JPH02207801A - 洗浄機の洗浄用溶剤回収方法及びその装置 - Google Patents
洗浄機の洗浄用溶剤回収方法及びその装置Info
- Publication number
- JPH02207801A JPH02207801A JP1024775A JP2477589A JPH02207801A JP H02207801 A JPH02207801 A JP H02207801A JP 1024775 A JP1024775 A JP 1024775A JP 2477589 A JP2477589 A JP 2477589A JP H02207801 A JPH02207801 A JP H02207801A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- solvent
- tank
- tanks
- type
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 147
- 239000002904 solvent Substances 0.000 title claims abstract description 76
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims abstract description 22
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims abstract description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 47
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 19
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 6
- 238000003795 desorption Methods 0.000 claims description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 5
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 3
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000013020 steam cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 238000005108 dry cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Accessory Of Washing/Drying Machine, Commercial Washing/Drying Machine, Other Washing/Drying Machine (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、洗浄機の洗浄用溶剤の回収方法及びその装置
に係り、さらに詳しくは金属、ガラスまたは半導体部品
等の被洗浄物を各種方式の洗浄機に対応してシステム化
することによって、洗浄用溶剤を回収再生しうるように
した付帯設備を有する洗浄機の洗浄用溶剤の回収方法及
びその装置に関するものである。
に係り、さらに詳しくは金属、ガラスまたは半導体部品
等の被洗浄物を各種方式の洗浄機に対応してシステム化
することによって、洗浄用溶剤を回収再生しうるように
した付帯設備を有する洗浄機の洗浄用溶剤の回収方法及
びその装置に関するものである。
布帛等の被洗浄物を、ワッシャードラム式の洗浄機でド
ライクリーニングする際の、溶剤ガス回収方法及び装置
は、特公昭60−29519号公報ほかで公知である。
ライクリーニングする際の、溶剤ガス回収方法及び装置
は、特公昭60−29519号公報ほかで公知である。
一方、光学系レンズ、眼鏡レンズや液晶ガラス。
および半導体部品等の洗浄にもフロン系の溶剤が使用さ
れている。第2図は、その代表的な洗浄装置であるが、
超音、波洗浄槽(21)、冷浴槽(22)、蒸気槽(2
3)の3槽からなる洗浄機(20)に対して溶剤ガスを
回収する装置は冷却コイル(24)のみで、更に余分に
チラー装置g(25)を必要とし、しかもペーパーライ
ン上部が開放されたままになっているので、フロンガス
の規制には対処し得なりものであった・ また従来の装置は、洗浄機と溶剤ガス回収装置が一体に
なった大型なものであった。そのため。
れている。第2図は、その代表的な洗浄装置であるが、
超音、波洗浄槽(21)、冷浴槽(22)、蒸気槽(2
3)の3槽からなる洗浄機(20)に対して溶剤ガスを
