JPH0220694B2 - - Google Patents

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JPH0220694B2
JPH0220694B2 JP60174333A JP17433385A JPH0220694B2 JP H0220694 B2 JPH0220694 B2 JP H0220694B2 JP 60174333 A JP60174333 A JP 60174333A JP 17433385 A JP17433385 A JP 17433385A JP H0220694 B2 JPH0220694 B2 JP H0220694B2
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camshaft
cam
torch
axis
point
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JPS6237564A (ja
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Hideo Nonoyama
Toshiharu Fukumizu
Akyoshi Morita
Seiichi Uruno
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Toyota Motor Corp
Original Assignee
Toyota Motor Corp
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Publication date
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Priority to DE19863626808 priority patent/DE3626808A1/de
Publication of JPS6237564A publication Critical patent/JPS6237564A/ja
Priority to US07/129,349 priority patent/US4787944A/en
Publication of JPH0220694B2 publication Critical patent/JPH0220694B2/ja
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
    • C21D9/30—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for crankshafts; for camshafts
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/902—Metal treatment having portions of differing metallurgical properties or characteristics
    • Y10S148/903—Directly treated with high energy electromagnetic waves or particles, e.g. laser, electron beam
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/902—Metal treatment having portions of differing metallurgical properties or characteristics
    • Y10S148/904—Crankshaft

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Heat Treatment Of Articles (AREA)
  • Valve-Gear Or Valve Arrangements (AREA)
  • Gears, Cams (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、カムシヤフト、より詳しくはTIGア
ーク、レーザー、電子ビームなどの高密度エネル
