯＨ。

ＣＨ、（ＣＨ！’）、？０Ｈ１ ＣＨｉ　（ＣＨ２）　１９０Ｈ１ ＣＨ３（ＣＨ２）　２１０　Ｈ ＣＨｓ　（ＣＨ−）２１０Ｈ ＣＨ３（ＣＨ、）　２．０Ｈ ＣＨ、（ＣＨ２）　２？０Ｈ ＣＨｓ　（ＣＨ−）　２ｓＯＨ 等が挙げられる。

これらの他、１価ないし多価の天然アルコール、合成ア
ルコール等も好適に使用できる。

エステルとしては、１価ないし多価の飽和脂肪酸と、１
価ないし多価の飽和アルコールとのエステルが好適であ
る。

好適な具体的例としては、 ＣＨ−（ＣＨ２）　＋　４ＣＯＯＣＨ３、ＣＨ，（ＣＨ
２）、６ＣＯＯＣＨ，、 ＣＨ，（ＣＨ２）、８ＣＯＯＣＨ３、 ＣＨ，（ＣＨ２）２．Ｃ００ＣＨ，、 ＣＨ２（ＣＨ２）２４ＣＯＯＣＨ３、 ＣＨ３（ＣＨ２）＋ｅＣＯＯＣ２Ｈａ、ＣＨｓ　（ＣＨ
ａ）　２４ＣＯＯＣ２Ｈ−ＣＨａ　（ＣＨ，）Ｉ６ＣＯ
ＯＣ４Ｈ９ＣＨ３（ＣＨ２）　１．１ｃＯＯｃ　８　Ｈ
，。

等が挙げられる。

前記融点３０℃未満のアルコールと両親媒性化合物との
比率は、モル比で１：９〜９：１、特に３ニア〜７：３
とするのが好ましい。

このような両親媒性化合物と併用することにより、成膜
なＬＢ法により行なうことが可能となり、保護潤滑膜の
成膜性が向上し、累積も容易となる。　また、成膜を塗
布法を行なう場合、均一な膜を形成することができる。

本発明において保護潤滑膜の厚さは４〜３００人程度で
あることが好ましい。　　４人未満では十分な本発明の
効果が得られず特に耐久性が劣り、３００人をこえると
吸着が発生し、磁気ヘッドのクラッシュを起こす場合が
ある。　なお、より好ましい膜厚は４〜１００人であり
、さらに好ましい膜厚は４〜８０人であり、さらに好ま
しい膜厚は５〜４０人であり、さらに好ましい膜厚は１
０〜３０人である。　そして、特に単分子層からなるも
のが好ましい。

融点３０℃未満のアルコールの保護潤滑膜の形成方法に
特に制限はなく、例えば塗布法等を用いればよい。

塗布法を用いる場合、塗布溶液としては、炭化水素系（
キシレン、ベンゼン等）、ハロゲン化炭化水素系（クロ
ロホルム等の塩素化物溶剤、フロン等のフッ素化物溶剤
等）、ニトロ化炭化水素系にトロベンゼン等）、アルコ
ール類系（エチルアルコール、メチルアルコール、プロ
ピルアルコール等）、ケトン類系（アセトン等）、複素
環化合物系（キノリン等）、アミン類系、エーテル類系
、エステル類系、酸類系などが挙げられる。

また、塗布方法としては、スピンコード、ディッピング
、スプレーコート等を適宜選択すればよい。

また、本発明では、融点３０℃以上の両親媒性化合物を
用いるので保護潤滑膜の形成方法として、ラングミュア
・ブロジェット（ＬＢ）法を用いることができる。

この結果、膜の均一性、成膜性が向上し、保護潤滑効果
が向上する。

ＬＢ法を用いる場合は、例えば、被着体基板（磁気記録
媒体または浮上型磁気ヘッド）を水相中に浸漬する。　
次いで、所定のアルコールや化合物を含有する展開溶液
を所定量水相に均一に落とし、単分子膜を展開する。

次に、表面圧が所定の張力となるまで気液界面を圧縮し
た後、一定圧を保つように界面を圧縮しなから被着体基
板を所定の速度で水相中からほぼ垂直に上昇させて、被
着体基板上に単分子膜を移し取る。　次いで、付着した
水を必要に応じ乾燥させる。　さらに、必要に応じ、同
じ操作を繰り返すことによって累積膜を得る。

