JPH0220625B2 - - Google Patents
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- JPH0220625B2 JPH0220625B2 JP57211286A JP21128682A JPH0220625B2 JP H0220625 B2 JPH0220625 B2 JP H0220625B2 JP 57211286 A JP57211286 A JP 57211286A JP 21128682 A JP21128682 A JP 21128682A JP H0220625 B2 JPH0220625 B2 JP H0220625B2
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- Japan
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- formula
- compound
- azide
- hydrogen
- methyl ester
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は2,3−ジアミノプロピオン酸誘導体
の新規な製造方法に関する。
の新規な製造方法に関する。
近年、β−ラクタム系抗生物質における新らし
い基本骨格を持つ化合物として、単環性β−ラク
タム化合物、すなわち、モノバクタムと呼ばれる
一群の化合物が注目されている。モノバクタム
は、一般に、下記式 式中、R′はアシル基を表わし、R″は水素原子
又は有機残基を表わす、 で表わされるが、この化合物の有力な製法の一つ
は、複雑な操作によつて得れる下記式 式中、R″は前記の意味を有する、 の3−アミノ−2−アゼチジノン誘導体を経由す
る合成方法である(特開昭56−125362号公報参
照)。
い基本骨格を持つ化合物として、単環性β−ラク
タム化合物、すなわち、モノバクタムと呼ばれる
一群の化合物が注目されている。モノバクタム
は、一般に、下記式 式中、R′はアシル基を表わし、R″は水素原子
又は有機残基を表わす、 で表わされるが、この化合物の有力な製法の一つ
は、複雑な操作によつて得れる下記式 式中、R″は前記の意味を有する、 の3−アミノ−2−アゼチジノン誘導体を経由す
る合成方法である(特開昭56−125362号公報参
照)。
本発明者は、モノバクタムの重要な合成中間体
である3−アミノ−2−アゼチジノン誘導体の製
法について種々研究を重ねた結果、下記式() 式中、R′は低級アルキル基を表わし、R2はア
ミノ保護基であり、R3は水素原子又はメチル基
を表わす、 の化合物をトリフエニルホスフイン及びアゾジカ
ルボン酸ジアルキルエステルの存在下にアジ化水
素で処理すると、2位のラセミ化が全く起こら
ず、下記式() 式中、R1、R2及びR3は前記の意味を有する、 のアジド化合物が好収率で生成すること、次いで
このアジド化合物を還元することにより下記式
() 式中、R1、R2及びR3は前記の意味を有する、 の2,3−ジアミノプロピオン酸誘導体が好収率
で得られ、且つ、この化合物は前記式(A)の3−ア
ミノ−2−アゼチジノン誘導体の合成における極
めて有利な中間体となる事を見出した。さらに、
前記式()の化合物においてR3がメチル基を
表わす場合の光学活性化合物を用いた場合は、2
位のラセミ化が起らず且つ3位の立体配置の反転
した光学活性の式()のアジド化合物が得られ
る事を見出した。
である3−アミノ−2−アゼチジノン誘導体の製
法について種々研究を重ねた結果、下記式() 式中、R′は低級アルキル基を表わし、R2はア
ミノ保護基であり、R3は水素原子又はメチル基
を表わす、 の化合物をトリフエニルホスフイン及びアゾジカ
ルボン酸ジアルキルエステルの存在下にアジ化水
素で処理すると、2位のラセミ化が全く起こら
ず、下記式() 式中、R1、R2及びR3は前記の意味を有する、 のアジド化合物が好収率で生成すること、次いで
このアジド化合物を還元することにより下記式
() 式中、R1、R2及びR3は前記の意味を有する、 の2,3−ジアミノプロピオン酸誘導体が好収率
で得られ、且つ、この化合物は前記式(A)の3−ア
ミノ−2−アゼチジノン誘導体の合成における極
めて有利な中間体となる事を見出した。さらに、
前記式()の化合物においてR3がメチル基を
表わす場合の光学活性化合物を用いた場合は、2
位のラセミ化が起らず且つ3位の立体配置の反転
した光学活性の式()のアジド化合物が得られ
る事を見出した。
しかして、本発明によれば前記式()の2,
3−ジアミノプロピオン酸誘導体の新規な製造方