ギーによつてカム摺動部表面を溶融し、自己冷却
で耐摩耗性に優れたチル層を形成させる再溶融カ
ムシヤフトの製造方法に関する。
〔従来の技術〕
自動車用エンジンなどに組込まれるカムシヤフ
トではカム摺動表面が優れた耐摩耗性を有する必
要があり、カム摺動部をTIGアーク、レーザー、
電子ビームなどの高密度エネルギーによつて溶融
させ、カムシヤフトの自己冷却による急冷でチル
硬化層を形成する表面硬化処理が施こされる(例
えば、本出願人による特開昭59−23156号公報、
昭和59年5月7日出願の特願昭59−91654号およ
び59−91655号参照)。このような表面硬化処理に
よる再溶融チルカムシヤフトの製造においては、
第5図に示すようにカムシヤフト1のカム2と、
トーチ3のタングステン電極4との間にTIGアー
ク5を発生させてカム2の摺動表面を溶融させ、
このときにカムシヤフト1をその中心軸6につい
て回転させて(矢印7)同時に中心軸6と平行に
(矢印8)揺動している(往復運動させている)。
トーチ3はタングステン電極4とカム2の表面と
の距離が一定になるように鉛直方向(矢印9)に
動かされ、TIGアーク5が軌跡10を描く。な
お、カムシヤフト1の代わりにトーチ3を揺動し
てもよい。
〔発明が解決しようとする問題点〕 トーチ3の軸(Z軸)11がカムシヤフト1の
中心軸6と交差するようになつている第6図に示
すカム2の断面において、TIGアークによる溶融
ポイントAではカム2のカムプロフイルの接線1
2と水平線13との間に変化する角度α(以下、
垂れ角と呼ぶ)が形成される。この垂れ角αが大
きい場合には高密度エネルギーによつて形成され
た溶融プールが重力によつて下方へ垂れる問題が
生じる。垂れ角αは、一般に、カムノーズ頂点1
4とカムシヤフトの中心軸6とを結ぶ線とトーチ
3の軸11との間に形成される角度が15〜30゜で
あるときに最大となる。垂れ角は水平線に対して
左下り(第6図)の場合と右下り(図示せず)の
場合とがある。最大垂れ角となる2箇所のうち、
左下り垂れ角となるカム2の基礎円部15からカ
ムノーズ頂点14へ向つてのTIGアークによるカ
ム表面の斜面部の溶解では、先に再溶融されそし
て自己冷却で急冷されて形成されたチル層が下方
にあつてこのチル層はある程度を熱を有してお
り、この熱が次に溶解で形成される溶融プールの
凝固を遅らせ、重力による溶融金属のカム表面斜
面上の垂れを招く。またアークは、一度溶融され
てまだ熱い地点に優先的に飛ぶため、アーク柱は
カム表面をそうような形で、電極とカム軸芯を結
ぶ線上の点より、処理始め側にずれる(カム軸回
転が速いほどこの傾向は強い)。これにより、ア
ークをとり巻くArガス流が、カム表面を重力方
向になぜて溶融プールをおし下げる形となる。こ
のために、垂れが大きくなる。一方、右下り垂れ
角となるカムノーズ頂点14から基礎円部15へ
向つてのTIGアークによる溶解では、前述の場合
とは違つて溶融プールが垂れたとしてもその溶融
箇所の下側はまた加熱されていない冷たいカム部
分なので急速に凝固するし、アーク柱は上述と逆
になり、ほぼ最短距離にあるカム面に向うため、
Arガス量の影響はなくなり垂れが大きくなるこ
とはなく、ほとんど問題はない。
溶融プールの垂れが大きく発生すると、第7図
のカム断面(カムシヤフトの中心軸6に沿つた断
面で)に示したようなカム表面(すなわち、チル
層21の表面)に凹凸が生じる。なお、第7図に
おいて、チル層21の下にマルテンサイト層22
が形成されており、その下はカム基地(鋳放し鋳
造組織)23である。TIGアークを利用した表面
硬化後に、再溶融チルカムシヤフトを研摩して所
定カムプロフイルの研摩面とする際に、凹凸が大
きい場合には、研削取代よりも深い凹所24に黒
皮残りが生じることがある。通例、研削取代tは
処理時のカム表面26と研摩面27との差であつ
て0.5mm程度である。実際には、研削取代がTIG
アーク処理前の機械加工での機械能力によりばら
つくために、このような黒皮残り不良のないよう
にするにはTIGアーク再溶融処理後のカム表面で
の凹所深さを処理時のカム表面26より0.25mm以
内にする必要がある。溶融プールの垂れによる凹
所深さを0.25mm以内にするためには、後述する場
合でのように垂れ角αが33゜もあるときでは、溶
融電流を下げる(照射エネルギーを弱める)など
して溶融プール量を抑えることになり、このこと
