JPH02211112A - マイクロ波吸収発熱性調理容器 - Google Patents
マイクロ波吸収発熱性調理容器Info
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- JPH02211112A JPH02211112A JP3249889A JP3249889A JPH02211112A JP H02211112 A JPH02211112 A JP H02211112A JP 3249889 A JP3249889 A JP 3249889A JP 3249889 A JP3249889 A JP 3249889A JP H02211112 A JPH02211112 A JP H02211112A
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- JP
- Japan
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- microwave
- cooking container
- heat generation
- heat
- absorbing
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
この発明は、マイクロ波吸収発熱性調理容器に関し、こ
とに調理原料を電子レンジで焦げ目を付けて焼き上げる
ために用いられる。
とに調理原料を電子レンジで焦げ目を付けて焼き上げる
ために用いられる。
(ロ)従来の技術
従来、電子レンジはマグネトロンから放射されたマイク
ロ波をオーブン庫内に導いて調理原料に照射し、調理原
料を発熱させて調理を行うので、焦げ目をつけて焼き上
げる調理に適さなかった。
ロ波をオーブン庫内に導いて調理原料に照射し、調理原
料を発熱させて調理を行うので、焦げ目をつけて焼き上
げる調理に適さなかった。
そこで、」:記オーブン庫内にシーズヒータを配備し、
マイクロ波以外に上記シーズヒータから放射される熱を
利用して調理原料の加熱を行うようにした電子レンジが
開発されたが熱源としてマグネトロンとシーズヒータの
2種類の加熱手段を設けなければならないことから、コ
ストアップの要因となると共に、構成が複雑化し、装置
全体が大型化するという問題点があった。
マイクロ波以外に上記シーズヒータから放射される熱を
利用して調理原料の加熱を行うようにした電子レンジが
開発されたが熱源としてマグネトロンとシーズヒータの
2種類の加熱手段を設けなければならないことから、コ
ストアップの要因となると共に、構成が複雑化し、装置
全体が大型化するという問題点があった。
近年、マイクロ波の照射により発熱する発熱物質(例え
ば炭化珪素やフエライl−)と無機断熱基材(例えばガ
ラスやセラミック)とを接合形成して2重構造としたプ
レートからなる発熱体や炭化珪素系セラミック成形板の
発熱体、さらにマイクロ波透過性のガラス、陶磁器、セ
ラミックスの表面にマイクロ波吸収発熱性の電気伝導性
金回酸化物薄膜を形成しマイクロ波の照射のみで誘電加
熱と熱放射による加熱の両方を行うことができる発熱体
が開発されている。
ば炭化珪素やフエライl−)と無機断熱基材(例えばガ
ラスやセラミック)とを接合形成して2重構造としたプ
レートからなる発熱体や炭化珪素系セラミック成形板の
発熱体、さらにマイクロ波透過性のガラス、陶磁器、セ
ラミックスの表面にマイクロ波吸収発熱性の電気伝導性
金回酸化物薄膜を形成しマイクロ波の照射のみで誘電加
熱と熱放射による加熱の両方を行うことができる発熱体
が開発されている。
(ハ)発明が解決しようとする課題
マイクロ波を透過しない金属製の製パン容器の外表面(
外周全体)にマイクロ波吸収発熱性を呈するSIC,フ
ェライト等の材料をコーティングしたマイクロ波吸収発
熱性製パン容器に収納されたパン用原料を電子レンジ内