法が提供される。
3−ジアミノプロピオン酸誘導体の新規な製造方
法が提供される。
本発明方法は、公知アジド化方法で光学活性な
式()の化合物をアジド化するとラセミ化を起
すのに対し、本発明方法に従いアジド化を行うと
全くラセミ化を起すことなしに、目的とする光学
活性な化合物が得られるという優れた利点を有す
る。
式()の化合物をアジド化するとラセミ化を起
すのに対し、本発明方法に従いアジド化を行うと
全くラセミ化を起すことなしに、目的とする光学
活性な化合物が得られるという優れた利点を有す
る。
しかして、本発明の方法における出発原料の前
記式()の化合物としては、好適には、光学活
性な化合物、すなわちN−保護−L−(又はD−)
トレオニン低級アルキルエステル又はN−保護−
L−(又はD−)セリン低級アルキルエステルを
用いることができる。これらの化合物に本発明の
方法を適用して得られる前記式()のアジド化
合物及び前記式()の2,3−ジアミノプロピ
オン酸誘導体もまた、光学活性な化合物である。
記式()の化合物としては、好適には、光学活
性な化合物、すなわちN−保護−L−(又はD−)
トレオニン低級アルキルエステル又はN−保護−
L−(又はD−)セリン低級アルキルエステルを
用いることができる。これらの化合物に本発明の
方法を適用して得られる前記式()のアジド化
合物及び前記式()の2,3−ジアミノプロピ
オン酸誘導体もまた、光学活性な化合物である。
本発明の方法において用いられる化合物中、
R1によつて表わされる「低級アルキル基」には、
メチル、エチル基等の炭素原子数4個以下のアル
キル基が包含され、一方、R2によつて表わされ
る「アミノ保護基」としては、tert−ブトキシカ
ルボニル、トリチル、ベンジルオキシカルボニ
ル、トラフルオロアセチル基等の温和な条件下に
離脱しうる通常のアミノ保護基が挙げられる。
R1によつて表わされる「低級アルキル基」には、
メチル、エチル基等の炭素原子数4個以下のアル
キル基が包含され、一方、R2によつて表わされ
る「アミノ保護基」としては、tert−ブトキシカ
ルボニル、トリチル、ベンジルオキシカルボニ
ル、トラフルオロアセチル基等の温和な条件下に
離脱しうる通常のアミノ保護基が挙げられる。
本発明の方法によれば、先ず前記式()の化
合物がアジド化される。
合物がアジド化される。
本アジド化は、トリフエニルホスフイン及びア
ゾジカルボン酸ジアルキルエステルの存在下にア
ジ化水素を作用させることにより行うとができ
る。
ゾジカルボン酸ジアルキルエステルの存在下にア
ジ化水素を作用させることにより行うとができ
る。
反応は、通常不活性有機溶媒中、例えばテトラ
ヒドロフラン、エチルエーテル等のエーテル類;
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類;塩化
メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素
類、好ましくはテトラヒドロフラン、エチルエー
テル等の中において行うとができる。反応温度は
臨界的ではないが、一般に−78〜50℃、好ましく
は−20℃〜室温が挙げられる。
ヒドロフラン、エチルエーテル等のエーテル類;
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類;塩化
メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素
類、好ましくはテトラヒドロフラン、エチルエー
テル等の中において行うとができる。反応温度は
臨界的ではないが、一般に−78〜50℃、好ましく
は−20℃〜室温が挙げられる。
上記アジド化反応において、式()の化合物
に対するアジ化水素の使用量は一般に、式()
の化合物/モル当りアジ化水素を少なくとも1モ
ル、好ましくは1.5〜2.5モルの範囲内で使用する
のが有利であり、また、トリフエニルホスフイン
及びアゾジカルボン酸ジアルキルエステルの使用
量はアジ化水素とほぼ等モル量で使用するのが好
ましい。
に対するアジ化水素の使用量は一般に、式()
の化合物/モル当りアジ化水素を少なくとも1モ
ル、好ましくは1.5〜2.5モルの範囲内で使用する
のが有利であり、また、トリフエニルホスフイン
及びアゾジカルボン酸ジアルキルエステルの使用
量はアジ化水素とほぼ等モル量で使用するのが好
ましい。
上記反応に使用しうるアゾジカルボン酸ジアル
キルエステルとしては、例えば、アゾジカルボン
酸ジエチルが挙げられる。
キルエステルとしては、例えば、アゾジカルボン
酸ジエチルが挙げられる。