累積数は１〜２０層程度、より好ましくは１〜５層程度
、特に好ましくは１層、すなわち単分子層であることが
好ましい。

なお、被着体基板表面に疎水性、あるいは親水性の処理
を行い、この上にＬＢ法により有機膜を形成してもよい
。

疎水処理はＬＢ法や気相法等により行なうことができ、
この場合、脂肪酸、エステル、アルコール等の１種以上
を用いることが好ましい。　また、基板の親水処理を行
う場合は、プラズマ法、スパッタ法、溶剤、イオンボン
バード、逆スパツタリング等により行なえばよい。

ＬＢ法において展開する溶液の溶媒としては、上記塗布
法における溶媒を用いることができる。

本発明に用いる磁気記録媒体は、剛性基板上に薄膜磁性
層を有する。　そして、その磁性層に特に制限はなく、
公知の塗布型磁性層、連続薄膜型の磁性層のいずれに対
しても本発明は効果を発揮するが、特に、酸化鉄を主成
分とする連続薄膜型の磁性層の場合、本発明は高い効果
を示す。

以下、酸化鉄を主成分とする連続薄膜型の磁性層を有す
る磁気記録媒体について説明する。

剛性基板の材質に特に制限はないが、下地層などを設層
する必要がなく製造工程が簡素になること、また、研磨
が容易で表面粗さの制御が簡単であることから、本発明
ではガラスを用いることが好ましい。

ガラスとしては、強化ガラスを用いることが好ましい。

　このようなガラスとしては、特開昭６２−４３８１９
号公報に記載されているような表面強化ガラスが挙げら
れる。

剛性基板の表面粗さ（Ｒｍａｘ）は、１００Å以下であ
ることが好ましい。　このような表面粗さは、例えば、
特開昭６２−４３８１９号公報に記載されているような
メカノケミカルポリッシングなどにより得ることができ
る。　なお、Ｒｍａｘは５０Å以下であることがさらに
好ましい。　本発明では薄膜磁性層をこの基板上に直接
設層するため、磁性層の表面粗さは、基板の表面粗さと
ほぼ等しくなる。　基板の表面粗さを上記範囲内とすれ
ば、磁性層表面と浮上型磁気ヘッドの浮揚面との距離を
０．１μｍ以下に保って記録および再生を行なうことが
でき、高密度記録が可能となる。　そして、本発明では
磁性層上および／または磁気ヘッドの浮揚面に前述した
保護潤滑膜を有するため、媒体と磁気ヘッドとが接触し
た場合でも磁気ヘッドの吸着や媒体および磁気ヘッド表
面のキズが生じない。

ガラス基板の材質に特に制限はな（、ホウケイ酸ガラス
、アルミノケイ酸ガラス、石英ガラス、チタンケイ酸ガ
ラス等のガラスから適当に選択することができる。　た
だし、特開昭６２−４３８１９号公報に記載されている
ようなメカノケミカルポリッシングにより表面平滑化を
行なう場合、結晶質を含まないガラスを用いることが好
ましい。　これは、メカノケミカルポリッシングにより
結晶粒界が比較的早く研磨されてしまい、上記のような
Ｒｍａｘが達成できないからである。

剛性基板の形状および寸法に特に制限はないが、通常、
ディスク状とされ、厚さは０．５〜５ｍｍ程度、直径は
２５〜３００ｍｍ程度である。

剛性基板上には、酸化鉄を主成分とする磁性薄膜が成膜
され、磁性層とされる。

磁性層の層厚は、生産性、磁気特性等を考慮して、５０
０〜３０００人程度とすることが好ましい。

磁性層の成膜は公知の気相成膜法等により行なえばよい
が、スパッタ法、特に反応性スパッタ法を用いることが
好ましい。

なお、磁性層中には、成膜雰囲気中に含まれるＡｒ等が
含有されていてもよい。

このようにして得られる磁性層の表面粗さは、剛性基板
の表面粗さとほぼ等しいものである。

なお、このようにして設層される磁性層は、特開昭６２
−４３８１９号公報に記載されている。

このような方法の他、本発明では、蒸着法、めっき法に
より酸化鉄を主成分とする薄膜を形成する方法、あるい
は薄膜形成後に熱処理を施す方法等によって磁性層を設
層してもよい。