でマイクロ波を照射することにより150〜160℃に
加熱して焦げ目をつけてパンを焼き上げるホームベーカ
リ−用単機能型電子レンジが製品化されている。近年、
さらに冷凍食品に焦げ目をつける電子レンジの調理法が
普及してきていることから、マイクロ波で発熱する温度
が高温化してきており、例えば小型から大型までの冷凍
ピザを焼くために、3分位の短時間で400〜500℃
に発熱するマイクロ波吸収発熱性調理容器が要望されて
いるが、前記従来のマイクロ波吸収発熱性調理容器は、
例えば直径200〜300mm。
外周全体)にマイクロ波吸収発熱性を呈するSIC,フ
ェライト等の材料をコーティングしたマイクロ波吸収発
熱性製パン容器に収納されたパン用原料を電子レンジ内
でマイクロ波を照射することにより150〜160℃に
加熱して焦げ目をつけてパンを焼き上げるホームベーカ
リ−用単機能型電子レンジが製品化されている。近年、
さらに冷凍食品に焦げ目をつける電子レンジの調理法が
普及してきていることから、マイクロ波で発熱する温度
が高温化してきており、例えば小型から大型までの冷凍
ピザを焼くために、3分位の短時間で400〜500℃
に発熱するマイクロ波吸収発熱性調理容器が要望されて
いるが、前記従来のマイクロ波吸収発熱性調理容器は、
例えば直径200〜300mm。
厚み1〜【01の凹状容器に出力500wのマイクロ波
を3分間照射しても、300℃の発熱温度が限度であっ
た。
を3分間照射しても、300℃の発熱温度が限度であっ
た。
この発明は、前記従来の問題を解決するためになされた
ものであり、3分間位の短時間で400〜500℃に発
熱するマイクロ波吸収発熱性調理容器を提供しようとす
るものである。
ものであり、3分間位の短時間で400〜500℃に発
熱するマイクロ波吸収発熱性調理容器を提供しようとす
るものである。
(ニ)課題を解決するための手段
この発明者は、3分間位の短時間で450〜500°C
に発熱するマイクロ波吸収発熱性調理容器を提供するた
め、セラミックの調理容器基材について鋭意研究を行っ
たところ、緻密質のリチア系セラミックの表面に形成し
たマイクロ波吸収発熱性金属酸化膜は、7(を気任導度
が著しく高いという事実を見出し、この発明に至った。
に発熱するマイクロ波吸収発熱性調理容器を提供するた
め、セラミックの調理容器基材について鋭意研究を行っ
たところ、緻密質のリチア系セラミックの表面に形成し
たマイクロ波吸収発熱性金属酸化膜は、7(を気任導度
が著しく高いという事実を見出し、この発明に至った。
この発明によれば、緻密質のリチア系セラミックの調理
容器基材面に、マイクロ波吸収発熱性金属酸化物膜を有
してなるマイクロ波吸収発熱性調理容器が提供される。
容器基材面に、マイクロ波吸収発熱性金属酸化物膜を有
してなるマイクロ波吸収発熱性調理容器が提供される。
O4記緻密質のリチア系セラミックの調理容器基材は、
例えば、リチアキ石、ペタル石、ユークリプタイト、ベ
ニウンモ、チンワルドウンモ、マナンドナイト、トリフ
イル石、リシオフィライト、アンブリゴ石、フレモンタ
イト、シラフラー石等のリヂウム鉱物、この中でも好ま
しくはリヂアギ石、ペタル石を用い、これを粉砕して得
られる平均粒径、通常1.0〜3.0μmの粉末に、例
えばポリビニルアルコール、メチルセルロース等のバイ
ンダー及び水を配合して混練、圧練を行って混練上とし
、この混練上を押出成形機又は圧縮成形機等の成形機を
用いて所定形状に成形し、次に形くずれしないように枠
にはめた状態で、通常500℃以下の温度で乾燥し、バ
インダーを蒸発又は燃焼さU゛て除去し、この後、通常
500〜1300℃の温度で焼成して、βスボジウメン
組織を主成分としかつ緻密な成形体を作製して用いるこ
とができる。前記混練上は、通常nQ記リすウ11鉱物
の粉末を90〜110fTfm部、前記バインダーを2
