JPH02212072A - 平面研磨装置におけるブロック位置決め機構 - Google Patents

平面研磨装置におけるブロック位置決め機構

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JPH02212072A
JPH02212072A JP1030754A JP3075489A JPH02212072A JP H02212072 A JPH02212072 A JP H02212072A JP 1030754 A JP1030754 A JP 1030754A JP 3075489 A JP3075489 A JP 3075489A JP H02212072 A JPH02212072 A JP H02212072A
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center roller
roller
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center
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Shiro Furusawa
古澤 四郎
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体ウェハなどのワークをブロックに保持
させて定盤により研磨加工する平面研磨装置において、
定盤上に供給されるブロックの位置決めを行うためのブ
ロック位置決め機構に関するものである。
[従来の技術] 例えば、シリコンウェハのウェハプロセスは、一般に、
インゴット引き上げ一円筒加工・オリフラ形成−スライ
スー面取り加ニー両面うップ瞬エツチングー片面ポリッ
シュという順番に行われる。
この中で片面ポリッシュは、大きく一次ボリッシュと二
次ポリッシュとに分けられ、それぞれを更に幾つかの工
程に分ける場合がある。
−次ボリッシュでは、ブロックに保持させたウェハに加
圧ヘッドで 200〜400g/am2程度の比較的大
きな荷重を加えて加工し、二次ポリッシュでは、50〜
200g/cm”程度の比較的小さな荷重を加えて加工
するか、これらの加工を行うについては。
重量の大きい複数のブロックを定盤上の定位置ヘセット
しなければならず、その作業が非常に面倒て手数を要す
るばかりでなく、各ブロックに加圧ヘッドをセットする
際にブロックとヘッドとの間に指を挾むなどの危険性が
あり、安全性の面でも問題があった。
そこで、特公昭63−20674号公報に開示されてい
るように、定盤の中央部にセンターローラを配設すると
共に、定盤の周囲に複数のガイドローラを配設し、これ
らのセンターローラとガイドローラとによってブロック
を定盤上の定位置に一個づつ自動的に位置決めしながら
供給できるようにしたものか提案された。
しかしながら、このものは、ワークを加工する際に、ブ
ロックをセンターローラとガイドローラとの摩擦力を利
用して強制的に駆動、回転させるようにしているため、
二次ポリッシュのようにワークを比較的小さな荷重で加
工する場合にはそれほど問題にならないが、−次ボリッ
シュのようにワークを大きな荷重を加えた状態で加工す
る場合には、定盤の内外周の速度差に基づいてブロック
に作用する回転力が非常に大きくなり、センターローラ
及びガイドローラとの摩擦によりブロックに与えられる
回転力だけでは該ブロックの回転をコントロールするこ
とができないという欠点かあった。しかも、ブロックと
の摩擦によりセンターローラに傷や変形等が生じ易く、
それか−旦変形すると、ブロック位置と加圧ヘット位置
との間にずれか生じ、その後のブロックの位置決めに支
承を来したり、ワークの加工精度に影響を及ぼすなと、
自動化を図る上でも大きな問題かあった。
[発明か解決しようとする課題] 本発明の課題は、ブロックの位置決めを簡単且つ確実に
行い得ると共に、その位置決め後には。
該ブロックをセンターローラとの摩擦状態から解放して
、回転する定盤の内外周の周速度の差によって回転する
状態でワークの加工を行い得るようにしたブロック位置
決め機構を提供することにある。
[問題点を解決するための手段] 上記課題を解決するため、本発明のブロック位置決め機
構は、ブロックに保持されたワークを研磨する定盤の中
央部に位置決め位置と加工位置とに回動可能に配設され
、その外周面に、上記位置決め位置において定盤上に供
給されるブロックか当接する当接部と、加工位置におい
て該ブロックから離間する凹部とを備えたセンターロー
ラと:定盤の周囲に所定間隔で配設され、定盤上のブロ