によつて最大チル深さが0.8〜1.0mm程度になつて
しまう。この最大チル深さの値では、エンジンの
動弁系において再溶融チル層の耐摩耗性が優れて
各種耐久試験に合格しているとは言え不安要因と
なる恐れがあり、カム摺動部での最大チル深さが
1.0mm以上、好ましくは1.5mm以上とするのが望ま
しい。
このように深い最大チル深さ(チル層厚さ)を
確保するには、溶融プールの重力による垂れを小
さくコントロールして所定エネルギーによるカム
表面の再溶融を行なう必要がある。
溶融プールの重力による垂れを小さくあるいは
防止する方法として、垂れ角αを殆んど常にゼロ
にする試みがある。例えば、特開昭57−177926号
公報にて開示されたカム摺動面の白銑硬化方法に
おいては、第1図、第2図および第3図に示され
たようにノーズ部を含むカム摺動面のB−E間は
常に水平位置(垂れ角α≒0)にある。しかしな
がら、この開示された方法を実施する装置では、
ノーズ部(C−Dの間)を再溶融チル化処理する
ために、小径の偏心円部の中心軸O2でカムシヤ
フトを回転させる機構となつており、B−E間の
処理はできるが、基礎円部(F−Aの間)につい
ては再溶融チル化処理できない。そのためカムの
基礎円部での異常摩耗対策などのためにカム全周
にわたつて再溶融チル化処理することができな
い。もし、カム基礎円部をも再溶融チル化処理す
るようにするならば、カムシヤフト回転軸が2つ
となり、処理装置はかなり複雑なものになつてし
まう。
溶融プールの重力による垂れを小さくする別の
方法として、第6図での左下り垂れ角αを右下り
垂れ角となるようにトーチを図面上で右側へ(カ
ムシヤフト中心軸6を通る鉛直線上から回転方向
と反対方向へ)ずらすことが考えられ、このトー
チをずらすことが特開昭第53−94209号公報に開
示されている。この公報の第1図に示されたよう
に、トーチはカムシヤフト回転方向とは反対方向
にカムシヤフト中心軸を通る鉛直線から約45゜の
角度に設置されている。この場合での、カムの基
礎円部からノーズ頂点へ向つてのアーク再溶融に
おける垂れ角は水平線から右下りの角度(水平線
からカム回転方向とは反対方向へ下がる角度)と
なつており、添付の第8図および第9図に示した
とおりである。第8図では、トーチ3をその軸線
がカムシヤフト中心線6を通るようにかつ鉛直線
11(Z軸方向)に対して45゜傾いているように
設置しており、第8図a〜fに示したようにアー
クによる再溶融が行なわれ、垂れ角は常に水平線
から右下り状態にある。さらに、第9図では、
45゜傾けられているトーチ3の軸線がカムシヤフ
ト中心線6から上方へ変移するようにトーチを設
置しており、第9図a〜fに示したようにアーク
による再溶融が行なわれ、垂れ角は常に水平線か
ら右下り状態にあつて第8図の場合よりも小さ
い。しかしながら、この方法でも、カムノーズ前
後で垂れ角が大きく変化するため、アークの飛ぶ
位置がワークに対して極端に変化することにより
Arガスのシールドが乱れ、電極が酸化されて損
耗は激しく、使つているうちにアークの飛ぶ位置
が変化し、カムの端面垂れあるいは黒皮残り不良
が頻発するようになる。この為、電極の交換頻度
を早くしなければならず、電極費用、電極研摩、
交換工数が多くなる。
本発明の目的は、高密度エネルギー照射を利用
したカムシヤフトの再溶融チル化処理において溶
融プールの重力による垂れを小さくする上述した
従来方法とは異なる自由度の高い処理方法を提供
することがである。
本発明の目的は、溶融プールの垂れに起因した
凹所の深さを0.25mm以内としかつカム幅方向での
1.0mm以上の最大チル深さをカム全周にわたつて
確保する再溶融チルカムシヤフトの製造方法を提
供することである。
〔問題点を解決するための手段〕
上述の目的が、カムシヤフトのカムに高密度エ
ネルギーをトーチから照射することによつてカム
摺動部表面を溶融し、自己冷却によるチル層を形
成させる再溶融カムシヤフトの製造方法におい
て、前記カムをそのカムシヤフト中心軸のみを中
心に一方向に回転させ、前記カム摺動部表面の少
なくともカムノーズ部を処理する際には、溶融地
点における前記カムの表面接線と水平線との角度
をカムシヤフト回転方向と反対方向に水平線より
下側に形成するように、前記高密度エネルギー照
射トーチを前記カムシヤフト中心軸と垂直でかつ