0〜30重量部、水を20〜30重臣部、本節粘土、カ
オリン等の他の鉱物を3〜7重量部を混合して作製ずろ
ことができる。
例えば、リチアキ石、ペタル石、ユークリプタイト、ベ
ニウンモ、チンワルドウンモ、マナンドナイト、トリフ
イル石、リシオフィライト、アンブリゴ石、フレモンタ
イト、シラフラー石等のリヂウム鉱物、この中でも好ま
しくはリヂアギ石、ペタル石を用い、これを粉砕して得
られる平均粒径、通常1.0〜3.0μmの粉末に、例
えばポリビニルアルコール、メチルセルロース等のバイ
ンダー及び水を配合して混練、圧練を行って混練上とし
、この混練上を押出成形機又は圧縮成形機等の成形機を
用いて所定形状に成形し、次に形くずれしないように枠
にはめた状態で、通常500℃以下の温度で乾燥し、バ
インダーを蒸発又は燃焼さU゛て除去し、この後、通常
500〜1300℃の温度で焼成して、βスボジウメン
組織を主成分としかつ緻密な成形体を作製して用いるこ
とができる。前記混練上は、通常nQ記リすウ11鉱物
の粉末を90〜110fTfm部、前記バインダーを2
0〜30重量部、水を20〜30重臣部、本節粘土、カ
オリン等の他の鉱物を3〜7重量部を混合して作製ずろ
ことができる。
+iir記焼成は、通常500〜600℃から1220
〜1300℃まで徐々に昇温して、通常45〜55時間
行うのがよく、少なくとも1220℃〜1300℃の温
度で、通常3〜5時間保持して行うのが適している。
〜1300℃まで徐々に昇温して、通常45〜55時間
行うのがよく、少なくとも1220℃〜1300℃の温
度で、通常3〜5時間保持して行うのが適している。
この発明におけるマイクロ波吸収発熱性金属酸化物膜は
、調理容器に収容された調理原料を加熱するためのもの
であって、通常102〜103Ω/cm”の面積抵抗率
を有し、マイクロ波を吸収して発熱することができ、通
常0.1〜!μmの膜厚を有するのが適しており、例え
ば酸化スズ、酸化アンチモン、フヱライ!・等を、この
中でも好ましくは酸化スズを用いて前記リチア系セラミ
ックの堪j理容器基材面に蒸着法又はゾルコーティング
法等によって形成することができる。また前記マイク【
1波吸収発熱性金属酸化物膜は、前記リチア系セラミッ
クの調理容器基材面上に、直接接して形成してらよいが
、耐熱性黒色顔料層を介在させて形成する方がマイクロ
波の照射によってマイクロ波吸収発熱性調理容器から放
射される赤外線が、加熱効率の寄与率の高い1〜4μm
の波長の赤外線をより多く含むので調理原料を効率よく
かつ程よい色調に焦げ1]を付けて焼き上げることがで
きるので好ましい。
、調理容器に収容された調理原料を加熱するためのもの
であって、通常102〜103Ω/cm”の面積抵抗率
を有し、マイクロ波を吸収して発熱することができ、通
常0.1〜!μmの膜厚を有するのが適しており、例え
ば酸化スズ、酸化アンチモン、フヱライ!・等を、この
中でも好ましくは酸化スズを用いて前記リチア系セラミ
ックの堪j理容器基材面に蒸着法又はゾルコーティング
法等によって形成することができる。また前記マイク【
1波吸収発熱性金属酸化物膜は、前記リチア系セラミッ
クの調理容器基材面上に、直接接して形成してらよいが
、耐熱性黒色顔料層を介在させて形成する方がマイクロ
波の照射によってマイクロ波吸収発熱性調理容器から放
射される赤外線が、加熱効率の寄与率の高い1〜4μm
の波長の赤外線をより多く含むので調理原料を効率よく
かつ程よい色調に焦げ1]を付けて焼き上げることがで
きるので好ましい。
前記耐熱性黒色顔料層は、前記リチア系セラミックの調
理容器基材の内面上又は外面上又は内外両面上のいずれ
かに、例えば遷移金属の酸化物から成る耐熱黒色顔料粉
末と無機バインダー等からなる塗布液を、例えば印刷法
、吹付は法、浸漬法等で塗布し、乾燥後、通常1100
〜1250℃で焼成して、通常膜厚20〜100μmに
