JPH02212468A - 置換された2―フエニル―2,2―ジフルオロエチルチオールカーボネート、その製造方法及び病害菌防除用としての利用 - Google Patents
置換された2―フエニル―2,2―ジフルオロエチルチオールカーボネート、その製造方法及び病害菌防除用としての利用Info
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Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
- A01N47/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid
- A01N47/02—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid the carbon atom having no bond to a nitrogen atom
- A01N47/06—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid the carbon atom having no bond to a nitrogen atom containing —O—CO—O— groups; Thio analogues thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C329/00—Thiocarbonic acids; Halides, esters or anhydrides thereof
- C07C329/02—Monothiocarbonic acids; Derivatives thereof
- C07C329/04—Esters of monothiocarbonic acids
- C07C329/06—Esters of monothiocarbonic acids having sulfur atoms of thiocarbonic groups bound to acyclic carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
- C07D333/26—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D333/38—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規置換2−フェニル−2,2−ジフルオロエ
チルチオールカーボネート、その製造方法、及び病害菌
、特に黴を防除するためのその使用に関する。
チルチオールカーボネート、その製造方法、及び病害菌
、特に黴を防除するためのその使用に関する。
除草的性質を有する2−フェニル−2,2−ジフルオロ
エチルチオールカルバメートは既に開示されている(ド
イツ特許公開公報DE−OS第3゜341.515号及
びDE−OS第3.341,516号参照)。更に2.
5−ビス−(アルコキシ−カルボニル)−3,4−ビス
−(アシルオキシ)−チオフェン及び2.5−ビス−(
アルコキシ−カルボニル)−3−アルキル−4−アシル
オキシチオフェンが殺黴的性質を有することが見出され
た(欧州特許第32.748号及び欧州特許第93.3
84号参照)。
エチルチオールカルバメートは既に開示されている(ド
イツ特許公開公報DE−OS第3゜341.515号及
びDE−OS第3.341,516号参照)。更に2.
5−ビス−(アルコキシ−カルボニル)−3,4−ビス
−(アシルオキシ)−チオフェン及び2.5−ビス−(
アルコキシ−カルボニル)−3−アルキル−4−アシル
オキシチオフェンが殺黴的性質を有することが見出され
た(欧州特許第32.748号及び欧州特許第93.3
84号参照)。
更にT、ワダ(Wada)等、第10回植物保護国際会
議(10th Intern、 Congress o
f Plant Pr1taction)議事録、20
.−25.11.1983、ブライトン(Bright
on)、1巻、400−407に記載された、2.5−
ビス−(インプロポキシカルボニル)−3−メチル−4
−(3−メチルベンゾイルオキシ)−チオフェンにも言
及しなければならない。
議(10th Intern、 Congress o
f Plant Pr1taction)議事録、20
.−25.11.1983、ブライトン(Bright
on)、1巻、400−407に記載された、2.5−
ビス−(インプロポキシカルボニル)−3−メチル−4
−(3−メチルベンゾイルオキシ)−チオフェンにも言
及しなければならない。
更に例えば2,5−ビス−(イソプロポキシカルボニル
)−4−メチル−3−(3−トリフルオロメチルチオベ
ンゾイルオキシ)−チオフェンのような殺黴的性質を有
するアシルチオフェン誘導体が開示された(ドイツ特許
公開公報DE−OS第3,402.625号参照)。
)−4−メチル−3−(3−トリフルオロメチルチオベ
ンゾイルオキシ)−チオフェンのような殺黴的性質を有
するアシルチオフェン誘導体が開示された(ドイツ特許
公開公報DE−OS第3,402.625号参照)。
一般式(I)
上式中
R1は水素、アルコキシカルボニル、アルコキシアルコ
キシカルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル、
ハロゲノアルコキシカルボニル、シアノアルコキシカル
ボニル、アルケノキシカルボニル、アルキノキシカルボ
ニル、及びシクロアルキルオキシカルボニルを表し、又
はシクロアルキルアルコキシカルボニルを表し、 R1は水素又はアルキルを表し、又はフェニルを表し、
又は R1とR1は共にブタジェン−1,4−ジイル残基を表
し、 R3はアルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチ
オアルコキシ、フルオロアルコキシ、シアノアルコキシ
、アルケノキシ、アルキノキシ、シクロアルキルオキシ
及びシクロアルキルアルコキシを表し、又は下記基 / N \ R″ 上式中 R4はアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオア
ルキル、シアノアルキル、フルオロアルキル、アルケニ
ル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、 R1は水素、アルキル、アルコキシアルキル、アルキル
チオアルキル、フルオロアルキル、シアノアルキル、ア
ルケニル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、又は R4とRSは結合している窒素原子と共に未置換の又は
置換された複素環式環を表し、そのアルキレン鎖が更に
ペテロ原子によって置換されていてもよい、 を表し、 R6は水素、メチル又は塩素を表し、及びQは硫黄又は
−CH−CH−を表す、 の新規な置換された2−フェニル−2,2−ジフルオロ
エチルチオールカーボネートが見出された。
キシカルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル、
ハロゲノアルコキシカルボニル、シアノアルコキシカル
ボニル、アルケノキシカルボニル、アルキノキシカルボ
ニル、及びシクロアルキルオキシカルボニルを表し、又
はシクロアルキルアルコキシカルボニルを表し、 R1は水素又はアルキルを表し、又はフェニルを表し、
又は R1とR1は共にブタジェン−1,4−ジイル残基を表
し、 R3はアルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチ
オアルコキシ、フルオロアルコキシ、シアノアルコキシ
、アルケノキシ、アルキノキシ、シクロアルキルオキシ
及びシクロアルキルアルコキシを表し、又は下記基 / N \ R″ 上式中 R4はアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオア
ルキル、シアノアルキル、フルオロアルキル、アルケニ
ル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、 R1は水素、アルキル、アルコキシアルキル、アルキル
チオアルキル、フルオロアルキル、シアノアルキル、ア
ルケニル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、又は R4とRSは結合している窒素原子と共に未置換の又は
置換された複素環式環を表し、そのアルキレン鎖が更に
ペテロ原子によって置換されていてもよい、 を表し、 R6は水素、メチル又は塩素を表し、及びQは硫黄又は
−CH−CH−を表す、 の新規な置換された2−フェニル−2,2−ジフルオロ
エチルチオールカーボネートが見出された。
更に一般式(D
上式中
R1は水素、アルコキシカルボニル、アルコキシアルコ
キシカルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル ニル、シアノアルコキシカルボニル、アルケノキシカル
ボニル、アルキノキシカルボニル、及びシクロアルキル
オキシカルボニルを表し、又はシクロアルキルアルコキ
シカルボニルを表し、 R2は水素又はアルキルを表し、又はフェニルを表し、
又は R1とR2は共にブタジェン−1.4−ジイル残基を表
し、 RSはアルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチ
オアルコキシ、フルオロアルコキシ、シアノアルコキシ
、アルケノキシ、アルキノキシ、シクロアルキルオキシ
及びシクロアルキルアルコキシを表し、又は下記基 / N \ R″ 上式中 R4はアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオア
ルキル、シアノアルキル、フルオロアルキル、アルケニ
ル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、 R5は水素、アルキル、アルコキシアルキル、アルキル
チオアルキル、フルオロアルキル、シアノアルキル、ア
ルケニル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、又は R4とR1は結合している窒素原子と共に未置換の又は
置換された複素環式環を表し、そのアルキレン鎖が更に
ヘテロ原子によって置換されていてもよく、 R6は水素、メチル又は塩素を表し、及びQは硫黄又は
−〇H−CH−を表す、 の新規な置換された2−フェニル−2,2−ジフルオロ
エチルチオールカーボネートが、a)下記−最大(n) 上式中 piは上記と同じ意味を有し、 Xは例えばハロゲンのような脱離(leaving)基
を表す、 のアシル化剤と反応させることにより、又はb)式(n
)の化合物を最初に第三有機塩基の存在においてホスゲ
ンと反応させ、及び得られる式上式中 R1,H!、R1及びQは上記と同じ意味を有し、又は
そのアンモニウム、アルカリ金属又はアルカリ土類金属
塩を表す、 の芳香族又はヘテロ芳香族ヒドロキシル化合物を、式(
DI) 上式中 R1,H!、R3及びQは上記の意味を有する、のクロ
ロカルボニルオキシ−芳香族化合物又はクロロカルボニ
ルオキシ−へテロ芳香族化合物を次いで式(V) 上式中 R6は上記の意味を有する、 の2−フェニル−2,2−ジフルオロエチル−メルカプ
タンと有機又は無機塩基の存在において、及び溶剤及び
希釈剤の存在において反応させることにより、又は C)式(I)において R1がアルキル又はフェニルを表し、 Qが硫黄を表し、 R@が水素、メチル又は塩素を表し、及びR1及び−C
OR’が異なる残基を有するエステル基である場合には
、式(II a) アノアルコキシカルボニル、アルケノキシカルボニル、
アルキノキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボ
ニル又はシクロアルキルオキシアルコキシ力ルボニルヲ
表し、 R1がアルキル又はフェニルを表し、及びR31がアル
コキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチオアルコキ
シ、フルオロアルコキシ、シアノアルコキシ、アルケノ
キシ、アルキノキシ、シクロアルキルオキシ又はシクロ
アルキルアルコキシを表す、 の4−ヒドロキシチオフェン誘導体を、R1′とCOR
’″が同一のエステル基を表すという条件下で、モル比
1:2のアルコール性アルカリ金属水酸化物水溶液を用
いて部分的に式(nb) 上式中 R1’がアルコキシカルボニル、アルコキシアルコキシ
カルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル、ハロ
ゲノアルコキシカルボニル、シ上式中 R31及びR3°は式(II a)の場合に指示された
意味を有する、 の2−カルボキシ−4−ヒドロキシ−5−カルボン酸エ
ステルに加水分解し、式(n b)の化合物を単離した
後に、第三有機塩基の存在において式(II)の2−フ
ェニル−2,2−’;フルオロエチルチオールカルボニ
ルハライドと反応させ、式(VI)上式中 R11、R31及びR1は上記と同じ意味を有する、の
化合物を製造し、得られる式(Vl)の化合物の反応に
より式(■) 上式中 R3N、R37及びR6は上記と同じ意味を有する、の
酸クロリドを製造し、次いで最後の段階においてこれら
の化合物を有機塩基の存在下に式(■)R1”OH(■
) 上式中 R1″はアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオ
アルキル、ハロゲノアルキル、シアノアルキル、アルケ
ニル、アルキニル、シクロアルキル又はシクロアルキル