回収する装置は冷却コイル(24)のみで、更に余分に
チラー装置g(25)を必要とし、しかもペーパーライ
ン上部が開放されたままになっているので、フロンガス
の規制には対処し得なりものであった・ また従来の装置は、洗浄機と溶剤ガス回収装置が一体に
なった大型なものであった。そのため。
多数の洗浄槽を有する洗浄機あるいは既存の洗浄機に対
して、溶剤ガス回収装置が大型になり、さらに工場のレ
イアウトに合わせた設計をなし得るものではなく、シか
も高価な点が最大の欠点となっていた。
して、溶剤ガス回収装置が大型になり、さらに工場のレ
イアウトに合わせた設計をなし得るものではなく、シか
も高価な点が最大の欠点となっていた。
上記の事情に鑑み1本発明は、多数の洗浄槽を有する洗
浄機に対して、洗浄用溶剤回収のための必須の付帯設備
をレイアウトし、これを顧客の要望に合わせてシステム
化し、安価な方法でフロンガスの規制等に対処した洗浄
機の洗浄用溶剤回収方法及び装置の提供を目的とする。
浄機に対して、洗浄用溶剤回収のための必須の付帯設備
をレイアウトし、これを顧客の要望に合わせてシステム
化し、安価な方法でフロンガスの規制等に対処した洗浄
機の洗浄用溶剤回収方法及び装置の提供を目的とする。
(課題を解決するための手段〕
本発明は、洗浄液タンクから揚液された洗浄用溶剤によ
って、多数の洗浄槽を有する洗浄機において被洗浄物を
洗浄した後、洗浄液の一部を洗浄液タンクに還元し、そ
の他の洗浄液を蒸留缶へ移送し、ついで蒸発した溶剤を
コンデンサーによって液化した後、必要に応じて分離器
によって水分を除去して再生された洗浄用溶剤を洗浄液
タンクへ回収するとともに、前記洗浄機、洗浄液タンク
及びエアタンクからの蒸発溶剤ガスをカーボンタンクに
よって吸着及び肌着をクローズドシステムによって行う
洗浄機の洗浄用溶剤回収方法及び多数の洗浄槽からなる
洗浄機に対して、洗浄液タンクと少なくとも1台の蒸留
缶と一連のカーボンタンクと一連のコンデンサーと必要
に応じて一連の分離器と連結した付帯設備をクローズド
システムとし、洗浄機からの洗浄用溶剤を回収、再生す
るようにした装置を提供するものである。
って、多数の洗浄槽を有する洗浄機において被洗浄物を
洗浄した後、洗浄液の一部を洗浄液タンクに還元し、そ
の他の洗浄液を蒸留缶へ移送し、ついで蒸発した溶剤を
コンデンサーによって液化した後、必要に応じて分離器
によって水分を除去して再生された洗浄用溶剤を洗浄液
タンクへ回収するとともに、前記洗浄機、洗浄液タンク
及びエアタンクからの蒸発溶剤ガスをカーボンタンクに
よって吸着及び肌着をクローズドシステムによって行う
洗浄機の洗浄用溶剤回収方法及び多数の洗浄槽からなる
洗浄機に対して、洗浄液タンクと少なくとも1台の蒸留
缶と一連のカーボンタンクと一連のコンデンサーと必要
に応じて一連の分離器と連結した付帯設備をクローズド
システムとし、洗浄機からの洗浄用溶剤を回収、再生す
るようにした装置を提供するものである。
本発明は上記のように構成するので、洗浄液タンクから
揚液された洗浄用溶剤は多数の洗浄槽を有する洗浄機に
おいて被洗浄物を洗浄した後、洗浄液の一部は洗浄液タ
ンクに還元し、その他の洗浄液は蒸留缶へ移送され、溶
剤は蒸発しコンデンサーに移送される。一方汚物はスラ
ッジとして排出される。コンデンサーで冷却水によって
蒸発溶剤は液化され、ついで液化された溶剤は必要に応
じて分離器によって水分を除去し、再生された洗浄用溶
剤を洗浄液タンクへ注がれる。一方、洗浄機、洗浄液タ
ンク及びコンデンサーと分離器に連結したエアタンクか
らの蒸発溶剤ガスをカーボンタンクによって吸着しつい
でスチームによって脱着を交互に行い、脱着された溶剤
ガスはコンデンサーに移送される。このような一連の処
理をクローズドシステムによって行い洗浄用溶剤の回収
と再生を行う。
揚液された洗浄用溶剤は多数の洗浄槽を有する洗浄機に
おいて被洗浄物を洗浄した後、洗浄液の一部は洗浄液タ
ンクに還元し、その他の洗浄液は蒸留缶へ移送され、溶
剤は蒸発しコンデンサーに移送される。一方汚物はスラ
ッジとして排出される。コンデンサーで冷却水によって
蒸発溶剤は液化され、ついで液化された溶剤は必要に応
じて分離器によって水分を除去し、再生された洗浄用溶
剤を洗浄液タンクへ注がれる。一方、洗浄機、洗浄液タ
ンク及びコンデンサーと分離器に連結したエアタンクか
らの蒸発溶剤ガスをカーボンタンクによって吸着しつい
でスチームによって脱着を交互に行い、脱着された溶剤
ガスはコンデンサーに移送される。このような一連の処
理をクローズドシステムによって行い洗浄用溶剤の回収
と再生を行う。
本発明において、多数の洗浄槽を有する洗浄機に対する
洗浄用溶剤回収装置は、2槽以上の洗浄槽を有する洗浄
機を1つの回収装置によって溶剤ガスを処理するという