形成することができる。前記塗布液は、例えば銅、クロ
ム、マンガン、コバルト等の遷移金属の酸化物系耐熱黒
色顔料を25〜35重量部、例えばAQtOs Bt
us 5ift系(軟化点900℃) 、LitO+
hatos 5iot系(軟化点1100℃)等
の低熱膨張率の無機バインダーを90〜110重量部、
例えばエチルセルロース、テルピネオール等の粘結剤を
5〜15重量部、この低粘度調整剤、界面活性剤等を少
はと水50〜80重li1部を添加して作製することが
できる。
理容器基材の内面上又は外面上又は内外両面上のいずれ
かに、例えば遷移金属の酸化物から成る耐熱黒色顔料粉
末と無機バインダー等からなる塗布液を、例えば印刷法
、吹付は法、浸漬法等で塗布し、乾燥後、通常1100
〜1250℃で焼成して、通常膜厚20〜100μmに
形成することができる。前記塗布液は、例えば銅、クロ
ム、マンガン、コバルト等の遷移金属の酸化物系耐熱黒
色顔料を25〜35重量部、例えばAQtOs Bt
us 5ift系(軟化点900℃) 、LitO+
hatos 5iot系(軟化点1100℃)等
の低熱膨張率の無機バインダーを90〜110重量部、
例えばエチルセルロース、テルピネオール等の粘結剤を
5〜15重量部、この低粘度調整剤、界面活性剤等を少
はと水50〜80重li1部を添加して作製することが
できる。
(ホ)作用
緻密なリチア系セラミック組織が、表面に、高電気伝導
度の酸化スズ層を容易に形成さU・、温度上昇とともに
電気抵抗が低下してマイクロ波吸収発熱性金属酸化物膜
にマイクロ波吸収表面電流を流し易くし、その熱絶縁性
によってマイクロ波吸収発熱温度を」ユ界させ、多くの
遠赤外線を放射して被調理物の焦げ目付けを促進する。
度の酸化スズ層を容易に形成さU・、温度上昇とともに
電気抵抗が低下してマイクロ波吸収発熱性金属酸化物膜
にマイクロ波吸収表面電流を流し易くし、その熱絶縁性
によってマイクロ波吸収発熱温度を」ユ界させ、多くの
遠赤外線を放射して被調理物の焦げ目付けを促進する。
(へ)実施例
この発明の実施例を図を用いて説明する。
実施例!
Li、04%以上、^12,0.20%、S i Ot
74%、水分1%以下からなるペタライト(Li、O・
^12ffiO1・8SiOz)の粉末と本節粘土を1
00:5の割合で混合し、平均粒径2μmの混合粉末と
し、この混合粉末100重量部、バインダーのメチルセ
ルロースを22重量部及び水24重量部を混合し、ロー
ル型混練機を用いて混綽、圧練を行い混練上を作製する
。
74%、水分1%以下からなるペタライト(Li、O・
^12ffiO1・8SiOz)の粉末と本節粘土を1
00:5の割合で混合し、平均粒径2μmの混合粉末と
し、この混合粉末100重量部、バインダーのメチルセ
ルロースを22重量部及び水24重量部を混合し、ロー
ル型混練機を用いて混綽、圧練を行い混練上を作製する
。
次に、前記混練上を圧縮成型機を用いて11且状に成形
し、この成形体を、型くずれしないように枠にはめて電
気炉に入れ、2℃/分の昇温速度で室温から500℃ま
で昇温して乾燥し、500℃に1時間保持することによ
りバインダーを焼却除去し、更に500℃から1260
℃まで44時間かけて徐々に昇温し、1260℃に4時
間保持して焼成し、βスボジュウメン組織を主成分とし
た緻密なリチア系セラミックの直径200IIffi、
厚さ3mmの調理容器基材を作製した。
し、この成形体を、型くずれしないように枠にはめて電
気炉に入れ、2℃/分の昇温速度で室温から500℃ま
で昇温して乾燥し、500℃に1時間保持することによ
りバインダーを焼却除去し、更に500℃から1260
℃まで44時間かけて徐々に昇温し、1260℃に4時
間保持して焼成し、βスボジュウメン組織を主成分とし
た緻密なリチア系セラミックの直径200IIffi、
厚さ3mmの調理容器基材を作製した。