ックをセンターローラとの間で支持する支持位置と、該
ブロックを解放する待機位置とに回動可能なガイドロー
ラと:を備えたものとして構成したことを特徴とするも
のである。
各ガイドローラと対応する位置にブロック検出用のセン
サをガイドローラと連動して回動可能に配設し、ガイド
ローラが支持位置にある場合はセンサがブロック非検出
位置に回動し、ガイドローラが待機位置にある場合はセ
ンサがブロック検出位置に回動するようにして3くこと
により、ガイドローラの位置制御をセンサからの検出信
号によって自動的に行うことができる。
[作 用] センターローラを位置決め位置に保持して定盤上にブロ
ックを一つづつ供給し、定盤を回転させて該ブロックを
移動させると共に、ガイドローラを選択的に支持位置に
回動させて該ブロックをガイドローラとセンターローラ
の出接部とによって順次支持させることにより、各ブロ
ックの位置決めが行われる。
位置決めが終了すると、センターローラが加工位置に回
動し、当接部と凹部との位置が入れ替わるから、該凹部
によってセンターローラとブロックとか離間し、その状
態でワークの研磨加工が行われる。
[実施例コ 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。
第1図及び第2図において、1は機体、2は該機体lに
回転自在に配設されて図示しない駆動源に接続された定
盤、3は鎮定g1zの上部にエアシリンダ4により昇降
自在に配設された複数(実施例では4個)の加圧ヘット
であって、該加圧ヘッド3と同数のブロック5 (第2
図)を定盤z上に載置し、該ブロック5に保持させたワ
ークを各加圧ヘット3で定l112に圧接しながら5回
転する定盤2によってワークを研磨加工するようになっ
ている。
上記定盤2の中央部には、センターローラ7が所定角度
だけ回動可能に配設されている。該センターローラフは
、第3図からも明らかなように、定盤2にボルト8て固
定された内側部材9と、該内側部材9にベアリングlO
を介して相対回転自在に被設された外側部材11とから
なり、該外側部材11の外周部には、定盤Z上に供給さ
れたブロック5を当接させるための円周面からなる当接
部11aと、該ブロック5をセンターローラ7から離間
させるための凹部11bとか、ブロック5と同数ずつ交
互に形成されている。
上記外側部材11の中心穴12内には、機体1に回動自
在且つ昇降自在に支持されたセンターローラ軸13の下
端部か抜脱自在に挿入され、該センターローラ@13上
のフランジ部13aと外側部材11の頂部11cとによ
ってクラッチが形成されており、このクラッチを介して
センターローラ軸13の回転かセンターローラフの外側
部材11に伝達されるようになっている。センターロー
ラ軸13の上端部は、リンク機構15を介して回動用シ
リンダ16に連結されると共に、支持部材17を介して
昇降用シリンダ18に連結され、上記回動用シリンダ1
6でセンターローラ軸13を回動させることにより、セ
ンターローラフか所定角度(図示したものては45度)
回動し、その当接部11aがブロック5に当接する位置
決め位置(第2図)と、凹部l1l)によってブロック
5から離間する加工位置(第5図)とを取ることができ
ると共に、定盤2に貼着したバットの交換時等には、昇
降用シリンダ18でセンターローラ軸13を上昇させる
ことにより該軸13の下端をセンターローラ7から抜き
取り、該センターローラ7を定512から取り外して所
定の作業を行なうようになっている。
また、上記定盤2の周囲には、ブロック5の位置決め用
のガイドローラ 21a〜21dとブロック5を検出す
るセンサ22a〜22dとが、それぞれブロック5に対
応する数だけ配設されている。即ち、第1図、第2図及
び第4図から明らかなように、定盤2の周囲に立設した
4本の支柱23上には、図示しないアームシリンダによ
り回動自在のアーム24が取り付けられ、各アーム24
上に上記ガイドローラ 21a〜21dとセンサ22a
〜22dとが一組ずつ一定の角度で取り付けられており
、アームシリンダの作動により該アーム24が第2図の
実線位置に回動したときは、ガイドローラ 21a〜2
1dか定盤2上に突出してブロック5をセンターローラ
7との間て支持する支持位置を取ると共に、センサ22
a〜22dか定盤2から後退してブロック5の非検出位
置を取り、アーム24が第2図の鎖線位置に回動したと
きは、ガイドローラ 21a〜21dが定盤2上から後
退してブロック5を解放する待機位置を取ると共に、セ
ンサ22a−22dが定512上に突出してブロック5
を検出する検出位置を取るようになっている。
上記ガイドローラ 21a〜21dとセンサ22a〜2
