JPH0220802A - 透過型回折格子およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用９静〕 この発明は、回折格子（以下グレーティングという）を
伝達する回折すべき透過光が、グレーティングの動きを
最大にするために摂動しないように問罪される透過形の
グレーティングに関する。

〔従来の技術） 初期の回折＠理の研究において、光の波長、スリットの
幅、スリット間の距離およびスリットの数に依存して、
光学マスタの１つまたは複数のスリットによってつくら
れた干渉パターンの研究が中心であった。これらのｎｎ
ｉパターンに含まれた比較的ｒＩＢφな畿何配置を与え
ることによりこのパターンの正確な理解が達成されてい
る。

例えば、スリット幅を一定に保持してスリット間の距離
を変化させると干渉パターンの寸法は変化しても回折パ
ターン包絡線の全体の寸法は保持されることが実験的お
よび数学的に明らかにされる。

しかしながら、興味深いことは、スリット幅およびスリ
ット間の距離を一定にし、スリットの数を増加させた場
合の結果である。多数のスリットの集合効果の光兄は商
業的に重要な回折装置の使用の基礎を形成する。特に、
スリットの数を２つから増加させると、干渉の極大点が
大幅に狭くなる。加えて、主な極大点の鋭さが増加する
と、主な極大点の間に第２の付加極大点が現われ、その
数はスリットの数によって増加する。２０スリツトぐら
いだと、比較的明確に主な極大点と第２極大点が現われ
る。

多数のスリットを右するグレーティングの主な欠点はグ
レーティングに照射した光の大部分がグレーディングに
よって吸収され、解析できなくなることである。この問
題の主な解決方法は、反射グレーティングを形成するた
めに反ｑ１′ａＪ質に複数の溝を刻むことである。

溝が形成されたグレーティングの異なる次数の光の相対
的強度は、複数のスリットによって形成されたグレーテ
ィングに関する簡単な幾何学的関係に必ずしも従わず、
全体の寸法は波長よりも大きい。比較的簡単な幾何学的
問題の代わりに、形成される回折パターンを計算するた
めに特定の満の断面に電磁場の理論を適用しなければな
らない。

溝の断面を考えなくても溝の間の距・雌がわかるとベク
トルラインの位置は多スリットグレーティングの同じに
なる。グレーティングｌｌＪ造の初期において、グレー
ティングの断面はほとんど制御できないものと考えられ
ていた。

第２の世界大戦まで、グレーティングは、比較的かたい
銅および錫の合金のいわゆる″′窺″金居からなってい
た。この時期において、グレーティングの実際の製造は
１８００年初頭に光達した数学理論にもとづいており、
実際の装置の製造は１８００年の終りに定螺旋体が発達
した後にグレーティング特性の法則を最初に可能にした
ローランド教授の研究のために限られていた。

アルミニュームのグレーティングの使用によりグレーテ
ィングの性質に大きな変化が起こった。

特に適当形状および方向のダイヤモンド切削工具により
所望の角度において、いわゆる″゛ブレーズｕＪ光）”
の光を形成する断面の形を変化させることが可能となっ
た。このようなブレーズグレーティングは重要な機器を
形成した。年月が経て、これらは場の理論の基礎および
／または反復製造および実験的評価を光速させた。透過
グレーティングへの注目はほとんど去ってしまい、透過
グレーティングの効率の欠点のための反射グレーティン
グの改良に集中した。

〔問題魚頭を解決するための手段：作用）この発明はグ
レーティングの改善方法を提供するものである。この弁
明は効果的な透過グレーティングをいかにして提供する
か、という問題を解決する。グレーティングは第１の伝
播光学的特性の第１のｎ】を有する複数の第１の切子面
←Ｊ：って形成された？！２数の溝を有する。全ての而
は第１の方向を向いて配置される。複数の第２の切子面
は第２の伝播光学的特性の第２の紺をイＪし、第２力向
を向いて配置される。第１の切子面は入Ｑ（回折光の方
向を向いている。第２の切子面は回折光の摂動を防止す
る透過特性を有して方向付けられる。

［実施例］ この発明において、改良されたグレーティング１０は第
１図に示すように透明ウェハ基板上に形成される。回折
は透明層１６の面に配設された複数のＷ４１４によって
行われる。図示の便宜上、透明層１６の厚さおよび溝の
大きさはこの種の技術で通常用いられているように誇張
して示されている。