次に、塩化第二スズの水溶液にアンモニア水をフェノー
ルフタレインが着色するところまで加えてゲルを生成し
、このゲルを、水洗後退mにアンモニア及び水を加えて
5nOtlO%に調整し、オートクレーブを用いて22
0℃で4時間の水熱処理を行ってSnO*ゲル塗布液を
作製し、この塗布液を第1図に示すように前記リチア系
セラミックの調理容器基材2の裏面中心部に直径120
IIII11の範囲に塗布し、100℃で1時間乾燥後
500℃で30分間焼成を行って、膜厚的1μ■、面積
抵抗率10”〜1G3Ω/cm”のマイクロ波吸収発熱
性酸化スズ膜3を形成し、マイクロ波吸収発熱性調理容
器lを作製した。
ルフタレインが着色するところまで加えてゲルを生成し
、このゲルを、水洗後退mにアンモニア及び水を加えて
5nOtlO%に調整し、オートクレーブを用いて22
0℃で4時間の水熱処理を行ってSnO*ゲル塗布液を
作製し、この塗布液を第1図に示すように前記リチア系
セラミックの調理容器基材2の裏面中心部に直径120
IIII11の範囲に塗布し、100℃で1時間乾燥後
500℃で30分間焼成を行って、膜厚的1μ■、面積
抵抗率10”〜1G3Ω/cm”のマイクロ波吸収発熱
性酸化スズ膜3を形成し、マイクロ波吸収発熱性調理容
器lを作製した。
次に、第2図に示すように前記マイクロ波吸収発熱性調
理容器1をセラミック質のシール接着剤5を用いて皿状
体4に配設してマイク【1波吸収発熱性調理具6を作成
し、このマイクロ波吸収発熱性調理具6を第3図に示ず
ようにマグネトロン7、導波管8、マイクロ波照射口9
、加熱室10からなる電子レンジ11に配設し、出力5
00Wのマイクロ波を照射したところ、第4図に示すよ
うに前記マイクロ波吸収発熱性調理容器1は、照射時間
3分間で450℃に達し、従来のマイクロ波吸収発熱性
調理容器に比べて昔しい発熱性の向上が確認された。
理容器1をセラミック質のシール接着剤5を用いて皿状
体4に配設してマイク【1波吸収発熱性調理具6を作成
し、このマイクロ波吸収発熱性調理具6を第3図に示ず
ようにマグネトロン7、導波管8、マイクロ波照射口9
、加熱室10からなる電子レンジ11に配設し、出力5
00Wのマイクロ波を照射したところ、第4図に示すよ
うに前記マイクロ波吸収発熱性調理容器1は、照射時間
3分間で450℃に達し、従来のマイクロ波吸収発熱性
調理容器に比べて昔しい発熱性の向上が確認された。
実施例2
実施例日こおいて、リチア系セラミックのマイクロ波吸
収発熱性調理容器の裏面全体に、銅酸化物系耐熱黒色顔
料20重量部、AQtOs 11tOs−8i鵠系(
軟化点900℃)のガラスフリット80重量部、エチル
セルロース5重量部、ポリビニルブチラール2ffl量
部、界面活性剤1重量部、ジブチルフタレート5重量部
、テルピネオール3重量部からなる塗布液を印刷法によ
って塗布し、1190℃で焼成して膜厚45gmの耐熱
性黒色被膜を形成し、この耐熱性黒色被膜の上にマイク
ロ波吸収発熱性酸化スズ膜を形成し、この他は実施例1
と同様にしてリチア系セラミックのマイクロ波吸収発熱
性調理容器を作製した。このリチア系セラミックのマイ
クロ波吸収発熱性調理容器は、実施例1と同様に良好な
発熱特性を呈することを確認し、冷凍の大型ピザを効率
よく焦げ目を付けて程よい色調に焼き上げることができ
ることを確認した。
収発熱性調理容器の裏面全体に、銅酸化物系耐熱黒色顔
料20重量部、AQtOs 11tOs−8i鵠系(
軟化点900℃)のガラスフリット80重量部、エチル
セルロース5重量部、ポリビニルブチラール2ffl量
部、界面活性剤1重量部、ジブチルフタレート5重量部
、テルピネオール3重量部からなる塗布液を印刷法によ
って塗布し、1190℃で焼成して膜厚45gmの耐熱
性黒色被膜を形成し、この耐熱性黒色被膜の上にマイク
ロ波吸収発熱性酸化スズ膜を形成し、この他は実施例1
と同様にしてリチア系セラミックのマイクロ波吸収発熱
