JPH022067A - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
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- JPH022067A JPH022067A JP63147513A JP14751388A JPH022067A JP H022067 A JPH022067 A JP H022067A JP 63147513 A JP63147513 A JP 63147513A JP 14751388 A JP14751388 A JP 14751388A JP H022067 A JPH022067 A JP H022067A
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- dye
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- resin
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光記録分野に使用することのできる改善された
光情報記録媒体に関する。
光情報記録媒体に関する。
光記録方式は、非接触で記録・再生ができ取扱いが容易
であること、傷や塵埃等に強いこと及び磁気記録方式に
比べて記憶容量が数十倍から数百倍大きいという利点を
有することから、コード情報やイメージ情報等の大容斌
ファイルへの活用が期待されている。
であること、傷や塵埃等に強いこと及び磁気記録方式に
比べて記憶容量が数十倍から数百倍大きいという利点を
有することから、コード情報やイメージ情報等の大容斌
ファイルへの活用が期待されている。
なかでも、ユーザが書込み後直接読取りできる。
いわゆる追記型光記録媒体に対する関心は高く。
高感度、高安定性(光学的・機械的)、高品質等の要望
に答えるための研究、特に記録材料に関する研究が盛ん
に行われている。
に答えるための研究、特に記録材料に関する研究が盛ん
に行われている。
ところで、この種の光記録媒体に用いられる記録材料に
は適度な光吸収係数と反射率が要求され。
は適度な光吸収係数と反射率が要求され。
従来、TeやTQ等の金属または金属合金薄膜、TaO
x薄膜等の金属化合物薄膜、銀鉛薄膜等が採用されてい
た。しかしながら、これら金属薄膜はスパッタリング法
や真空蒸着法等の真空薄膜形成技術で形成されるため、
量産性等の点で問題があり、得られる光記録媒体が高価
なものとなってしまうという欠点があった。
x薄膜等の金属化合物薄膜、銀鉛薄膜等が採用されてい
た。しかしながら、これら金属薄膜はスパッタリング法
や真空蒸着法等の真空薄膜形成技術で形成されるため、
量産性等の点で問題があり、得られる光記録媒体が高価
なものとなってしまうという欠点があった。
かかる状況より、記録材料として有機色素材料を用い、
塗布手段にて記録層を形成した光記録媒体が提案されて
いる。このような有機色素材料を記録材料とした光記録
媒体は、記録層をスピンコード等の手段で塗布できるの
で、量産性や製品価格の点で実用性が高いといえる。
塗布手段にて記録層を形成した光記録媒体が提案されて
いる。このような有機色素材料を記録材料とした光記録
媒体は、記録層をスピンコード等の手段で塗布できるの
で、量産性や製品価格の点で実用性が高いといえる。
この有機色素系の光記録媒体には、基板と記録層の間に
反射膜を設は当該反射膜での反射率の差を信号として読
み取るタイプのものと5.有機色素を含む記録層の反射
率を透明基板を介して直接読み取るタイプのものとがあ
るが、前者は反射膜を蒸着等の手法で形成する必要があ
りプロセス的メリットが薄れること、下地の反射膜の熱
伝率が高いためエネルギーロスが大きく照射するレーザ
の出力を必要以上に大きくする必要があること等の欠点
を有している。
反射膜を設は当該反射膜での反射率の差を信号として読
み取るタイプのものと5.有機色素を含む記録層の反射
率を透明基板を介して直接読み取るタイプのものとがあ
るが、前者は反射膜を蒸着等の手法で形成する必要があ
りプロセス的メリットが薄れること、下地の反射膜の熱
伝率が高いためエネルギーロスが大きく照射するレーザ
の出力を必要以上に大きくする必要があること等の欠点
を有している。
そこで、色素合成技術の進歩により反射率の高い色素が
出現してからは、上記有機色素を含む記録層の反射率を
透明基板を介して直接読み取る光記録媒体が積極的に利
用されている。
出現してからは、上記有機色素を含む記録層の反射率を
透明基板を介して直接読み取る光記録媒体が積極的に利
用されている。
前記光記録媒体は、有機色素がレーザ光を吸収すること
により照射部の記録層の温度が急激に上昇することを利
用したもので、色素を溶融・昇華・分解し記録ピットを
形成するものである。したがって、使用する有機色素材
料には、レーザ光の波長領域で当該レーザ光を効果的に
吸収すること、同時にこの波長領域でレーザ光を良く反
射すること、適当な溶媒に可溶であること等の特性が要
求される。
により照射部の記録層の温度が急激に上昇することを利
用したもので、色素を溶融・昇華・分解し記録ピットを
形成するものである。したがって、使用する有機色素材
料には、レーザ光の波長領域で当該レーザ光を効果的に
吸収すること、同時にこの波長領域でレーザ光を良く反
射すること、適当な溶媒に可溶であること等の特性が要
求される。
上記色素は、例えば半導体レーザの波長領域である近赤
外域に大きな吸収を持ち、また同時に近赤外域での反射
率も大きいことから、追記型光記録媒体の記録材料とし
て有望視されている。
外域に大きな吸収を持ち、また同時に近赤外域での反射
率も大きいことから、追記型光記録媒体の記録材料とし
て有望視されている。
しかしながら、従来公知のこの種の光情報記録媒体は必
