JPH02209849A - 弗素を含有する単量体、その製法及び用途 - Google Patents
弗素を含有する単量体、その製法及び用途Info
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- 239000000178 monomer Substances 0.000 title abstract description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- AOAVZPXKNQAALI-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(4-methylphenyl)propan-2-ol Chemical compound CC1=CC=C(C(O)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 AOAVZPXKNQAALI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- IZPIZCAYJQCTNG-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-phenylpropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(C(F)(F)F)(O)C1=CC=CC=C1 IZPIZCAYJQCTNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical compound NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 23
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- -1 amino compound Chemical class 0.000 claims description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 claims description 11
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 8
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 6
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 claims description 6
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 6
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 238000006396 nitration reaction Methods 0.000 claims description 4
- JBIXVYXDUNECKL-UHFFFAOYSA-N 1-(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-phenylpropan-2-yl)-4-methylbenzene Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=CC=C1 JBIXVYXDUNECKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PQLVXDKIJBQVDF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;hydrate Chemical compound O.CC(O)=O PQLVXDKIJBQVDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 2
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 2
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 3
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- DSNLGJSCQFOPPH-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(3-nitrophenyl)propan-2-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 DSNLGJSCQFOPPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 claims 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims 1
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 claims 1
- 230000003442 weekly effect Effects 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 5
- DOAYUKLNEKRLCQ-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=CC(N)=C1 DOAYUKLNEKRLCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 abstract description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 abstract description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 abstract description 3
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 abstract 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 abstract 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 6
- TVUNENAUDYEHNJ-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(3-nitrophenyl)propan-2-yl]benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 TVUNENAUDYEHNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JKPHVIYSVWMGQT-UHFFFAOYSA-N 4-(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-phenylpropan-2-yl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=CC=C1 JKPHVIYSVWMGQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 3
- 238000004293 19F NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 2
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 2
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 229910001437 manganese ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N tetrabromomethane Chemical compound BrC(Br)(Br)Br HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGXQKMSLLUXZIP-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]benzoic acid Chemical compound NC1=CC=CC(C(C=2C=CC(=CC=2)C(O)=O)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 NGXQKMSLLUXZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150041968 CDC13 gene Proteins 0.000 description 1
- 241001640117 Callaeum Species 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMJSSVVQBLOAIT-UHFFFAOYSA-J O.O.O.O.[Mn+4].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O Chemical compound O.O.O.O.[Mn+4].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O NMJSSVVQBLOAIT-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001513 alkali metal bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N ammonium bromide Chemical compound [NH4+].[Br-] SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- BNQRPLGZFADFGA-UHFFFAOYSA-N benzyl(triphenyl)phosphanium Chemical class C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 BNQRPLGZFADFGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940006460 bromide ion Drugs 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- BLBBMBKUUHYSMI-UHFFFAOYSA-N furan-2,3,4,5-tetrol Chemical compound OC=1OC(O)=C(O)C=1O BLBBMBKUUHYSMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M methyltrioctylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000802 nitrating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 238000010525 oxidative degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 150000005621 tetraalkylammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000005497 tetraalkylphosphonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000004685 tetrahydrates Chemical class 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 1
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は弗素を含有する単量体及びその製法特に2−(
3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニル)へ
キサフルオロプロパン、耐熱性重縮合体例えばポリアミ
ド及びポリイミド用の新規な弗素含有単量体に関する。
3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニル)へ
キサフルオロプロパン、耐熱性重縮合体例えばポリアミ
ド及びポリイミド用の新規な弗素含有単量体に関する。
高い熱安定性を有する透明な重合体を2,2−ビス(3
−アミノフェニル)−へキサフルオロプロパン及ヒ2.
2−ビス(4−アミノフェニル)へキサフルオロプロパ
ンから製造することができることが公知である(米国特
許第3,356,648号明細書、ドイツ特許出願公開
第3,526,010号公報及び米国特許第4.645
,824号明細書)。上記の性質を基礎としてこれら重
合体は高品質材料例えば航空機及び電子産業に於ける該
材料として使用される。
−アミノフェニル)−へキサフルオロプロパン及ヒ2.