アルキルを表す、のアルコールでエステル化する方法に
より、得られることが見出された。
キシカルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル ニル、シアノアルコキシカルボニル、アルケノキシカル
ボニル、アルキノキシカルボニル、及びシクロアルキル
オキシカルボニルを表し、又はシクロアルキルアルコキ
シカルボニルを表し、 R2は水素又はアルキルを表し、又はフェニルを表し、
又は R1とR2は共にブタジェン−1.4−ジイル残基を表
し、 RSはアルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチ
オアルコキシ、フルオロアルコキシ、シアノアルコキシ
、アルケノキシ、アルキノキシ、シクロアルキルオキシ
及びシクロアルキルアルコキシを表し、又は下記基 / N \ R″ 上式中 R4はアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオア
ルキル、シアノアルキル、フルオロアルキル、アルケニ
ル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、 R5は水素、アルキル、アルコキシアルキル、アルキル
チオアルキル、フルオロアルキル、シアノアルキル、ア
ルケニル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、又は R4とR1は結合している窒素原子と共に未置換の又は
置換された複素環式環を表し、そのアルキレン鎖が更に
ヘテロ原子によって置換されていてもよく、 R6は水素、メチル又は塩素を表し、及びQは硫黄又は
−〇H−CH−を表す、 の新規な置換された2−フェニル−2,2−ジフルオロ
エチルチオールカーボネートが、a)下記−最大(n) 上式中 piは上記と同じ意味を有し、 Xは例えばハロゲンのような脱離(leaving)基
を表す、 のアシル化剤と反応させることにより、又はb)式(n
)の化合物を最初に第三有機塩基の存在においてホスゲ
ンと反応させ、及び得られる式上式中 R1,H!、R1及びQは上記と同じ意味を有し、又は
そのアンモニウム、アルカリ金属又はアルカリ土類金属
塩を表す、 の芳香族又はヘテロ芳香族ヒドロキシル化合物を、式(
DI) 上式中 R1,H!、R3及びQは上記の意味を有する、のクロ
ロカルボニルオキシ−芳香族化合物又はクロロカルボニ
ルオキシ−へテロ芳香族化合物を次いで式(V) 上式中 R6は上記の意味を有する、 の2−フェニル−2,2−ジフルオロエチル−メルカプ
タンと有機又は無機塩基の存在において、及び溶剤及び
希釈剤の存在において反応させることにより、又は C)式(I)において R1がアルキル又はフェニルを表し、 Qが硫黄を表し、 R@が水素、メチル又は塩素を表し、及びR1及び−C
OR’が異なる残基を有するエステル基である場合には
、式(II a) アノアルコキシカルボニル、アルケノキシカルボニル、
アルキノキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボ
ニル又はシクロアルキルオキシアルコキシ力ルボニルヲ
表し、 R1がアルキル又はフェニルを表し、及びR31がアル
コキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチオアルコキ
シ、フルオロアルコキシ、シアノアルコキシ、アルケノ
キシ、アルキノキシ、シクロアルキルオキシ又はシクロ
アルキルアルコキシを表す、 の4−ヒドロキシチオフェン誘導体を、R1′とCOR
’″が同一のエステル基を表すという条件下で、モル比
1:2のアルコール性アルカリ金属水酸化物水溶液を用
いて部分的に式(nb) 上式中 R1’がアルコキシカルボニル、アルコキシアルコキシ
カルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル、ハロ
ゲノアルコキシカルボニル、シ上式中 R31及びR3°は式(II a)の場合に指示された
意味を有する、 の2−カルボキシ−4−ヒドロキシ−5−カルボン酸エ
ステルに加水分解し、式(n b)の化合物を単離した
後に、第三有機塩基の存在において式(II)の2−フ
ェニル−2,2−’;フルオロエチルチオールカルボニ
ルハライドと反応させ、式(VI)上式中 R11、R31及びR1は上記と同じ意味を有する、の
化合物を製造し、得られる式(Vl)の化合物の反応に
より式(■) 上式中 R3N、R37及びR6は上記と同じ意味を有する、の
酸クロリドを製造し、次いで最後の段階においてこれら
の化合物を有機塩基の存在下に式(■)R1”OH(■
) 上式中 R1″はアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオ
アルキル、ハロゲノアルキル、シアノアルキル、アルケ
ニル、アルキニル、シクロアルキル又はシクロアルキル
アルキルを表す、のアルコールでエステル化する方法に
より、得られることが見出された。
更に式(I)の新規な置換された2−フェニル−2,2
−ジフルオロエチルチオールカーボネートは病害菌、特
に黴に対し強力な効果を示すことが見出された。
−ジフルオロエチルチオールカーボネートは病害菌、特
に黴に対し強力な効果を示すことが見出された。
驚く可きことには、本発明による置換された式(1)の
2−フェニル−2,2−ジフルオロエチルチオールカー
ボネートは、植物による顕著な許容性を示しながらも、
先行技術から既知な同様な作用傾向を有する構造の類似
した化合物よりも植物病原菌に対し良好な活性を示す。
2−フェニル−2,2−ジフルオロエチルチオールカー
ボネートは、植物による顕著な許容性を示しながらも、
先行技術から既知な同様な作用傾向を有する構造の類似
した化合物よりも植物病原菌に対し良好な活性を示す。
式(1)は本発明による置換された2−フェニル−2,
2−ジフルオロエチルチオールカーボネートの一般的な
定義を与える。式(1)の好適な化合物は、 R1は水素を表し、又は1−7炭素原子を有するアルコ
キシカルボニルを表し、又は各アルキル成分光たり1−
5炭素原子を有する、アルコキシアルコキシカルボニル
又はアルキルチオアルコキシカルボニルを表し、又は1
−5炭素厚子及び1−5の同−又は異なるハロゲン原子
を有するハロゲノアルコキシカルボニルを表し、又はア
ルキル成分中に1−5炭素原子を有するシアノアルコキ
シカルボニルを表し、又はアルケン成分中に3又は4炭
素厚子を有するアルケノキシカルボニルを表し、又はシ
クロアルキル成分中に4−6炭素原子を有するシクロア
ルキルオキシカルボニルを表し、又はシクロアルキルア
ルコキシ成分中に4−8炭素原子を有するシクロアルキ
ルアルコキシ力ルボニルヲ表ス、 R2は水素を表し、又は1−4炭素原子を有するアルキ
ルを表し又はフェニルを表す、又はR1及びR2は共に
ブタジェン−1,4−ジイル残基を表す、 R3はl−3炭素原子を有するアルコキシを表し、又は
各アルキル成分光たりl−5炭素原子を有するアルコキ
シアルコキシを表すか又はアルキルチオアルコキシを表
し、又はl−5炭素原子及びl−5弗素原子を有するフ
ルオロアルコキシを表し、又はアルキル成分中に1−5
炭素原子を有するシアノアルコキシを表し、又は3又は
4炭素原子を有するアルケノキシを表し、又は3−5炭
素原子を有するアルキノキシを表し、又は4−6炭素原
子を有するシクロアルキルオキシを表し、又は4−8炭
素原子を有するシクロアルキルアルコキシを表し、又は
下記基 R′ / \ 上式中 R4はl−5炭素原子を有するアルキルを表し、又は各
アルキル成分光たりl−5炭素厚子を有するアルコキシ
アルキル又はアルキルチオアルキルを表し、又はアルキ
ル成分中に1−5炭素原子を有するシアノアルキルを表
し、又は!−3弗素原子及びl−5炭素厚子を有するフ
ルオロアルキルを表し、各3−5炭素原子を有するアル
ケニル又はアルキニルを表し、又は3−6炭素原子を有
するシクロアルキルを表し、 R6は水素又は1−5炭素原子を有するアルキルを表し
、各アルキル成分光たりl−5炭素原子を有するアルコ
キシアルキル又はアルキルチオアルキルを表し、アルキ
ル成分光l:す1−5炭素原子を有するシアノアルキル
を表し、1−3弗素原子及びl−5炭素原子を有するフ
ルオロアルキルを表し、3−5炭素原子を有するアルケ
ニル又はアルキニルを表し、又はシクロヘキシルを表し
1、又は R1とR6は結合している窒素原子と共に更にlないし
3の同−又は異なるヘテロ原子−アザ、オキサ又はチア
成分のような−を含み、及び1−4炭素原子を有する同
−又は異なるアルキル基によりモノ置換ないしトリ置換
されていてもよい5−6−又は7−員の複素環を表す、 を表し、 R6は水素、メチル又は塩素を表し、及びQは硫黄又は
−〇H−CH−を表す、 化合物である。
2−ジフルオロエチルチオールカーボネートの一般的な
定義を与える。式(1)の好適な化合物は、 R1は水素を表し、又は1−7炭素原子を有するアルコ
キシカルボニルを表し、又は各アルキル成分光たり1−
5炭素原子を有する、アルコキシアルコキシカルボニル
又はアルキルチオアルコキシカルボニルを表し、又は1
−5炭素厚子及び1−5の同−又は異なるハロゲン原子
を有するハロゲノアルコキシカルボニルを表し、又はア
ルキル成分中に1−5炭素原子を有するシアノアルコキ
シカルボニルを表し、又はアルケン成分中に3又は4炭
素厚子を有するアルケノキシカルボニルを表し、又はシ
クロアルキル成分中に4−6炭素原子を有するシクロア
ルキルオキシカルボニルを表し、又はシクロアルキルア
ルコキシ成分中に4−8炭素原子を有するシクロアルキ
ルアルコキシ力ルボニルヲ表ス、 R2は水素を表し、又は1−4炭素原子を有するアルキ
ルを表し又はフェニルを表す、又はR1及びR2は共に
ブタジェン−1,4−ジイル残基を表す、 R3はl−3炭素原子を有するアルコキシを表し、又は
各アルキル成分光たりl−5炭素原子を有するアルコキ
シアルコキシを表すか又はアルキルチオアルコキシを表
し、又はl−5炭素原子及びl−5弗素原子を有するフ
ルオロアルコキシを表し、又はアルキル成分中に1−5
炭素原子を有するシアノアルコキシを表し、又は3又は
4炭素原子を有するアルケノキシを表し、又は3−5炭
素原子を有するアルキノキシを表し、又は4−6炭素原
子を有するシクロアルキルオキシを表し、又は4−8炭
素原子を有するシクロアルキルアルコキシを表し、又は
下記基 R′ / \ 上式中 R4はl−5炭素原子を有するアルキルを表し、又は各
アルキル成分光たりl−5炭素厚子を有するアルコキシ
アルキル又はアルキルチオアルキルを表し、又はアルキ
ル成分中に1−5炭素原子を有するシアノアルキルを表
し、又は!−3弗素原子及びl−5炭素厚子を有するフ
ルオロアルキルを表し、各3−5炭素原子を有するアル
ケニル又はアルキニルを表し、又は3−6炭素原子を有
するシクロアルキルを表し、 R6は水素又は1−5炭素原子を有するアルキルを表し
、各アルキル成分光たりl−5炭素原子を有するアルコ
キシアルキル又はアルキルチオアルキルを表し、アルキ
ル成分光l:す1−5炭素原子を有するシアノアルキル
を表し、1−3弗素原子及びl−5炭素原子を有するフ
ルオロアルキルを表し、3−5炭素原子を有するアルケ
ニル又はアルキニルを表し、又はシクロヘキシルを表し
1、又は R1とR6は結合している窒素原子と共に更にlないし
3の同−又は異なるヘテロ原子−アザ、オキサ又はチア
成分のような−を含み、及び1−4炭素原子を有する同
−又は異なるアルキル基によりモノ置換ないしトリ置換
されていてもよい5−6−又は7−員の複素環を表す、 を表し、 R6は水素、メチル又は塩素を表し、及びQは硫黄又は
−〇H−CH−を表す、 化合物である。
式(I)の特に好適な化合物は
R1が水素、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル
、n−又はイソプロポキシカルボニル、2.2−ジメチ
ルプロポキシカルボニル、2−メトキシエトキシカルボ
ニル、2−エトキシエトキシカルボニル、2−メチルチ
オエトキシカルボニル、2−エチルチオエトキシカルボ
ニル、2.2,24リフルオロエトキシカルボニル、シ
アノメトキシカルボニル、シアノエトキシカルポニル、
アリルオキシカルボニル、メタリルオキシカルボニル、
2−グロビニルオキカルボニル、1.I−ジメチル−2
−プロピニルオキシカルボニル、シクロペンチルオキシ
カルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル又はシク
ロへキシルメトキシカルボニルを表し、R1が水素、メ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、sec、−ブチル、イソ−ブチル、tert、−ブ
チル又はフェニルを表し、 R1とR2が一緒になってブタジェン−1,4−ジイル
残基を表し、 R3がメトキシ−、エトキシ−n−又はイングロボキシ
ー 5ee−ブトキシ−2,2−ジメチルプロポキシ−
12−メトキシエトキシ−2−エトキシエトキシ−2−
メチルチオエトキシ−2−エチルチオエチルシ−2,2
,2−トリフルオロエトキシ−、シアノメトキシ−シア
ノエトキシ−、アリルオキシ−メタリルオキシ−2−プ
ロピニルオキシ−1,l−ジメチル−2−プロピニルオ
キシ−、シクロペンチルオキシ−、シクロへキシルオキ
シ−又はシクロへキシルメトキシ−を表し、又は下記の
基 / \ 上式中 R4はメチル、エチル、n−又はイソプロピル、2.2
−ジメチルプロピル、2−メトキシエチル、2−エトキ
シエチル、2−グロボキシエチル、3−メトキシプロピ
ル、3−エトキシプロピル、3−ブトキシプロピル、2
−メチルチオエチル、2−エチルチオエチル、212.