水平なY軸方向と、前記カムシヤフト中心軸と垂
直でかつ鉛直なZ軸方向との2軸方向で位置制御
して、溶融プールの重力による垂れを小さくする
ことを特徴とする再溶融カムシヤフトの製造方法
によつて達成される。
本発明の製造方法では、カム摺動部表面全体に
わたつてカムシヤフトの中心軸に対して垂直でか
つ水平なY軸方向およびこの中心軸に対して垂直
でかつ鉛直なZ軸方向の2軸制御としてカムの回
転に応じて行なわれる。
〔実施例〕
以下、添付図面を参照しながら本発明の実施例
によつて本発明をより詳しく説明する。
本発明に係る再溶融カムシヤフトの製造方法を
実施する再溶融チル化処理装置の制御系統図を第
2図に示し、機械的装置本体を第3図および第4
図に示す。
この再溶融チル化処理装置は制御ユニツトおよ
び機械的装置本体31からなる。制御ユニツトは
コントローラ32、高密度エネルギー源(TIGア
ーク用電源)33、カムシヤフトのオシレーテイ
ング制御器34、プログラムユニツト35、テイ
ーチングユニツト36およびオペレーテイングボ
ツクス37からなる。そして機械的装置本体31
は、高エネルギー照射器(TIGトーチ)38、こ
のトーチを移動させる直交3軸ロボツド部39お
よびカムシヤフトを担持して回転および揺動させ
るワーク駆動部40からなる。なお、この場合に
おいて、カムシヤフトが揺動するようになつてい
るが、トーチを揺動するようにしてもよい。
TIGアーク用電源33は、直流TIGアークの電
流値を周期的に変化させた溶融電流を供給するも
のが好ましく、いわゆるTIGパルス溶接での電流
波形と同様な波形で電流を供給できるものであ
る。なお、このようなパルス電流であつてもその
ベース電流(バツクグラウド電流)はカム表面を
溶解しうるTIGアークを発生させる値を有して、
形成する溶融プールは連続している。溶融電流と
しては最大チル深さを1.0mm以上とするために、
ベース電流値が60A〜140Aであるのが好ましく、
140A以上であると溶融量が大きく垂れの問題が
生じてしまう。パルス電流のピーク値、パルス
幅、およびパルス周波数については70A〜150A
および0.1秒〜0.4秒の範囲で適切に設定するのが
望ましい。
第3図および第4図において、直交3軸ロボツ
ト部39は、(1)カムシヤフト1の中心軸6と平行
なX軸方向にトーチ38を移動させるためのスラ
イドベース51、X軸スライダー52、およびX
軸方向駆動機53、(2)カムシヤフト中心軸に対し
て垂直でかつ水平なY軸方向にトーチ38を移動
させるためのY軸スライダー55およびY軸方向
駆動機56、および(3)カムシヤフト中心軸に対し
て垂直でかつ鉛直なZ軸方向にトーチを移動させ
るためのY軸スライダー55に取付けられるZ軸
方向可動板57およびZ軸方向駆動機58、から
なる。第3図および第4図においては、トーチ3
8は取付具59によつて可動板57に固定されて
いる。ワーク回転部40は、(1)カムシヤフト1を
保持するセンター61,62(第4図)とカムシ
ヤフトを回転させる駆動機(サーボモータ)63
とを有するワーク回転部64、および(2)このワー
ク回転部64をX軸方向に揺動(往復運動)させ
るためのスライドベース65およびオシレーテイ
ング駆動機66からなる。
コントローラ32からの指令が各駆動機53,
56,58,63および66およびTIGアーク用
電源33へ伝達される。カムシヤフトの再溶融チ
ル化処理が本発明に係る製造方法にしたがつて行
なわれるように、最適条件をプログラムユニツト
35、テイーチングユニツト36、オペレーテイ
ングボツクス37によつて設定し、コントローラ
32によつて処理装置が自動的に動かされる。
実施例 1 上述した再溶融チル化処理装置を使用して、第
1図a〜eに示したようにカムシヤフト1(カム
2)を回転させかつトーチ38を移動させてカム
シヤフトのカム表面をTIGアークによつて溶解
し、自己冷却によつてチル層を形成することでカ
ムシヤフトを製造する。
まず、カムシヤフト1をワーク回転部64のセ
ンター61,62間に配置する(第4図)。カム
シヤフト1は、複数のカム2、軸受部68および
軸部69からなり、機械加工された特殊鋳鉄鋳物
である。例えば、カムシヤフトは次のような寸法
である。
カムシヤフト全長:400mm カム幅:14.4mm リフト高さ:8mm 基礎円部直径:31mm 第1図でのカム2のプロフイルは、E点からF