ずしも高い反射率をもつものではなく、また感度も不充
分であるために安定かつ高信頼性のものではなかった。
ずしも高い反射率をもつものではなく、また感度も不充
分であるために安定かつ高信頼性のものではなかった。
特に一対の記録媒体を記録層を内側にして他の基板と空
間を介して密封したエアーサンドイッチ構造のものであ
って、記録光の照射により一度だけ書き込むことのでき
るピットを形成して記録を行う型の光情報記録媒体にお
いては、その傾向が顕著にみられ、その改善が強く望ま
れていた。
間を介して密封したエアーサンドイッチ構造のものであ
って、記録光の照射により一度だけ書き込むことのでき
るピットを形成して記録を行う型の光情報記録媒体にお
いては、その傾向が顕著にみられ、その改善が強く望ま
れていた。
本発明は、従来の光情報記録媒体にみられる前記問題を
解決し、高い反射率を有するとともに高感度であり、従
って安定かつ信頼性の向上された光情報記録媒体を提供
することを目的とする。
解決し、高い反射率を有するとともに高感度であり、従
って安定かつ信頼性の向上された光情報記録媒体を提供
することを目的とする。
上記目的は、プラスチック基板を用いる光情報記録媒体
における記録層中に特定量の有機溶剤可溶性の樹脂を含
有させることにより達成される。
における記録層中に特定量の有機溶剤可溶性の樹脂を含
有させることにより達成される。
本発明の光情報記録媒体は、基本的にはプラスチック基
板上に有機溶剤可溶性の樹脂を有機色素に対して0.0
1重量%〜18重量ヌを記録層に含有させることにより
構成されるが、必要に応じて基板と記録層との間に下引
き層をあるいは記録層の上に保護層を設けることができ
る。また、このようにして構成された一対の記録媒体を
記録層を内側にして他の基板と空間を介して密封したエ
アーサンドインチ構造にしてもよくあるいは保護層を介
して接着した密着サンドインチ(貼合せ構造)にしても
よい、保護層は、記録層上にあフてもよいし、記録層と
反対側の基板表面にあってもよい。
板上に有機溶剤可溶性の樹脂を有機色素に対して0.0
1重量%〜18重量ヌを記録層に含有させることにより
構成されるが、必要に応じて基板と記録層との間に下引
き層をあるいは記録層の上に保護層を設けることができ
る。また、このようにして構成された一対の記録媒体を
記録層を内側にして他の基板と空間を介して密封したエ
アーサンドインチ構造にしてもよくあるいは保護層を介
して接着した密着サンドインチ(貼合せ構造)にしても
よい、保護層は、記録層上にあフてもよいし、記録層と
反対側の基板表面にあってもよい。
次に、本発明の光情報記録媒体を構成する材料および各
層の必要特性について具体的に説明する。
層の必要特性について具体的に説明する。
(1)基板
基板の必要特性としては基板側より記録再生を行う場合
のみ使用レーザー光に対して透明でなければならず、記
録側から行う場合は透明である必要はない。基板材料と
しては、プラスチック、例えばポリエステル、アクリル
樹脂、ポリアミド、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリカーボネート樹脂
などを用いることができる。
のみ使用レーザー光に対して透明でなければならず、記
録側から行う場合は透明である必要はない。基板材料と
しては、プラスチック、例えばポリエステル、アクリル
樹脂、ポリアミド、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリカーボネート樹脂
などを用いることができる。
なお、基板の表面にはアドレス信号などのプレフォーマ
ットや案内溝のプレグルーブが形成されていてもよい。
ットや案内溝のプレグルーブが形成されていてもよい。
プレフォーマットやプレグルーブの形成法としては、所
謂2P法やインジェクション法などの公知の方法が採用
される。
謂2P法やインジェクション法などの公知の方法が採用
される。
(2)記録層
記録層はレーザー光の照射により何らかの光学的変化を
生じさせその変化により情報を記録できるもので、その
色素主成分がポリメチン系色素等の有機色素からなり、
さらに、記録層の反射率の向上及び感度向上のために、
有機溶剤可溶性の樹脂を特定量含有する。
生じさせその変化により情報を記録できるもので、その
色素主成分がポリメチン系色素等の有機色素からなり、
さらに、記録層の反射率の向上及び感度向上のために、
有機溶剤可溶性の樹脂を特定量含有する。
この有機溶剤可溶性樹脂は、成膜性に優れ、また前記有
機色素との相溶性が良好であるために有機色素中に均一
に分散される。このため記録層の反射率及び光感度が向
上するものと思われる。
機色素との相溶性が良好であるために有機色素中に均一
に分散される。このため記録層の反射率及び光感度が向
上するものと思われる。
有機溶剤可溶性樹脂の使用割合は有機色素に対し0.0
1重量%〜18重量%好ましくは0.1重量2〜10重
量%である。その使用割合が0.01重量%未満である
と感度向上効果が低下し、また18重景%を超えると記
録層の反射率が大巾に減少する。
1重量%〜18重量%好ましくは0.1重量2〜10重
量%である。その使用割合が0.01重量%未満である
と感度向上効果が低下し、また18重景%を超えると記
録層の反射率が大巾に減少する。
本発明で用いられる有機溶剤可溶性樹脂の具体例を以下
に示す。
に示す。
R1)アイオノマー系横開
R2)ポリオレフィン系樹脂
たとえば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−
アクリレート共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体
等。
アクリレート共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体
等。