上述したように、基板１２は透明層１６がつくられてい
る物質と同様に透明である。原理的には溝を基板１２上
に直接形成することが可能であるが、実際はほとんどの
グレーティングが、例えばアルミニュームのグレーティ
ングを形成するマスタグレーティングを用いた複写処理
によってつくられる。このマスタグレーティングは透明
基板１２上に支持された未成形のプラスチック層（透明
層１６）に押しつけられ。この動作によりグレーティン
グの溝を成形した後、マスタにより溝の形が保持された
プラスチック層１６を右する基板１２は例えばオーブン
内に置かれ、ここで例えば、プラスチック層１６を形成
するために通常用いられる２つの部分のエボキンは硬化
され、プラスチック層１６を固め、これにより外面に永
続する溝を形成する。

第２図において、′ｌ４ＷＩ造の部分拡大断面図が示さ
れている。グレーティングは部分的に平面であり、この
弁明は凹レンズまた凸レンズ動作面を右づる曲折したグ
レーティングのみならず平面グレーティングにも適用で
きることが示されている。

例えば、凸レンズ透過面は収束機能を有している。

一般に、Ｍ１４は長い面（透過面）１８および短い面（
反射面）２０によって形成される。透過面１８と反射面
２０との間の角２２は、この弁明の好しい実施例に従え
ば直角である。短い面２０は透明層１６を形成する物質
に付着した反射性物質２４の計い層によって形成された
外面を右する。

反身・１性ｖＩＪ質２４は、この弁明のグレーティング
１０が動作する範囲を越えた範囲の波長を右する透明層
層１６の内部の光に対する高い反射性のために選択され
る。加えて、第２図で想＠線で示す反反射性物質２６の
層で長い面１８をコーティングすることによってグレー
ティングの動作を改良することができる。

使用において、分析すべき入射光２８は長い而１８に直
角な方向から長い面１８に入射される。

この配列にしたがって、短い面２０には光は照射されず
、長い面１８が全ての入射光を受入する。

簡単のために、平面で平行な層１６に入る波面を形成し
、透明層１６に入る前に従う方向と同じ方向を続ける入
射光２８を考える。したがって透明層１６内には、その
進行方向が短い而２０に平行となる平面波面が存在する
。反射性物質２４の配置により、透明層１６内を伝播す
る光は透明層１６を通って非摂動で進む手段を与える。

短い面２０に垂直の延びる電場によって偏光された入射
光２８の場合、伝導性面２４内の誘導電流は、電磁界が
自由空間で生じる非摂動伝播に対応するマックスウェル
の式によって要求される条件を満足する。通常の透過グ
レーティングと比較すると第１図および第２図に示した
グレーティングはブレーズ波長において上位の輝きを示
す。

上述の点から推論すると、この弁明のグレーティングは
入力放射の角の範囲にＪ３いて、上述した通常の入力１
射より上位の特性を示す。

スカラー理論に従えば、真空中におけるグレーティング
のブレーズ波長ＷＢは次の関係式から予測できる。

Ｗｅ　　＝ａ　　（ｎ−１）ｓｉｎ　　φここでａは溝
の間隔、φはグレーティングの平面に対する長い面の角
、ｎは物質の屈折率である。

ｎｌが真空でない周囲の屈折率であり、ｎ２が層１６の
屈折率であり、通常の入射角ａが非常に小さく、面の間
の角２２がほぼ９０°であり。史にｄが短い面２０の長
さとし、（ｎ２−ｎｌ）が波長の４ＪＡ数倍に等しいと
でる。

（ｎ２−ｎｌ）＝ＫＷ ここでＫは回折像の次数である。

ｄ　＝　ａ　ｓｉｎφでＫＷ＝ａｓｉｎφ（ｎ２−ｎｌ
）とすると、ブレーズはＮ磁場が伝導性面に垂直などき
非常に高い。完全伝導壁に垂直な電場ベクトルによって
特徴づけられる平面波は非摂動伝播する。グレーティン
グの而を通って伝播した後、１から２にπ（ここでに＝
１．２．３・・・である）の次の位相シフトを有する散
乱の小さい平面波となる。次数にの回折光は不連続性の
ない伝送平面波となる。