2dとの位置制御は、例えば次のような設定により自動
的に行われるようになっている。即ち、定盤2のブロッ
ク供給位置Aにブロックが供給されて定!12の回転釦
か押された時には、各アーム24がアームシリンダによ
り182図の鎖線位置に回動し、各センサ22a〜22
dが定51z上に突出する検出位置を取ると共に各ガイ
ドローラ21a ヘ21dが待機位置を取り、この状態
でセンサ22a〜22dがブロック5を検出したときに
は、自己の位置より定I12の回転方向側に一つだけ進
んだ位置(後方位置)のアーム24がアームシリンダに
より回動し、その位置のガイドローラが定盤2上に突出
して支持位置を取ると共にセンサが非検出位置を取るよ
うに設定されており、特に、第1のセンサ22aがブロ
ック5を検出したときには、その後方位置の第2のガイ
ドローラ21bだけでなく、自己の位置における第1の
ガイドローラ21aも同時に支持位置を取るようになっ
ている。
なお、上記センサ22a〜22dは、光、超音波、磁気
等を利用する非接触式のものや、その他の接触式のもの
など、如何なる方式のものであっても良いが、この実施
例においては、先端部が下方に折れ曲がり、この先端部
にブロック5が接触したときに該ブロック5を検出する
接触式のリミットスイッチを使用している。
次に、上記構成を有する装置の作用について説明する。
第6図(A)に示すように、各センサ22a〜22dが
定I12上の検出位置にあると共に各ガイドローラ21
a〜21dが待機位置にあり、且つ、センターローラ7
が位置決め位置にある状態で、同図(B)に示すように
、ブロック供給位置Aから定1i2上に一つ目のブロッ
ク5aが供給されて定盤2の回転釦が押されると、同図
(C)に示すように鎮定112が回転してブロック5a
が矢印方向に移動する。そして、第1のセンサ22aが
該ブロック5aを検出すると、同図(D)に示すように
その後方位置にある第2のガイドローラ21bが支持位
置に回動するため、該ブロック5aは、この第2のガイ
ドローラ21bとセンターローラフの当接面11aとに
当接してその位置に支持される。なお、このとき第1の
ガイドローラ21aも支持位置に回動している。
続いて、同図(E)に示すように、定!lzの回転を停
止して2つ目のブロック5bを供給し、定盤2の回転釦
を押すと、支持位置にあった第1及び第2のガイドロー
ラHa、21bが待機位置に移動して1代りに第1及び
第2のセンサ22a、22bが検出位置に復帰しく同図
CF)参照)、定盤2の回転により2つのブロック5a
、5bの搬送が行われる。そして、先ず、一つ目のブロ
ック5aが第2のセンサ22bにより検出されて第3の
ガイドローラ21cか支蒔位置に回動した後、二つ目の
ブロック5bが第1のセンサ22aにより検出されて第
1及び第2のガイドローラ21a、21bが支持位置に
回動するため、各ブロックSa、5bは、同図(G)に
示すようにこれらのガイドローラ21c、21bとセン
ターローラフの当接面11aとに当接してその位置に支
持される。
更に、同図(H)に示すように3つ目のブロック5Cが
供給されると、各ブロック5a、5b、5cは、上述の
ようにして第2〜第4のガイドローラ2]b、21c。
21dとセンターローラフとに支持された状態に位置決
めされる(同図(1)、(J)参照)。
そ、して、4つ目のブロック5dは、同図(K)に示す
ように、手作業によってI81のガイドローラ5dとセ
ンターローラ7とに当接した状態に位置決めされる。
かくして4つのブロック58〜5dの位置決めか終了す
ると、各加圧ヘッド3が下降してブロック5にセットさ
れ、第5図に示すように、各ガイドローラ 21a〜2
1dか待機位置に回動すると共に、センターローラ7か
回動用シリンダ16により所定角度回動じて、凹部11
bによりブロック5から離間する加工位置を取り、その
状態で加工が行われる。このとき、各ブロック58〜5
dには、定盤2の内外周の速度差により回転力が与えら
れる。
なお、上記加工時には、各センサ22a〜22dか検出
位置にあっても、ブロック検出信号が出力されないよう
になっていることは当然である。
上記装置においては、一部の加圧ヘッド3を選択的に使
用して加工を行うこともできる。第7図は、第2及び第
4のガイドローラに対応する2つの加圧ヘッド3.3を
使用して加工する場合のブロックの位置決め方法を示し
ている。この方法において、同図(A)〜(D)に示す
ように、一つ目のブロック5aを供給して第2のガイド
ローラ21bとセンターローラフの当接面1’laとに
当接させて支持させたあと、同図(E)に示すように、