R3)ハロゲンポリオレフィン系樹脂
たとえば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、酢酸
ビニル−塩化ビニル共重合体、アクリル酸エステルない
しメタアクリル酸エステルと塩化ビニルとの共重合体、
塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体等。
ビニル−塩化ビニル共重合体、アクリル酸エステルない
しメタアクリル酸エステルと塩化ビニルとの共重合体、
塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体等。
R4)ポリスチレンおよびスチレン共重合体ポリスチレ
ン、スチレン−アクリルニトリル共重合体(AS樹脂)
、スチレン−アクリルニトリル−ブタジェン共重合体(
ABS樹脂)、スチレン−ブタジェン共重合体、スチレ
ン−ブタジェン−メチルメタアクリレート共重合体(M
BS41脂)等。
ン、スチレン−アクリルニトリル共重合体(AS樹脂)
、スチレン−アクリルニトリル−ブタジェン共重合体(
ABS樹脂)、スチレン−ブタジェン共重合体、スチレ
ン−ブタジェン−メチルメタアクリレート共重合体(M
BS41脂)等。
R5)クマロン−インデン樹脂
R6)アクリル系樹脂
ポリアクリレート、ポリアクリルニトリル、アクリルニ
トリル共重合体等。
トリル共重合体等。
R7)ポリ酢酸ビニル及びその共重合体酢酸ビニル共重
合体としては、エチレン、塩化ビニル等との共重合体が
ある。
合体としては、エチレン、塩化ビニル等との共重合体が
ある。
R8)ポリビニルエーテル
たとえばポリビニルイソブチルエーテル等。
R9)ポリアミド樹脂
たとえばナイロン6、ナイロン66、ナイロン610、
ナイロン612、ナイロン9、ナイロン11゜ナイロン
12.ナイロン13、ナイロンCM4000((#l東
し製)、ナイロンCM8000(−東し社製)等のホモ
重合体の他、ナイロン6/66/610、ナイロン6/
66/12、ナイロン6/66/11、ナイロン676
6/610/12等の共重合体、変性ナイロン等。
ナイロン612、ナイロン9、ナイロン11゜ナイロン
12.ナイロン13、ナイロンCM4000((#l東
し製)、ナイロンCM8000(−東し社製)等のホモ
重合体の他、ナイロン6/66/610、ナイロン6/
66/12、ナイロン6/66/11、ナイロン676
6/610/12等の共重合体、変性ナイロン等。
10R)ポリエステル樹脂
例えば、シュウ酸、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸
、セパチン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはイソフタル
酸、テレフタル酸等の芳香族二塩基酸などの各種二塩基
酸と、エチレングリコール、テトラメチレングリコール
、ヘキサメチレングリコール等のグリコール類との混合
物や、共縮合物が好適である。そして、これらのうちで
は、特に脂肪族二塩基酸とグリコール類との縮合物や、
グリコール類と脂肪族二塩基酸と芳香族二塩基酸との共
縮合物が更に好ましい。さらに1例えば無水フタル酸と
グリセリンとの縮合物であるグリブタル樹脂を、脂肪酸
、天然樹脂等でエステル化変性した変性グリブタル樹脂
等も好適に使用される。
、セパチン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはイソフタル
酸、テレフタル酸等の芳香族二塩基酸などの各種二塩基
酸と、エチレングリコール、テトラメチレングリコール
、ヘキサメチレングリコール等のグリコール類との混合
物や、共縮合物が好適である。そして、これらのうちで
は、特に脂肪族二塩基酸とグリコール類との縮合物や、
グリコール類と脂肪族二塩基酸と芳香族二塩基酸との共
縮合物が更に好ましい。さらに1例えば無水フタル酸と
グリセリンとの縮合物であるグリブタル樹脂を、脂肪酸
、天然樹脂等でエステル化変性した変性グリブタル樹脂
等も好適に使用される。
11R)ポリビニルアセタール系樹脂
ポリビニルアルコールをアセタール化して得られるポリ
ビニルホルマール、ポリビニルアセトアセタール、ポリ
ビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂はい
ずれも好適に使用される。この場合、ポリビニルアセタ
ール系樹脂のアセタール化度は任意のものとすることが
でき、たとえばBL−1,2,3,S;BX−1゜U;
BM−1,2,5,S;BH−3(以上■積木化学製の
エスレックB型)。
ビニルホルマール、ポリビニルアセトアセタール、ポリ
ビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂はい
ずれも好適に使用される。この場合、ポリビニルアセタ
ール系樹脂のアセタール化度は任意のものとすることが
でき、たとえばBL−1,2,3,S;BX−1゜U;
BM−1,2,5,S;BH−3(以上■積木化学製の
エスレックB型)。
R12)ポリウレタン樹脂
ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂・
特に、グリコール類と、ジイソシアネート類との縮合に
よって得られるポリウレタン樹脂。
よって得られるポリウレタン樹脂。
とりわけ、アルキレングリコールとアルキレンジイソシ
アネートとの縮合によって得られるポリウレタン樹脂が
好適である。
アネートとの縮合によって得られるポリウレタン樹脂が
好適である。
R13)含窒素ビニル重合体
たとえば、ポリビニルピロリドン、ポリビニルカルバゾ
ール等。
ール等。
R14)ポリイミド樹脂
R15)ポリエーテル
たとえば、ポリエチレンオキサイドおよびグリコール、
ポリフェニレンオキサイド(ppo)、変性ポリフェニ