意味であり、洗浄機はシャワー式、ジェット式、浸漬式
、揺動式、撹拌式、超音波式、蒸気式の何れの方式にも
適用しうるものである。
洗浄用溶剤回収装置は、2槽以上の洗浄槽を有する洗浄
機を1つの回収装置によって溶剤ガスを処理するという
意味であり、洗浄機はシャワー式、ジェット式、浸漬式
、揺動式、撹拌式、超音波式、蒸気式の何れの方式にも
適用しうるものである。
本発明でいう蒸留缶とは、スチーム管が配管され、汚染
された洗浄液を間接加熱し、汚染したスラッジ分を分離
配設させて清浄な溶剤ガス成分を抽出させるためのもの
であり、少なくとも1台は必要である。
された洗浄液を間接加熱し、汚染したスラッジ分を分離
配設させて清浄な溶剤ガス成分を抽出させるためのもの
であり、少なくとも1台は必要である。
本発明でいうカーボンタンクとは、溶剤ガスを吸着させ
るための活性炭を充填したタンクのことであり、吸着の
みを行うためには少なくとも1台。
るための活性炭を充填したタンクのことであり、吸着の
みを行うためには少なくとも1台。
吸着とともに脱着も行うためには少なくとも2台からな
る一連のタンクを必要とする。
る一連のタンクを必要とする。
本発明でいうコンデンサーとは、蒸留缶および活性炭に
スチームを送りこんで脱着させた溶剤ガスをコイルの周
囲から冷却して、溶剤を液化させるためのものであり、
1台でもよいが効率的に処理するには2台からなる一連
のコンデンサーを必要とする。
スチームを送りこんで脱着させた溶剤ガスをコイルの周
囲から冷却して、溶剤を液化させるためのものであり、
1台でもよいが効率的に処理するには2台からなる一連
のコンデンサーを必要とする。
本発明でいう分離器とは、油水分離機のことで、比重差
分離方式のものと、濾過式分離方式のものとの2台から
なる一連のものを配設してもよいが。
分離方式のものと、濾過式分離方式のものとの2台から
なる一連のものを配設してもよいが。
カーボンタンクからスチームで溶剤ガスを脱着させない
場合で、水分の全く入らない場合には、敢えて必要とし
ない。
場合で、水分の全く入らない場合には、敢えて必要とし
ない。
本発明は、上記の付帯設備において最後の濯ぎ洗いは新
鮮な溶剤で洗浄するが、前工程の洗浄は極低濃度汚染液
で洗浄するとか、全てを再生新液で洗浄するとか、又は
シャワー洗浄で発生する溶剤ガスはカーボンタンクを確
実に吸着させて大気中に放散させないとかのそれぞれの
要求に応じた配管組合せによる密閉型を構成したクロー
ズドシステム化によって、溶剤ガスを自動的に回収再生
するものである。
鮮な溶剤で洗浄するが、前工程の洗浄は極低濃度汚染液
で洗浄するとか、全てを再生新液で洗浄するとか、又は
シャワー洗浄で発生する溶剤ガスはカーボンタンクを確
実に吸着させて大気中に放散させないとかのそれぞれの
要求に応じた配管組合せによる密閉型を構成したクロー
ズドシステム化によって、溶剤ガスを自動的に回収再生
するものである。
以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明する。第1
図は本発明の一実施例を示す洗浄機の洗浄用溶剤回収装
置のフローシートである。
図は本発明の一実施例を示す洗浄機の洗浄用溶剤回収装
置のフローシートである。
(1)は・1号機(la)、 2号機(lb)、3号機
(lc)、4号機(ld)、 5号機(1e)の多数の
洗浄槽からなる洗浄機である0本発明の洗浄機は、少な
くとも2槽以上の多槽式に適用しうる洗浄用溶剤回収装
置である。洗浄機械を処理方式で分類すると、せいぜい
2kg/cdG以下の圧液をかけるシャワー洗浄。
(lc)、4号機(ld)、 5号機(1e)の多数の
洗浄槽からなる洗浄機である0本発明の洗浄機は、少な
くとも2槽以上の多槽式に適用しうる洗浄用溶剤回収装
置である。洗浄機械を処理方式で分類すると、せいぜい
2kg/cdG以下の圧液をかけるシャワー洗浄。
2〜30kg/aJGの圧液を吹き付ける中圧シャワー
洗浄、40〜150kg/aJGの圧液をぶつける高圧
ジェット洗浄、槽内の溜り液または流水液に浸す浸漬洗
浄、槽内で被洗浄物を揺動または回転させる液中揺動ま
たは回転洗浄、槽内の液をエアーまたはポンプ等を使用
して撹拌する液中噴流撹拌洗浄、超音波振動を利用して
洗浄する超音波洗浄、溶剤系の蒸気で洗浄する蒸気洗浄
があるが。
洗浄、40〜150kg/aJGの圧液をぶつける高圧
ジェット洗浄、槽内の溜り液または流水液に浸す浸漬洗
浄、槽内で被洗浄物を揺動または回転させる液中揺動ま
たは回転洗浄、槽内の液をエアーまたはポンプ等を使用
して撹拌する液中噴流撹拌洗浄、超音波振動を利用して
洗浄する超音波洗浄、溶剤系の蒸気で洗浄する蒸気洗浄
があるが。
本発明の洗浄用溶剤回収装置はその何れにも使用するこ
とができる。
とができる。
複合型の多槽式洗浄機の場合は電子機器を使用するプリ