2−)リフルオロエチル、2−シアノエチル、l−メチ
ル−1−シアノエチル、ω−シアノペンチル、アリル、
メタリル、2−プロピニル、1.1−ジメチル−2−プ
ロピニル、シクロプロピル、シクロブチノ呟 シクロペ
ンチル又はシクロヘキシルを表し、 Rsは水素、メチル、エチル、n−又はイソプロピル、
2.2−ジメチルプロピル、2−メトキシエチル、2−
エトキシエチル、2−ズロボキシエチル、3−メトキシ
プロピル、3−エトキシプロピル、3−ブトキシプロピ
ル、2−メチルチオエチル、2−エチルチオエチル、2
.2.2−トリフルオロエチル、2−シアノエチル、l
−メチル−1−シアノエチル、ω−シアノペンチル、ア
リル、メタリル、2−プロピニル、1.1−ジメチル−
2−プロピニル、又はシクロヘキシルを表し、 R4及びRsはそれらが結合している窒素原子と一緒に
なってピロリドン、ピペリジン、2−メチルピペリジン
、3−メチルピペリジン、4−メチルピペリジン、ヘキ
サヒドロ−IH−アゼピン、モルフォリン、2,6−ジ
メチルモルフォリン、チアゾリジン Nl−メチルピペ
ラジン又はNl−プロピルピペラジンを表し、 R6は水素、メチル又は塩素を表し、 Qは硫黄又は−CH−CH−を表す、 化合物である。
、n−又はイソプロポキシカルボニル、2.2−ジメチ
ルプロポキシカルボニル、2−メトキシエトキシカルボ
ニル、2−エトキシエトキシカルボニル、2−メチルチ
オエトキシカルボニル、2−エチルチオエトキシカルボ
ニル、2.2,24リフルオロエトキシカルボニル、シ
アノメトキシカルボニル、シアノエトキシカルポニル、
アリルオキシカルボニル、メタリルオキシカルボニル、
2−グロビニルオキカルボニル、1.I−ジメチル−2
−プロピニルオキシカルボニル、シクロペンチルオキシ
カルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル又はシク
ロへキシルメトキシカルボニルを表し、R1が水素、メ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、sec、−ブチル、イソ−ブチル、tert、−ブ
チル又はフェニルを表し、 R1とR2が一緒になってブタジェン−1,4−ジイル
残基を表し、 R3がメトキシ−、エトキシ−n−又はイングロボキシ
ー 5ee−ブトキシ−2,2−ジメチルプロポキシ−
12−メトキシエトキシ−2−エトキシエトキシ−2−
メチルチオエトキシ−2−エチルチオエチルシ−2,2
,2−トリフルオロエトキシ−、シアノメトキシ−シア
ノエトキシ−、アリルオキシ−メタリルオキシ−2−プ
ロピニルオキシ−1,l−ジメチル−2−プロピニルオ
キシ−、シクロペンチルオキシ−、シクロへキシルオキ
シ−又はシクロへキシルメトキシ−を表し、又は下記の
基 / \ 上式中 R4はメチル、エチル、n−又はイソプロピル、2.2
−ジメチルプロピル、2−メトキシエチル、2−エトキ
シエチル、2−グロボキシエチル、3−メトキシプロピ
ル、3−エトキシプロピル、3−ブトキシプロピル、2
−メチルチオエチル、2−エチルチオエチル、212.
2−)リフルオロエチル、2−シアノエチル、l−メチ
ル−1−シアノエチル、ω−シアノペンチル、アリル、
メタリル、2−プロピニル、1.1−ジメチル−2−プ
ロピニル、シクロプロピル、シクロブチノ呟 シクロペ
ンチル又はシクロヘキシルを表し、 Rsは水素、メチル、エチル、n−又はイソプロピル、
2.2−ジメチルプロピル、2−メトキシエチル、2−
エトキシエチル、2−ズロボキシエチル、3−メトキシ
プロピル、3−エトキシプロピル、3−ブトキシプロピ
ル、2−メチルチオエチル、2−エチルチオエチル、2
.2.2−トリフルオロエチル、2−シアノエチル、l
−メチル−1−シアノエチル、ω−シアノペンチル、ア
リル、メタリル、2−プロピニル、1.1−ジメチル−
2−プロピニル、又はシクロヘキシルを表し、 R4及びRsはそれらが結合している窒素原子と一緒に
なってピロリドン、ピペリジン、2−メチルピペリジン
、3−メチルピペリジン、4−メチルピペリジン、ヘキ
サヒドロ−IH−アゼピン、モルフォリン、2,6−ジ
メチルモルフォリン、チアゾリジン Nl−メチルピペ
ラジン又はNl−プロピルピペラジンを表し、 R6は水素、メチル又は塩素を表し、 Qは硫黄又は−CH−CH−を表す、 化合物である。
極めて特に好適であるとして挙げられる式(I)の化合
物は R1が水素、エトキシカルボニル、イソプロホキジカル
ボニル、sec、−プトキシア力ルボニル又はシクロベ
ンチルオキシ力ルボニルヲ表し、R1が水素、メチル、
イソプロピル又はフェニルを表し、 R1がエトキシ、イソプロポキシ、sec、−ブトキシ
又はシクロペンチルオキシを表し、又は下記の基 / \ S 上式中 R4はメチル又はメトキシエチルを表し、及び Rsは水素を表し、又は R4とRsが共にペンタン−1,5−ジイルを表し、又
は3−オキサ−ペンタン−1,5−ジイルを表し、 R−は水素、メチル又は塩素を表し、 Qは硫黄又は−CH−CH−を表す、 化合物である。
物は R1が水素、エトキシカルボニル、イソプロホキジカル
ボニル、sec、−プトキシア力ルボニル又はシクロベ
ンチルオキシ力ルボニルヲ表し、R1が水素、メチル、
イソプロピル又はフェニルを表し、 R1がエトキシ、イソプロポキシ、sec、−ブトキシ
又はシクロペンチルオキシを表し、又は下記の基 / \ S 上式中 R4はメチル又はメトキシエチルを表し、及び Rsは水素を表し、又は R4とRsが共にペンタン−1,5−ジイルを表し、又
は3−オキサ−ペンタン−1,5−ジイルを表し、 R−は水素、メチル又は塩素を表し、 Qは硫黄又は−CH−CH−を表す、 化合物である。
更に好適な式(I)の化合物として
R1及びHzが共にブタン−1,5−ジイル残基を表し
、 R3がエトキシ、イソプロポキシ、36C,−ブトキシ
又はシクロペンチルオキシを表し、又は下記の基 / \ 上式中 R4がメチル又はメトキシエチルを表し、R8が水素、
メチル又は塩素を表し、又はR4とR6が共にペンタン
−1,5−ジイルを表し、又は3−オキサ−ペンクン−
1,5−ジイルを表し、 Rsは水素、メチル又は塩素を表し、 Qは硫黄又は−CH−CH−を表す、 化合物が挙げられる。
、 R3がエトキシ、イソプロポキシ、36C,−ブトキシ
又はシクロペンチルオキシを表し、又は下記の基 / \ 上式中 R4がメチル又はメトキシエチルを表し、R8が水素、
メチル又は塩素を表し、又はR4とR6が共にペンタン
−1,5−ジイルを表し、又は3−オキサ−ペンクン−
1,5−ジイルを表し、 Rsは水素、メチル又は塩素を表し、 Qは硫黄又は−CH−CH−を表す、 化合物が挙げられる。
更に式(I)の特に好適な化合物としてR1が水素、エ
トキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、sec
、−ブトキシカルボニル又はシクロペンチルオキシカル
ボニルを表し、R1が水素、メチル、イソプロピル又は
フェニルを表し、 R3がエトキシ、インプロポキシ、sec、−ブトキシ
又はシクロペンチルオキシを表し、R6が水素又はメチ
ルを表し、 Qが−CH−CH−を表す、 化合物が挙げられる。
トキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、sec
、−ブトキシカルボニル又はシクロペンチルオキシカル
ボニルを表し、R1が水素、メチル、イソプロピル又は
フェニルを表し、 R3がエトキシ、インプロポキシ、sec、−ブトキシ
又はシクロペンチルオキシを表し、R6が水素又はメチ
ルを表し、 Qが−CH−CH−を表す、 化合物が挙げられる。
特に言及すべき式(I)の他の化合物は、R1が水素、
エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、se
c、−ブトキシカルボニル又はシクロペンチルオキシカ
ルボニルを表し、R3が水素、メチル、イソプロピル又
はフェニルを表し、 R1がエトキシ、イソプロポキシ、see、−ブトキシ
又はシクロペンチルオキシを表し、R1が水素又はメチ
ルを表し、 Qが硫黄を表す、 化合物である。
エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、se
c、−ブトキシカルボニル又はシクロペンチルオキシカ
ルボニルを表し、R3が水素、メチル、イソプロピル又
はフェニルを表し、 R1がエトキシ、イソプロポキシ、see、−ブトキシ
又はシクロペンチルオキシを表し、R1が水素又はメチ
ルを表し、 Qが硫黄を表す、 化合物である。
置換基R1′、R1″、R−′及びR3′の場合に、R
1゜R1及びRsの夫々に対し好適、特に好適及び特別
に好適とした定義がそのまま適用される。
1゜R1及びRsの夫々に対し好適、特に好適及び特別
に好適とした定義がそのまま適用される。
アルキル基それ自体又はアルコキシ、アルキルチオアル
コキシ、シアノアルキル等のように複合したアルキルに
おけるアルキル基は直鎖状又は分校状であることができ
る。
コキシ、シアノアルキル等のように複合したアルキルに
おけるアルキル基は直鎖状又は分校状であることができ
る。
芳香族及び/又はへテロ芳香族残基が置換されている場
合、別に断らない限り、同−又は異なる置換基による一
置換から三置換体までを意味し、好適には一置換から三
置換体を意味すると考えられる。
合、別に断らない限り、同−又は異なる置換基による一
置換から三置換体までを意味し、好適には一置換から三
置換体を意味すると考えられる。
変法a)による本発明による式(I)の化合物の製造の
出発物質として、2,5−ビス−(シクロペンチルオキ
シカルボニル)−3−フェニル−4−ヒドロキシチオフ
ェン及び2,2−ジフルオ0−2− (4−クロロフェ
ニル)−エチルチオールカルボニルが使用され、溶剤及
び弗化水素受容体としてピリジンが使用されるならば、
反応の経過は下記式: によって表すことができる。
出発物質として、2,5−ビス−(シクロペンチルオキ
シカルボニル)−3−フェニル−4−ヒドロキシチオフ
ェン及び2,2−ジフルオ0−2− (4−クロロフェ
ニル)−エチルチオールカルボニルが使用され、溶剤及
び弗化水素受容体としてピリジンが使用されるならば、
反応の経過は下記式: によって表すことができる。