レンオキサイド(ノリル)、またビスフェノールAとエ
ピクロルヒドリンとの縮合等によって得られる熱可塑性
ビスフェノール系エポキシド等。
ポリフェニレンオキサイド(ppo)、変性ポリフェニ
レンオキサイド(ノリル)、またビスフェノールAとエ
ピクロルヒドリンとの縮合等によって得られる熱可塑性
ビスフェノール系エポキシド等。
R16)ポリカーボネート
例えば、ポリジオキシジフェニルメタンカーボネート、
ポリジオキシジフェニルエタンカーボネート、ジオキシ
ジフェニルプロパンカーボネート等の各種ポリカーボネ
ート。
ポリジオキシジフェニルエタンカーボネート、ジオキシ
ジフェニルプロパンカーボネート等の各種ポリカーボネ
ート。
R17)セルロース樹脂
たとえば、アセチルセルロース、プロピルセルロース、
メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチ
ルセルロース等。
メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチ
ルセルロース等。
R18)ポリビニルケトン
たとえば、ポリメチルビニルケトン、ポリメチルイソプ
ロペニルケトン、ポリフェニルトンなど。
ロペニルケトン、ポリフェニルトンなど。
R19)含イオウ重合体
ニーデルポリスルホン樹脂
ポリエーテルスルホン樹脂
ポリフェニレンサルファイド
R20)ユリア樹脂
R21)ケトン樹脂
R22)脂環式固形エポキシ系樹脂
R23)脂環式固形エポキシ−ナイロン共重合体樹脂R
24)上記脂環式固形エポキシーエスレックB樹脂(@
積木化学社製)共重合体樹脂 R25)アセテート樹脂 R26)カルボキシビニルポリマー R27)シリコーン樹脂等。
24)上記脂環式固形エポキシーエスレックB樹脂(@
積木化学社製)共重合体樹脂 R25)アセテート樹脂 R26)カルボキシビニルポリマー R27)シリコーン樹脂等。
前記のような有機溶剤可溶性樹脂は2P法で形成された
基板に対しては全て使用できるが、インジェクト法で形
成された基板に対しては、たとえば、アイオノマー樹脂
、スチレン−アクリロニトリル共重体(AS樹脂)、ポ
リ酢酸ビニル、ポリアミド樹脂類、ポリビニルアセター
ル系樹脂類、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキ
サイドおよびグリコール、アセチルセルロース、プロピ
ルセルロース、スピロエポキシ (■ダイセル製)のような脂環式固形エポキシ樹脂、該
脂環式固形エポキシ樹脂−ナイロン共重合体樹脂、該脂
環式固形エポキシ樹脂−エスレツクB樹脂(−積木化学
社製)、カルボキシビニルポリマーなどのアルコールま
たはアルコールを主成分とする混合溶媒に可溶な樹脂を
用いることが望ましい。
基板に対しては全て使用できるが、インジェクト法で形
成された基板に対しては、たとえば、アイオノマー樹脂
、スチレン−アクリロニトリル共重体(AS樹脂)、ポ
リ酢酸ビニル、ポリアミド樹脂類、ポリビニルアセター
ル系樹脂類、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキ
サイドおよびグリコール、アセチルセルロース、プロピ
ルセルロース、スピロエポキシ (■ダイセル製)のような脂環式固形エポキシ樹脂、該
脂環式固形エポキシ樹脂−ナイロン共重合体樹脂、該脂
環式固形エポキシ樹脂−エスレツクB樹脂(−積木化学
社製)、カルボキシビニルポリマーなどのアルコールま
たはアルコールを主成分とする混合溶媒に可溶な樹脂を
用いることが望ましい。
有機色素としては記録光の波長を吸収する特性と再生光
の波長を反射する特性の両特性を合わせもつ有機色素で
あればいずれのものも使用できる。
の波長を反射する特性の両特性を合わせもつ有機色素で
あればいずれのものも使用できる。
このような有機色素としては、本発明者等が既に提案し
ている色素例えばシアニン、メロシアニン、トリフェニ
ルメタン、ナフトキノン、キサンチンおよびスクアリウ
ム色素などを含めて、アゾ、スチルベン、フタロシアニ
ン系の直接染料、アゾ、アントラキノン、トリフェニル
メタン、キサンチン、アジン系の酸性染料、シアニン、
アゾ、アジン、トリフェニルメタン系の塩基性染料、ア
ゾ、アントラキノン、キサンチン、トリフェニルメタン
系の媒染・酸性媒染染料、アントラキノン、インジゴイ
ド系の建染染料、アゾ、アントラキノン、フタロシアニ
ン、トリフェニルメタン系の油溶染料などを用いること
ができる。
ている色素例えばシアニン、メロシアニン、トリフェニ
ルメタン、ナフトキノン、キサンチンおよびスクアリウ
ム色素などを含めて、アゾ、スチルベン、フタロシアニ
ン系の直接染料、アゾ、アントラキノン、トリフェニル
メタン、キサンチン、アジン系の酸性染料、シアニン、
アゾ、アジン、トリフェニルメタン系の塩基性染料、ア
ゾ、アントラキノン、キサンチン、トリフェニルメタン
系の媒染・酸性媒染染料、アントラキノン、インジゴイ
ド系の建染染料、アゾ、アントラキノン、フタロシアニ
ン、トリフェニルメタン系の油溶染料などを用いること
ができる。
特に本発明においては下記に示すようなシアニン色素又
はメロシアニン色素を用いることが望ましい。
はメロシアニン色素を用いることが望ましい。
〔シアニン色素〕
ル基、置換もしくは未置換のアリール基またはアシルオ
キシ基を示し、xeは酸アニオンを示し、そしてQ、
mおよびnは0または1である。)〔メロシアニン色素
〕 または (式中、R1およびR2は置換もしくは未置換のアルキ
ル基、置換もしくは未置換のアラルキル基またはアルケ
ニル基を示し、Zlおよびz2は置換または未置換の複
素環を完成するに必要な原子群を示し、z、は置換もし
くは未置換の5員環または6員環を完成するに必要な原
子群を示し、また前記5員環もしくは6員環は芳香族環
と縮合していてもよい、R1は水素原子またはハロゲン