これにより、前記式()のアジド化合物が好
収率で生成し、この化合物は次いで還元すること
より前記式()の化合物に変えることができ
る。
収率で生成し、この化合物は次いで還元すること
より前記式()の化合物に変えることができ
る。
還元は、通常、不活性有機溶媒、例えばメタノ
ール、エタノール等のアルコール類;酢酸エチル
等のエステル類;テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類;酢酸等の有機酸類;ジメチルホルムアミド
等のアミド類等の中で、触媒の存在下に水素を作
用させることにより行うことができる。反応温度
は臨界的ではないが、通常室温で十分であり、一
方圧力は常圧、加圧のいずれでもよい。用いうる
触媒としては、通常の水素添加触媒、例えばパラ
ジウム−炭素、パラジウム黒、白金、ロジウム等
を挙げることができる。
ール、エタノール等のアルコール類;酢酸エチル
等のエステル類;テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類;酢酸等の有機酸類;ジメチルホルムアミド
等のアミド類等の中で、触媒の存在下に水素を作
用させることにより行うことができる。反応温度
は臨界的ではないが、通常室温で十分であり、一
方圧力は常圧、加圧のいずれでもよい。用いうる
触媒としては、通常の水素添加触媒、例えばパラ
ジウム−炭素、パラジウム黒、白金、ロジウム等
を挙げることができる。
かくして、目的とする前記式()の2,3−
ジアミノプロピオン酸誘導体が生成し、このもの
は常法に従い、例えば過、抽出、再結晶、クロ
マトグラフイー等により、反応混合物から分離、
精製することができる。
ジアミノプロピオン酸誘導体が生成し、このもの
は常法に従い、例えば過、抽出、再結晶、クロ
マトグラフイー等により、反応混合物から分離、
精製することができる。
以上に述べた本発明の方法によれば、光学活性
な前記式()の2,3−ジアミノプロピオン酸
誘導体が好収率で得られる。この目的化合物にお
いてR3がメチル基を表わす場合は新規な化合物
であり、前述しつように3−アミノ−2−アゼチ
ジノン誘導体を製造する為の中間体として極めて
有用である。
な前記式()の2,3−ジアミノプロピオン酸
誘導体が好収率で得られる。この目的化合物にお
いてR3がメチル基を表わす場合は新規な化合物
であり、前述しつように3−アミノ−2−アゼチ
ジノン誘導体を製造する為の中間体として極めて
有用である。
例えば、本発明の方法によつて製造される下記
式(I−a) 式中、R1は前記の意味を有する、 の化合物を、不活性有機溶媒、例えばエチルエー
テル中でトリメチルシリルクロリドの如きシリル
化剤で処理し、次いでグリニヤ試薬、例えばtert
−ブチルマグネシウムクロリドのエチルエーテル
溶液を作用させて閉環反応を行い、得られる下記
式 の化合物から、例えば80%酢酸により、トリチル
基を離脱させることにより3−アミノ−4−メチ
ル−2−アゼチジノンを高収率で得ることができ
る。この化合物は、前述した如くモノバクタムを
合成する際の重要な中間体の1つであり、スルホ
ン化及びアシル化を行うことにより、公知のモノ
バクタムに変換することができる。
式(I−a) 式中、R1は前記の意味を有する、 の化合物を、不活性有機溶媒、例えばエチルエー
テル中でトリメチルシリルクロリドの如きシリル
化剤で処理し、次いでグリニヤ試薬、例えばtert
−ブチルマグネシウムクロリドのエチルエーテル
溶液を作用させて閉環反応を行い、得られる下記
式 の化合物から、例えば80%酢酸により、トリチル
基を離脱させることにより3−アミノ−4−メチ
ル−2−アゼチジノンを高収率で得ることができ
る。この化合物は、前述した如くモノバクタムを
合成する際の重要な中間体の1つであり、スルホ
ン化及びアシル化を行うことにより、公知のモノ
バクタムに変換することができる。
なお、本発明の方法において中間体として生成
する前記式()のアジド化合物もまた、新規な
化合物であり、本発明方法を実施する際の重要な
中間体である。
する前記式()のアジド化合物もまた、新規な
化合物であり、本発明方法を実施する際の重要な
中間体である。
以下、実施例により本発明をさらに説明する。
実施例 1
(a) アルゴン雰囲気下にL−トレオニンメチルエ
ステル塩酸塩4.66gをジクロルメタン50mlに懸
濁させ、トリフエニルメチルクロリド11.45g
及びトリエチルアミン9.6mlを加え室温で一晩
撹拌した。反応液を水洗し減圧下溶媒を留去し
て油状残渣を得た。油状残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイー(溶出溶媒;ジクロルメ