2−ビス(4−アミノフェニル)へキサフルオロプロパ
ンから製造することができることが公知である(米国特
許第3,356,648号明細書、ドイツ特許出願公開
第3,526,010号公報及び米国特許第4.645
,824号明細書)。上記の性質を基礎としてこれら重
合体は高品質材料例えば航空機及び電子産業に於ける該
材料として使用される。
本対象は、上記の構造異性体のジアミノ化合物を基礎と
する重縮合体を得ることができる、一部弗素化されたジ
アミンを製造することに基づいていた。
する重縮合体を得ることができる、一部弗素化されたジ
アミンを製造することに基づいていた。
本発明は、一般式(1)
(式中
Xは水素、NO,又はNll□でありそしてYはCL
、C00II、 C0NII□、Nl+、又は−N=N
−Z (式中Zは基 F3 であり、但しYが基−N=N−Zを示すなら、XはNO
!のみであり、Yが基−CI+、を示すなら、Xは水素
のみである) で示される化合物好ましくは2−(3−アミノフェニル
)−2−(4−アミノフェニル)へキサフルオロプロパ
ン(n)及びその製法及び用途に関する。
、C00II、 C0NII□、Nl+、又は−N=N
−Z (式中Zは基 F3 であり、但しYが基−N=N−Zを示すなら、XはNO
!のみであり、Yが基−CI+、を示すなら、Xは水素
のみである) で示される化合物好ましくは2−(3−アミノフェニル
)−2−(4−アミノフェニル)へキサフルオロプロパ
ン(n)及びその製法及び用途に関する。
化合物(II)は、2−(4−メチルフェニル)へキサ
フルオロプロパン−2−オール又は2−フェニルヘ−1
−”l−フルオロプロパン−2−オールかう出発させて
6反応段階により得られる。ここで得られる該中間体生
成物は同様に新規である。
フルオロプロパン−2−オール又は2−フェニルヘ−1
−”l−フルオロプロパン−2−オールかう出発させて
6反応段階により得られる。ここで得られる該中間体生
成物は同様に新規である。
メチル化合物(■)は、2方法により、特にa) 2
− (4−メチルフェニル)へキサフルオロプロパン
−2−オール1モルをベンゼン1モルと又は b) 2−フェニルへキサフルオロプロパン−2−オ
ール1モルをトルエン1モルと 弗化水素の存在下で縮合させて、製造することができる
。出発化合物はJ、0.C,、998〜1001゜皿(
1965年)中に記載されている。方法a)及びb)に
於ける反応温度は80乃至180°C好ましくは100
乃至170℃である。反応時間は24乃至90好ましく
は65乃至90時間である。使用される反応成分のモル
比は両方の場合一般に1=5好ましくは1:1.5乃至
2.5であり、その際化合物ベンゼン及びトルエンは常
に過剰成分である。化合物(II)を製造するための反
応に必要な弗化水素の量は対応する出発化合物に基づい
ておりそして両方法の場合一般に1ニア乃至25好まし
くは1:9乃至20である。反応混合物を後処理するた
めに、弗化水素を一般に、反応が完結したとき、反応器
から約80℃に於いて排出する。
− (4−メチルフェニル)へキサフルオロプロパン
−2−オール1モルをベンゼン1モルと又は b) 2−フェニルへキサフルオロプロパン−2−オ
ール1モルをトルエン1モルと 弗化水素の存在下で縮合させて、製造することができる
。出発化合物はJ、0.C,、998〜1001゜皿(
1965年)中に記載されている。方法a)及びb)に
於ける反応温度は80乃至180°C好ましくは100
乃至170℃である。反応時間は24乃至90好ましく
は65乃至90時間である。使用される反応成分のモル
比は両方の場合一般に1=5好ましくは1:1.5乃至
2.5であり、その際化合物ベンゼン及びトルエンは常
に過剰成分である。化合物(II)を製造するための反
応に必要な弗化水素の量は対応する出発化合物に基づい
ておりそして両方法の場合一般に1ニア乃至25好まし
くは1:9乃至20である。反応混合物を後処理するた
めに、弗化水素を一般に、反応が完結したとき、反応器
から約80℃に於いて排出する。
得られる粗混合物を水で洗浄し、乾燥しそして分別蒸留
に付する。
に付する。
メチル化合物(I[I)は、通常の化学量論的方法によ
り、例えば過マンガン酸カリウム、クロム酸/氷酢酸、
重クロム酸塩/硫酸を用いて又は好ましくは接触的にコ
バルト、マンガン及び臭素のイオンからなる触媒組み合
わせの存在下分子状酸素を用いて酸化してカルボン酸(
TV)を得ることができ、その際反応は少なくとも40
%酢酸又はプロピオン酸又はその混合物からなる酸性媒
体中で実施される。酢酸は酸化的分解に対し著しく耐性
であるため好ましい。使用される酸性媒体対出発物質の
比率は全反応組成物に対し40760重量%の比率まで
であることができる。
り、例えば過マンガン酸カリウム、クロム酸/氷酢酸、
重クロム酸塩/硫酸を用いて又は好ましくは接触的にコ
バルト、マンガン及び臭素のイオンからなる触媒組み合
わせの存在下分子状酸素を用いて酸化してカルボン酸(
TV)を得ることができ、その際反応は少なくとも40
%酢酸又はプロピオン酸又はその混合物からなる酸性媒
体中で実施される。酢酸は酸化的分解に対し著しく耐性
であるため好ましい。使用される酸性媒体対出発物質の
比率は全反応組成物に対し40760重量%の比率まで
であることができる。
臭化物イオンは、酸化を完全に進行させるために絶対的
に必要である。
に必要である。
コバルト及びマンガンイオンは、−aに3:1乃至l:
3好ましくは1:1の比率で使用される。二元素の濃度
の合計は、一般に全反応組成物IKg当たり0.01〜
0.20g原子好ましくは0.02〜0.12及び特に