例えば変法b)により本発明による式(I)の化合物の
製造の出発物質として、第一段階に2゜5−ビス−(シ
クロペンチルオキシカルボニル)−3−フェニル−4−
ヒドロキシチオフェン及ヒホスゲンが使用され、第二段
階に2−フェニル−2,2−ジフルオロエチルメルカグ
タンが使用されるならば、 反応の経過は下記式: 2−ジフルオロエチルチオカルボニルクロリドと反応し
、引き続き有機塩基の存在においてジメチルホルムアミ
ド中で例えば塩化オキサリルと反応し、引き続き有機塩
基の存在においてsec。
製造の出発物質として、第一段階に2゜5−ビス−(シ
クロペンチルオキシカルボニル)−3−フェニル−4−
ヒドロキシチオフェン及ヒホスゲンが使用され、第二段
階に2−フェニル−2,2−ジフルオロエチルメルカグ
タンが使用されるならば、 反応の経過は下記式: 2−ジフルオロエチルチオカルボニルクロリドと反応し
、引き続き有機塩基の存在においてジメチルホルムアミ
ド中で例えば塩化オキサリルと反応し、引き続き有機塩
基の存在においてsec。
ブタノールと反応するとすれば、反応の経過は下記式に
より表すことができる: によって表すことができる。
より表すことができる: によって表すことができる。
例えば変法C)により本発明による式(I)の化合物の
製造の出発物質として、第一段階に2゜5−ビス−(i
−プロピルオキシカルボニル)−3−7エニルー4−ヒ
ドロキシチオフェン及びアルコール性アルカリ金属水酸
化物水溶液が使用さし、次いで第二段階において2−フ
ェニル−2゜式(IF)、(I[a)及び(■b)は夫
々本発明による変法a)、b)及びC)における出発物
質として必要な芳香族又はへテロ芳香族ヒドロキシル化
合物の一般的な定義を与える。多数の化合物が既知であ
り、周知の方法で製造できる。ここでは特に下記の化合
物を挙げる: サリチル酸イソプロピル−sec、−ブチル−及びシク
ロベンチルーエステル、及びN−サリチリル−ピロリド
ン;2−エチル l−ヒドロキシナフトニート、イソプ
ロピル l−ヒドロキシナフトニート、n−プロピル
l−ヒドロキシナフトニート及びシクロベンチルー1
ヒドロキシナフトニート、及びN−1−ヒドロキシナフ
トイル2−モルフォリン、−ピペリジン及び−ピロリド
ン;メチル 3−ヒドロキシチオフェン−2−カルボキ
シレート、エチル 3−ヒドロキシチオ7エンー2−カ
ルボキシレート、イソプロピル3−ヒドロキシチオフェ
ン−2−カルボキシレート及びsec、−ブチル 3−
ヒドロキシチオフェン−2−カルボキシレート; 2.5−ビス−(メトキシカルボニル)−2,5−ビス
−(エトキシカルボニル)−2,5−ビス−(イソプロ
ポキシカルボニル)−2,5−ビス−(ブチルオキシカ
ルボニル)−及び2.5−ビス−(s e c、−ブチ
ルオキシカルボニル)−3−ヒドロキシチオフェン; 2.5−ビス−(メトキシカルボニル)−2,5−ビス
−(エトキシカルボニル)−2,5−ビス−(インプロ
ポキシカルボニル’)−2,5−ビス−(プロポキシカ
ルボニル)−12,5−ビス−(sec、−ブトキシカ
ルボニル)−2,5−ビス−(インブトキシカルボニル
)−2,5−ビス−(ペントキシカルボニル)−12,
5−ビス−(シクロペンチルオキシカルボニル)−及び
2.5−ビス−(シクロヘキシルメトキシカルボニル−
3−7エニルー4−ヒドロキシチオフェン;N−メチル
−2−メトキシカルボニル−3−メチル−4−ヒドロキ
シチオフェン−5−カルボンアミ ド ; N−メチル−、N,N−ジメチル−、N−(2−メトキ
シエチル)+、N− (3−メトキシプロピル)−、N
−(2−エトキシエチル)−及びN−tert.−ブチ
ル−2−インプロポキシカルボニル−3−メチル−4−
ヒドロキシチオ7ヱンー5−カルボンアミド、及びN−
2−イソグロボキシ力ルボニルー2ーメチル−4−ビト
ロキシチオ7エンー5−カルボキシル−ピロリジン、−
ピペリジン及び−モル7オリン: N−2−プロポキシカルボニル−3−メチル−4=ヒド
ロキシチオフェン−5−カルボキシル−モル7オリン及
び−ピペリジン: N−(2−メトキシエチル)−及びN−(3−メトキシ
プロピル)−2−ブトキシカルボニル−3−メチル−4
−ヒドロキシ−チオ7エンー5−力ルボンアミド: N−(2−エトキシエチル)−、N−(2−エトキシエ
チル)−、及びN−(3−メトキシプロピル)−2−s
ec.−ブトキシカルボニル−3−メチル−4−ヒドロ
キシ−チオフェン−5−カルボンアミド、及びN−2−
sec.−ブトキシカルボニル−3−メチル−4−ヒド
ロキシチオフェン−5−カルボキシル−モルフォリン、
−ピペラジン及びーピロリジン: N−2−インブトキシカルボニル−3−メチル−4−ヒ
ドロキシチオフェン−5−カルボキシル−モルフォリン
及びーピペラジン: N−(2−メトキシエチル)−2−メチル−4−ヒドロ
キシチオフェン−5−カルボンアミド、及びN−2−シ
クロペンチルオキシ−カルボニル−3−メチル−4−ヒ
ドロキシチオフェン−5−力ルボキシルーモル7才リン
及び−ピペラジン;N−2−エトキシカルボニル−3−
インプロビル−4−ヒドロキシチオフェン−5−カルボ
キシル−モル7オリン、−ピペラジン及びーピロリジン
;N−(2−メトキシエチル)−2−イングロボキシカ
ルポニルー3ーイソプロピル−4−ヒドロキシチオフェ
ン−5−カルボンアミド、及びN−2−イソプロポキシ
カルボニル−3−インプロピル−4−ヒドロキシチオフ
ェン−5−カルポキシルーモル7オリン、−ピペラジン
及び−ピロリジン; N−(2−メトキシエチル)−2−n−グロポキシカル
ボニル−3−インプロピル−4−ヒドロキシチオフェン
−5−カルボンアミド、及びN−2−〇−プロポキシカ
ルボニルー3−イソプロピル−4−ヒドロキシチオフェ
ン−5−モルフォリン及び−ピペラジン; N−2−メトキシカルボニル−3−フェニル−4−ヒド
ロキシチオフェン−5−カルボキシル−モルフォリン、
−ピペラジン;N−メチル−1NNN−ジメチル−1N
−(2−メトキシエチル)−N−(2−エトキシエチル
)−及びN−(3−メトキシエチル)−2−エトキシ−
−2−インプロポキシ−−2−プロポキシ−−’1−s
eC8−ブトキシ−−2−インブトキシ−及び−2−シ
クロペンチルオキシ−カルボニル−3−フェニル−4−
ヒドロキシチオ7エンー5−カルボンアミド、及びN−
2−エトキシ−1N−2−インプロポキシ−1N−2−
プロポキシ−1N−2−sec、−ブトキシ−1N−2
−インブトキシ−及びN−2−シクロペンチルオキシ−
カルボニル−3−フェニル−4−ヒドロキシチオ7エン
ー5−カルボキシ−モルフォリン、−ピペラジン及び−
ピロリジン。
製造の出発物質として、第一段階に2゜5−ビス−(i
−プロピルオキシカルボニル)−3−7エニルー4−ヒ
ドロキシチオフェン及びアルコール性アルカリ金属水酸
化物水溶液が使用さし、次いで第二段階において2−フ
ェニル−2゜式(IF)、(I[a)及び(■b)は夫
々本発明による変法a)、b)及びC)における出発物
質として必要な芳香族又はへテロ芳香族ヒドロキシル化
合物の一般的な定義を与える。多数の化合物が既知であ
り、周知の方法で製造できる。ここでは特に下記の化合
物を挙げる: サリチル酸イソプロピル−sec、−ブチル−及びシク
ロベンチルーエステル、及びN−サリチリル−ピロリド
ン;2−エチル l−ヒドロキシナフトニート、イソプ
ロピル l−ヒドロキシナフトニート、n−プロピル
l−ヒドロキシナフトニート及びシクロベンチルー1
ヒドロキシナフトニート、及びN−1−ヒドロキシナフ
トイル2−モルフォリン、−ピペリジン及び−ピロリド
ン;メチル 3−ヒドロキシチオフェン−2−カルボキ
シレート、エチル 3−ヒドロキシチオ7エンー2−カ
ルボキシレート、イソプロピル3−ヒドロキシチオフェ
ン−2−カルボキシレート及びsec、−ブチル 3−
ヒドロキシチオフェン−2−カルボキシレート; 2.5−ビス−(メトキシカルボニル)−2,5−ビス
−(エトキシカルボニル)−2,5−ビス−(イソプロ
ポキシカルボニル)−2,5−ビス−(ブチルオキシカ
ルボニル)−及び2.5−ビス−(s e c、−ブチ
ルオキシカルボニル)−3−ヒドロキシチオフェン; 2.5−ビス−(メトキシカルボニル)−2,5−ビス
−(エトキシカルボニル)−2,5−ビス−(インプロ
ポキシカルボニル’)−2,5−ビス−(プロポキシカ
ルボニル)−12,5−ビス−(sec、−ブトキシカ
ルボニル)−2,5−ビス−(インブトキシカルボニル
)−2,5−ビス−(ペントキシカルボニル)−12,
5−ビス−(シクロペンチルオキシカルボニル)−及び
2.5−ビス−(シクロヘキシルメトキシカルボニル−
3−7エニルー4−ヒドロキシチオフェン;N−メチル
−2−メトキシカルボニル−3−メチル−4−ヒドロキ
シチオフェン−5−カルボンアミ ド ; N−メチル−、N,N−ジメチル−、N−(2−メトキ
シエチル)+、N− (3−メトキシプロピル)−、N
−(2−エトキシエチル)−及びN−tert.−ブチ
ル−2−インプロポキシカルボニル−3−メチル−4−
ヒドロキシチオ7ヱンー5−カルボンアミド、及びN−
2−イソグロボキシ力ルボニルー2ーメチル−4−ビト
ロキシチオ7エンー5−カルボキシル−ピロリジン、−
ピペリジン及び−モル7オリン: N−2−プロポキシカルボニル−3−メチル−4=ヒド
ロキシチオフェン−5−カルボキシル−モル7オリン及
び−ピペリジン: N−(2−メトキシエチル)−及びN−(3−メトキシ
プロピル)−2−ブトキシカルボニル−3−メチル−4
−ヒドロキシ−チオ7エンー5−力ルボンアミド: N−(2−エトキシエチル)−、N−(2−エトキシエ
チル)−、及びN−(3−メトキシプロピル)−2−s
ec.−ブトキシカルボニル−3−メチル−4−ヒドロ
キシ−チオフェン−5−カルボンアミド、及びN−2−
sec.−ブトキシカルボニル−3−メチル−4−ヒド
ロキシチオフェン−5−カルボキシル−モルフォリン、
−ピペラジン及びーピロリジン: N−2−インブトキシカルボニル−3−メチル−4−ヒ
ドロキシチオフェン−5−カルボキシル−モルフォリン
及びーピペラジン: N−(2−メトキシエチル)−2−メチル−4−ヒドロ
キシチオフェン−5−カルボンアミド、及びN−2−シ
クロペンチルオキシ−カルボニル−3−メチル−4−ヒ
ドロキシチオフェン−5−力ルボキシルーモル7才リン