点およびA点を経由してB点までの基礎円部、C
点からD点までのカムノーズ部(小径の偏心円
部)、およびこれらを滑らかに接続するB点から
C点までとD点からE点までの2つのほぼ直線形
状部からなる。カム表面とトーチのタングステン
電極との最短距離を一定にしてTIGアークを発生
させる必要があるので、マスターカムを使用して
球形センサー(直径4mmのボール使用)と電磁マ
イクロメータとであらかじめカムプロフイルの変
化を調べかつトーチの位置変動をカムシヤフトの
回転との関係で適切にテイーチングユニツト35
で設定し、プログラムユニツト36に記憶させて
おく。ひとつのカムについての処理が終了したら
次のカム処理を行なうようにX軸方向の3軸ロボ
ツト部39の動きもプログラムしておく。
第1図aに示したように、トーチ38をカム2
の中心軸6の鉛直線上に持つてくる。このトーチ
の対応ポイントであるA点(スタート点)はカム
基礎円部の任意の地点であり、中心軸6とノーズ
頂点とを結ぶ線に対して±90゜以上のところであ
るのが望ましい。この状態でTIGアークをトーチ
38とカム表面との間に発生させ、かつカムシヤ
フトの中心軸6方向に9.5mmの振幅で、1.1秒/サ
イクルの揺動を開始する。アーク発生後、3秒間
はカムシヤフトを回転させずにおき、それからカ
ムシヤフトを300゜/minの回転速度にて回転させ
る。この回転停止期間は、カムシヤフトが予熱さ
れずに冷たい状態であるとTIGアークによる溶融
深さが浅く、チル層が薄くなる傾向があるので、
予熱期間である。カムシヤフトを通電による加熱
などであらかじめ予熱するならば、直ちにカムシ
ヤフトを回転させることができる。TIGアーク溶
融電流は115Aのベース電流値、125Aのピーク電
流値、0.2秒のパルス幅のパルス周波数に設定す
る。この状態で、アーク溶融地点でのカム表面接
線は水平線と一致しており、B点に到るまで処理
する。
第1図bに示したように、B点がトーチの真下
に来たときにカムシヤフトの回転を止める。そし
て、2.0mmのアーク長を保持してトーチ38をほ
ぼ水平位置にある直線形状に沿つてC点まで移動
させる。このときには、直線形状部のB点からC
点までその表面接線が水平線より右下に(図面上
で)あるようにし、その角度βがゼロに近いほう
が好ましい。トーチ38の移動は、Y軸方向駆動
機56によつてY軸スライダー55(第3図)を
カムシヤフト1から離れるように動かしかつ可動
板駆動機58によつてトーチのある可動板57を
上下方向(Z軸方向)に直線形状部に対応して動
かすことで行なわれる。なお、トーチ38のY軸
方向の移動速度は100mm/minであり、溶融電流
を強めて120Aのベース電流で130Aのピーク電流
(パルス幅、周波数は同じ)とする。ここで溶融
電流を強めたのは、チル深さ(チル層厚さ)を大
きくして前工程の機械加工によるカムプロフイル
粗加工でのバラツキがあつても十分なチル層を確
保するためである。
次に、トーチ38がC点真上(多少C点上より
進んでよい)に到達したときに、第1図cに示す
ように、カムシヤフト1の回転を再開し(回転速
度:300゜/min)、同時にトーチ38をY軸方向
で図面上で左側へ移動させ(Y軸方向移動速度:
140mm/min)かつアーク長が2.0mmであるように
Z軸方向で適切に移動させる。このC点からD点
までのカムノーズ部の処理中でも溶融地点での表
面接線が水平線より右下にあるようにする。溶融
地点は右下り傾斜面にあるので、溶融プールは若
干未処理部へ垂れることになるわけであるが、こ
の未処理部は未だ加熱されていない冷たい部分な
ので急速に凝固されることと、カムシヤフトの回
転によつて凝固までの溶融プールがすぐに水平状
態になることとによつて垂れはほとんど生じな
い。もし、溶融地点を特開昭58−224118号公報で
のように垂れ角ゼロ(水平線上)の位置にする
と、カムシヤフト回転によつて溶融プールが、凝
固までの短時間であるが、左下り傾斜面上にある
ようになつて、ノーズトツプ部に近いほどその傾
斜が大きくなり、垂れが少し生じてしまう可能性
がある。
C−D点間においては、カムシヤフト回転に応
じてトーチを2軸(Y軸およびZ軸)制御で移動
させるわけで、右下の垂れ角を適切に設定して変
動させることができ、ノーズトツプ部付近にて最