原子を示し、R4およびR5は水素原子、ハロゲン原子
、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルキなどの環を表
わしそして上記式中のベンゼン環およびナフタレン環は
置換されていてもよい。
キシ基を示し、xeは酸アニオンを示し、そしてQ、
mおよびnは0または1である。)〔メロシアニン色素
〕 または (式中、R1およびR2は置換もしくは未置換のアルキ
ル基、置換もしくは未置換のアラルキル基またはアルケ
ニル基を示し、Zlおよびz2は置換または未置換の複
素環を完成するに必要な原子群を示し、z、は置換もし
くは未置換の5員環または6員環を完成するに必要な原
子群を示し、また前記5員環もしくは6員環は芳香族環
と縮合していてもよい、R1は水素原子またはハロゲン
原子を示し、R4およびR5は水素原子、ハロゲン原子
、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルキなどの環を表
わしそして上記式中のベンゼン環およびナフタレン環は
置換されていてもよい。
有機色素及び前記有機溶剤可溶性の樹脂を基板上にコー
ティングするために用いられる溶剤としては、アセトン
、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系
;酢酸ブチル、酢酸エチル、カルピトールアセテート等
のエステル系;メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、
テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンエーテル等の
エーテル系;トルエン、キシレン等の芳香族系;メタノ
ール。
ティングするために用いられる溶剤としては、アセトン
、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系
;酢酸ブチル、酢酸エチル、カルピトールアセテート等
のエステル系;メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、
テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンエーテル等の
エーテル系;トルエン、キシレン等の芳香族系;メタノ
ール。
エタノール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール
等のアルコール系;ないし、ジクロルメタン、ジクロル
エタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系などの
有機溶剤のいずれか1種以上が好適である。特にインジ
ェクション法の場合は、アルコール系またはアルコール
を主成分とする混合溶媒系が適している。
等のアルコール系;ないし、ジクロルメタン、ジクロル
エタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系などの
有機溶剤のいずれか1種以上が好適である。特にインジ
ェクション法の場合は、アルコール系またはアルコール
を主成分とする混合溶媒系が適している。
本発明における記録層には、記録特性及び安定性向上の
ために、必要に応じ、他の染料1例えば、フタロシアニ
ン系、テトラヒドロコリン系、ジオキサジン系、トリフ
エッチアジン系、フェナンスレン系、アントラキノン系
、キサンチン系、トリフェニルメタン系、トリフェニル
アミン系、アズレン系染料や、金属又は金属化合物、例
えば、In。
ために、必要に応じ、他の染料1例えば、フタロシアニ
ン系、テトラヒドロコリン系、ジオキサジン系、トリフ
エッチアジン系、フェナンスレン系、アントラキノン系
、キサンチン系、トリフェニルメタン系、トリフェニル
アミン系、アズレン系染料や、金属又は金属化合物、例
えば、In。
Sn、 Te、 Bi、 AQ 、 Sa、 Too、
、SnO,Ag、 Cd、Zn等を分散含有させてもよ
く、また積層してもよい。
、SnO,Ag、 Cd、Zn等を分散含有させてもよ
く、また積層してもよい。
記録層には、その他、安定化剤、保存安定剤(金属錯体
、フェノール系化合物)1分散剤、難燃剤、滑剤、可塑
剤等を含有させることができる。
、フェノール系化合物)1分散剤、難燃剤、滑剤、可塑
剤等を含有させることができる。
このような安定剤としては、種々のものを用いることが
できるが、特に、安定性や耐光性の向上が大きいこと、
長波長の書き込みレーザー光の吸収が増大すること、さ
らには再生劣化が減少すること、そして、色素との相溶
性が良好であることなどから、遷移金属キレート化合物
であることが好ましい、この場合、中心金属としては、
Ni、Co。
できるが、特に、安定性や耐光性の向上が大きいこと、
長波長の書き込みレーザー光の吸収が増大すること、さ
らには再生劣化が減少すること、そして、色素との相溶
性が良好であることなどから、遷移金属キレート化合物
であることが好ましい、この場合、中心金属としては、
Ni、Co。
Cu 、 Mu等が好ましく、たとえば下記の化合物が
好適である。
好適である。
なお、遷移金属キレート化合物ヒしては、700〜85
0rv+に吸収をもつもの、特にそのうち、700−8
50nmに最大吸収波長をもつものであることが好まし
い。
0rv+に吸収をもつもの、特にそのうち、700−8
50nmに最大吸収波長をもつものであることが好まし
い。
1)アセチルアセトナートキレート系
QI Ni(■)アセチルアセトナートQ2 Cu
(II)アセチルアセトナートQ3 Mn(m)アセ
チルアセトナート04 Co(n)アセチルアセトナ
ート2)ビスジチオ−α−ジケトン系 ここに、R(11−H+41は、アルキル基またはアリ
ール基を表わし、旧よ2価の遷移金属原子を表わす。