このような磁性層上に、前述した保護潤滑膜が成膜され
る。

なお、磁性層上に保護潤滑膜を成膜した後、保護潤滑膜
上を研磨してもよい。

本発明では、酸化鉄を主成分とするこのような連続薄膜
型の磁気記録媒体の他、Ｃｏ−Ｎｉ等の金属気相成長膜
磁性層や金属めっき膜磁性層を有する連続薄膜型の磁気
記録媒体、あるいは酸化鉄を用いた公知の塗布型磁気記
録媒体なども好適である。

次に、本発明の磁気ヘッドについて説明する。

本発明の磁気ヘッドは、そのフロント面（浮揚面）に前
述した保護潤滑膜を有する。

本発明の磁気ヘッドは、ハードタイプの磁気記録媒体と
組み合わされて使用される浮上型磁気ヘッドに適用され
た場合、高い効果を発揮する。

本発明は、公知のコンポジット型の浮上型磁気ヘッド、
モノリシック型の浮上型磁気ヘッド等に適用された場合
でも高い効果を発揮するが、特に、薄膜型の浮上型磁気
ヘッドに適用された場合に、極めて高い効果を示す。

以下、薄膜型の浮上型磁気ヘッドについて説明する。

第１図に、本発明の磁気ヘッドの好適実施例である薄膜
型の浮上型磁気ヘッドを示す。

第１図に示される浮上型磁気ヘッド１は、基体２上に、
絶縁層３１．下部磁極層４１、ギャップ層５、絶縁層３
３、コイル層６、絶縁層３５、上部磁極層４５および保
護層７を順次有する。

本発明では、このような浮上型磁気ヘッド１の少なくと
もフロント面、すなわち浮揚面に、前述した保護潤滑膜
１１を有する。

コイル層６の材質には特に制限はな（、通常用いられる
Ａｒ１、Ｃｕ等の金属を用いればよい。

コイルの巻回パターンや巻回密度についても制限はなく
、公知のものを適宜選択使用すればよい。　例えば巻回
パターンについては、図示のスパイラル型の他、積層型
、ジグザグ型等いずれであってもよい。

また、コイル層６の形成にはスパッタ法、めっき法等の
各種気相被着法を用いればよい。

基体２はＭｎ−Ｚｎフェライト等の公知の材料から構成
される。

本発明の磁気ヘッドを、酸化鉄を主成分とする連続薄膜
型の磁性層を有する磁気記録媒体に対して用いる場合、
基体２はビッカース硬度１０００以上のセラミック材料
から構成されることが好ましい。　このように構成する
ことにより、本発明の磁気ヘッドの効果はさらに顕著と
なる。

ビッカース硬度１０００以上のセラミックス材料として
は、Ａｉ！、□０ｍＴｉＣを主成分とするセラミックス
、ＺｒＯ□を主成分とするセラミックス、ＳｉＣを主成
分とするセラミックスまたはＡｇＮを主成分とするセラ
ミックスが好適である。　また、これらには、添加物と
してＭｇ、Ｙ、Ｚｒ０ａ、Ｔ　ｉ　Ｏ２等が含有されて
いてもよい。

これらのうち、本発明に特に好適なものは、Ａρｘｏｓ
−Ｔｉｃを主成分とするセラミックス、ＳｉＣを主成分
とするセラミックスまたはＡｇＮを主成分とするセラミ
ックスであり、これらのうち最も好適なものは、酸化鉄
を主成分とする薄膜磁性層の硬度との関係が最適である
ことから、ＡＡｚＯ３Ｔｉｃを主成分とするセラミック
スである。

下部および上部磁極層４１．４５の材料としては、従来
公知のものはいずれも使用可能であり、例えばパーマロ
イ、センダスト、Ｇｏ系非晶質磁性合金等を用いること
ができる。

磁極は通常、図示のように下部磁極層４１および上部磁
極層４５として設けられ、下部磁極層４１および上部磁
極層４５の間にはギャップ層５が形成される。

ギャップ層５は、Ａβ２０３．５ｉＯ−等公知の種々の
材料であってよい。

これら磁極層４１．４５およびギャップ層５のパターン
、膜厚等は公知のいずれのものであってもよい。

さらに、図示例ではコイル層６はいわゆるスバイラル型
としてスパイラル状に上部および下部磁極層４１．４５
間に配設されており、コイル層６と上部および下部磁極
層４１．４５間には絶縁層３３．３５が設層されている
。

また下部磁極層４１と基体２間には絶縁層３１が設層さ
れている。

絶縁層の材料としては従来公知のものはいずれも使用可
能であり、例えば、薄膜作製をスパッタ法により行なう
ときには、ＳｉＯ□、ガラス、ＡＪ２　、　Ｏ、等を用
いることができる。