ント基板のハンダ付は後のフラックス落しや精密加工し
た金属部品の樹脂及び切り粉落しの洗浄や、有機溶剤が
使用しろる各種材料等に使用される。また、10〜16
槽から6なる大型機の多槽式洗浄機は、光学系レンズ、
眼鏡用ガラス。
ント基板のハンダ付は後のフラックス落しや精密加工し
た金属部品の樹脂及び切り粉落しの洗浄や、有機溶剤が
使用しろる各種材料等に使用される。また、10〜16
槽から6なる大型機の多槽式洗浄機は、光学系レンズ、
眼鏡用ガラス。
液晶ガラスまたは半導体関係の何れの被洗浄物にも本発
明の洗浄用溶剤回収装置は適用しうる。
明の洗浄用溶剤回収装置は適用しうる。
本発明の装置には、一連の分離器を有する。分離器は油
水を分離するためのものであり1本実施例の場合は、第
1分離器(2a)と第2分離器(2b)の2台からなる
一連の分離器を有する。第1分離器(2a)は比重差分
離方式からなり、第2分離器(2b)はガラスフィルタ
ーの濾過分離方式からなるが、両者は段差を設けて並設
させている。
水を分離するためのものであり1本実施例の場合は、第
1分離器(2a)と第2分離器(2b)の2台からなる
一連の分離器を有する。第1分離器(2a)は比重差分
離方式からなり、第2分離器(2b)はガラスフィルタ
ーの濾過分離方式からなるが、両者は段差を設けて並設
させている。
第2分離器(2b)に、 1.1.2−トリクロロ−1
゜2.2−トリフルオロエタンの新液溶剤(以下[新液
フレオン」という)を注入する。第2分離器(2b)と
洗浄機(1)との中間には、第3タンク(3C)と第2
タンク(3b)と第1タンク(3a)とが、順次段差を
設けて連結されている。従って第2分離器(2b)に入
れた新液フレオンは、順次オーバーフローして、第3タ
ンク(3c)、第2タンク(3b)、第1タンク(3a
)に充満される。
゜2.2−トリフルオロエタンの新液溶剤(以下[新液
フレオン」という)を注入する。第2分離器(2b)と
洗浄機(1)との中間には、第3タンク(3C)と第2
タンク(3b)と第1タンク(3a)とが、順次段差を
設けて連結されている。従って第2分離器(2b)に入
れた新液フレオンは、順次オーバーフローして、第3タ
ンク(3c)、第2タンク(3b)、第1タンク(3a
)に充満される。
第1タンク(3a)に投入された最初の新液フレオンは
ポンプ(4)によって新液ライン(5)を経由して。
ポンプ(4)によって新液ライン(5)を経由して。
各洗浄槽(1a)、(lb)、 (lc)、(ld)、
(le)あるいはこの中の何れかの洗浄槽に揚液され1
回目の洗浄に供される。また、第2タンク(3b)に投
入された最初の新液フレオンは、同じくポンプ(4)に
よって新液ライン(5)を経由して、各洗浄槽(la)
、(lb)、(lc)、 (ld)、(1e)あるいは
この中の何れかの洗浄機に揚液され2回目の洗浄に供さ
れた後、溶液ライン(6)、ボタントラップ(7)を経
由して第4タンク(3d)に落下し、ポンプ(8)にて
カートリッジフィルター(9)を経由して第1タンク(
3a)に還元する。さらに、第3タンク(3C)に投入
された最初の新液フレオンは、同じくポンプ(4)によ
って新液ライン(5)を経由して、各洗浄槽(1a)、
(1b)、(lc)、(id)、(is)あるいはこの
中の何れかの洗浄機に揚液された3回目の洗浄に供され
た後、溶液ライン(6)、ボタントラップ(7)を経由
して第4タンク(3d)に落下し、ポンプ(8)にてカ
ートリッジフィルター(9)を経由して第2タンク(3
b)に還元する。従って最初の新液フレオンは、第2タ
ンク(3b)の場合は低濃度に汚染した液(以下[低濃
度汚染フレオン」という)となり、また第1タンク(3
a)の場合は中濃度に汚染した液(以下「中濃度汚染フ
レオン」という)となり、これを洗浄液として循環する
ことになる。
(le)あるいはこの中の何れかの洗浄槽に揚液され1
回目の洗浄に供される。また、第2タンク(3b)に投
入された最初の新液フレオンは、同じくポンプ(4)に
よって新液ライン(5)を経由して、各洗浄槽(la)
、(lb)、(lc)、 (ld)、(1e)あるいは
この中の何れかの洗浄機に揚液され2回目の洗浄に供さ
れた後、溶液ライン(6)、ボタントラップ(7)を経
由して第4タンク(3d)に落下し、ポンプ(8)にて
カートリッジフィルター(9)を経由して第1タンク(
3a)に還元する。さらに、第3タンク(3C)に投入
された最初の新液フレオンは、同じくポンプ(4)によ
って新液ライン(5)を経由して、各洗浄槽(1a)、
(1b)、(lc)、(id)、(is)あるいはこの
中の何れかの洗浄機に揚液された3回目の洗浄に供され
た後、溶液ライン(6)、ボタントラップ(7)を経由
して第4タンク(3d)に落下し、ポンプ(8)にてカ
ートリッジフィルター(9)を経由して第2タンク(3