及び−ピペラジン;N−2−エトキシカルボニル−3−
インプロビル−4−ヒドロキシチオフェン−5−カルボ
キシル−モル7オリン、−ピペラジン及びーピロリジン
;N−(2−メトキシエチル)−2−イングロボキシカ
ルポニルー3ーイソプロピル−4−ヒドロキシチオフェ
ン−5−カルボンアミド、及びN−2−イソプロポキシ
カルボニル−3−インプロピル−4−ヒドロキシチオフ
ェン−5−カルポキシルーモル7オリン、−ピペラジン
及び−ピロリジン; N−(2−メトキシエチル)−2−n−グロポキシカル
ボニル−3−インプロピル−4−ヒドロキシチオフェン
−5−カルボンアミド、及びN−2−〇−プロポキシカ
ルボニルー3−イソプロピル−4−ヒドロキシチオフェ
ン−5−モルフォリン及び−ピペラジン; N−2−メトキシカルボニル−3−フェニル−4−ヒド
ロキシチオフェン−5−カルボキシル−モルフォリン、
−ピペラジン;N−メチル−1NNN−ジメチル−1N
−(2−メトキシエチル)−N−(2−エトキシエチル
)−及びN−(3−メトキシエチル)−2−エトキシ−
−2−インプロポキシ−−2−プロポキシ−−’1−s
eC8−ブトキシ−−2−インブトキシ−及び−2−シ
クロペンチルオキシ−カルボニル−3−フェニル−4−
ヒドロキシチオ7エンー5−カルボンアミド、及びN−
2−エトキシ−1N−2−インプロポキシ−1N−2−
プロポキシ−1N−2−sec、−ブトキシ−1N−2
−インブトキシ−及びN−2−シクロペンチルオキシ−
カルボニル−3−フェニル−4−ヒドロキシチオ7エン
ー5−カルボキシ−モルフォリン、−ピペラジン及び−
ピロリジン。
ヒドロキシチオフェンカルボン酸誘導体は例えばドイツ
特許公開公報DE−O3第3.523.313号及び3
,602,889号、ベリヒテ(Ber)。
特許公開公報DE−O3第3.523.313号及び3
,602,889号、ベリヒテ(Ber)。
鐸、1897(1936) 、インディアン・ジャーナ
ル−オフ・ケミストリ(Ind、 J、 of Che
w、) 11,313−314 (1973)及び欧州
特許明細書第93.384号に開示されている。
ル−オフ・ケミストリ(Ind、 J、 of Che
w、) 11,313−314 (1973)及び欧州
特許明細書第93.384号に開示されている。
変法b)において必要なホスゲンは変法C)に述べた式
(■)のアルコールと同様に、大規模に生産できる既知
の物質である。
(■)のアルコールと同様に、大規模に生産できる既知
の物質である。
本発明により式(I)の化合物を得る反応のI;めに変
法a)及びC)で必要な他の化合物は、式(DI)が一
般的な定義を与えている、2−フェニル−2,2−ジフ
ルオロエチルチオカルボニルハロゲン化物である。これ
らの化合物の製造はドイツ特許公開公報DE−O3第3
.341.515号及び3,341,516号に開示さ
れている。
法a)及びC)で必要な他の化合物は、式(DI)が一
般的な定義を与えている、2−フェニル−2,2−ジフ
ルオロエチルチオカルボニルハロゲン化物である。これ
らの化合物の製造はドイツ特許公開公報DE−O3第3
.341.515号及び3,341,516号に開示さ
れている。
変法a)及びC)の方法による夫々、式(If)及び(
I[a)の芳香族又はヘテロ芳香族ヒドロキシカルボン
酸誘導体の本発明による式(III)のアシル化剤との
反応に適当な希釈剤は、反応剤に対し不活性である総て
の有機溶剤である;極性溶剤が好適に使用される。本件
において言及すべき例は、アセトニトリル、アセトン、
クロロホルム、ベンゾニトリル、ジメチルアセトアミド
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、クロ
ロベンゼン、酢酸エチル、ジオキサン、メチルエチルケ
トン、塩化メチレン及びテトラヒドロフランである。
I[a)の芳香族又はヘテロ芳香族ヒドロキシカルボン
酸誘導体の本発明による式(III)のアシル化剤との
反応に適当な希釈剤は、反応剤に対し不活性である総て
の有機溶剤である;極性溶剤が好適に使用される。本件
において言及すべき例は、アセトニトリル、アセトン、
クロロホルム、ベンゾニトリル、ジメチルアセトアミド
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、クロ
ロベンゼン、酢酸エチル、ジオキサン、メチルエチルケ
トン、塩化メチレン及びテトラヒドロフランである。
反応に使用される酸結合剤は有機塩基、好適には第三ア
ミンである。本件において言及すべき例は:キノリン、
ジメチルベンジルアミン、ジメチルアニリン、エチルジ
シクロヘキシルアミン、エチルジイソプロピルアミン、
ピコリン、ピリジン及びトリエチルアミンである。
ミンである。本件において言及すべき例は:キノリン、
ジメチルベンジルアミン、ジメチルアニリン、エチルジ
シクロヘキシルアミン、エチルジイソプロピルアミン、
ピコリン、ピリジン及びトリエチルアミンである。
過剰の第三アミンを同時に溶剤として使用することも可
能である。本発明による方法を実行するために、反応す
べき芳香族又はへテロ芳香族ヒドロキシカルボン酸誘導
体のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩を最初に不
活性溶剤中に導入することも可能であり、又は芳香族又
はヘテロ芳香族ヒドロキシカルボン酸誘導体と高沸点溶
剤の混合物中にアルカリ金属水酸化物、アルコラード又
は対応するアルカリ土類金属化合物を添加することによ
り塩を製造し、次いで注意深く脱水し、又はアルコール
を留去するか、又はアルカリ又はアルカリ土類水素化物
を添加することも可能である。
能である。本発明による方法を実行するために、反応す
べき芳香族又はへテロ芳香族ヒドロキシカルボン酸誘導
体のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩を最初に不
活性溶剤中に導入することも可能であり、又は芳香族又
はヘテロ芳香族ヒドロキシカルボン酸誘導体と高沸点溶
剤の混合物中にアルカリ金属水酸化物、アルコラード又
は対応するアルカリ土類金属化合物を添加することによ
り塩を製造し、次いで注意深く脱水し、又はアルコール
を留去するか、又はアルカリ又はアルカリ土類水素化物
を添加することも可能である。
例えば、4−ジメチルアミノピリジンのような触媒の存
在において、反応を行うことも好都合である。
在において、反応を行うことも好都合である。
水及び水と混合しない溶剤からなる不均一系中で反応を
行うことも可能である。
行うことも可能である。
反応温度及び反応時間は出発物質の活性により決定され
る。一般に、本方法は約−50ないし約+80℃、好適
には−IOないし+60℃の間で行われる。
る。一般に、本方法は約−50ないし約+80℃、好適
には−IOないし+60℃の間で行われる。
方法b)により式(II)の芳香族又はへテロ芳香族ヒ
ドロキシカルボン酸誘導体を最初にホスゲンと反応させ
、引き続き式(v)のメルカプタンと反応させる場合、
式(n)の芳香族又はヘテロ芳香族ヒドロキシカルボン
酸誘導体、例えばキノリン、ジメチルベンジルアミン、
ジメチルアニリン、エチルジシクロヘキシルアミン、エ
チルジイソプロピルアミン、ピコリン、ピリジン又はト
リエチルアミンのような第ミアミン、及び塩化メチレン
、クロロホルム、クロロベンゼン、酢−エチル、トルエ
ン又はキシレンのような不活性有機溶削から成る混合物
が、第一段階において不活性な有機溶剤に溶解した過剰
のホスゲンに添加される。
ドロキシカルボン酸誘導体を最初にホスゲンと反応させ
、引き続き式(v)のメルカプタンと反応させる場合、
式(n)の芳香族又はヘテロ芳香族ヒドロキシカルボン
酸誘導体、例えばキノリン、ジメチルベンジルアミン、
ジメチルアニリン、エチルジシクロヘキシルアミン、エ
チルジイソプロピルアミン、ピコリン、ピリジン又はト
リエチルアミンのような第ミアミン、及び塩化メチレン
、クロロホルム、クロロベンゼン、酢−エチル、トルエ
ン又はキシレンのような不活性有機溶削から成る混合物
が、第一段階において不活性な有機溶剤に溶解した過剰
のホスゲンに添加される。
この方法は一般に一50℃ないし+80℃の間、好適に
はOないし+30°Cの間で行われるE (IV) (
7)4−”ロロ力ルポニルオキシ誘導体を単離した後、
有機又は無機塩基の存在において式(V)のメルカプタ
ンと、又は式(V)のメルカプタンの塩と反応させる。
はOないし+30°Cの間で行われるE (IV) (
7)4−”ロロ力ルポニルオキシ誘導体を単離した後、
有機又は無機塩基の存在において式(V)のメルカプタ
ンと、又は式(V)のメルカプタンの塩と反応させる。
この反応に対する適当な溶剤は上記のように、原則とし
て水と混和し得る又は混和しない溶剤である。一般にに
本工程はホスゲン化反応の温度に対応する温度で行われ
る。
て水と混和し得る又は混和しない溶剤である。一般にに
本工程はホスゲン化反応の温度に対応する温度で行われ
る。
式(DI)において脱離基Xは好適にはハロゲンである
。式(IV) (V) (Vl)及び(■)の化合
物は既知であるか又は既知の方法と類似の方法によって
製造できる。
。式(IV) (V) (Vl)及び(■)の化合
物は既知であるか又は既知の方法と類似の方法によって
製造できる。
変法C)において、例えば塩化オキサリルのような酸塩
化物がカルボニル塩化物の製造に使用される。
化物がカルボニル塩化物の製造に使用される。
反応条件によって、本発明による活性化合物は結晶とし
て沈澱するか、又は有機溶剤中に溶解したまま留まり、
溶液を水で洗浄した後、溶液を注意深く濃縮することに
より又は、シフヘキサン、ジブチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル又は四塩化炭素のような弱い極性有機溶
剤を添加することにより沈澱することができる。必要に
応じ真空中で蒸発させることにより水混和性、極性溶剤
を除去しなければならない。
て沈澱するか、又は有機溶剤中に溶解したまま留まり、
溶液を水で洗浄した後、溶液を注意深く濃縮することに
より又は、シフヘキサン、ジブチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル又は四塩化炭素のような弱い極性有機溶