大約30゜まで大きくなることがある。また、溶融
電流を、ノーズ部に熱が集中して自己冷却の急冷
に影響がでるので、ベース電流100Aのピーク電
流110A(パルス幅、周波数は同じ)に弱める。D
点に溶融地点が来たときには、第1図dに示した
状態となる。
第1図dの状態になつたときに、カムシヤフト
の回転を止める。そして、2.0mmのアーク長を保
持してトーチ38をほぼ水平位置にある直線形状
部に沿つてE点まで(カムシヤフト中心線の真上
まで)移動させる。このときの状況は第1図bで
の場合と同様であり、ただ、溶融電流をベース電
流110Aのピーク電流120A(パルス幅、周波数は
同じ)としている。
そして、トーチ38がE点真上に到達したとき
に、第1図eに示すように、カムシヤフトを回転
させる(回転速度:300゜/min)。E点からA点
までは基礎円部なので、トーチ38を移動させる
必要もなく、溶融地点での表面接線と水平線とは
一致する。基礎円部の全てを再溶融チル化しなく
てもよい場合には任意のF点までとすることがで
きる。
このようなTIGアークによる再溶融チル化処理
では溶融プールの垂れが生じるほどの斜面が現わ
れることがなく、深さが0.15mm以上の凹所はなく
研摩後の黒皮残り不良はない。また、カムを切断
してチル層厚さを調べたところ最大チル深さは
1.5〜1.7mmであつた。問題としていたカム摺動面
の強い圧力のかかるところ(B点からC点)でも
同じように1.5〜1.7mmである。
〔発明の効果〕
本発明に係るTIGアークによる再溶融チルカム
シヤフトの製造方法によつて、溶融プールの重力
による垂れを小さく抑えてかつ最大チル深さを大
きくすることができる。自由度の大きな自動制御
システムとすることができ、設計変更などによる
バリエーシヨンに容易に対応した処理が行なえ
る。上述の実施例1ではTIGアークをエネルギー
源としているが、レーザあるいは電子ビームの場
合でも本発明の方法に採用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図a〜eは、本発明に係る再溶融チルカム
シヤフトの製造方法にしたがつて、カム表面を処
理している過程を説明する工程図であり、第2図
は、再溶融チル化処理装置の制御系統図であり、
第3図は、機械的装置の側面断面図であり、第4
図は、機械的装置の概略正面図であり、第5図は
カム表面をTIGアークによつて溶融チル化処理を
行なつている状態を示すカムシヤフトおよびTIG
トーチの部分斜視図であり、第6図はカムの断面
図であり、第7図は溶融プールの重力を垂れを説
明するカムの部分断面図であり、第8図a〜f
は、従来のトーチ固定傾けでのカム表面処理過程
を説明する工程図であり、第9図a〜fは、従来
の変移トーチ固定傾けでのカム表面処理過程を説
明する工程図である。 1……カムシヤフト、2……カム、3……トー
チ、α……垂れ角、21……チル層、24……凹
所、31……機械的装置本体、32……コントロ
ーラ、33……TIG用電源、38……TIGトー
チ、39……直交3軸ロボツト部、40……ワー
ク駆動部、52……X軸スライダー、55……Y
軸スライダー、57……可動板、64……ワーク
回転部、66……オシレーテイング駆動機。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 カムシヤフトのカムに高密度エネルギーをト
    ーチから照射することによつてカム摺動部表面を
    溶融し、自己冷却によるチル層を形成させる再溶
    融カムシヤフトの製造方法において、前記カムを
    そのカムシヤフト中心軸のみを中心に一方向に回
    転させ、前記カム摺動部表面の少なくともカムノ
    ーズ部を処理する際には、溶融地点における前記
    カムの表面接線と水平線との角度をカムシヤフト
    回転方向と反対方向に水平線より下側に形成する
    ように、前記高密度エネルギー照射トーチを前記
    カムシヤフト中心軸と垂直でかつ水平なY軸方向
    と、前記カムシヤフト中心軸と垂直でかつ鉛直な
    Z軸方向との2軸方向で位置制御して、溶融プー
    ルの重力による垂れを小さくすることを特徴とす
    る再溶融カムシヤフトの製造方法。
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