b)に還元する。従って最初の新液フレオンは、第2タ
ンク(3b)の場合は低濃度に汚染した液(以下[低濃
度汚染フレオン」という)となり、また第1タンク(3
a)の場合は中濃度に汚染した液(以下「中濃度汚染フ
レオン」という)となり、これを洗浄液として循環する
ことになる。
この実施例のような配管、循環によるシステム化した場
合、正常な運転に入ると、第1タンク(3a)の中濃度
汚染フレオンによる1回目の洗浄後の液は、高濃度に汚
染した液(以下「高濃度汚染フレオン」という)である
から、これを蒸留して新鮮なフレオンに戻す必要がある
。
合、正常な運転に入ると、第1タンク(3a)の中濃度
汚染フレオンによる1回目の洗浄後の液は、高濃度に汚
染した液(以下「高濃度汚染フレオン」という)である
から、これを蒸留して新鮮なフレオンに戻す必要がある
。
高濃度汚染フレオンは、1回目の洗浄後、溶液ライン(
6)、ボタントラップ(7)を経由して第4タンク(3
d)に落下し、ポンプ(8)とカートリッジフィルター
(9)を経由して蒸留缶(lO)に移送される0本発明
の場合、蒸留缶(10)は少なくとも1台必要であり、
蒸留缶(10)内はスチーム(11)による間接加熱で
溶剤分は蒸発し、上部の第1コンデンサー(12a)か
ら第2コンデンサー(12b)に導かれ。
6)、ボタントラップ(7)を経由して第4タンク(3
d)に落下し、ポンプ(8)とカートリッジフィルター
(9)を経由して蒸留缶(lO)に移送される0本発明
の場合、蒸留缶(10)は少なくとも1台必要であり、
蒸留缶(10)内はスチーム(11)による間接加熱で
溶剤分は蒸発し、上部の第1コンデンサー(12a)か
ら第2コンデンサー(12b)に導かれ。
一方、汚物はスラッジ(13)として排出される。本発
明のコンデンサーは1台でもよいが、第1コンデンサー
(12a)と第2コンデンサー(12b)のように2台
からなる一連のものでもよい。このコンデンサー(12
a)、(12b)は、冷却水(14)により蒸発溶剤を
液化させるものであるが1本実施例の2台は効率的に作
動するためである。
明のコンデンサーは1台でもよいが、第1コンデンサー
(12a)と第2コンデンサー(12b)のように2台
からなる一連のものでもよい。このコンデンサー(12
a)、(12b)は、冷却水(14)により蒸発溶剤を
液化させるものであるが1本実施例の2台は効率的に作
動するためである。
第2コンデンサー(12b)で完全に液化された液化溶
剤は、前述の第1分離器(2a)から第2分離器(2b
)へと導かれ、水分を除去し、再生された新液溶剤(以
下「再生新液フレオン」という)として、第3タンク(
3c)へ注がれ、最後の3回目の濯ぎ洗浄に使用される
。なお溶剤分のみで水分を全く含まない場合には分離器
(2a)、 (2b)を必要としない。
剤は、前述の第1分離器(2a)から第2分離器(2b
)へと導かれ、水分を除去し、再生された新液溶剤(以
下「再生新液フレオン」という)として、第3タンク(
3c)へ注がれ、最後の3回目の濯ぎ洗浄に使用される
。なお溶剤分のみで水分を全く含まない場合には分離器
(2a)、 (2b)を必要としない。
また本発明の装置には、活性炭を充填した2個のカーボ
ンタンク(15a)、(tsb)からなる一連のカーボ
ンタンクを有しており、各洗浄槽(1a)、(tb)
。
ンタンク(15a)、(tsb)からなる一連のカーボ
ンタンクを有しており、各洗浄槽(1a)、(tb)
。
(1c)、(1d)、(le)、各タンク(3a)、(
3b)、 (3c)及び第2コンデンサー(12b)と
分離器(2a)、(2b)に連結したエアータンク(1
6)からの蒸発溶剤ガスを吸着させている。カーボンタ
ンクを2台にした場合は、吸着と脱着を交互に行うもの
であり、脱着はスチーム(17)によっており、乾燥は
外気(18)をスチームヒーター(19)で加熱した熱
風によっている。
3b)、 (3c)及び第2コンデンサー(12b)と
分離器(2a)、(2b)に連結したエアータンク(1
6)からの蒸発溶剤ガスを吸着させている。カーボンタ
ンクを2台にした場合は、吸着と脱着を交互に行うもの
であり、脱着はスチーム(17)によっており、乾燥は
外気(18)をスチームヒーター(19)で加熱した熱
風によっている。
本発明の装置は、洗浄液タンク(3a)、(3b)、(
3c)と少な(とも1台の蒸留缶(10)と一連のカー
ボンタンク(15a)、(15b)と一連のコンデンサ
ー(12a)、(12b)と必要に応じて一連の分離器
(2a)、(2b)とを有する付帯設備を密閉配管して
クローズドシステムとすることにより、洗浄機からの洗
浄用溶剤を回収し、再生するものであるが、上記の実施
例は中濃度汚染フレオンで1回目の洗浄を行い、低濃度
汚染フレオンで2回目の洗浄を行い。