同じ特性を９０°から異なる透過面１８と反Ｄ１面２０
の間の角に近＋ｊづけることができ、入力光が伝導面に
ほぼ平行であるとその違いは大きくない。誘電 体面は、ｒＲ電体面にａノける数パーセントのフレネル
反射（＜ｎｌ−ｎ２　＞／ｎ１　＋ｎ２　）２を排除す
るためにｔｈ　Ｎ体反射ｆｌによってコーティングされ
る。ｎ１＝１．ｎ２＝１．５とするとフレネル反射は４
％に達する。

実施例　１ 第３図において、同様の部分には前の図よりも１００だ
け大きい符号が付され（以下同様にされる）、この発明
に従って構成されるグレーティング１１０が示される。

ここで、グレーティングが空気中に配置され、グレーテ
ィングの平面に関する角φが２６．７５°であるとする
と。第３図をみると反射面１２０と透過面１１８の間の
角１２２は直角であり、透過面１１８に入射される光線
１２８は透過面に直角に入射される。このグレーティン
グは１ｍｍ当り４２０個の密度で溝を有し、第１次のブ
レーズは０．６０μｍの波長で起り、層１１６の屈折率
はＷ＝０．６ａｍにおいて１゜５６５１である。

第３図に示したものと同じ寸法を右する金属化されてい
ない従来のグレーティングの計口された効率が第４図に
示される。特に、反射面１２０に平行な電場成分をもす
る偏向した光に関し、効率は７６．２％のピーク効率を
右する曲１！１３０に従うことがみいだされる。他方２
反射面１２０に垂直な［Ｅの偏光を有する光に関し、効
率は７４，２％のピーク効率を有する第４図の曲ａ１３
２に従うことがみいだされる。この従来の効率と比較し
てみるとこの発明の装置は２７％改善した点１３３に対
応する値が示される。

実施例　２ グレーティング２３４に対する透過面２１８の角が５１
°である他のグレーティングが第５図に示される。ここ
で、反射面２２０はその対応する透過面２１８に垂直で
あり、例えば、光は透過面２１８に垂直に入射される。

例えば、グレーティングは空気中にあると考えられる。

第５図のグレーティングは１ｍｍ当り６３２密度の満を
右する。

層２１６の屈折率はＷ＝０．６８μｎＮｃ関し１゜５５
５５である。

回折の第１次を考えると、第５図のグレーディングと同
じ寸法を有する金属化されていないグレーティングは、
計れにより０．６８μｍの波長のブレーズを有する第６
図に図示する特性を示すことがみいだされる。特に、反
射面２２０に平行な電場を向く偏光を有する光に関し、
回折効率は第６図の曲１２３０に従う。反射面２２０に
垂直な電場を向く偏光を有する光に関し、効率は６３゜
４％のピーク効率を有する曲線２３２に従う。反射面に
垂直な電場の場合において、６５．３％のピーク効率が
達成される。この発明のグレーティングは点２３３にお
いて３９％の改善が示される。

実施例　３ 第７図において、この発明にしたがって構成された他の
グレーティングガ示される。ここで入射光３２８は透過
面３１８に垂直に入射する。透過面３１８は反射面３２
０に垂直である。透過面３１８はグレーティング３３４
の平面に関して４８゜９°角度で位置している。ここで
グレーディングが作られる物質の反射角は１．５５３７
である。

溝の密度はｌ　ｒＴＩ　ｒＴＩ当り６００溝である。

第７図に示したグレーディングと同一の寸法を有する従
来の金属化されていないグレーティングが真空中で用い
られる場合、０．７０μｍの波長のブレーズを有するこ
とが計０でみいだされる。

第１次の回折は１反射面３２０に平行な電場を有する偏
向された光（伝達電気ＴＥ偏光モードの光）に関し、第
８図で曲Ｉ！３３０で示した効率を示す。

伝達磁場１Ｍ偏光モード（反射面３２０に平行な磁場）
で偏光された光の場合において、波長の関数の効率は曲
１１３２２で示される特性を有することがみいだされる
。第一１次のＴＭ偏光モードは、曲５３３６で示される
特性を示し、第一１次においてＴＭモードで偏光した光
は第８図で曲８３８で示される特性を有する。曲１！３
３２から、伝達磁気ＴＭモードにおいてグレーティング
のピーク効率は６４．８％になり、これに比較してＴＥ
モードのピーク効率は６７．３％である。この発明のグ
レーティング略よ点３３３において４５％の改善された
効率を示す。