剤を添加することにより沈澱することができる。必要に
応じ真空中で蒸発させることにより水混和性、極性溶剤
を除去しなければならない。
本発明による化合物が水混和性溶剤中に溶解するならば
、それらは水の添加によっても沈澱するこ七ができる。
、それらは水の添加によっても沈澱するこ七ができる。
本発明による化合物の或ものは高温で分解する;これら
の場合融点は測定できてもその正確度は低いか、又は全
く測定できない。或種の構造要素の存在はNMRスペク
トルから知ることができる。
の場合融点は測定できてもその正確度は低いか、又は全
く測定できない。或種の構造要素の存在はNMRスペク
トルから知ることができる。
本発明による活性物質は強力な生物学的作用を示し、実
際に病害菌の防除に使用することができる。従って活性
化合物はとりわけ植物保護剤として、特に殺黴剤として
使用するのに適当である。
際に病害菌の防除に使用することができる。従って活性
化合物はとりわけ植物保護剤として、特に殺黴剤として
使用するのに適当である。
植物保護の殺黴剤はプラスモジオフォロミセテス(P
lasmodiophoromycetes)、卵菌類
(Oon+yceteS)、チトリジオミセテス(Cb
ytridio−mycates)、接合菌類(Z y
gomycetes)、嚢子菌類(A scomyce
teS)、担子菌1[(B asidoiycetes
)、及び不完全菌類(D euteromycetes
)を防除する際に用いられる。
lasmodiophoromycetes)、卵菌類
(Oon+yceteS)、チトリジオミセテス(Cb
ytridio−mycates)、接合菌類(Z y
gomycetes)、嚢子菌類(A scomyce
teS)、担子菌1[(B asidoiycetes
)、及び不完全菌類(D euteromycetes
)を防除する際に用いられる。
上記jこ例示した総称的な名称に属する黴及びバクテリ
アの病気を起こす病原体微生物の幾つかを例として次ぎ
に挙げるが、決してこれに限定されるものではない: ピチウム(P ythium)種、例えば苗立枯病(P
ythiumulvimum); フィトフトラ(P hytophthora)種、例え
ば疫病(P hytophthora 1nfest
ans)Hブソイドベロノスボラ(P 5eudope
ronospora)種、例えばべと病(P 5eud
operonospora humu l i又はP
5eudoperonospora cubens
e);プラスモパラ(P lasmopara)種、例
えばべと病(P lasmopara vitico
la);ベロノスボラ(P eronospora)種
、例えばべと病(P eronospora pis
i又はP 、 brassicae);エリシフx (
E rysiphe)種、例えば(E rysiphe
graminis); スファエロテ力(S phaerotheca)種、例
えばうどんこ病(Sphaerotheca ful
iginea);ボドス7エラ(P odosphae
ra)種、例えばうどんこ病(P odosphaer
a Iaucotricha);ペンチュリア(V
entur ia)種、例えば黒星病(Van−tur
ia 1naequalis);ピレノホラ(P y
reno−phora)種、例えば網斑病(P yre
nophora terasまたはP 、 graw
+tneaX分生胞子器型: D rechs Ier
a、同義: He 1!l in thospor i
um);コクリオボルス(Cochliobolus)
種、例えば斑点病(Cochliobolus 5a
tivus)(分生胞子基型:Drechslera、
同義: Helminthosporium);ウロミ
セス(U romyces)種、例えばさび病(Uro
myces appendiculatus);プシ
ニア(p uccinia)種、例えば赤さび病(Pu
c−cinia recondita);ふすべ菌属
(’l’ 1lletia)種、例えば網なまぐさ黒穂
病(T 1llcrtia caries);黒穂病
(Ustilago)種、例えば裸黒穂病(Ustil
−ago nudaまたはUstilago av
enae)Hベリキュラリア(P ellicular
ia)種、例えば紋枯病(Pellicularia
5asakji);ビリキュラリア(P yricu
laria)種、例えばいもち病(Pyricular
ja oryzae);フーザリウム(F usar
ium)種、例えばフーザリウム・クルモルム(Fus
arium culmorum);灰色かび属(B
otrytis)種、例えば灰色かび病(B otry
tis cinerea);セプトリア(S ept
oria)種、例えばふ枯病(Sep−toria
nodorum)H レグトス7エリア(L aptosphaer ia)
種、例えばレプトスフェリア・ノドルム(L epto
sphaeria nod−orum) ; セルコスポラ(Cercospora)種、例えばセル
コスポラ壷カネセンス(Cercospora ca
nescens) 1アルテルナリア(A l ter
nar ia)種、例えば黒斑病(A 1ternar
ia brassicaa)、及びプソイドセルコス
ボレラ(P 5eudocercosporel la
)種、例えばプソイドセルコスボレラ・ヘルポトリコイ
デス(Pseudocercosporella h
erpotrichoid−es)。
アの病気を起こす病原体微生物の幾つかを例として次ぎ
に挙げるが、決してこれに限定されるものではない: ピチウム(P ythium)種、例えば苗立枯病(P
ythiumulvimum); フィトフトラ(P hytophthora)種、例え
ば疫病(P hytophthora 1nfest
ans)Hブソイドベロノスボラ(P 5eudope
ronospora)種、例えばべと病(P 5eud
operonospora humu l i又はP
5eudoperonospora cubens
e);プラスモパラ(P lasmopara)種、例
えばべと病(P lasmopara vitico
la);ベロノスボラ(P eronospora)種
、例えばべと病(P eronospora pis
i又はP 、 brassicae);エリシフx (
E rysiphe)種、例えば(E rysiphe
graminis); スファエロテ力(S phaerotheca)種、例
えばうどんこ病(Sphaerotheca ful
iginea);ボドス7エラ(P odosphae
ra)種、例えばうどんこ病(P odosphaer
a Iaucotricha);ペンチュリア(V
entur ia)種、例えば黒星病(Van−tur
ia 1naequalis);ピレノホラ(P y
reno−phora)種、例えば網斑病(P yre
nophora terasまたはP 、 graw
+tneaX分生胞子器型: D rechs Ier
a、同義: He 1!l in thospor i
um);コクリオボルス(Cochliobolus)
種、例えば斑点病(Cochliobolus 5a
tivus)(分生胞子基型:Drechslera、
同義: Helminthosporium);ウロミ
セス(U romyces)種、例えばさび病(Uro
myces appendiculatus);プシ
ニア(p uccinia)種、例えば赤さび病(Pu
c−cinia recondita);ふすべ菌属
(’l’ 1lletia)種、例えば網なまぐさ黒穂
病(T 1llcrtia caries);黒穂病
(Ustilago)種、例えば裸黒穂病(Ustil
−ago nudaまたはUstilago av
enae)Hベリキュラリア(P ellicular
ia)種、例えば紋枯病(Pellicularia
5asakji);ビリキュラリア(P yricu
laria)種、例えばいもち病(Pyricular
ja oryzae);フーザリウム(F usar
ium)種、例えばフーザリウム・クルモルム(Fus
arium culmorum);灰色かび属(B
otrytis)種、例えば灰色かび病(B otry
tis cinerea);セプトリア(S ept
oria)種、例えばふ枯病(Sep−toria
nodorum)H レグトス7エリア(L aptosphaer ia)
種、例えばレプトスフェリア・ノドルム(L epto
sphaeria nod−orum) ; セルコスポラ(Cercospora)種、例えばセル
コスポラ壷カネセンス(Cercospora ca
nescens) 1アルテルナリア(A l ter
nar ia)種、例えば黒斑病(A 1ternar
ia brassicaa)、及びプソイドセルコス
ボレラ(P 5eudocercosporel la
)種、例えばプソイドセルコスボレラ・ヘルポトリコイ
デス(Pseudocercosporella h
erpotrichoid−es)。
植物の病気を防除する際に必要な濃度で、本活性化合物
の植物による良好な許容性があるために、植物の地上部
分、生長増殖茎及び種子、並びに土壌の処理が可能であ
る。
の植物による良好な許容性があるために、植物の地上部
分、生長増殖茎及び種子、並びに土壌の処理が可能であ
る。
本活性化合物は、普通の組成物例えば、溶液、乳液、懸
濁剤、粉剤、包沫剤、塗布剤、顆粒、エアロゾル、種子
用の重合物質中の極く細かいカプセルおよびコーティン
グ組成物、並びにULV配合物に変えることができる。
濁剤、粉剤、包沫剤、塗布剤、顆粒、エアロゾル、種子
用の重合物質中の極く細かいカプセルおよびコーティン
グ組成物、並びにULV配合物に変えることができる。
これらの配合物は周知の方法で、例えば活性化合物を伸
展剤、即ち液体溶媒、加圧下で液化した気体、及び/又
は固体の担体と随時表面活性剤、即ち乳化剤及び/又は
分散剤、及び/又は発泡剤と混合して製造される。伸唐
剤として水を用いる場合、例えば補助溶媒として有機溶
媒を用いることもできる。液体溶媒として、主に、芳香
族炭化水素、例えばキシレン、トルエン又はアルキルナ
フタレン、塩素化された芳香族又は脂肪族炭化水素、例
えばクロロベンゼン、クロロエチレン又は塩化メチレン
、脂肪族炭化水素、例えばシクロヘキサン又はパラフィ