3c)と少な(とも1台の蒸留缶(10)と一連のカー
ボンタンク(15a)、(15b)と一連のコンデンサ
ー(12a)、(12b)と必要に応じて一連の分離器
(2a)、(2b)とを有する付帯設備を密閉配管して
クローズドシステムとすることにより、洗浄機からの洗
浄用溶剤を回収し、再生するものであるが、上記の実施
例は中濃度汚染フレオンで1回目の洗浄を行い、低濃度
汚染フレオンで2回目の洗浄を行い。
再生新液フレオンで3回目の洗浄を行うという一例を示
したにすぎない。
したにすぎない。
しかし、レンズや半導体機器等の精密部品の洗浄に際し
ては、常に再生新液フレオンで洗浄する必要がある。こ
のような場合には、第2タンク(3b)に投入した最初
の新液フレオンで洗浄した液は第1タンク(3a)に戻
すことなく、蒸留缶(10)に移送するようにし、また
、第3タンク(3C)に投入した最初の新液フレオンで
洗浄した液は第2タンク(3b)に戻すことなく、蒸留
缶(10)に移送して、何れも再生新液とするようシス
テム化する必要がある。
ては、常に再生新液フレオンで洗浄する必要がある。こ
のような場合には、第2タンク(3b)に投入した最初
の新液フレオンで洗浄した液は第1タンク(3a)に戻
すことなく、蒸留缶(10)に移送するようにし、また
、第3タンク(3C)に投入した最初の新液フレオンで
洗浄した液は第2タンク(3b)に戻すことなく、蒸留
缶(10)に移送して、何れも再生新液とするようシス
テム化する必要がある。
また、シャワーあるいはジェット式洗浄機の場合には、
汚染溶剤よりも溶剤ガス成分の回収が問題となるので、
クローズドシステムとしたカーボンタンクを、これに見
合う容量のものにする必要があり、カーボンタンクは例
えばカートリッジ式にしては吸着と脱着を専用の系列に
してもよい。
汚染溶剤よりも溶剤ガス成分の回収が問題となるので、
クローズドシステムとしたカーボンタンクを、これに見
合う容量のものにする必要があり、カーボンタンクは例
えばカートリッジ式にしては吸着と脱着を専用の系列に
してもよい。
要するに本発明の装置は、上記の付帯設備の連結を適宜
変更することができるもので洗浄機から発生する洗浄用
溶剤を回収再生しうるようにして、フロン規制等に対処
せんとするものである。
変更することができるもので洗浄機から発生する洗浄用
溶剤を回収再生しうるようにして、フロン規制等に対処
せんとするものである。
本発明は、多数の洗浄槽を有する洗浄機に対して各種類
の溶剤ガス回収装置を使用することができるとともに非
常に安価であることが最大の特長である0本発明は冷却
コイル方式ではないので。
の溶剤ガス回収装置を使用することができるとともに非
常に安価であることが最大の特長である0本発明は冷却
コイル方式ではないので。
敢えてチラー装置は必要とせず、給水装置やフィルター
や別途のポンプ等も必要としない。
や別途のポンプ等も必要としない。
本発明は既存のあるいは新設の多数の洗浄槽を有する洗
浄機に対して、また工場内に点在する洗浄機に対して、
集中管理方式を採用することができる。
浄機に対して、また工場内に点在する洗浄機に対して、
集中管理方式を採用することができる。
洗浄機は、密閉ボックス式でも可能であり、何よりも洗
浄部分のみですむため、洗浄機が非常に小さくなる。
浄部分のみですむため、洗浄機が非常に小さくなる。
本発明は、洗浄機が小さいと共に、クローズドシステム
にすることにより、溶剤ロスが極端に少なくランニング
コストも安価である。
にすることにより、溶剤ロスが極端に少なくランニング
コストも安価である。
従来、浸漬等の洗浄機の中にシャワーやジェット式の洗
浄機があれば、それぞれ別個の回収装置を必要としたが
、本装置は如何なる洗浄機にも対処して、汚染溶剤の再
生と蒸発ガスの回収とを。
浄機があれば、それぞれ別個の回収装置を必要としたが
、本装置は如何なる洗浄機にも対処して、汚染溶剤の再
生と蒸発ガスの回収とを。
同時に1台で行うことができる。
本発明は1個々の需要に応じたレイアウトにてシステム
化するものであり、必要によってはその連結を適宜変更
して組みかえをなし得るものであり、そのため半導体を
はじめとする精密洗浄にも対応しうるちのである。
化するものであり、必要によってはその連結を適宜変更
して組みかえをなし得るものであり、そのため半導体を
はじめとする精密洗浄にも対応しうるちのである。
例えば蒸気洗浄方式等の場合、ペーパー層を乱さないよ
うにする必要があり、そのために洗浄槽内に降下させる
被洗浄物を入れたバスケットをゆっくり降下させ、ゆっ
くり上昇させる必要がある。
うにする必要があり、そのために洗浄槽内に降下させる
被洗浄物を入れたバスケットをゆっくり降下させ、ゆっ
くり上昇させる必要がある。
従ってこの洗浄槽の個所によってタクトの処理スピード
が支障をきたしていた。
が支障をきたしていた。