また、上部磁極４５上には保護層７が設層されている。

　保護層の材料としては従来公知のものはいずれも使用
可能であり、例えばＡβｉ０８等を用いることができる
。　また、これらに各種樹脂コート層等を積層してもよ
い。

このような浮上型磁気ヘッドの製造工程は、通常、薄膜
作成とパターン形成とによって行なわれる。

各層の薄膜作成には、上記したように、従来公知の技術
である気相被着法、例えば真空蒸着法、スパッタ法、あ
るいはメツキ法等を用いればよい。

浮上型磁気ヘッドの各層のパターン形成は、従来公知の
技術である選択エツチングあるいは選択デポジションに
より行なうことができる。

エツチングとしてはウェットエツチングやドライエツチ
ングにより行なうことができる。

また、保護潤滑膜ｌｌは、前述した方法により成膜すれ
ばよい。

保護潤滑膜が成膜された浮上型磁気ヘッドは、アーム等
の従来公知のアセンブリーと組み合わせて使用される。

〈実施例〉 以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。

［実施例１］ 〈磁気ヘッドの形成〉 スパッタ法によりＡβ１ｏｓＴｉｃ基体上に薄膜を形成
し、ドライエツチングによってパターンを形成した後、
スライダ構造として磁気ヘッドを得た。　このＡｌ２ｚ
Ｏｓ　　Ｔｉｃ基体のビッカース硬度は２２００であっ
た。

〈磁気ヘッドへの保護潤滑膜形成） 上記磁気ヘッドに保護潤滑膜を形成するに際しては、融
点が３０℃未満の直鎖のアルコールを用い、以下の通り
とした。

ドライエツチングによるパターン形成後に、少なくとも
浮揚面（フロント面）に保護潤滑膜を成膜した。

保護潤滑膜を構成するアルコールや他の化合物の組成な
らびに保護潤滑膜の成膜方法および膜厚な、表１に示す
。　なお、保護潤滑膜をＬＢ法により成膜した場合は、
ＬＢ膜の累積数を併記した。　また、膜厚の測定は、Ｅ
ＳＣＡにより行なった。

また、表１に示す保護潤滑膜成膜方法の詳細は、下記の
通りである。

（ＬＢ法） 表１に示す化合物の１０−４モル／Ｉ２．フロン溶液を
調製し、展開溶液とした。

まず、水相中に被処理基板（磁気ヘッ ド）を浸漬した後、展開溶液を水相表面に均一に落し、
単分子膜を展開した。

次に、表面圧が所定圧となるまで界面を圧縮し、被処理
基板を一定の速度でほぼ垂直に上昇させて被処理基板上
に単分子膜を移し取り、さらに被処理基板の下降および
上昇を繰り返して単分子膜を累積し、保護潤滑膜とした
。

（塗布法） 表１に示す化合物のクロロホルム溶液を塗布溶液とした
。　濃度は、ディッピングの場合０．１ｗｔ％とし、ス
ピンコードの場合０．２ｗｔ％とじた。

このようにして作製された磁気ヘッドをアームと組合わ
せて、空気ベアリング型の浮上型磁気ヘッドを作製した
。

〈磁気ディスクの形成） 外径１３０ｍｍ、内径４０　ｍ　ｍ、厚さ１．９ｍｍの
アルミノケイ酸ガラス板に化学強化処理を施した。　化
学強化処理は、４５０℃の溶融硝酸カリウムに１０時間
浸漬することにより行なった。

次いで、このガラス板表面をメカノケミカルポリッシン
グにより平滑化し、磁気ディスク基板とした。　メカノ
ケミカルポリ・ソシングには、コロイダルシリカを含む
研磨液を用いた。　磁気ディスク基板の表面粗さ（Ｒｍ
ａｘ）は９０人であった。

次いで、Ｆｅをターゲットとし、Ａｒ：０、＝５０　：
　５０で１０−３Ｔｏｒｒの雰囲気中で反応性スパッタ
を行ない、２０００人のα−Ｆ　ｅ　２０３膜を成膜し
た。　次に、水素気流中で３６０℃にて２時間還元処理
を行なってＦｅ３Ｏ４膜とした後、空気中で３１０℃に
て１時間酸化を行ない、γ−Ｆｅ２Ｏ３の磁性層とした
。　この磁性層のＲｍａｘは１００人であった。