ン、例えば鉱油留分、アルコール、例えばブタノール又
はグリコール並びにそのエーテル及びエステル、ケトン
、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン又はシクロヘキサノン、或いは強い有極性溶
媒、例えばジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキ
シド並びに水が適している。液化した気体の伸展剤又は
担体とは、常温及び常圧では気体である液体を意味し、
例えばハロゲン化された炭化水素並びにブタン、プロパ
ン、窒素及び二酸化炭素のようなエアロゾル噴射基剤で
ある。固体の担体として、例えば粉砕した天然鉱物、例
えばカオリン、クレイ、タルク、チョーク、石英、アタ
パルジャイト、モントモリロナイト又はケイソウ土、及
び粉砕した合成鉱物、例えば高度に分散したシリカ、ア
ルミナ及びシリケートが適している。粒剤に対する固体
の担体として、例えば粉砕し且つ分別した天然岩、例え
ば方解石、大理石、軽石、海泡石及び白雲石、並びに無
機及び有機のひきわり合成顆粒及び有機物質の顆粒、例
えばおがくず、椰子殻、トウモロコシ穂軸及びタバコ茎
が適している。
展剤、即ち液体溶媒、加圧下で液化した気体、及び/又
は固体の担体と随時表面活性剤、即ち乳化剤及び/又は
分散剤、及び/又は発泡剤と混合して製造される。伸唐
剤として水を用いる場合、例えば補助溶媒として有機溶
媒を用いることもできる。液体溶媒として、主に、芳香
族炭化水素、例えばキシレン、トルエン又はアルキルナ
フタレン、塩素化された芳香族又は脂肪族炭化水素、例
えばクロロベンゼン、クロロエチレン又は塩化メチレン
、脂肪族炭化水素、例えばシクロヘキサン又はパラフィ
ン、例えば鉱油留分、アルコール、例えばブタノール又
はグリコール並びにそのエーテル及びエステル、ケトン
、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン又はシクロヘキサノン、或いは強い有極性溶
媒、例えばジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキ
シド並びに水が適している。液化した気体の伸展剤又は
担体とは、常温及び常圧では気体である液体を意味し、
例えばハロゲン化された炭化水素並びにブタン、プロパ
ン、窒素及び二酸化炭素のようなエアロゾル噴射基剤で
ある。固体の担体として、例えば粉砕した天然鉱物、例
えばカオリン、クレイ、タルク、チョーク、石英、アタ
パルジャイト、モントモリロナイト又はケイソウ土、及
び粉砕した合成鉱物、例えば高度に分散したシリカ、ア
ルミナ及びシリケートが適している。粒剤に対する固体
の担体として、例えば粉砕し且つ分別した天然岩、例え
ば方解石、大理石、軽石、海泡石及び白雲石、並びに無
機及び有機のひきわり合成顆粒及び有機物質の顆粒、例
えばおがくず、椰子殻、トウモロコシ穂軸及びタバコ茎
が適している。
乳化剤及び/又は発泡剤として、例えば非イオン性及び
陰イオン性乳化剤、例えばポリオキシエチレン−脂肪酸
エステル、ポリオキシエチレン脂肪族アルコールエーテ
ル、例えばアルキルアリールポリグリコールエーテル、
アルキルスルホネート、アルキルスルフェート、アリー
ルスルホネート、並びにアルブミン加水分解生成物が適
している。
陰イオン性乳化剤、例えばポリオキシエチレン−脂肪酸
エステル、ポリオキシエチレン脂肪族アルコールエーテ
ル、例えばアルキルアリールポリグリコールエーテル、
アルキルスルホネート、アルキルスルフェート、アリー
ルスルホネート、並びにアルブミン加水分解生成物が適
している。
分散剤として、例えば亜硫酸リグニン廃液及びメチルセ
ルロースが適している。
ルロースが適している。
接着剤、例えばカルボキシメチルセルロース並びに粉状
、粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体、例え
ばアラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリ酢酸ビ
ニル並びに天然燐脂質、例えばセファリン及びレシチン
、及び合成燐脂質を配合物に用いることができる。他の
添加物は鉱油及び植物油であることができる。
、粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体、例え
ばアラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリ酢酸ビ
ニル並びに天然燐脂質、例えばセファリン及びレシチン
、及び合成燐脂質を配合物に用いることができる。他の
添加物は鉱油及び植物油であることができる。
着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及び
プルシアンブルー、並びに有機染料、例えばアリザリン
染料、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料、並びに微
量の栄養剤、例えば鉄、マンガン、硼素、銅、コバルト
、モリブデン及び亜鉛の塩を使用することができる。
プルシアンブルー、並びに有機染料、例えばアリザリン
染料、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料、並びに微
量の栄養剤、例えば鉄、マンガン、硼素、銅、コバルト
、モリブデン及び亜鉛の塩を使用することができる。
配合物は一般に活性化合物をOlIないし95重量%、
好ましくは0.5ないし90重量%の間に含有する。
好ましくは0.5ないし90重量%の間に含有する。
本発明による活性化合物は他の周知の活性化合物、例え
ば殺黴剤、殺虫剤(1nsect ic 1des)、
殺ダニ剤(acaricides)及び除草剤、並びに
肥料及び生長調節剤との混合物である配合物の形態で存
在することができる。
ば殺黴剤、殺虫剤(1nsect ic 1des)、
殺ダニ剤(acaricides)及び除草剤、並びに
肥料及び生長調節剤との混合物である配合物の形態で存
在することができる。
本活性化合物はそのまま、或いはその配合物の形態又は
該配合物から更に希釈して調製した施用形態、例えば調
製清液剤、乳化可能な濃厚物、乳剤、泡末剤、懸濁剤、
水利剤、塗布剤、可溶性粉剤、粉剤及び粒剤の形態で用
いることができる。
該配合物から更に希釈して調製した施用形態、例えば調
製清液剤、乳化可能な濃厚物、乳剤、泡末剤、懸濁剤、
水利剤、塗布剤、可溶性粉剤、粉剤及び粒剤の形態で用
いることができる。
この形態のものは普通の方法において、例えば液剤散布
(water ing)、スプレー、アトマイジング(
atomising)、粒剤散布、泡剤散布、刷毛塗り
等によって使用することができる。更に、本活性化合物
を超低容量法によって、或いは活性化合物の配合物を注
入、または活性化合物自体を土壌中に注入することによ
って施用することができる。又植物の種子を処理するこ
ともできる。
(water ing)、スプレー、アトマイジング(
atomising)、粒剤散布、泡剤散布、刷毛塗り
等によって使用することができる。更に、本活性化合物
を超低容量法によって、或いは活性化合物の配合物を注
入、または活性化合物自体を土壌中に注入することによ
って施用することができる。又植物の種子を処理するこ
ともできる。
植物の部分を処理する場合、施用形態における活性化合
物濃度は実質的な範囲内で変えることができる。一般に
濃度は1ないしo、oooi重量%、好ましくは0.5
ないし0.001重量%の間である。
物濃度は実質的な範囲内で変えることができる。一般に
濃度は1ないしo、oooi重量%、好ましくは0.5
ないし0.001重量%の間である。
種子を処理する際には、一般に種子]J2g当り0.0
01ないし50g、好ましくは0.01ないし10gの
活性化合物を必要とする。
01ないし50g、好ましくは0.01ないし10gの
活性化合物を必要とする。
土壌を処理する際には、一般に作眉場所に0゜oooo
iないし0.1重量%、好ましくは0.0001ないし
0.02重量%の活性化合物を必要とする。
iないし0.1重量%、好ましくは0.0001ないし
0.02重量%の活性化合物を必要とする。
本発明による式(1)の化合物は果物の成育及び野菜の
成育における黴の病害菌に対して特に良好な作用を有し
ており、稲の成育における病原菌に対する作用も言及す
るに足るものである。
成育における黴の病害菌に対して特に良好な作用を有し
ており、稲の成育における病原菌に対する作用も言及す
るに足るものである。
製造実施例
衷施例 1
14gの2.5−ビス−(インプロポキシカルボニル)
−3−メチル−4−ヒドロキシチオフェン(0,049
モル)及び0.02gの4−ジメチルアミノピリジンを
始めに20℃でLOOraQの乾燥ピリジン中に導入す
る。129の2−フェニル−2,2−ジフルオロエチル
チオールカルボニル弗化物(0,054モル)を滴下し
て加え、次いで反応混合物を60℃に4時間保持する。
−3−メチル−4−ヒドロキシチオフェン(0,049
モル)及び0.02gの4−ジメチルアミノピリジンを
始めに20℃でLOOraQの乾燥ピリジン中に導入す
る。129の2−フェニル−2,2−ジフルオロエチル
チオールカルボニル弗化物(0,054モル)を滴下し
て加え、次いで反応混合物を60℃に4時間保持する。
250鱈の酢酸エチルを添加し、混合物を氷冷水で一度
、薄い炭酸ナトリウム溶液で一度及び水で一度洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥する。反応溶液を水流ポンプの
真空下で蒸発する。蒸発残渣を容量比で315/lにメ
チルシクロヘキサン/トルエン/酢酸を用いてシリカゲ
ル60上でクロマトグラフにかける。生成画分を蒸発さ
せ、蒸発残渣を60℃10.1+mbarで乾燥する。
、薄い炭酸ナトリウム溶液で一度及び水で一度洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥する。反応溶液を水流ポンプの
真空下で蒸発する。蒸発残渣を容量比で315/lにメ
チルシクロヘキサン/トルエン/酢酸を用いてシリカゲ
ル60上でクロマトグラフにかける。生成画分を蒸発さ
せ、蒸発残渣を60℃10.1+mbarで乾燥する。