しかし1本発明の装置によれば、この部分のみ小さな洗
浄槽を必要なだけ増加し、スピードアップできるので、
タクトの処理が自由にできる。
浄槽を必要なだけ増加し、スピードアップできるので、
タクトの処理が自由にできる。
第1図は本発明の一実施例を示す洗浄機の洗浄用溶剤回
収装置のフローシート、第2図は従来例を示す洗浄機の
溶剤ガス回収装置である。 (1)・・・洗浄機 (la) = (lb) 、(lc) t (ld)
−(le) ”’洗浄槽(2a) 、 (2b)・・・
分離器 (3a)、 (3b)、 (3c)・・・洗浄液タン
ク(10)・・・蒸留器 (12a) 、 (12b) ・・・コンデンサー(1
5a) 、 (15b) ・・・カーボンタンク(16
)・・・エアータンク
収装置のフローシート、第2図は従来例を示す洗浄機の
溶剤ガス回収装置である。 (1)・・・洗浄機 (la) = (lb) 、(lc) t (ld)
−(le) ”’洗浄槽(2a) 、 (2b)・・・
分離器 (3a)、 (3b)、 (3c)・・・洗浄液タン
ク(10)・・・蒸留器 (12a) 、 (12b) ・・・コンデンサー(1
5a) 、 (15b) ・・・カーボンタンク(16
)・・・エアータンク
Claims (4)
- (1)洗浄液タンクから揚液された洗浄用溶剤によって
、多数の洗浄槽を有する洗浄機において被洗浄物を洗浄
した後、洗浄液の一部を前記洗浄液タンクに還元し、そ
の他の洗浄液を蒸留缶へ移送し、ついで蒸発した溶剤を
コンデンサーによって液化した後、必要に応じて分離器
によって水分を除去して再生された洗浄用溶剤を洗浄液
タンクへ回収するとともに、前記洗浄機、洗浄液タンク
及びエアタンクからの蒸発溶剤ガスをカーボンタンクに
よって吸着及び脱着をクローズドシステムによって行う
ことを特徴とする洗浄機の洗浄用溶剤回収方法。 - (2)多数の洗浄槽を有する洗浄機に対して、洗浄液タ
ンクと少なくとも1台の蒸留缶と一連のカーボンタンク
と一連のコンデンサーと必要に応じて一連の分離器とを
連結した付帯設備をクローズドシステムとし、洗浄機か
らの洗浄用溶剤を回収、再生することを特徴とする洗浄
機の洗浄用溶剤回収装置。 - (3)洗浄機がシャワー式、ジェット式、浸漬式、揺動
式、撹拌式、超音波式、蒸気式あるいは煮沸式の単体ま
たは複合型であることを特徴とする請求項(2)記載の
洗浄機の洗浄用溶剤回収装置。 - (4)洗浄機によって洗浄する被洗浄物が、金属、レン
ズ、セラミックまたは半導体であることを特徴とする請
求項(2)記載の洗浄機の洗浄用溶剤回収装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1024775A JPH02207801A (ja) | 1989-02-04 | 1989-02-04 | 洗浄機の洗浄用溶剤回収方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1024775A JPH02207801A (ja) | 1989-02-04 | 1989-02-04 | 洗浄機の洗浄用溶剤回収方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02207801A true JPH02207801A (ja) | 1990-08-17 |
Family
ID=12147550
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1024775A Pending JPH02207801A (ja) | 1989-02-04 | 1989-02-04 | 洗浄機の洗浄用溶剤回収方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02207801A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002309390A (ja) * | 2001-04-10 | 2002-10-23 | Tokyo Dynamics Kk | 電子式フィルターの洗浄装置 |
| JP2009070974A (ja) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2020163281A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | アクア化学株式会社 | 洗浄液再生装置、洗浄装置および洗浄液再生方法 |