〈磁気ディスクへの保護潤滑膜形成〉 上記磁気ディスクの磁性層上に保護潤滑膜を成膜した磁
気ディスクを作製した。

保護潤滑膜を構成する化合物ならびに保護潤滑膜の成膜
方法および膜厚を、表１に示す。

表１に示す成膜方法は、上記磁気ヘッドの場合と同様で
ある。

以上のようにして得られた浮上型磁気ヘッドと磁気ディ
スクとを表１に示すように組み合わせて、浮上型磁気ヘ
ッドと磁気ディスク間の初期および耐久走行後の摩擦な
らびに吸着を測定した。　耐久走行は２０℃、６０％Ｒ
Ｈの条件下で、１１００ｒｐにて１時間接触走行させる
ことにより行ない、摩擦はｌｒｐｍ回転時の動摩擦係数
で表わした。

結果を表１に示す。

［比較例１］ Ｃ１□ＨａｓＯＨから構成される保護潤滑膜を有する磁
気ディスクと、保護潤滑膜を有していない浮上型磁気ヘ
ッドとを、実施例１に準じて作製した。

これらについて、実施例１と同様な測定を行なった。

結果を表１に示す。

なお、耐久走行後の磁気ディスク表面および浮上型磁気
ヘッド浮揚面のキズを１００倍の光学顕微鏡を用いて観
察したところ、実施例１の組み合わせに３いてはどちら
にもキズが認められなかったのに対し、比較例では両方
ともキズの発生が認められた。

［実施例２］ 実施例１で作製したγ−Ｆｅ２０３磁性層上に保護潤滑
膜を有する磁気ディスクおよびへβ２０Ｂ−Ｔｉｃ基体
上に保護潤滑膜を有する浮上型磁気ヘッドを用い、フラ
イングバイト０．１μｍ以下で３６００ｒｐｍにて５分
間高速摺動試験を行なった。

高速摺動試験後の磁気ディスク表面および浮上型磁気ヘ
ッド浮揚面のキズを、１００倍の光学顕微鏡を用いて観
察した。

結果を表２に示す。

［実施例３コ ディスク状のＡｉ！、板上にＮ１−Ｐ下地層をめっきに
より設層し、この下地層上にＣｒ層、Ｃｏ−Ｃｒ磁性層
、Ｃからなる保護膜および上記実施例１で用いた保護潤
滑膜を順次成膜してハードタイプの磁気ディスクを作製
した。

また、実施例１で用いたビッカース硬度２２００のＡβ
２０３Ｔ　Ｉ　Ｃ基体に換え、ビッカース硬度７００の
Ｍｎ−Ｚｎフェライト製基体を用い、この上に実施例１
で用いた保護潤滑膜を成膜して薄膜型の浮上型磁気ヘッ
ドを作製した。

このようにして得られた磁気ディスクおよび浮上型磁気
ヘッドを組み合わせ、実施例２と同様な観察を行なった
。　また、この磁気ディスクおよび浮上型磁気ヘッドを
、それぞれ実施例２に記載の浮上型磁気ヘッドおよび磁
気ディスクと組み合わせ、同様な観察を行なった。

結果を表２に示す。

表　　　　２ 組合せ Ｎｏ。

浮上型磁気ヘッド　　　　磁気ディスク基体　　　　　
　　　キズ　　磁性層　　　キズ１　　　Ａｂ０３−Ｔ
ｉＣ無　　　Ｔ　−Ｆｅ２０ｓ　　　　無２　　　Ａｌ
２Ｏ２−ＴｉＣ（比較）　　無　　　Ｇｏ　−Ｃｒ　　
　　　有３Ｍｎ−Ｚｎフェライト（比較）　　有　　　
Ｔ　　ＦｅＪｉ　　　　無４Ｍｎ−Ｚｎフェライト（比
較）　　有　　　Ｃｏ　−Ｃｒ　　　　　有なお、これ
らの組み合わせの他、ビッカース硬度２２００以上のＡ
ρＮ製基体および同様な硬度を有するＳｉＣ製基体を有
する浮上型磁気ヘッドを用いて実施例２と同様な高速摺
動試験を行なったところ、キズの発生は認められなかっ
た。　また、ビッカース硬度１３００のＺｒＯ□製基体
を有する浮上型磁気ヘッドを用いて同様な測定を行なっ
たところ、磁気ヘッド浮揚面にわずかにキズの発生が認
められたが、実用上は問題とならない程度であった。

