JPH02209731A - スピンナー装置 - Google Patents

スピンナー装置

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Publication number
JPH02209731A
JPH02209731A JP1030456A JP3045689A JPH02209731A JP H02209731 A JPH02209731 A JP H02209731A JP 1030456 A JP1030456 A JP 1030456A JP 3045689 A JP3045689 A JP 3045689A JP H02209731 A JPH02209731 A JP H02209731A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
holding claws
weights
holding
rotation
Prior art date
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Pending
Application number
JP1030456A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsumi Umeda
梅田　克己
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Pending legal-status Critical Current

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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は、半導体工業等におけるガラス基板。
シリコンウェハー等に薬品の塗布、エッチング、洗浄等
を行なうスピンナー装置の構造に関する。
［発明が解決しようとする課Ｍ］ 従来の方式によれば、基板裏面への薬品の残留及゛び、
基板とチャックとの中心位置のズレによる装置自体の振
動、塗布品質の低下等が見られる。
［課題を解決するための手段］ 本発明は前記問題点を解決する為に基板の保持、機構に
回転錘を用いた自動調心機構を採用し、かつ基板裏面非
接触とすることにより、薬品の残留を防止した。
［実施例］ 第１図に本発明の方式を用いたウェハースピンナー基板
保持部の断面図を示す。
図中５で示される基板保持爪上に基板１を置いた後、基
板保持具を中心軸２により回転させる事により重錘６が
その回転中心軸４を中心として遠心力により外方に移動
し、基板保持爪５が起立し基板を強固に保持する。
基板が仮に回転中心よりズした位置に置かれた場合、若
しくは基板外形に大小が生じていた場合においては、左
右各々の基板保持爪の起立角度に差が生じており、左右
各重錘の回転中心軸回りの回転角度の差が基板保持爪の
曲げモーメント力の違いとして現れ、その結果、基板の
自動中心出しを行なう。
［発明の効果］ 前記実施例の装置を用いて行った結果によれば基板の裏
面洗浄も効果的に行われ薬品の残留汚染もなく、基板寸
法のバラツキも吸収でき安定的に処理を行うことが出来
た。本実施例においては半導体装置製造に使用されるマ
スクブランクスの処理に使用されたが、他にシリコン基
板、液晶表示用ガラス基板等応用範囲は非常に広いもの
がある
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明の実施例による基板保持部の断面図。 第２図は、角型ガラス基板用スピンナーの基板保持具の
断面図。 第６図は、ウェハー真空チャックを示す図。 １・・・・・・・、・・基　板 ２・・・・・・・・・回転軸 ３・・・・・・・・・回転重錘 ４・・・・・・・・・重錘回転軸 ５・・・・・・・・・基板保持爪 ０・・・・・・・・・基　板 ０・・・・・・・・・段差付基板保持部１・・・・・・
・・・ステージ ０・・・・・・・・・真空穴部 以上 某　／Ｉ’Ｍ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ガラス基板、シリコンウェハー等を保持し、回転するこ
    とによって、薬品の塗布、エッチング、洗浄等を均一性
    良く行なうスピンナー装置に、おいて基板の保持部に回
    転錘を設け、スピンナーの回転に伴う遠心力によって、
    基板を保持する構造を有することを特徴とするスピンナ
    ー装置。
JP1030456A 1989-02-09 1989-02-09 スピンナー装置 Pending JPH02209731A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01161365U (ja) * 1988-04-26 1989-11-09
JPH02278713A (ja) * 1989-04-19 1990-11-15 Tokyo Electron Ltd レジスト処理装置
JPH0613136U (ja) * 1992-07-23 1994-02-18 森尾電機株式会社 半導体製造装置に於ける半導体ウエハー保持機構
KR100340154B1 (ko) * 1999-12-06 2002-06-10 김광교 웨이퍼를 스피닝하기 위한 웨이퍼 척

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JPH0613136U (ja) * 1992-07-23 1994-02-18 森尾電機株式会社 半導体製造装置に於ける半導体ウエハー保持機構
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