タン;ベンゼン=2:1)に付し、N−トリチ
ル−L−トレオニンメチルエステルを粘稠な油
状物として得た。収量8.92g。
ステル塩酸塩4.66gをジクロルメタン50mlに懸
濁させ、トリフエニルメチルクロリド11.45g
及びトリエチルアミン9.6mlを加え室温で一晩
撹拌した。反応液を水洗し減圧下溶媒を留去し
て油状残渣を得た。油状残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイー(溶出溶媒;ジクロルメ
タン;ベンゼン=2:1)に付し、N−トリチ
ル−L−トレオニンメチルエステルを粘稠な油
状物として得た。収量8.92g。
NMR(CDCl3):1.20(3H,d,J=7Hz),
2.94(1H,m),3.14(3H,s),3.38(1H,m),
3.76(1H,m),7.30(15H,m) (b) N−トリチル−L−トレオニンメチルエステ
ル4.42g及びトリフエニルホスフイン6.72gを
テトラヒドロフラン60mlに溶解し、3.18Nアジ
化水素−ベンゼン溶液7.4mlを加え、−70℃で撹
拌した。この混合物に、アゾジカルボン酸ジエ
チル4.1gのテトラヒドロフラン溶液25mlをゆ
つくり滴下し、温度が自然に0℃に上昇した
後、更に2時間氷冷下撹拌した。反応液を減圧
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フイー(溶出溶媒;ジクロルメタン:n−ヘキ
サン=1:1)に対し、(2S,3B)−2−トリ
チルアミノ−3−アジド酪酸メチルエステルを
得た。
2.94(1H,m),3.14(3H,s),3.38(1H,m),
3.76(1H,m),7.30(15H,m) (b) N−トリチル−L−トレオニンメチルエステ
ル4.42g及びトリフエニルホスフイン6.72gを
テトラヒドロフラン60mlに溶解し、3.18Nアジ
化水素−ベンゼン溶液7.4mlを加え、−70℃で撹
拌した。この混合物に、アゾジカルボン酸ジエ
チル4.1gのテトラヒドロフラン溶液25mlをゆ
つくり滴下し、温度が自然に0℃に上昇した
後、更に2時間氷冷下撹拌した。反応液を減圧
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フイー(溶出溶媒;ジクロルメタン:n−ヘキ
サン=1:1)に対し、(2S,3B)−2−トリ
チルアミノ−3−アジド酪酸メチルエステルを
得た。
NMR(CDCl3):1.22(3H,d,J=7Hz),
2.94(1H,d,J=10Hz),3.18(3H,s),
3.46(1H,d,J=10Hz),3.82(1H,m),
7.34(15H,m) (c) 上で得た(2S,3B)−2−トリチルアミノ−
3−アツド酪酸メチルエステルを酢酸エチル20
mlに溶解し、5%パラジウム炭素1gを加えて
水素雰囲気下、室温で、一晩激しく撹拌した。
反応液を過し、減圧濃縮後、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー(溶出溶媒;ジク
ロルメタン、次いでジクロルメタン:メタノー
ル=20:1)に対し、(2B,3B)−2−トリチ
ルアミノ−3−アミノ酪酸メチルエステル2.92
gを白色結晶として得た。融点89−92℃。
2.94(1H,d,J=10Hz),3.18(3H,s),
3.46(1H,d,J=10Hz),3.82(1H,m),
7.34(15H,m) (c) 上で得た(2S,3B)−2−トリチルアミノ−
3−アツド酪酸メチルエステルを酢酸エチル20
mlに溶解し、5%パラジウム炭素1gを加えて
水素雰囲気下、室温で、一晩激しく撹拌した。
反応液を過し、減圧濃縮後、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイー(溶出溶媒;ジク
ロルメタン、次いでジクロルメタン:メタノー
ル=20:1)に対し、(2B,3B)−2−トリチ
ルアミノ−3−アミノ酪酸メチルエステル2.92
gを白色結晶として得た。融点89−92℃。
MASS:M+374
IR(KBr):3390,3310,1730cm-1
NMR(CDCl3):0.98(3H,d,J=7Hz)1.52
(2H,s),2.84(1H,d,J=10Hz),3.15
(3H,s),3.29(2H,m),7.32(15H,m) 実施例 2 (a) N−t−ブトキシカルボニル−L−セリンメ
チルエステル564mg及びトリフエニルホスフイ
ン1012mgをテトラヒドロフラン8mlに溶解し、
2.5Nアジ化水素−ベンゼン溶液1.5mlをアルゴ