性調理容器を作製した。このリチア系セラミックのマイ
クロ波吸収発熱性調理容器は、実施例1と同様に良好な
発熱特性を呈することを確認し、冷凍の大型ピザを効率
よく焦げ目を付けて程よい色調に焼き上げることができ
ることを確認した。
比較例1
実施例1において、混練上成形体を1260℃まで昇温
する代りに1150℃まで昇温し、1150℃で4時間
保持して焼成し、この他は実施例!と同様にしてマイク
ロ波吸収発熱性調理容器を作製した。このマイクロ波吸
収発熱性調理容器は、リチア系セラミックスが多孔質で
あり、マイクロ波吸収発熱性酸化スズ膜の面積抵抗率は
107〜10”Q/c+++1であり、出力500Wの
マイクロ波を照射したところ第4図に示すように発熱性
が劣っていた。
する代りに1150℃まで昇温し、1150℃で4時間
保持して焼成し、この他は実施例!と同様にしてマイク
ロ波吸収発熱性調理容器を作製した。このマイクロ波吸
収発熱性調理容器は、リチア系セラミックスが多孔質で
あり、マイクロ波吸収発熱性酸化スズ膜の面積抵抗率は
107〜10”Q/c+++1であり、出力500Wの
マイクロ波を照射したところ第4図に示すように発熱性
が劣っていた。
比較例2
実施例1において、リチア系セラミックの調理容器基材
を用いる代りに、主原料として、Sin、、1to3、
LltOlそれに、ジルコニアなどの結晶核形成剤と若
干の添加物を加えて調合した結晶化ガラス用組成物を約
1700℃の高温で溶融し、−般ガラス同様にプレス成
形加工し、ひずみ抜き徐冷に付して非晶質のガラスとし
、この非晶質ガラスを結晶化用トンネル窯を用いて90
0〜1200℃に加熱焼成して得られた結晶化ガラスを
用い、この他は実施例1と同様にしてマイクロ波吸収発
熱性調理容器を作製した。このマイクロ波吸収発熱性調
理容器は、第4図に示すように発熱性が低かった。
を用いる代りに、主原料として、Sin、、1to3、
LltOlそれに、ジルコニアなどの結晶核形成剤と若
干の添加物を加えて調合した結晶化ガラス用組成物を約
1700℃の高温で溶融し、−般ガラス同様にプレス成
形加工し、ひずみ抜き徐冷に付して非晶質のガラスとし
、この非晶質ガラスを結晶化用トンネル窯を用いて90
0〜1200℃に加熱焼成して得られた結晶化ガラスを
用い、この他は実施例1と同様にしてマイクロ波吸収発
熱性調理容器を作製した。このマイクロ波吸収発熱性調
理容器は、第4図に示すように発熱性が低かった。
(ト)発明の効果
この発明によれば、3分間で400〜500℃に発熱す
るマイクロ波吸収発熱性調理容器を提供することができ
る。この発明のマイクロ波吸収発熱性調理容器を用いる
ことにより、例えば小型から大型までの冷凍ピザを効率
的に焦げ目をつけて焼き上げることができる。
るマイクロ波吸収発熱性調理容器を提供することができ
る。この発明のマイクロ波吸収発熱性調理容器を用いる
ことにより、例えば小型から大型までの冷凍ピザを効率
的に焦げ目をつけて焼き上げることができる。
第1図は、この発明の実施例で作製したマイクロ波吸収
発熱性調理容器の説明図、第2図は、この発明の実施例
で作製したマイクロ波吸収発熱性調理容器によって構成
された調理具の説明図、第3図は、この発明の実施例で
用いた第2図の調理具を電子レンジに配設した説明図、
第4図は、この発明の実施例及び比較例のマイクロ波吸
収発熱性調理容器の発熱性を示すグラフ図である。 1・・・・・・マイクロ波吸収発熱性調理容器、2・・
・・・・リチア系セラミックの調理容器基材、3・・・
・・・マイクロ波吸収発熱性酸化スズ膜、4・・・・・
・皿状体、 5・・・・・・シール接着剤、6・
・・・・・マイクロ波吸収発熱性調理具、7・・・・・
・マグネトロン、訃・・・・・導波管、9・・・・・・
マイクロ波照射口、10・・・・・・加熱室、11・・
・・・・電子レンジ。 第1図 1!2W1 13 図