また、結果は表２のとおりであるが、 Ｎｏ、４のＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライト、Ｃｏ−Ｃｒの
組合わせで、ヘッド浮上量を０．２ｐとしたところ、磁
気ヘッド、磁気ディスクの両者ともキズは発生せず、本
発明の効果のあることがわかった。

［実施例４］ 上記実施例１で作製した浮上型磁気ヘッドおよび磁気デ
ィスクを用いてＣ８Ｓ試験を行なったところ、摩擦変動
、吸着などに関して極めて良好な結果が得られた。

以上の実施例の結果から、本発明の効果が明らかである
。

〈発明の効果〉 本発明では、保護潤滑膜に、融点が３０℃未満のアルコ
ールと、融点３０℃以上の両親媒性化合物を用いている
ため、より薄く、しかも均一な膜を形成することができ
る。

従って、本発明によれば、磁気記録媒体と、磁気ヘッド
との間の摩擦が小さ（、しかも、その変動が小さく、こ
のためスティックスリップや磁気記録媒体への磁気ヘッ
ドの吸着が発生しにくい。

このため耐久走行を行った場合、安定した走行が得られ
、磁気記録媒体および磁気ヘッドの双方のキズの発生や
、スティックスリップを有効に防止できる。

そして、酸化鉄を主成分とする磁性層を有する磁気記録
媒体と、ビッカース硬度１０００以上のセラミックス材
料から構成される基体を有する薄膜型の浮上型磁気ヘッ
ドとを組合わせて用いる場合は、特に前記の効果は顕著
となる。

符号の説明 １・・・浮上型磁気ヘッド ２・・・基体 ３１．３３．３５・・・絶縁層 ４１・・・下部磁極層 ４５・・・上部磁極層 ５・・・ギャップ層 ６・・・コイル層 ７・・・保護層 １１・・・保護潤滑膜

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の磁気ヘッドの好適実施例である薄膜
型の浮上型磁気ヘッドを示す部分断面図である。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）剛性基板上に磁性層を有する磁気記録媒体に、浮
   上型磁気ヘッドを用いて記録および再生を行う方法であ
   って、 前記磁性層上および／または前記浮上型磁気ヘッドの少
   なくとも浮揚面上に、融点３０℃未満のアルコールと、
   融点３０℃以上の両親媒性の化合物とを含有する保護潤
   滑膜を有することを特徴とする磁気記録再生方法。
2. （２）前記浮上型磁気ヘッドが、薄膜型の浮上型磁気ヘ
   ッドである請求項１に記載の磁気記録再生方法。
3. （３）前記磁性層が酸化鉄を主成分とする磁性薄膜であ
   り、前記浮上型磁気ヘッドの少なくとも浮揚面がビッカ
   ース硬度１０００以上のセラミックス材料から構成され
   ているものである請求項１または２に記載の磁気記録再
   生方法。
4. （４）前記磁性層表面と前記浮上型磁気ヘッドの浮揚面
   との距離が０．１μｍ以下である請求項１ないし３のい
   ずれかに記載の磁気記録再生方法。
5. （５）前記保護潤滑膜がラングミュア・ブロジェット法
   により成膜されたものである請求項１ないし４のいずれ
   かに記載の磁気記録再生方法。
6. （６）剛性基板上に磁性層を有する磁気記録媒体であっ
   て、 前記磁性層が酸化鉄を主成分とする磁性薄膜であり、前
   記磁性層上に、融点３０℃未満のアルコールを含有する
   保護潤滑膜を有することを特徴とする磁気記録媒体。
7. （７）前記剛性基板がガラスから構成されるものである
   請求項６に記載の磁気記録媒体。
8. （８）少なくとも浮揚面がビッカース硬度 １０００以上のセラミックス材料から構成されており、
   少なくとも前記浮揚面上に、融点３０℃未満のアルコー
   ルを含有する保護潤滑膜を有することを特徴とする薄膜
   型の浮上型磁気ヘッド。
9. （９）前記セラミックス材料がＡｌ＿２Ｏ＿３−ＴｉＣ
   を主成分とするセラミックス、ＺｒＯ＿２を主成分とす
   るセラミックス、ＳｉＣを主成分とするセラミックスま
   たはＡｌＮを主成分とするセラミックスである請求項８
   に記載の磁気ヘッド。