0.04〜o、os g原子である。
3好ましくは1:1の比率で使用される。二元素の濃度
の合計は、一般に全反応組成物IKg当たり0.01〜
0.20g原子好ましくは0.02〜0.12及び特に
0.04〜o、os g原子である。
コバルト及びマンガンの合計対臭素の比率は、一般にi
:o、ot〜2好ましくは1:0.025〜1及び特に
1:0.05〜0.2である。0.20g原子の2金属
イオンに付加的にセリウムイオンを使用することも可能
である。これらは不完全に酸化した中間体段階の酸化を
触媒する。これらの存在は部分的に弗素化されたモノカ
ルボン酸の純度及び収率を増大する。セリウムイオンは
、1:0.02〜2好ましくはI:0.05〜l及び特
に1:0.2〜0.6の、コバルト及びマンガンイオン
の合計対セリウムイオンの比率で触媒に添加される。金
属イオンは、好ましくはそれらのアセテートの形で使用
される。臭素は、臭化物例えば臭化アンモニウムを包含
する、アルカリ金属の臭化物及び金属コバルト、マンガ
ン及びセリウムの臭化物の形で又は水又は木酢酸中臭化
水素の溶液として使用することができる。更に酸化申分
解しそして臭素イオンを遊離する、臭素を含有する化合
物例えばテトラブロモメタンを使用することもできる。
:o、ot〜2好ましくは1:0.025〜1及び特に
1:0.05〜0.2である。0.20g原子の2金属
イオンに付加的にセリウムイオンを使用することも可能
である。これらは不完全に酸化した中間体段階の酸化を
触媒する。これらの存在は部分的に弗素化されたモノカ
ルボン酸の純度及び収率を増大する。セリウムイオンは
、1:0.02〜2好ましくはI:0.05〜l及び特
に1:0.2〜0.6の、コバルト及びマンガンイオン
の合計対セリウムイオンの比率で触媒に添加される。金
属イオンは、好ましくはそれらのアセテートの形で使用
される。臭素は、臭化物例えば臭化アンモニウムを包含
する、アルカリ金属の臭化物及び金属コバルト、マンガ
ン及びセリウムの臭化物の形で又は水又は木酢酸中臭化
水素の溶液として使用することができる。更に酸化申分
解しそして臭素イオンを遊離する、臭素を含有する化合
物例えばテトラブロモメタンを使用することもできる。
酸化は、一般に120乃至220好ましくは140乃至
190特に155乃至180°Cの温度に於いて実施さ
れる。反応器に於ける圧力は、一般に5乃至40好まし
くはlO乃至30特に14乃至20バールである。
190特に155乃至180°Cの温度に於いて実施さ
れる。反応器に於ける圧力は、一般に5乃至40好まし
くはlO乃至30特に14乃至20バールである。
酸化に必要な空気を反応器の底のすぐそばで液相中に導
入しそして激しい攪拌又は特殊な噴射により液相中に微
細に分散することが方法にとって有利である。
入しそして激しい攪拌又は特殊な噴射により液相中に微
細に分散することが方法にとって有利である。
第三反応段階に於いて2−(4−カルボキシフェニル)
−2−(3−ニトロフェニル)へキサフルオロプロパン
(V)はカルボン酸(IV)からニトロ化反応により製
造される。一般に通常のニトロ化性酸混合物例えば硝酸
/硫酸、硝酸/氷酢酸、硝酸/無水氷酢酸又は硝酸/水
混合物をニトロ化に使用することができる。98%硝酸
は特にニトロ化に適し、その際カルボン酸は有機溶剤例
えばテトラヒドロキシフラン、ジオキサン、氷酢酸、エ
タノール、3個までの炭素原子を有するハロゲン化脂肪
族炭化水素好ましくは塩化メチレン及び濃硫酸中に溶解
される。次に濃硫酸は、−20乃至+50°C好ましく
は−5乃至+5°Cの温度に於いて夫々小量で添加され
る。次に化合物(V)は2−(4−カルボン酸アミド)
−2−(3ニトロフエニル)へキサフルオロプロパン(
VI)に変えられる。カルボン酸からなるカルボン酸ア
ミドを製造するための一般的に通常な方法をカルボン酸
アミド(VI)を製造するために使用することができる
。50乃至180℃好ましくは90乃至100℃の温度
に於ける硫酸/オレウムからなる反応混合物中でのカル
ボン酸(V)とアミドスルホン酸との直接反応は特に適
する。
−2−(3−ニトロフェニル)へキサフルオロプロパン
(V)はカルボン酸(IV)からニトロ化反応により製
造される。一般に通常のニトロ化性酸混合物例えば硝酸
/硫酸、硝酸/氷酢酸、硝酸/無水氷酢酸又は硝酸/水
混合物をニトロ化に使用することができる。98%硝酸
は特にニトロ化に適し、その際カルボン酸は有機溶剤例
えばテトラヒドロキシフラン、ジオキサン、氷酢酸、エ
タノール、3個までの炭素原子を有するハロゲン化脂肪
族炭化水素好ましくは塩化メチレン及び濃硫酸中に溶解
される。次に濃硫酸は、−20乃至+50°C好ましく
は−5乃至+5°Cの温度に於いて夫々小量で添加され
る。次に化合物(V)は2−(4−カルボン酸アミド)
−2−(3ニトロフエニル)へキサフルオロプロパン(
VI)に変えられる。カルボン酸からなるカルボン酸ア
ミドを製造するための一般的に通常な方法をカルボン酸
アミド(VI)を製造するために使用することができる
。50乃至180℃好ましくは90乃至100℃の温度
に於ける硫酸/オレウムからなる反応混合物中でのカル
ボン酸(V)とアミドスルホン酸との直接反応は特に適
する。
第5反応段階に於いては、カルボン酸アミド化合物(V
I)を「ホフマン」−転位の条件下塩基の存在下50乃
至70°C好ましくは約40”Cの反応温度に於いて水
性ハイポハライド(hypohalide)溶液と反応
させる。驚くべきことに、予期された2−(4−アミノ
フェニル”) −2−(3−ニトロフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン(VIIa)の小量のみがこの場合得ら