第１図から第８図の種々の構成によって示されたものと
多少ことなる形のグレーティングが第９図に示される。

ここで、透過面４１８ど反斜面４２０の角は９０°より
小さい。しかしながら入射光４２８の方向は而４２０に
ほぼ平行である。特に透過面４１８に垂直な方向に対す
る入射の角をａとすると、透過面４１８と反射面４２０
の間の角は９０°−ａとなる。

第１０図に示すグレーティングに関し、同じ設定が得ら
れる。ここで反射面５２０とこれに対応する透過面５１
８との間の角は９０”より大きく、入射光５２８は反射
面５２０に平行な方向から透過面５１８に入射する。透
過面５１８とこれに対応する反射面５２０との間の角が
Ｕであり、透過面５１８に垂直な方向に対する入射光５
２８の角る。

一般に、第９図および第１０図に示した＠造および配列
は、グレーテイング層４１６および５１６を通る光の伝
達を非摂動状態で進めるために入射光の方向を反射面に
平行に保持づる。

しかしながら他の可能性が存在し、第１１図に示される
。特に、この実施例において、波面６２８は垂直に関す
るある角度を持ってグレーティングの透過面６１８に向
かって進む。波面６２８は透明層６１６に入ると、第１
１図で想像線６４０で示したように透過面６１８に垂直
な方向に曲る。

すなわち、スネルの法則の結果、反射面６２０に平行で
ない入射光は透明層６１６に入った光はこの方向に曲げ
られる。このようにして、透明層６１６を通った波面６
２８の非爪肋伝播が保持される。

光学ｎ器における高光入力低分解分光を達成するために
、透過グレーティング構造が提案された。

カーペンタのプリズムまたは“グラズム”と呼ばれるプ
リズム面の従来の透過プリズムは波長を角度置換しない
手段における分解を供給する。しかしながら小さなプリ
ズム界面を右する従来の古都ｕ的透過グレーティングに
おいて、効率は常に制限されていることが理論的および
経験的に示されている。第１２図はこの発明の実施例を
示したもので、この弁明のグレーティングは、その面に
配置された層１６′を有し、複数の１１４’が形成され
たｈ−ペンタのプリズム１０′の形をとる。

更に他の可能性が第１３図に示される。ここでグレーテ
ィング７１０は反射型で、反射性誘電物質でコーティン
グされた伝導性金属面７１８を有し、金属コーティング
７２４によってコーティングされた反射面７２０に対し
直角に配置される。

好ましくは金属面７１８に直角に入ｑ・１シた平面波面
を有する光は反射層７２６で反射され、干渉パターンを
形成する。反射層７２６はＳｉＯ＋とＴｌＯ２の交互層
を含む。反射面７２０はグレーディングからの非摂動反
射およびＴＥ平面波面の場合における有効な動作を保持
する。

この発明は現代の個々の工程に関し適用可能である。特
に、マスタグレーティングおよびそのレプリカを作るた
めに多数の工程の中の１つを用いることができる。干渉
計問罪下においてダイヤモンド工具により切削すること
ができ、ツー９１合成によってブレーズの断面をレーザ
で記録し、静止波の縁でレーザ記録し、断面の修正にし
たがった反応性プラズマ、方向性化学エツチングまたは
Ｘ線複写によって記録することができる。

マスタ８５０が作成されると、非常に高品質のグレーテ
ィングが望まれていても負型的なグレーティングのレプ
リカ（写し）が作られ、マスタは透明物質上に作られ、
レプリカに関し以下に示ずように加工される。

複写において、金属（通常アルミニューム）層８５２は
真空蒸着器内において、マスタ８５０の上の置かれる。

この動作ｔよ不純物トレイスのためアルミニュームがマ
スタに４１着しないように低員空中で行われる。

その硬化剤によって十分混合された液体Ｊ、ボ４゜シ樹
脂のＭ８５４は用意されたマスタの上に置かれ第１３図
に示すようにサンドイッチを形成する。

これらの要素は例えば４０℃のオーブン内に置かれ、適
した温度で、エポキシに用いられる適当な時間で硬化さ
れる。その後ブランクとマスタは分離される。エポキシ
８５４内のグレーティングのレプリカを有する複写８５
８は、鉄工ツヂングによって透明面から選択的に取除か
れた金属ＦＪ８５２を有している。