2つ目のブロック5bを供給して定盤2の回転釦を押す
と、支持位置にあった第1及び第2のガイドローラ21
a、21bが待機位置に移動して、代りに第1及び第2
のセンサ22a、22bが検出位置に復帰し、その状態
で定盤2によりブロック5a、5bが送られる(同図(
F)参照)、そして、先ず一つ目のブロック5aが第2
のセンサ22bで検出されて第3のガイドローラ21c
が支持位置に回動し、次いで2つ目のブロック5bが第
1のセンサ22aで検出されて第2のガイドローラ21
bが支持位置に回動するから、同図(G)に示すように
、各ブロック5a、5bはこれらのガイドローラ21c
、21bに当接してその位置に支持される。この状態で
再び定!12の回転釦を押すと、第2のガイドローラ2
1bは支持位置を保持してブロック5bは移動しないか
、第3のガイドローラ21cか待機位置に移動して第3
のセンサ22cが検出位置に回動するため、該第3のセ
ンサ22cがブロック5aを検出して第4のガイドロー
ラ21dか支持位置に回動しく同図(H)参照)、該ブ
ロック5aか第4のガイドローラ21dに当接してその
位置に支持される。このときの状態を同図(りに示して
いる。
かくして2つのブロック5が位置決めされた後、それに
対応する加圧ヘット3によって加工か行われる。この場
合にも、センターローラ7が加工位置を取り、且つ各ガ
イドローラか待機位置を取ることは言うまでもない。
[発明の効果] 上記構成を有する本発明によれば、センターローラに凹
部を設けたので、ブロックを位置決めした後該センター
ローラを所定角度回動させるだけで、該センターローラ
をブロックと離間させることができ、これにより、ブロ
ックをセンターローラから切り離して該センターローラ
との摩擦状態から解放し、定盤の内外周の周速度の差に
よって回転させながらワークの加工を行うことができる
。従って、ブロックによってセンターローラやガイドロ
ーラを傷付けたり変形させることがなく、精度の良い加
工を行うことかできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す部分破断側面図、第2
図はその要部拡大平面図、第3図は同要部拡大断面図、
第4図は同要部拡大側面図、第5図は異なる動作状態を
示す第2図と同位置での要部平面図、第6図 (^)〜
(K)はブロックの位置決め方法の一例を示す説明図、
第7図 (A)〜(1)はブロックの位置決め方法の他
側を示す説明図である。 2 ・定盤、 1a 22a ・ブロック、 ・センターローラ、 〜21d ・・ガイドローラ、 〜22d・・センサ。 特 許 出 願 人 スピードファム株式会社 第 図 第 図 (A) 第71 (B) 第 図 (K) (C”) tb

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ブロックに保持されたワークを研磨する定盤の中央
    部に位置決め位置と加工位置とに回動可能に配設され、
    その外周面に、上記位置決め位置において定盤上に供給
    されるブロックに当接する当接部と、加工位置において
    該ブロックから離間する凹部とを備えたセンターローラ
    と、 定盤の周囲に所定間隔で配設され、定盤上のブロックを
    センターローラとの間で支持する支持位置と、該ブロッ
    クを解放する待機位置とに回動可能なガイドローラと、 を備えていることを特徴とする平面研磨装置におけるブ
    ロック位置決め機構。 2、各ガイドローラと対応する位置に該ガイドローラと
    連動して回動可能に配設され、ガイドローラが支持位置
    にある場合はブロック非検出位置に回動し、ガイドロー
    ラが待機位置にある場合はブロック検出位置に回動する
    ブロック検出用のセンサを有することを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載の平面研磨装置におけるブロック
    位置決め機構。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003039314A (ja) * 2001-07-25 2003-02-13 Fujikoshi Mach Corp 研磨装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003039314A (ja) * 2001-07-25 2003-02-13 Fujikoshi Mach Corp 研磨装置

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