れる。反応性成物の主割合は4.4′−ビス(2−(3
−ニトロフェニル)へキサフルオロプロパン〕アブベン
ゼン(■)である。
I)を「ホフマン」−転位の条件下塩基の存在下50乃
至70°C好ましくは約40”Cの反応温度に於いて水
性ハイポハライド(hypohalide)溶液と反応
させる。驚くべきことに、予期された2−(4−アミノ
フェニル”) −2−(3−ニトロフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン(VIIa)の小量のみがこの場合得ら
れる。反応性成物の主割合は4.4′−ビス(2−(3
−ニトロフェニル)へキサフルオロプロパン〕アブベン
ゼン(■)である。
アルカリ金属ハイポクロライド及びハイポブロマイドの
5乃至30%水性溶液好ましくは約13%ナトリウムハ
イポクロライド溶液が、塩基例えばアルカリ金属水酸化
物又はアンモニウム塩基の存在下、ハイポハライド溶液
として使用される。相転移触媒例えばテトラアルキルア
ンモニウム塩、ベンジルトリアルキルアンモニウム塩、
ベンジルトリアルキルホスホニウム塩、ベンジルトリフ
ェニルホスホニウム塩、テトラアルキルホスホニウム塩
−夫々の場合アルキル残基中に1〜6個の炭素原子を有
するー、クラウンエーテル又はポリエチレングリコール
を、反応を促進するために、0.1乃至20モル%の量
で添加することができる。
5乃至30%水性溶液好ましくは約13%ナトリウムハ
イポクロライド溶液が、塩基例えばアルカリ金属水酸化
物又はアンモニウム塩基の存在下、ハイポハライド溶液
として使用される。相転移触媒例えばテトラアルキルア
ンモニウム塩、ベンジルトリアルキルアンモニウム塩、
ベンジルトリアルキルホスホニウム塩、ベンジルトリフ
ェニルホスホニウム塩、テトラアルキルホスホニウム塩
−夫々の場合アルキル残基中に1〜6個の炭素原子を有
するー、クラウンエーテル又はポリエチレングリコール
を、反応を促進するために、0.1乃至20モル%の量
で添加することができる。
粗生成物が約70%の程度まで含有するアゾ化合物(V
II)のほかに、小量□即ち15%まで□の2−(4−
アミノフェニル)−2−(3−ニトロフェニル)ヘキサ
フルオロプロパン(VIIa)カ第5反応段階に於ける
別の生成物として生成する、純粋なアゾ化合物(■)は
、有機溶剤例えばエタノール、アセトニトリル、エチル
アセテート、メチレンクロライド、クロロホルム又は四
塩化炭素好ましくはエタノールから粗生成物を再結晶さ
せて得ることができる。併し、2−(3−アミノフェニ
ル)−2−(4−アミノフェニル)へキサフルオロプロ
パン(II)を製造するために、粗生成物からアゾ化合
物(■)を単離することは必要でない。何となれば化合
物(■)からも又化合物(VIIa)からも得られるか
らである。化合物(V)、(VI)、(■)及び(VI
Ia)中のニトロ及びアゾ基の還元は、例えば遷移金属
特に周期表の第■副族の該金属の水素添加触媒を使用す
る通常の触媒法により又は化学量論的方法(例えば塩化
錫(■)/氷酢酸による)により実施することができる
。例えば白金族金属、銅、鉄、コバルト、ニッケル、金
属酸化物又は混合金属触媒は、接触還元に、好ましくは
場合により過圧で、通常の稀釈剤例えば低級脂肪族アル
コール、芳香族炭化水素(例えばトルエン又はキシレン
)、脂肪族モノカルボン酸エステル又は類似の有機溶剤
中で例えば10〜130°Cの温度に於いて使用するこ
とができる。化合物(II)を精製するためにこれを例
えば10〜100℃に於いて酸によりその水溶性塩(例
えばハロゲン化物又は硫酸水素塩)の一つに変えること
がてき、これば使用される条件下アミン基に対し不活性
である。
II)のほかに、小量□即ち15%まで□の2−(4−
アミノフェニル)−2−(3−ニトロフェニル)ヘキサ
フルオロプロパン(VIIa)カ第5反応段階に於ける
別の生成物として生成する、純粋なアゾ化合物(■)は
、有機溶剤例えばエタノール、アセトニトリル、エチル
アセテート、メチレンクロライド、クロロホルム又は四
塩化炭素好ましくはエタノールから粗生成物を再結晶さ
せて得ることができる。併し、2−(3−アミノフェニ
ル)−2−(4−アミノフェニル)へキサフルオロプロ
パン(II)を製造するために、粗生成物からアゾ化合
物(■)を単離することは必要でない。何となれば化合
物(■)からも又化合物(VIIa)からも得られるか
らである。化合物(V)、(VI)、(■)及び(VI
Ia)中のニトロ及びアゾ基の還元は、例えば遷移金属
特に周期表の第■副族の該金属の水素添加触媒を使用す
る通常の触媒法により又は化学量論的方法(例えば塩化
錫(■)/氷酢酸による)により実施することができる
。例えば白金族金属、銅、鉄、コバルト、ニッケル、金
属酸化物又は混合金属触媒は、接触還元に、好ましくは
場合により過圧で、通常の稀釈剤例えば低級脂肪族アル
コール、芳香族炭化水素(例えばトルエン又はキシレン
)、脂肪族モノカルボン酸エステル又は類似の有機溶剤
中で例えば10〜130°Cの温度に於いて使用するこ
とができる。化合物(II)を精製するためにこれを例
えば10〜100℃に於いて酸によりその水溶性塩(例
えばハロゲン化物又は硫酸水素塩)の一つに変えること
がてき、これば使用される条件下アミン基に対し不活性
である。
得られる3、4′−ジアミノ化合物は耐熱性重縮合体の
製造に適する。ポリイミドテトラカルボン酸又はその誘
導体と反応させて得られる。
製造に適する。ポリイミドテトラカルボン酸又はその誘
導体と反応させて得られる。