| JP2021118226A (ja) * | 2020-01-23 | 2021-08-10 | 株式会社Kokusai Electric | 反応管の洗浄方法、半導体装置の製造方法、及び基板処理装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS633029A (ja) * | 1986-06-20 | 1988-01-08 | ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング カンパニ− | オルガノポリシロキサン−ポリ尿素ブロックコポリマ−およびその製造方法 |
| JPS63118903A (ja) * | 1986-11-07 | 1988-05-23 | Fanuc Ltd | パルスエンコ−ダ |
-
1989
- 1989-02-04 JP JP1024775A patent/JPH02207801A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS633029A (ja) * | 1986-06-20 | 1988-01-08 | ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング カンパニ− | オルガノポリシロキサン−ポリ尿素ブロックコポリマ−およびその製造方法 |
| JPS63118903A (ja) * | 1986-11-07 | 1988-05-23 | Fanuc Ltd | パルスエンコ−ダ |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002309390A (ja) * | 2001-04-10 | 2002-10-23 | Tokyo Dynamics Kk | 電子式フィルターの洗浄装置 |
| JP2009070974A (ja) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2020163281A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | アクア化学株式会社 | 洗浄液再生装置、洗浄装置および洗浄液再生方法 |
| JP2021118226A (ja) * | 2020-01-23 | 2021-08-10 | 株式会社Kokusai Electric | 反応管の洗浄方法、半導体装置の製造方法、及び基板処理装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2008519107A (ja) | 精密部品の二溶媒型洗浄の方法、装置及びシステム | |
| JPH02207801A (ja) | 洗浄機の洗浄用溶剤回収方法及びその装置 | |
| JP5268463B2 (ja) | 被処理物洗浄装置 | |
| JP5572198B2 (ja) | 基板処理装置及び薬液再生方法 | |
| TW200946254A (en) | Cleaning method and cleaning system for electronic part | |
| US5345958A (en) | Double fluid layer-type ultrasonic cleaning apparatus | |
| JP2002210424A (ja) | フィルター洗浄装置 | |
| JP5268462B2 (ja) | 被処理物洗浄装置 | |
| JP3368630B2 (ja) | 二液層式の超音波洗浄装置 | |
| JP2008238110A (ja) | 被処理物の洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置 | |
| JP4557742B2 (ja) | 溶剤回収機能付き蒸留装置 | |
| KR100530019B1 (ko) | 용제 재생기가 장착된 세정장치 | |
| JPH10202209A (ja) | 洗浄装置 | |
| JP3272400B2 (ja) | 乾燥液の再生装置 | |
| JP3278781B2 (ja) | 密閉式溶剤洗浄回収方法及びその装置 | |
| JP2003305417A (ja) | 溶剤洗浄機 | |
| JP3082809B2 (ja) | 洗浄・乾燥方法 | |
| JPS61220777A (ja) | 洗浄装置 | |
| JPH07100447A (ja) | クローズドシステム脱脂洗浄方法 | |
| JP3706668B2 (ja) | ワークの洗浄装置 | |
| JPH04290586A (ja) | 被洗浄物の濯ぎ洗浄方法およびその装置 | |
| JP2018015687A (ja) | 洗浄装置 | |
| JP2001033168A (ja) | 表面処理方法、並びにそれに用いる装置 | |
| JPS58190498A (ja) | ドライクリ−ニング装置 | |
| JPH04171025A (ja) | 有機溶媒再生装置 |