ン雰囲気下に加えた。撹拌下、この混合物にア
ゾジカルボン酸ジエチル672mgのテトラヒドロ
フラン2ml溶液をゆつくり滴下した。室温で2
時間撹拌を続けた後減圧濃縮し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー(溶出溶媒;ベ
ンゼン→ベンゼン:ジクロルメタン=5:1)
で精製して、(S)−2−t−ブトキシカルボニ
ルアミノ−3アジドプロピオン酸メチルエステ
ル355mgを得た。
(2H,s),2.84(1H,d,J=10Hz),3.15
(3H,s),3.29(2H,m),7.32(15H,m) 実施例 2 (a) N−t−ブトキシカルボニル−L−セリンメ
チルエステル564mg及びトリフエニルホスフイ
ン1012mgをテトラヒドロフラン8mlに溶解し、
2.5Nアジ化水素−ベンゼン溶液1.5mlをアルゴ
ン雰囲気下に加えた。撹拌下、この混合物にア
ゾジカルボン酸ジエチル672mgのテトラヒドロ
フラン2ml溶液をゆつくり滴下した。室温で2
時間撹拌を続けた後減圧濃縮し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー(溶出溶媒;ベ
ンゼン→ベンゼン:ジクロルメタン=5:1)
で精製して、(S)−2−t−ブトキシカルボニ
ルアミノ−3アジドプロピオン酸メチルエステ
ル355mgを得た。
(b) (S)−2−t−ブトキシカルボニルアミノ
−3−アジドプロピオン酸メチルエステル103
mgをメタノール3mlに溶解し、5%パラジウム
炭素10mgを加え水素雰囲気下2時間激しく撹拌
した。反応液を過し、減圧濃縮して、(S)−
2−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−アミ
ノプロピオン酸メチルエステル89mgを得た。
−3−アジドプロピオン酸メチルエステル103
mgをメタノール3mlに溶解し、5%パラジウム
炭素10mgを加え水素雰囲気下2時間激しく撹拌
した。反応液を過し、減圧濃縮して、(S)−
2−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−アミ
ノプロピオン酸メチルエステル89mgを得た。
融点139−140℃、〔α〕20 D−38.3(C=1.08,
CH3OH)。
CH3OH)。
物性の確認は以下のようにして行つた。
上で得たアミン体89mgをジオキサン4mlに溶解
し、ベンジルオキシカルボニルクロリド102mg及
びトリエチルアミン61mgを加え、室温で一晩撹拌
した。反応液を水にあけ、ジクロルメタンで抽出
し、飽和食塩水で洗い、乾燥、濃縮の後、シリカ
ゲルカラムクロマトグライー(溶出溶媒;ヘキサ
ン:エチルエーテル=1:1)で精製して、(S)
−2−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−ベン
ジルオキシカルボニルアミノプロピオン酸メチル
エステル125mgを得た。この化合物はNMR,IR
が標品と一致した。〔α〕D−9.19゜(C=1.19,
CH3OH)。
し、ベンジルオキシカルボニルクロリド102mg及
びトリエチルアミン61mgを加え、室温で一晩撹拌
した。反応液を水にあけ、ジクロルメタンで抽出
し、飽和食塩水で洗い、乾燥、濃縮の後、シリカ
ゲルカラムクロマトグライー(溶出溶媒;ヘキサ
ン:エチルエーテル=1:1)で精製して、(S)
−2−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−ベン
ジルオキシカルボニルアミノプロピオン酸メチル
エステル125mgを得た。この化合物はNMR,IR
が標品と一致した。〔α〕D−9.19゜(C=1.19,
CH3OH)。
参考例
アルゴン雰囲気下、(2S,3S)−2−トリチル
アミノ−3−アミノ酪酸メチルエステル2.41gの
エチルエーテル溶液40mlに、氷冷撹拌下、トリメ
チルシリルクロリド838mgのエーテル1ml溶液及
びトリエチルアミン781mgのエーテル1ml溶液を
順次滴下した。室温で1時間撹拌した後、アルゴ
ン雰囲気下、析出したトリエチルアミン塩酸塩を
去し、液を氷冷下撹拌した。これにt−ブチ
ルマグネシウムクロリド−エーテル溶液6.06ml
(8.36m molのt−ブチルマグネシウムクロリド
を含む)を滴下し、氷冷下に一晩撹拌を続けた後
飽和化アンモニウム溶液を加え、酢酸エチルで抽
出した。有機層を水洗、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー(溶出溶媒;ジクロルメタン:エー