他方、ジカルボン酸クロライドとの反応はポリアミドを
与える。ポリイミドは例えば低い誘電定数を有する。
与える。ポリイミドは例えば低い誘電定数を有する。
更に新規な単量体及び低重合体は、例えば二無水物との
反応により得ることができる。得られるイミド単量体及
び低重合体は付加反応により硬化することができる。更
に本発明によるジアミンは重合体の前駆物質、エポキシ
ド硬化剤、マトリックス樹脂、ラミネート、フィルム、
繊維、染料、フォトレジスト及び成形品の製造に適する
。
反応により得ることができる。得られるイミド単量体及
び低重合体は付加反応により硬化することができる。更
に本発明によるジアミンは重合体の前駆物質、エポキシ
ド硬化剤、マトリックス樹脂、ラミネート、フィルム、
繊維、染料、フォトレジスト及び成形品の製造に適する
。
例
1)2−(4−メチルフェニル)−2−フェニルヘキサ
フルオロプロパン(I[I) a)2−(4−メチルフェニル)へキサフルオロプロパ
ン−2−オール1,290g及びベンゼン780 gを
まず51容オートクレーブ中に導入しそして無水弗化水
素1.500gを密閉オートクレーブ中にポンプで導入
した。反応混合物を攪拌下170〜175℃に於いて6
4時間加熱した。反応が完結したとき、弗化水素を80
°Cに於いて排気し、次に液体生成物を2回水で洗浄し
、塩化カルシウム上で乾燥しそして分別蒸留に付した。
フルオロプロパン(I[I) a)2−(4−メチルフェニル)へキサフルオロプロパ
ン−2−オール1,290g及びベンゼン780 gを
まず51容オートクレーブ中に導入しそして無水弗化水
素1.500gを密閉オートクレーブ中にポンプで導入
した。反応混合物を攪拌下170〜175℃に於いて6
4時間加熱した。反応が完結したとき、弗化水素を80
°Cに於いて排気し、次に液体生成物を2回水で洗浄し
、塩化カルシウム上で乾燥しそして分別蒸留に付した。
沸点135〜136°C/1.4mバール。秤重量:
1.424g(理論値の89.5%)。
1.424g(理論値の89.5%)。
C011□F6 計算値: C,60,38χ H
3,77χF 35.85! 分子量:318 実測値: C60,50χ 11
3.70χF 35.80! b) 2−フェニルへキサフルオロプロパン−2−オ
ール244g、トルエン368g及び無水弗化水素18
0gを攪拌器を有する11容V4Aスチールオートクレ
ーブ中で一緒にした。次に反応混合物を175℃に於い
て65時間撹拌した。
3,77χF 35.85! 分子量:318 実測値: C60,50χ 11
3.70χF 35.80! b) 2−フェニルへキサフルオロプロパン−2−オ
ール244g、トルエン368g及び無水弗化水素18
0gを攪拌器を有する11容V4Aスチールオートクレ
ーブ中で一緒にした。次に反応混合物を175℃に於い
て65時間撹拌した。
80°Cに冷却後弗化水素を排気した。粗生成物を2回
水で洗浄し、塩化カルシウム上で乾燥しそして分別蒸留
に付した。沸点82℃10.05僧バール、67g7g
ビニ値の21%。
水で洗浄し、塩化カルシウム上で乾燥しそして分別蒸留
に付した。沸点82℃10.05僧バール、67g7g
ビニ値の21%。
2)2−(4−カルボキシフェニル)−2−フェニルヘ
キサフルオロプロパン(IV) 2− (4−メチルフェニル)−2−フェニルヘキサフ
ルオロプロパン298g、 酢6tlコバルト(II)
四水和物2.49g、酢酸マンガン(IV)四水和物2
.45g及び臭化水素0.41g (氷酢酸中10%H
B、−溶液4.1gに相当する)をまず11容ガラス製
オートクレーブ中に導入した。混合物を約180°Cに
6.5バールの酸素圧下及び発熱反応上加熱しそして1
70〜180°Cに於いて1時間放置した0反応溶液を
約100 ”Cに冷却し、次に酢酸200gを留出した
。水275gをフラスコ中に残留する溶液(約600g
)に沸点に於いて徐々に添加した。晶出したカルボン
酸を吸引ろ過し、夫々75戚の50%水性酢酸で2回そ
して夫々85滅の水で5回洗浄しそして60°C/60
+wバールに於いて乾燥した。収率: 311g(理論
値の95.5%)、融点: 153〜155°C1小さ
な無色の結晶。
キサフルオロプロパン(IV) 2− (4−メチルフェニル)−2−フェニルヘキサフ
ルオロプロパン298g、 酢6tlコバルト(II)
四水和物2.49g、酢酸マンガン(IV)四水和物2
.45g及び臭化水素0.41g (氷酢酸中10%H
B、−溶液4.1gに相当する)をまず11容ガラス製
オートクレーブ中に導入した。混合物を約180°Cに
6.5バールの酸素圧下及び発熱反応上加熱しそして1
70〜180°Cに於いて1時間放置した0反応溶液を
約100 ”Cに冷却し、次に酢酸200gを留出した
。水275gをフラスコ中に残留する溶液(約600g
)に沸点に於いて徐々に添加した。晶出したカルボン
酸を吸引ろ過し、夫々75戚の50%水性酢酸で2回そ
して夫々85滅の水で5回洗浄しそして60°C/60
+wバールに於いて乾燥した。収率: 311g(理論
値の95.5%)、融点: 153〜155°C1小さ
な無色の結晶。
C14Hl。F、0□計算値: C55,1882,
89(348) F 32.
73 0 9.19実測値: C55,20H3,00 F 33.20 0 9.00 3)2−(4−カルボキシフェニル)−2−(3−ニト
ロフェニル)へキサフルオロプロパン(V)2− (4
−カルボキシフェニル)−2−フェニルヘキサフルオロ
プロパン261gをメチレンクロライド500 d中に
懸濁し、濃硫酸188 mの添加後部硝酸15dを−5
乃至0℃に於いて滴加した。
89(348) F 32.