また、全ての金属、化学、位置射性コーティング（もし
望むなら）を取除き、以下に示すような方向性金属被覆
方法を用いてもよい。

位置射コーティングはよく知られている。（例えば［光
製造技術ＪＤ、Ｆ、ホーン、アダムヒルガー社、ブリス
トルによるページ３２８−２２７をみよ。）コーティン
グは例えばＴｈＦ４またはＭ　Ｑ　Ｆ　２の単コーティ
ング反反射体からなる。このコーティングはメタリック
コーティングのあとに適用される。

四分の１波長層内でＭ　Ｑ　Ｆ　２によりコーティング
すると、グレーティングの屈折率が１．６２であれば、
伝達グレーティングの反射性は５．６％から０．６４％
に減少する。

単層に関し、ｎｅ　＝ｎｏ　ｎｓのとき最良の結果が得
られることが知られている。ここでｎｅは諺肴したコー
ティングの屈折率、ｎｏはグレーティングの周囲の屈折
率、ｎｓはグレーティングプリズム構造の屈折率である
。

単一またはそれ以上の位置射コーティングの層に関し、
ＴｉＯ２およびＭＯＦ２の交互層、またはＭ　ｇ　Ｆ　
２およびＨ［０２の交互層はＴｈＦ４およびＳｉＯ２の
交互層より少なく用いられる。連続層の光学的厚さは四
分の１波長である。

二層に関し、ｎ１＝ｎ２　　（ｎｏ　／ｎｓ　）のどぎ
最良の結果が得られる。ｎ２は蒸着したコーティングの
高い屈折率、ｎｏは回折の外部または周囲の屈折率、ｎ
ｓはグレーティングプリズム構造の屈折率である。

位置射コーティングはグレーティングのプリズム面に適
用され、また透過グレーティングの背面に適用される。

グレーティングが位置Ｑ４Ｉ８でコーティングされた後
、透過グレーティング９７０（第１５図）は真空蒸着器
内に置かれる。グレーティングはるつぼ９７２から長い
距離りの位置に配置される。るつぼの中火の点Ａからグ
レーティングの中心の点Ａまでの間のラインに直角な位
置が金属化される。

蒸着は従来のフィラメント蒸着または電子銃蒸着を用い
てマスタ９７４を通して実行される。

この発明によれば反射状蒸着が行われる。この蒸着の前
に基板を加熱し、吸収された不純物を取除くが好ましい
。

シート状の３ＫＷの放射ヒータが反射器の下のチャンバ
の頂部に取付けられ、基板温度を一定に制御する。また
クォーツハロゲン加熱ユニットが反射器に取付けられ、
支持棒で結ばれた水冷リングが基板ホルダの下に搭載さ
れ、ＭＷ流からシールドされる。

フィルムとこのフィルムが配置される面どの間の付着を
良好にするために、フィルムを置くまえにガスの分利り
水またはグリースから面を自由にすることが必要である
。これは、真空グーヤンバ内に置く前に、フレオン、ア
ルコールまたはこれに類似する溶媒で成分を洗浄し、真
空にポンプで引いた後、高電圧グロー放電のイオン衝撃
に表面をさらす。

物質が蒸発するまでフィラメン！・がｆ′ｆｉ流によっ
て加熱される。抵抗加熱フィラメントは低電圧、高電流
ＡＣ減圧変圧器から供給され、要求電流りが高くなると
、変圧器は１０ボルトで４００アンペアまたは２０ボル
トで２００アンペアの連続チューティの結果熱０荷を取
るように設計される。

種々の変圧器が初段の電力変圧器の入力を制御１？する
たに必要である。種々の変圧器および電力変圧器の間の
ライン電流計の検査はオペレータがソースをゆっくり温
め、フィラメントからの溶隔小滴におけるコーテイング
物質の破壊を妨げる。

第１５図において、高電圧ｔ１１９７９によって駆動さ
れた電子９８０は、フィラメント電源９８１によって駆
動される加熱フィラメント９８２から故山され、電場で
加速され、磁気偏向手段９８３によってほぼ２７０４偏
向され、溶隔した然着物質９８４上に収束される。加熱
フィラメント９８２からの比較的小さなωの蒸発物質は
シールド９８６の使用により配置されるフィルムを汚さ
ない。