(II)アセチルアセトナートQ3 Mn(m)アセ
チルアセトナート04 Co(n)アセチルアセトナ
ート2)ビスジチオ−α−ジケトン系 ここに、R(11−H+41は、アルキル基またはアリ
ール基を表わし、旧よ2価の遷移金属原子を表わす。
Q5 Ni(U )ジチオベンジル
Q6 Ni(n )ジチオビアセチル3)ビスフエニ
ルジチオール系 ここに、Rゞs+およびR181は、メチル基などのア
ルキル基、あるいはCnなどのハロゲン原子等を表わし
、NはNi等の2価の遷移金属原子を表わす。
ルジチオール系 ここに、Rゞs+およびR181は、メチル基などのア
ルキル基、あるいはCnなどのハロゲン原子等を表わし
、NはNi等の2価の遷移金属原子を表わす。
また、上記構造のにの上下には、さらに配位がされてい
てもよい。
てもよい。
このようなものとしては、下記のものが市販されている
。
。
QIOPA−1002(同 上)
Qll PA−1003(同 上)
012 PA−1005(同 上)
Q13 PA−1006(同 上)
4)サリチルアルデヒドオキシム系
二二に、R′71およびR′1は、アルキル基を表わし
、には2価の遷移金属原子を表わす。
、には2価の遷移金属原子を表わす。
Q14 Ni(II )0−(N−イソプロピルホルム
イミドイル)フェノール Q15 N1(II )O−(N−ドデシルホルムイミ
ドイル)フェノール Q16 Co(II )O−(N−ドデシルホルムイミ
ドイル)フェノール Q17 Cu(n )O−(N−ドデシルホルムイミド
イル)フェ ノ −ル Q18 N1(II )2.2’−[エチレンビスにト
リロメチリジン)〕−ジフェノール 019 Co(U )2.2′−(エチレンビスにトリ
ロメチリジン)〕−ジフェノール 020 N1(If)2.2’−(1,8−ナフチレン
ビスにトリロメチリジン)〕−ジフェノール Q21 N1(II)−(N−フェニルホルムイミドイ
ル)フェノール Q22 Co(II )−[N−フェニルホルムイミド
イル]フエ ノール Q23 Cu(II)−[N−フェニルホルムイミドイ
ル]フェノール Q24 N1(If)サリチルアルデヒドフェニルヒト
シン Q25 N1(If)サリチルアルデヒドオキシム5)
チオビスフェルレートキレート系 二二に、本土前記と同じであり、R+91およびR(1
111は、アルキル基を表わし、またFt +1111
はアミノ基を表わす。
イミドイル)フェノール Q15 N1(II )O−(N−ドデシルホルムイミ
ドイル)フェノール Q16 Co(II )O−(N−ドデシルホルムイミ
ドイル)フェノール Q17 Cu(n )O−(N−ドデシルホルムイミド
イル)フェ ノ −ル Q18 N1(II )2.2’−[エチレンビスにト
リロメチリジン)〕−ジフェノール 019 Co(U )2.2′−(エチレンビスにトリ
ロメチリジン)〕−ジフェノール 020 N1(If)2.2’−(1,8−ナフチレン
ビスにトリロメチリジン)〕−ジフェノール Q21 N1(II)−(N−フェニルホルムイミドイ
ル)フェノール Q22 Co(II )−[N−フェニルホルムイミド
イル]フエ ノール Q23 Cu(II)−[N−フェニルホルムイミドイ
ル]フェノール Q24 N1(If)サリチルアルデヒドフェニルヒト
シン Q25 N1(If)サリチルアルデヒドオキシム5)
チオビスフェルレートキレート系 二二に、本土前記と同じであり、R+91およびR(1
111は、アルキル基を表わし、またFt +1111
はアミノ基を表わす。
Q26 N1(II)n−ブチルアミノ(2,2’−チ
オビス(4−tart−オクチル)−フェルレート〕Q
27 N1(II)n−ブチルアミノ[2,2’−チオ
ビス(4−tert−オクチル)−フェル−ト]Q29 このような遷移金属キレート化合物(安定化剤)は公知
の方法に従い合成される。
オビス(4−tart−オクチル)−フェルレート〕Q
27 N1(II)n−ブチルアミノ[2,2’−チオ
ビス(4−tert−オクチル)−フェル−ト]Q29 このような遷移金属キレート化合物(安定化剤)は公知
の方法に従い合成される。
そして遷移金属キレート化合物は、前記有機色素に対し
、1重量%−100重!#、%、特に10重量%〜35
重量%程度含有される。
、1重量%−100重!#、%、特に10重量%〜35
重量%程度含有される。
記録層の膜厚は100人〜10μm、好ましくは200
〜2000人である。記録層の形成方法としては、溶剤
塗工法1例えば、浸漬コーティング、スプレーコーティ
ング、スピナーコーティング、ブレードコーティング、
ローラコーティング、カーテンコーティング等を用いる
ことができる。
〜2000人である。記録層の形成方法としては、溶剤
塗工法1例えば、浸漬コーティング、スプレーコーティ
ング、スピナーコーティング、ブレードコーティング、
ローラコーティング、カーテンコーティング等を用いる
ことができる。
(3)下引き層
下引き層は(a)接着性の向上、(b)水又はガスなど
のバリヤー、(c)記録層の保存安定性の向上及び(d
)反射率の向上、(e)溶剤からの基板の保護、(f)
プレグルーブの形成などを目的として使用される。(a
)の目的に対しては高分子材料例えばアイオノマー樹脂
、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天然樹脂、天然高分
子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の高分子物質及び
シランカップリング剤などを用いることができ、(b)
及び(C)の目的に対しては上記高分子材料以外に無機
化合物例えば、Bib2、MgF2.5iO1Tie、
、ZnO,TiN、 SiNなど、金属または半金属例
えばZn、 Cu、 S、 Ni、 Cr、 Ge、S
e、 Au、 Ag、 Al2などを用いることができ