73 0 9.19実測値: C55,20H3,00 F 33.20 0 9.00 3)2−(4−カルボキシフェニル)−2−(3−ニト
ロフェニル)へキサフルオロプロパン(V)2− (4
−カルボキシフェニル)−2−フェニルヘキサフルオロ
プロパン261gをメチレンクロライド500 d中に
懸濁し、濃硫酸188 mの添加後部硝酸15dを−5
乃至0℃に於いて滴加した。
引き続いて反応混合物をこの温度に於いて1時間攪拌し
、次に氷2,000g上に注いだ。固体をろ別し、洗浄
水が3〜4のpl+を有するまで、水で洗浄した。粗生
成物208g、融点180〜185“C0 ろ液の後処理:有機相を分離し、2回水で洗浄し、硫酸
マグネシウム上で乾燥しそして濃縮した。粘着性の黄色
残留物を2回トルエンから再結晶し、その後更に180
〜184°Cの融点を有する粗生成物30 gが得られ
た。
、次に氷2,000g上に注いだ。固体をろ別し、洗浄
水が3〜4のpl+を有するまで、水で洗浄した。粗生
成物208g、融点180〜185“C0 ろ液の後処理:有機相を分離し、2回水で洗浄し、硫酸
マグネシウム上で乾燥しそして濃縮した。粘着性の黄色
残留物を2回トルエンから再結晶し、その後更に180
〜184°Cの融点を有する粗生成物30 gが得られ
た。
−緒にした量の粗生成物(238g)を2回トルエンか
ら再結晶し、その後、ガスクロマトグラフィーにより測
定して、99.2%の純度を有する白色固体186g
(理論値の63%)が得られた。
ら再結晶し、その後、ガスクロマトグラフィーにより測
定して、99.2%の純度を有する白色固体186g
(理論値の63%)が得られた。
’HNMR(CDCh ) σ(ppm) :
7.5−7.7 rn 4tl、8.1−8.1−
8.4 m 411.11.1 s IH 19F NMR(CDCI 3) σ(ppm)
: −64,15IR(KBr ベレット)
: 1170−1280 cm−’CFI、
1350及 び1540 cm” NOx、 1700 cm−’ C=0.2500−3450 cm−’ 01( CI&119 F&N04 計算値: C48,
87H2,31(393,23)
N 3.56 F 2B、990 16.28 実測値: C49,20112,0O N 3.40 F 28.70 0 16.50 4)2−(4−カルボン酸アミドフェニル)−2−(3
ニトロフエニル)へキサフルオロプロパン(VI) 2−(4−カルボキシフェニル)−2−(3−ニトロフ
ェニル)へキサフルオロプロパン198gヲ濃硫酸70
0 d及びオレウム(65%)からなる混合物中に導入
した。アミドスルホン酸200gの添加後、反応混合物
を90〜95°Cに於いて3時間加熱した。!Q濁液を
約20°Cに冷却しそして連続的に攪拌しながら氷約6
Kg上に注いだ。
7.5−7.7 rn 4tl、8.1−8.1−
8.4 m 411.11.1 s IH 19F NMR(CDCI 3) σ(ppm)
: −64,15IR(KBr ベレット)
: 1170−1280 cm−’CFI、
1350及 び1540 cm” NOx、 1700 cm−’ C=0.2500−3450 cm−’ 01( CI&119 F&N04 計算値: C48,
87H2,31(393,23)
N 3.56 F 2B、990 16.28 実測値: C49,20112,0O N 3.40 F 28.70 0 16.50 4)2−(4−カルボン酸アミドフェニル)−2−(3
ニトロフエニル)へキサフルオロプロパン(VI) 2−(4−カルボキシフェニル)−2−(3−ニトロフ
ェニル)へキサフルオロプロパン198gヲ濃硫酸70
0 d及びオレウム(65%)からなる混合物中に導入
した。アミドスルホン酸200gの添加後、反応混合物
を90〜95°Cに於いて3時間加熱した。!Q濁液を
約20°Cに冷却しそして連続的に攪拌しながら氷約6
Kg上に注いだ。
沈澱した固体を次にろ別し、水で中性に洗浄した。
収率:白色固体の191g (理論値の97%)融点:
147〜148°C ’tl NMR(CDCI3 ) 6 (ppm)
: 6.6 広幅S 2+1 。
147〜148°C ’tl NMR(CDCI3 ) 6 (ppm)
: 6.6 広幅S 2+1 。
7.4−7.9 m 6H。
8.3−8.4 m 2)1
19F NMR(CDCI z) σ(ppm)
: −64,15IR(KBr ペレット)
: 11704280 cm−’Ch、16
20及び 1660 cn+−’ C0NHz 、3200
及び3400 cm−’ NH。
: −64,15IR(KBr ペレット)
: 11704280 cm−’Ch、16
20及び 1660 cn+−’ C0NHz 、3200
及び3400 cm−’ NH。
C+61I+。F、NzO□計算値: C48,98(
392,26) N実測値:
C H2,57 7,14 49,40H2,60 7,20 5)4.4’−ビス(2−(3−ニトロフェニル)へキ
サフルオロイソプロピル〕アブベンゼン(■) 2−(4−カルボン酸アミドフェニル)−2−(3−ニ
トロフェニル)−へキサフルオロイソプロピル157g
を13%水性ナトリウムハイポクロライド溶液900
d、50%水酸化ナトリウム溶液150 IIi及びト
リカプリルメチルアンモニウムクロライド5mからなる
混合物中に0乃至5°Cに於いて導入した。懸濁液を2
4時間攪拌し、その際反応温度は50°Cを超えてはな
らない。
392,26) N実測値:
C H2,57 7,14 49,40H2,60 7,20 5)4.4’−ビス(2−(3−ニトロフェニル)へキ
サフルオロイソプロピル〕アブベンゼン(■) 2−(4−カルボン酸アミドフェニル)−2−(3−ニ
トロフェニル)−へキサフルオロイソプロピル157g
を13%水性ナトリウムハイポクロライド溶液900
d、50%水酸化ナトリウム溶液150 IIi及びト
リカプリルメチルアンモニウムクロライド5mからなる
混合物中に0乃至5°Cに於いて導入した。懸濁液を2
4時間攪拌し、その際反応温度は50°Cを超えてはな
らない。
反応混合物を稀釈酢酸で中和し、固体をろ別しそして水
で洗浄した。乾燥した粗生成物(149g)の再結晶後
、融点185〜187°Cを存する固体61gが得られ
た。母液の後処理は更に生酸物14gを与えた。
で洗浄した。乾燥した粗生成物(149g)の再結晶後
、融点185〜187°Cを存する固体61gが得られ
た。母液の後処理は更に生酸物14gを与えた。
収率:15gC理論値の52%)。
’HNMR(CDCl2 ) σ(ppm) :
7.5−8.Os 12 H。
7.5−8.Os 12 H。
白、3−8.4 ta 4 H
”F NMR(CDCI s) σ(ppm) ニー6
4.15IR(KBr ペレット) : 1
140−1260 cm+−’Ch 、1350 及