６−１０ＫＶの範囲の高電圧は第１４図のるつぼ９７２
を形成するアノードに向かって電子を加速する。

焦点の大きさはベーネルトポテンシャルの変化によって
変わり、加えて、商業的可能な装置を可能４Ｃするｆｆ
１ｌＸ−Ｙｔ査がある。１０ＫＷｃｍ−１の電力密度が
金属のために要求される。走査は、グレーティング満に
平行な方向のみ実行される。

更に電子銃の利点は、種々の形および大きさのるつぼを
用いることができることにある。黒光した分子はそれら
が衝突するガス分子がこれらの通路に存在しないので、
ソースから全ての方向に直愉的に発散する。黒光した物
質は冷たい面で固まり、フィルムが形成され、このフィ
ルムの厚さは蒸着の期間および速度、ソースの配置、ソ
ースと？！！？Ｎ面との間の距離に依存Ｊる。

この弁明の利用は分光測定法、分光螢光測定法、天文学
に広がる。

以上この発明の図示した実施例について述べたが、もち
ろん種々の変形例が通常の当業者であれば考えられるこ
とを理解すべきである。これらの変形例はこの弁明の趣
旨および範囲において特許請求の範囲のみによって限定
され、明らかにされる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこのＪＰ明にしたがって構成されたグレーティ
ングの部分透視図、第２図は第１図に示したグレーティ
ングの部分拡大図、第３図はこの弁明にしたがって構成
したグレーティングの部分側面図、第４図は第３図のグ
レーティングの実験特性を従来の透過グレーティングの
計ｎした特性と比較したグラフ、第５図はこの弁明にし
たがって構成したさらに他のグレーティングを示す図、
第６図は第５図のグレーティングの実験特性を従来の透
過グレーティングの計籠した特性と比較したグラフ、第
７図はこの弁明にしたがって構成したさらに他のグレー
ティングを示す図、第８図は第７図のグレーティングの
実験特性を従来の透過グレーティングの計口した特性と
比較したグラフ、第９図は面が形成する角が鋭角である
この発明の他の実施例を示す図、第１０図は面が形成す
る角が純角であるこの発明の他の実施例を示す図、第１
１図は動作の特に有利なモードを示す回折関数の略図、
第１２図はこの弁明のグレーティングに関係するカーペ
ンタのプリズムの側面図、第１３図はこの発明の原理に
関する反射グレーティングの拡大図、第１４図はレプリ
カの構成を示す図、第１５図はこの発明にしたがったグ
レーティングの真空蒸着を示す図、第１６図は第１５図
のるつぼを形成する装置を示す図である。 １０・・・グレーティング、１２・・・Ｕ板、１４・・
・溝、１８・・・透過面、２０・・・反射面。 」９土− ユ９Ｌ ヱ９Ｌ 」五９土− エ９．１３

Claims (20)