る。また、(d)の目的に対しては金属、例えば、Al
Ag等や、金属光沢を有する有機薄膜、例えば、メチン
染料、キサンチン系染料等を用いることができ、(a)
及び(f)の目的に対しては、紫外線硬化樹脂、熱硬化
樹脂、熱可塑性樹脂等を用いることができる。
のバリヤー、(c)記録層の保存安定性の向上及び(d
)反射率の向上、(e)溶剤からの基板の保護、(f)
プレグルーブの形成などを目的として使用される。(a
)の目的に対しては高分子材料例えばアイオノマー樹脂
、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天然樹脂、天然高分
子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の高分子物質及び
シランカップリング剤などを用いることができ、(b)
及び(C)の目的に対しては上記高分子材料以外に無機
化合物例えば、Bib2、MgF2.5iO1Tie、
、ZnO,TiN、 SiNなど、金属または半金属例
えばZn、 Cu、 S、 Ni、 Cr、 Ge、S
e、 Au、 Ag、 Al2などを用いることができ
る。また、(d)の目的に対しては金属、例えば、Al
Ag等や、金属光沢を有する有機薄膜、例えば、メチン
染料、キサンチン系染料等を用いることができ、(a)
及び(f)の目的に対しては、紫外線硬化樹脂、熱硬化
樹脂、熱可塑性樹脂等を用いることができる。
(4)保護層
保護層は、(a)記録層をその傷、ホコリ、汚れ等から
保護する、(b)記録層の保存安定性の向上。
保護する、(b)記録層の保存安定性の向上。
(C)反射率の向上等を目的として使用される。これら
の目的に対しては、前記下引層に示した材料を用いるこ
とができる。
の目的に対しては、前記下引層に示した材料を用いるこ
とができる。
本発明において、前記下引き層及び保護層には、記録層
の場合と同様に、安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電
防止剤、界面活性剤、可塑剤等を含有させることができ
る。さらに、下引き層や保護層に対しても、本発明によ
る前記化合物を含有させることができる。
の場合と同様に、安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電
防止剤、界面活性剤、可塑剤等を含有させることができ
る。さらに、下引き層や保護層に対しても、本発明によ
る前記化合物を含有させることができる。
得られた光記録媒体に情報信号を記録するには。
透明基板側より絞ったレーザ光を記taMに照射し、溶
融1分解、昇華し、−度だけ書き込むことができる穴あ
きの記録ピットを形成する。また、再生する際には同様
にし、透明基板側より所定波長のレーザ光を照射し、上
記ピット部とスペース部(ピットの形成されてない部分
)の反射率の差をもって情報信号を読みとればよい。
融1分解、昇華し、−度だけ書き込むことができる穴あ
きの記録ピットを形成する。また、再生する際には同様
にし、透明基板側より所定波長のレーザ光を照射し、上
記ピット部とスペース部(ピットの形成されてない部分
)の反射率の差をもって情報信号を読みとればよい。
照射するレーザ光は、記録材料(すなわち有機色素)の
吸収波長に応じて適宜選択すれば良く、具体的には、半
導体レーザ、CO□ガスレーザ、Arガスレーザ、He
−Neガスレーザ、ルビーレーザ、色素レーザ等が挙げ
られる。
吸収波長に応じて適宜選択すれば良く、具体的には、半
導体レーザ、CO□ガスレーザ、Arガスレーザ、He
−Neガスレーザ、ルビーレーザ、色素レーザ等が挙げ
られる。
本発明による光情報記録媒体は、反射率が高く、しかも
感度も良好であることから、安定性に優れると共にかつ
信頼性の向上されたものである。
感度も良好であることから、安定性に優れると共にかつ
信頼性の向上されたものである。
次に実施例をあげて本発明をさらに説明するが。
本発明はこれに限定されるものではない。
実施例1
ベンゾインイソブチルエーテル 2重量部イソプロ
ピルアルコール 50トルエン
10以上の混合物を撹拌混合し、直径2
00.++nおよび厚さ12mのポリメチルメタクリレ
ート円板2枚にディッピング塗布し、15分間乾燥した
後高圧水銀灯2KVの紫外線を20amの距離から15
秒間照射した。
ピルアルコール 50トルエン
10以上の混合物を撹拌混合し、直径2
00.++nおよび厚さ12mのポリメチルメタクリレ
ート円板2枚にディッピング塗布し、15分間乾燥した
後高圧水銀灯2KVの紫外線を20amの距離から15
秒間照射した。
また別に
ン社製)を添加した溶液を塗布乾燥させて、厚さ650
人の記録層を形成させた後、厚さl+m+のABS製内
周および外周スペーサを介して接着剤によって貼り合わ
せ封止した。接着剤としては下記の構成のものを用いた
。
人の記録層を形成させた後、厚さl+m+のABS製内
周および外周スペーサを介して接着剤によって貼り合わ
せ封止した。接着剤としては下記の構成のものを用いた
。
ベンゾインイソブチルエーテル 3 〃をNiのス
タンパに滴下した後、先に得られた板を重ねて押しあて
高圧水銀灯2KWの紫外線を20国の距離から30秒間
照射した。剥離することによってスタンパの型がアクリ
ル板にきれいに転写された。
タンパに滴下した後、先に得られた板を重ねて押しあて
高圧水銀灯2KWの紫外線を20国の距離から30秒間
照射した。剥離することによってスタンパの型がアクリ
ル板にきれいに転写された。
上記の2枚のアクリル板のそれぞれのスタンパの型が転
写された側にシアニン色素NK2883(日本感光色素
社製)0.7重量%の2,2′−ジクロルエタン溶液を
調製し、これに色素に対し重量比18%のカーボネート
と、重量比15%のPA−1006(三井東圧ファイこ
うして作形されたエアサンドウィッチ構造の光ディスク