び 1540 cm−’ N(h C1゜ll+iF+J40n計算値: C49,73I
I 2.23(724,46)
N 7.73実測値:C49゜60H2,4O N7.50 6)2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフ
ェニル)へキサフルオロプロピル(n) 4.4′−ビス−(2−(3−ニトロフェニル)へキサ
フルオロプロピルゴーアゾベンゼン74.2gをエチル
アセテート600 d中に溶解し、Pd Ig/C5
%の添加後オートクレーブ中で水素(100バール)に
よりまず25°Cに於いてそして反応が低下したとき1
00 ”Cに於いて還元した。ろ過による触媒の除去後
溶剤を分離した。残留物を稀釈塩酸で抽出し、活性炭で
処理した。これから得られた無色のろ液を半濃厚なアン
モニア溶液で中和した。この場合分離した沈澱をろ別し
、水で洗浄しそして一定重量に乾燥した。
4.15IR(KBr ペレット) : 1
140−1260 cm+−’Ch 、1350 及
び 1540 cm−’ N(h C1゜ll+iF+J40n計算値: C49,73I
I 2.23(724,46)
N 7.73実測値:C49゜60H2,4O N7.50 6)2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフ
ェニル)へキサフルオロプロピル(n) 4.4′−ビス−(2−(3−ニトロフェニル)へキサ
フルオロプロピルゴーアゾベンゼン74.2gをエチル
アセテート600 d中に溶解し、Pd Ig/C5
%の添加後オートクレーブ中で水素(100バール)に
よりまず25°Cに於いてそして反応が低下したとき1
00 ”Cに於いて還元した。ろ過による触媒の除去後
溶剤を分離した。残留物を稀釈塩酸で抽出し、活性炭で
処理した。これから得られた無色のろ液を半濃厚なアン
モニア溶液で中和した。この場合分離した沈澱をろ別し
、水で洗浄しそして一定重量に乾燥した。
収量:白色固体の48g(理論値の72%)。
融点:142〜143°C0
’HNMR(CDC13) σ(ppm) :3.7
広幅s 4H16,6−6,9rm 5tl、 7.0−7.2 m 3H ”F NMR(CDC1i ) a(ppa) ニ
ー64.3 sC+sll+zFi N! 計算値
: C53,89113,62(334,27)
F 34.10 N 8.38実
測値: C53,50H3,50 F 33.90 N 8.20 ?) 2−(3−アミノフェニル) −2−(4−カ
ルボキシフェニル)へキサフルオロプロパン 及び 2−(3−アミノフェニル)−2−(4−カルボン酸ア
ミドフェニル)へキサフルオロプロパン対応するアミノ
フェニル化合物が、例6の場合と’144Qlの方法に
於いて2−(4−カルボキシフェニル)−2−(3−ニ
トロフェニル)へキサフルオロプロパン又は2−(4−
カルボン酸アミドフェニル)−2−(3−ニトロフェニ
ル)−へキサフルオロプロパン(VI)から得られた。
広幅s 4H16,6−6,9rm 5tl、 7.0−7.2 m 3H ”F NMR(CDC1i ) a(ppa) ニ
ー64.3 sC+sll+zFi N! 計算値
: C53,89113,62(334,27)
F 34.10 N 8.38実
測値: C53,50H3,50 F 33.90 N 8.20 ?) 2−(3−アミノフェニル) −2−(4−カ
ルボキシフェニル)へキサフルオロプロパン 及び 2−(3−アミノフェニル)−2−(4−カルボン酸ア
ミドフェニル)へキサフルオロプロパン対応するアミノ
フェニル化合物が、例6の場合と’144Qlの方法に
於いて2−(4−カルボキシフェニル)−2−(3−ニ
トロフェニル)へキサフルオロプロパン又は2−(4−
カルボン酸アミドフェニル)−2−(3−ニトロフェニ
ル)−へキサフルオロプロパン(VI)から得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中 Xは水素、NO_2又はNH_2でありそしてYはCH
_3、COOH、CONH_2、HH_2又は−N=N
−Z(式中Zは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、但しYが基−N=N−Zを示すなら、XはNO
_2のみであり、Yが基−CH_3を示すなら、Xは水
素のみである) で示される化合物。 2、一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される化合物。 3、一般式IIの化合物を多段階法で製造する方法に於い
て、 1a)2−(4−メチルフェニル)ヘキサフルオロプロ
パン−2−オールをベンゼンと又は 1b)2−フェニルヘキサフルオロプロパン−2−オー
ルをトルエンと 弗化水素の存在下で縮合させ、 2)得られる2−(4−メチルフェニル)−2−フェニ
ルヘキサフルオロプロパン(III)を酸化 して対応するカルボン酸誘導体(IV)を得、3)(IV)
からニトロ化して2−(4−カルボキシフェニル)−2
−(3−ニトロフェニル)ヘキサフルオロプロパン(V
)を得、次に 4)これを、アミドスルホン酸との反応により2−(4
−カルボキシアミドフェニル)−2−(3−ニトロフェ
ニル)ヘキサフルオロプロパン(VI)に変え、 5)(VI)からアルカリ性媒体中でのアルカリ金属ハイ
ポハライド溶液との反応により 4,4′−ビス〔2−(3−ニトロフェニル)ヘキサフ
ルオロイソプロピル〕アゾベンゼン (VII)を生成し、次に 6)生成物を還元して2−(3−アミノフェニル)−2
−(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロパン(II)を
得ることを特徴とする方法。 4、わずかな量の2−(3−ニトロフェニル)−2−(
4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン(VIIa
)を段階5)に於いて化合物(VII)のほかに生成する
、請求項3記載の方法。 5、段階6)に於ける還元を週期表の遷移金属特に第V
III副族の少なくとも1種の金属の水素添加触媒により
接触的に又は化学量論的方法により実施する、請求項3
記載の方法。 6、化合物(V)、(VI)及び(VIIa)を段階(6)
により還元して対応するアミノ化合物を得る、請求項3
乃至5の何れか一つに記載の方法。 7、化合物(III)の酸化を120乃至220℃の温度
に於いて5乃至40バールの圧力下金属Co及びMnの
化合物及び臭化物イオンからなる混合物の存在下酸性有
機媒体中に大気酸素を導通することにより実施する、請
求項3記載の方法。 8、コバルト対マンガンの比率が3:1乃至1:3好ま
しくは1:1であり、その際二元素コバルト及びマンガ
ンの濃度の合計が全反応組成物1Kg当たり0.01〜
0.20g原子好ましくは0.02〜0.12特に0.