【特許請求の範囲】
1. （１）第１の伝播光学的特性の組を有し、全てほぼ第１
   の方向を向いて位置する複数の第１の切子面と、 第２の伝播光学的特性の組を有し、全てほぼ第２の方向
   を向いて位置する複数の第２の切子面とから形成された
   複数の溝を具え、 前記第１の切子面は回折入射光の方向を向き、前記第２
   の切子面は前記回折入射光の摂動を妨げる伝播光学的特
   性を有するとともにその方向を向く回折格子。
2. （２）前記第２の切子面は、前記回折入射光の伝播方向
   とほぼ平行の方向を向く請求項（１）記載の回折格子。
3. （３）前記溝は透明層内に形成され、 前記第１の組の伝播光学的特性は高透過性を有し、 前記第１の切子面に配置され、前記第１の組の伝播光学
   的特性を与える透過性コーティングを更に有し、 前記第２の組の伝播光学的特性は高反射性を有し、 前記第２の切子面に配置され、前記第２の組の伝播光学
   的特性を与える伝導性面を有する請求項（１）記載の回
   折格子。
4. （４）前記透過コーティングは、四分の１波長の厚さの
   単一の層を有する請求項（３）記載の回折格子。
5. （５）前記透過コーティングは、ＭｇＦ＿２およびＦ＿
   ４からなる組から選択される請求項（４）記載の回折格
   子。
6. （６）前記透過コーディングは、四分の１波長の厚さの
   多層を有する請求項（４）記載の回折格子。
7. （７）前記透過コーディングは、次の組から交互に選択
   された物質を有する請求項（６）記載の回折格子。 １）ＭｇＦ＿２およびＨｆＯ＿２ ２）ＴｉＯ＿２およびＭｇＦ＿２ ３）ＴｈＦ＿４およびＳｉＯ＿２
8. （８）前記第１の組の伝播光学的特性は高反射性を有し
   、 前記第１の組の伝播光学的特性を与える反射性誘電体コ
   ーティングを更に有し、 前記第２の組の光学的伝播特性は高伝導性を有し、 前記第２の切子面に配置され、反射格子を形成する金属
   コーティングを更に有する請求項（１）記載の回折格子
   。
9. （９）前記第１の切子面は前記第２の切子面とほぼ直角
   である請求項（３）記載の回折格子。
10. （１０）前記第１の切子面への入射光が前記第１の切子
    面にほぼ直角に入射する角度で前記透明層を支持する手
    段を更に具えた請求項（９）記載の回折格子。
11. （１１）前記第１および第２の切子面は透明層によって
    形成されるとともにその上に配置され、前記第２の切子
    面が前記第１の切子面への入射光とほぼ平行となる位置
    で前記透明層を支持する手段を更に備え、 前記入射光が前記透明層を通つて伝わるように前記第２
    の面が前記入射光に平行となる位置で前記入射光が前記
    第１の切子面を通って伝達される請求項（３）記載の回
    折格子。
12. （１２）前記第１および第２の切子面は部分的に透明物
    質の平面ウェハ材料によつて形成される請求項（３）記
    載の回折格子。
13. （１３）前記透明物質のウェハ材料は曲折している請求
    項（１２）記載の回折格子。
14. （１４）前記曲折部は凸レンズであり、これによって前
    記第１の切子面を伝達する前記入射光の収束が達成され
    る請求項（１３）の回折格子。
15. （１５）前記第１の切子面は、前記第２の切子面に関し
    て６０゜から１２０゜の間の角度に形成される請求項（
    １）記載の回折格子。
16. （１６）以下の工程を具えた回折格子の製造方法。 （ａ）透明物質に複数の第１の切子面を刻み、前記第１
    の切子面は第１の方向を向くように刻まれる工程。 （ｂ）前記透明物質に複数の第２の切子面を刻み、前記
    第２の切子面は第２の方向を向くように刻まれる工程。 （ｃ）前記第２の切子面の上に反射物質を配置する工程
    。
17. （１７）前記反射物質は前記第１および第２の切子面の
    両者の上に配置され、その後第１の切子面から除去され
    る請求項（１６）記載の方法。
18. （１８）前記第１の切子面の上に透明コーティングが配
    置される請求項（１６）記載の方法。
19. （１９）以下の工程を具えた回折格子の製造方法。 （ａ）基板に複数の第１の切子面を刻み、前記第１の切
    子面は第１の方向を向くように刻まれる工程。 （ｂ）前記基板に複数の第２の切子面を刻み、前記第２
    の切子面は第２の方向を向き、マスタ格子を形成するよ
    うに刻まれる工程。 （ｃ）前記マスタ格子のレプリカを塑造し、前記第２の
    切子面によって塑造された切子面の上に反射物質を配置
    する工程。
20. （２０）以下の工程を具えた回折格子の製造方法。 （ａ）基板に複数の第１の切子面刻み、前記第１の切子
    面は第１の方向を向くように刻まれる工程。 （ｂ）前記基板に複数の第２の切子面を刻み、前記第２
    の切子面は第２の方向を向き、マスタ格子を形成するよ
    うに刻まれる工程。 （ｃ）前記マスタ格子の上に反射層を配置する工程。 （ｄ）前記マスタグレーティングのレプリカをエポキシ
    で塑造し、前記第２の切子面上で塑造された切子面に反
    射物質を配置する工程。 （ｅ）前記エポキシが硬くなまで前記エポキシを硬化さ
    せる工程。 （ｆ）金属でコーティングされ、それに付着した前記硬
    化したエポキシ層を前記マスタから分離する工程。 （ｇ）前記第１の切子面によって塑造された切子面から
    前記金属をエッチング除去する工程。