において、パワーが3 、8mWの半導体レーザを1戸
φに集中し、始めは二面のうち一方の面からパルス照射
し1次に他の面を書き込んだ。
写された側にシアニン色素NK2883(日本感光色素
社製)0.7重量%の2,2′−ジクロルエタン溶液を
調製し、これに色素に対し重量比18%のカーボネート
と、重量比15%のPA−1006(三井東圧ファイこ
うして作形されたエアサンドウィッチ構造の光ディスク
において、パワーが3 、8mWの半導体レーザを1戸
φに集中し、始めは二面のうち一方の面からパルス照射
し1次に他の面を書き込んだ。
そして0 、23mWのパワーで読み出したところ反射
率は20.8%であり、上記記録層においてポリカーボ
ネートを含有しないところのものに比べ、感度は3%向
上した。
率は20.8%であり、上記記録層においてポリカーボ
ネートを含有しないところのものに比べ、感度は3%向
上した。
実施例2〜4
実施例1において、記録層中に含有させる樹脂を以下の
表−1に示した構造のものを用いた以外は実施例1とま
ったく同様にして光情報記録媒体を作成し、その反射率
と感度を実施例1と同様に測定したところ、表−1に示
されるような結果を得た。
表−1に示した構造のものを用いた以外は実施例1とま
ったく同様にして光情報記録媒体を作成し、その反射率
と感度を実施例1と同様に測定したところ、表−1に示
されるような結果を得た。
表−1
ボネート基板2枚を用い、そして各基板に下記シアニン
色素 1重量%とナイロン(CM4000、■東し製)0.1
5重量%を含む1,2−ジクロルエタン20重量部、メ
タノール78重量部、イソプロピルアルコール3重量部
およびn−ブタノール0.5重量部から成る溶液を調製
し。
色素 1重量%とナイロン(CM4000、■東し製)0.1
5重量%を含む1,2−ジクロルエタン20重量部、メ
タノール78重量部、イソプロピルアルコール3重量部
およびn−ブタノール0.5重量部から成る溶液を調製
し。
これに
*:記#iMに樹脂を含有しない光ディスクの感度と比
べた値。
べた値。
実施例5
直径130Iおよび厚さ1mの案内溝付きポリカーを添
加した溶液を塗布乾燥させて厚さ600人の記録層を形
成して各記録媒体を操製した。2枚の記録媒体を厚さ1
mのABSスペーサを介して接着剤により貼合せて封止
した。接着剤として下記の構成のものを用いた。
加した溶液を塗布乾燥させて厚さ600人の記録層を形
成して各記録媒体を操製した。2枚の記録媒体を厚さ1
mのABSスペーサを介して接着剤により貼合せて封止
した。接着剤として下記の構成のものを用いた。
ERL 4299 100重
量2表−2 紫外線光源としては高圧水銀灯(ウシオ電機社製uvt
、−zooo−os)を用い、照射距離lO■、照射時
間45秒で硬化させた。
量2表−2 紫外線光源としては高圧水銀灯(ウシオ電機社製uvt
、−zooo−os)を用い、照射距離lO■、照射時
間45秒で硬化させた。
こうして作製されたエアサンドウィッチ構造の光ディス
クにおいて、パワーが3.8m11の半導体レーザを1
μmφに隼光し、始めは二面のうち一方の面からパルス
照射し、次に他の面を書き込んだ。
クにおいて、パワーが3.8m11の半導体レーザを1
μmφに隼光し、始めは二面のうち一方の面からパルス
照射し、次に他の面を書き込んだ。
そして0.23mWのパワーで読み出したところ、記録
層の反射率は18.2%、上記記録層においてナイロン
CM4000を含有しないものに比べ、感度は4.5%
向上した。
層の反射率は18.2%、上記記録層においてナイロン
CM4000を含有しないものに比べ、感度は4.5%
向上した。
実施例6〜10
記録層中に含有させる樹脂を以下の表−2に示した構造
のものを用いた以外には実施例5とまったく同様にして
光情報記録媒体を作製し、その反射率と感度を実施例5
と同様に測定したところ表−2に示される結果を得た。
のものを用いた以外には実施例5とまったく同様にして
光情報記録媒体を作製し、その反射率と感度を実施例5
と同様に測定したところ表−2に示される結果を得た。
*:記録層に樹脂を含有しない光ディスクの感度と比べ
た値。
た値。
Claims (1)
- (1)プラスチック基板上に直接又は下引き層を介して
有機色素を主成分とする記録層を設けさらに必要に応じ
て保護層を設けてなる光情報記録媒体において、前記記
録層中に有機溶剤可溶性樹脂を有機色素に対して0.0
1重量%〜18重量%含有させたことを特徴とする光情
報記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63147513A JPH022067A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63147513A JPH022067A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | 光情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH022067A true JPH022067A (ja) | 1990-01-08 |
Family
ID=15432043
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63147513A Pending JPH022067A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH022067A (ja) |
-
1988
- 1988-06-15 JP JP63147513A patent/JPH022067A/ja active Pending
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