04〜0.08g原子である、請求項7記載の方法。 9、触媒が付加的金属イオンとしてのセリウムを1:0
.02〜2好ましくは1:0.05〜1特に1:0.2
〜0.6の、コバルト及びマンガンの合計対セリウムの
比率で含有する、請求項7又は8記載の方法。 10、金属イオンをアセテート化合物の形で添加する、
請求項7乃至9の何れか一つに記載の方法。 11、臭素を臭化物の形で又は水又は氷酢酸中の臭化水
素の溶液として使用する請求項7乃至10の何れか一つ
に記載の方法。 12、線状ポリカルボン酸アミド又はイミドの製造に請
求項2記載の化合物を使用する方法。 13、成形体、フィルム及び繊維を製造する請求項12
記載の使用法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3833338A DE3833338A1 (de) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | Fluorhaltige monomere, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
| DE3833338.4 | 1988-09-30 | ||
| US08/093,932 US5288908A (en) | 1988-09-30 | 1993-07-19 | Process for the preparation of fluorine containing monomers |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02209849A true JPH02209849A (ja) | 1990-08-21 |
Family
ID=25872753
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1252460A Pending JPH02209849A (ja) | 1988-09-30 | 1989-09-29 | 弗素を含有する単量体、その製法及び用途 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5288908A (ja) |
| EP (1) | EP0361486B1 (ja) |
| JP (1) | JPH02209849A (ja) |
| CN (1) | CN1023118C (ja) |
| DE (1) | DE3833338A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4022997A1 (de) * | 1989-07-19 | 1991-01-31 | Central Glass Co Ltd | Asymmetrische 2,2-bisarylhexafluorpropane und verfahren zu ihrer herstellung |
| DE4020184A1 (de) * | 1990-06-25 | 1992-01-02 | Hoechst Ag | Teilfluorierte biphenyle, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
| JP3351065B2 (ja) * | 1993-10-29 | 2002-11-25 | 日本メクトロン株式会社 | 2,2−ジフェニルヘキサフルオロプロパン類の製造法 |
| US5637772A (en) * | 1995-09-22 | 1997-06-10 | Aerojet General Corporation | Fluorinated diamines and polymers formed therefrom |
| CN114230791B (zh) * | 2021-12-29 | 2023-10-24 | 山东华夏神舟新材料有限公司 | 本征型低介电含氟聚酰亚胺薄膜及其制备方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3310573A (en) * | 1963-06-17 | 1967-03-21 | Du Pont | Diaryl fluoro compounds |
| US3356648A (en) * | 1966-10-13 | 1967-12-05 | Du Pont | Polyamide-acids and polyimides from hexafluoropropylidine bridged diamine |
| US4370501A (en) * | 1981-10-05 | 1983-01-25 | Hughes Aircraft Company | Synthesis of bis(aminophenyl) compounds |
| DE3526010A1 (de) * | 1984-07-20 | 1986-01-30 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd., Tokio/Tokyo | In organischen loesungsmitteln loesliches polyimid und verfahren zu seiner herstellung |
| US4645824A (en) * | 1985-11-25 | 1987-02-24 | Hughes Aircraft Company | Method of preparing high molecular weight polyimide, product and use |
| US4711964A (en) * | 1986-05-08 | 1987-12-08 | University Of Dayton | Bisdiene from bis-benzocyclobutene compound |
| US4758380A (en) * | 1986-10-29 | 1988-07-19 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Substituted 1,1,1-triaryl-2,2,2-trifluoroethanes and processes for their synthesis |
| US4952669A (en) * | 1988-09-30 | 1990-08-28 | Hoechst Celanese Corp. | Copolyimides prepared from 2-(3-aminophenyl)-2-(4-aminophenyl) Hexafluoro propane |
-
1988
- 1988-09-30 DE DE3833338A patent/DE3833338A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-09-28 CN CN89107560.7A patent/CN1023118C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1989-09-28 EP EP89117996A patent/EP0361486B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-29 JP JP1252460A patent/JPH02209849A/ja active Pending
-
1993
- 1993-07-19 US US08/093,932 patent/US5288908A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1023118C (zh) | 1993-12-15 |
| EP0361486A1 (de) | 1990-04-04 |
| EP0361486B1 (de) | 1993-03-03 |
| CN1041358A (zh) | 1990-04-18 |
| US5288908A (en) | 1994-02-22 |
| DE3833338A1 (de) | 1990-05-31 |
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