テル=10:1)に付し、抽状物1.41gを得た。エ
ーテル−n−ヘキサンより再結晶して、(3B,
4B)−3−トリチルアミノ−4−メチル−2−ア
ゼチジノン1.29gを白色結晶として得た。
アミノ−3−アミノ酪酸メチルエステル2.41gの
エチルエーテル溶液40mlに、氷冷撹拌下、トリメ
チルシリルクロリド838mgのエーテル1ml溶液及
びトリエチルアミン781mgのエーテル1ml溶液を
順次滴下した。室温で1時間撹拌した後、アルゴ
ン雰囲気下、析出したトリエチルアミン塩酸塩を
去し、液を氷冷下撹拌した。これにt−ブチ
ルマグネシウムクロリド−エーテル溶液6.06ml
(8.36m molのt−ブチルマグネシウムクロリド
を含む)を滴下し、氷冷下に一晩撹拌を続けた後
飽和化アンモニウム溶液を加え、酢酸エチルで抽
出した。有機層を水洗、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー(溶出溶媒;ジクロルメタン:エー
テル=10:1)に付し、抽状物1.41gを得た。エ
ーテル−n−ヘキサンより再結晶して、(3B,
4B)−3−トリチルアミノ−4−メチル−2−ア
ゼチジノン1.29gを白色結晶として得た。
融点170−173℃
MASS:M+342
〔α〕20 D−207.5゜(C=2.03,CHCl3)
IR(KBr):3390,3350,3260,1755cm-1
NMR(CDCl3):0.38(3H,d,J=6Hz),
2.76(1H,broad s),3.02(1H,dq,J=6,
2Hz),3.60(1H,m),6.05(1H,s),7.32
(15H,m)。
2.76(1H,broad s),3.02(1H,dq,J=6,
2Hz),3.60(1H,m),6.05(1H,s),7.32
(15H,m)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 式中、R1は低級アルキル基を表わし、R2はア
ミノ保護基であり、R3は水素原子又はメチル基
を表わす、 の化合物を、トリフエニルホスフイン及びアゾジ
カルボン酸ジアルキルエステルの存在下にアジ化
水素で処理し、得られる式 式中、R1、R2及びR3は前記の意味を有する、 の化合物を還元することを特徴とする式 式中、R1、R2及びR3は前記の意味を有する、 の化合物の製造方法。 2 R2がtert−ブトキシカルボニル又はトリチル
基である特許請求の範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57211286A JPS59101445A (ja) | 1982-12-03 | 1982-12-03 | 2,3―ジアミノプロピオン酸誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57211286A JPS59101445A (ja) | 1982-12-03 | 1982-12-03 | 2,3―ジアミノプロピオン酸誘導体の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1139083A Division JPH0222254A (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | 2,3―ジアミノプロピオン酸誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59101445A JPS59101445A (ja) | 1984-06-12 |
| JPH0220625B2 true JPH0220625B2 (ja) | 1990-05-10 |
Family
ID=16603413
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57211286A Granted JPS59101445A (ja) | 1982-12-03 | 1982-12-03 | 2,3―ジアミノプロピオン酸誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59101445A (ja) |
-
1982
- 1982-12-03 JP JP57211286A patent/JPS59101445A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59101445A (ja) | 1984-06-12 |
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