発熱性調理容器の説明図、第2図は、この発明の実施例
で作製したマイクロ波吸収発熱性調理容器によって構成
された調理具の説明図、第3図は、この発明の実施例で
用いた第2図の調理具を電子レンジに配設した説明図、
第4図は、この発明の実施例及び比較例のマイクロ波吸
収発熱性調理容器の発熱性を示すグラフ図である。 1・・・・・・マイクロ波吸収発熱性調理容器、2・・
・・・・リチア系セラミックの調理容器基材、3・・・
・・・マイクロ波吸収発熱性酸化スズ膜、4・・・・・
・皿状体、 5・・・・・・シール接着剤、6・
・・・・・マイクロ波吸収発熱性調理具、7・・・・・
・マグネトロン、訃・・・・・導波管、9・・・・・・
マイクロ波照射口、10・・・・・・加熱室、11・・
・・・・電子レンジ。 第1図 1!2W1 13 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、緻密質のリチア系セラミックの調理容器基材面に、
マイクロ波吸収発熱性金属酸化物膜を有してなるマイク
ロ波吸収発熱性調理容器。 2、緻密質のリチア系セラミックの調理容器基材面とマ
イクロ波吸収発熱性金属酸化物膜の間に耐熱性黒色被膜
が介在してなる請求項1のマイクロ波吸収発熱性調理容
器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3249889A JPH02211112A (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | マイクロ波吸収発熱性調理容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3249889A JPH02211112A (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | マイクロ波吸収発熱性調理容器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02211112A true JPH02211112A (ja) | 1990-08-22 |
Family
ID=12360661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3249889A Pending JPH02211112A (ja) | 1989-02-10 | 1989-02-10 | マイクロ波吸収発熱性調理容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02211112A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040033869A (ko) * | 2002-10-16 | 2004-04-28 | 권원선 | 전자렌지용 조리용기 및 그 제조방법 |
| CN105734481A (zh) * | 2014-12-10 | 2016-07-06 | 辽宁法库陶瓷工程技术研究中心 | 一种耐高温纳米吸波剂及吸波涂层的制备方法 |
-
1989
- 1989-02-10 JP JP3249889A patent/JPH02211112A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040033869A (ko) * | 2002-10-16 | 2004-04-28 | 권원선 | 전자렌지용 조리용기 및 그 제조방법 |
| CN105734481A (zh) * | 2014-12-10 | 2016-07-06 | 辽宁法库陶瓷工程技术研究中心 | 一种耐高温纳米吸波剂及吸波涂层的制备方法 |
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