17gの2,5−ビス−(イソグロポキシ力ルボニル)
−3−メチル−4−(2−フェニル−2,2−ジフルオ
ロエチル−チオカルボニルオキシ)−チオフェンが粘稠
な成分として得られる。
−3−メチル−4−(2−フェニル−2,2−ジフルオ
ロエチル−チオカルボニルオキシ)−チオフェンが粘稠
な成分として得られる。
’H−NMR(CDC1s”) : C00CH5,
20(m、2H); CHs2.26 (sl 3H)
; 5−CHs−CFx 3.71 (t、2H)乾
燥は石油エーテルから結晶化する。融点66゜5°C0 実施例2ないし9の式(I)の化合物が実施例1又は説
明の際に指摘された方法と同じ方式で得られる: 使用実施例 下記の使用実施例においては、ドイツ特許DE第3,4
02,625号に開示された下記に示す化合物が比較物
質として使用される: と混合し、濃縮物を水で所望の濃度まで水で希釈する。
20(m、2H); CHs2.26 (sl 3H)
; 5−CHs−CFx 3.71 (t、2H)乾
燥は石油エーテルから結晶化する。融点66゜5°C0 実施例2ないし9の式(I)の化合物が実施例1又は説
明の際に指摘された方法と同じ方式で得られる: 使用実施例 下記の使用実施例においては、ドイツ特許DE第3,4
02,625号に開示された下記に示す化合物が比較物
質として使用される: と混合し、濃縮物を水で所望の濃度まで水で希釈する。
保護的活性を試験するために、若い植物が滴る程濡れる
まで活性化合物の配合物を用いて噴霧する。植物を覆っ
た噴霧液が乾燥した後、植物にうどんこ病菌(Podo
sphaera 1eucotricha)の分生胞
子(can id ia)を散布する。
まで活性化合物の配合物を用いて噴霧する。植物を覆っ
た噴霧液が乾燥した後、植物にうどんこ病菌(Podo
sphaera 1eucotricha)の分生胞
子(can id ia)を散布する。
植物を23℃で及び約70%の相対湿度を保った温室中
に入れる。
に入れる。
接種後9日で評価を行う。
この試験において、例えば製造実施例1及び3による化
合物により、先行技術と比較して明らかに優れた活性が
示される。
合物により、先行技術と比較して明らかに優れた活性が
示される。
ボドスフエラ(P odosphaera)種試験(林
檎)/保護用 溶剤: 4.7重量部のアセトン 乳化剤: 0.3重量部のアルキルアリールポリグリコ
ールエーテル 活性化合物の適当な配合物を製造するために、1重量部
の活性化合物を上記量の溶剤及び乳化剤第 A 表 ボドスフェラ種試験/保護用 本発明による化合物 衷遣」L−且 スファエロテ力(S phaerotheca)種試験
(胡瓜)/保護用 溶剤: 4.7重量部のアセトン 乳化剤: 0.3重量部のアルキルアリールポリグリコ
ールエーテル 活性化合物の適当な配合物を製造するために、1重量部
の活性化合物を上記量の溶剤及び乳化剤と混合し、濃縮
物を水で所望の濃度まで水で希釈する。
檎)/保護用 溶剤: 4.7重量部のアセトン 乳化剤: 0.3重量部のアルキルアリールポリグリコ
ールエーテル 活性化合物の適当な配合物を製造するために、1重量部
の活性化合物を上記量の溶剤及び乳化剤第 A 表 ボドスフェラ種試験/保護用 本発明による化合物 衷遣」L−且 スファエロテ力(S phaerotheca)種試験
(胡瓜)/保護用 溶剤: 4.7重量部のアセトン 乳化剤: 0.3重量部のアルキルアリールポリグリコ
ールエーテル 活性化合物の適当な配合物を製造するために、1重量部
の活性化合物を上記量の溶剤及び乳化剤と混合し、濃縮
物を水で所望の濃度まで水で希釈する。
保護的活性を試験するために、若い植物が滴る程濡れる
まで活性化合物の配合物を用いて噴霧する。植物を覆っ
た噴霧液が乾燥した後、植物にうどんこ病菌(S ph
aerotheca fuliginea)の分生胞
子を散布する。
まで活性化合物の配合物を用いて噴霧する。植物を覆っ
た噴霧液が乾燥した後、植物にうどんこ病菌(S ph
aerotheca fuliginea)の分生胞
子を散布する。
植物を23ないし24℃で及び約75%の相対大気湿度
を保った温室中に入れる。
を保った温室中に入れる。
接種後9日で評価を行う。
この試験において、例えば製造実施例1及び3による化
合物により、先行技術と比較して明らかに優れた活性が
示される。
合物により、先行技術と比較して明らかに優れた活性が
示される。
第8表
ス7アエロテ力種試験(胡瓜)/保護用する作用度合%
本発明の主なる特徴及び態様は以下の通りである。
l 。
一般式(I)
(A)
(B)
本発明による化合物
上式中
R1は水素、アルコキシカルボニル、アルコキシアルコ
キシカルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル、
ハロゲノアルコキシカルボニル、シアノアルコキシカル
ボニル、アルケノキシカルボニル、アルキノキシカルボ
ニル、及びシクロアルキルオキシカルボニルを表し、又
はシクロアルキルアルコキシカルボニルを表し、 R2は水素又はアルキルを表し、又はフェニルを表し、
又は R1とR1は共にブタジェン−1,4−ジイル残基を表
し、 R3はアルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチ
オアルコキシ、フルオロアルコキシ、シアノアルコキシ
、アルケノキシ、アルキノキシ、シクロアルキルオキシ
及びシクロアルキルアルコキシを表し、又は下記基 / N \ 上式中 R4はアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオア
ルキル、シアノアルキル、フルオロアルキル、アルケニ
ル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、 R1は水素、アルキル、アルコキシアルキル、アルキル
チオアルキル、フルオロアルキル、シアノアルキル、ア
ルケニル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、又は R1とR5は結合している窒素原子と共に未置換の又は
置換された複素環式環を表し、そのアルキレン鎖が更に
ヘテロ原子によって置換されていてもよく、 R@は水素、メチル又は塩素を表し、及びQは硫黄又は
−CH−CH−を表す、 の置換された2−フェニル−2,2−ジフルオロエチル
チオールカーボネート。
キシカルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル、
ハロゲノアルコキシカルボニル、シアノアルコキシカル
ボニル、アルケノキシカルボニル、アルキノキシカルボ
ニル、及びシクロアルキルオキシカルボニルを表し、又
はシクロアルキルアルコキシカルボニルを表し、 R2は水素又はアルキルを表し、又はフェニルを表し、
又は R1とR1は共にブタジェン−1,4−ジイル残基を表
し、 R3はアルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチ
オアルコキシ、フルオロアルコキシ、シアノアルコキシ
、アルケノキシ、アルキノキシ、シクロアルキルオキシ
及びシクロアルキルアルコキシを表し、又は下記基 / N \ 上式中 R4はアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオア
ルキル、シアノアルキル、フルオロアルキル、アルケニ
ル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、 R1は水素、アルキル、アルコキシアルキル、アルキル
チオアルキル、フルオロアルキル、シアノアルキル、ア
ルケニル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、又は R1とR5は結合している窒素原子と共に未置換の又は
置換された複素環式環を表し、そのアルキレン鎖が更に
ヘテロ原子によって置換されていてもよく、 R@は水素、メチル又は塩素を表し、及びQは硫黄又は
−CH−CH−を表す、 の置換された2−フェニル−2,2−ジフルオロエチル
チオールカーボネート。
2、式(I)において、
R’lよ水素を表し、又はl−7炭素原子を有するアル
コキシカルボニルを表し、又は各アルキル成分光たり1
−5炭素原子を有する、アルコキシアルコキシカルボニ
ル又はアルキルチオアルコキシカルボニルを表し、又は
1−5炭素原子及び1−5の同−又は異なるハロゲン原
子を有するハロゲノアルコキシカルボニルを表し、又は
アルキル成分中に1−5炭素原子を有するシアノアルコ
キシカルボニルを表し、又はアルケン成分中に3又は4
炭素原子を有するアルケノキシ力ルボニルヲ表し、又は
シクロアルキル成分中に4−6炭素原子を有するシクロ
アルキルオキシカルボニルを表し、又はシクロアルキル
アルコキシ成分中に4−8炭素厚子を有するシクロアル
キルアルコキシ力ルボニルヲ表シ、 R2は水素を表し、又は1−4炭素原子を有するアル、
キルを表し又はフェニルを表し、又はR1及びR2は共
にブタジェン−1,4−ジイル残基を表し、 R3は1−3炭素原子を有するアルコキシを表し、又は
各アルキル成分光たりl−5炭素原子を有するアルコキ
シアルコキシを表すか又はアルキルチオアルコキシを表
し、又はl−5炭素原子及びl−5弗素原子を有するフ
ルオロアルコキシを表し、又はアルキル成分中に1−5
炭素原子を有するシアノアルコキシを表し、又は3又は
4炭素原子を有するアルケノキシを表し、又は3−5m
素原子を有するアルキノキシを表し、又は4−6炭素厚
子を有するシクロアルキルオキシを表し、又は4−8炭
素原子を有するシクロアルキルアルコキシを表し、又は
下記基 / \ 上式中 R6はl−5炭素原子を有するアルキルを表し、又は各
アルキル成分光たりl−5炭素原子を有するアルコキシ
アルキル又はアルキルチオアルキルを表し、又はアルキ
ル成分中に1−5炭素原子を有するシアノアルキルを表
し、又は1−3弗素原子及び1−5炭素原子を有するフ
ルオロアルキルを表し、各3−5炭素原子を有するアル
ケニル又はアルキニルを表し、又は3−6炭素原子を有
するシクロアルキルを表し、 R1は水素又は1−5炭素原子を有するアルキルを表し
、各アルキル成分光たり1−5炭素原子を有するアルコ
キシアルキル又はアルキルチオアルキルを表し、アルキ
ル成分光たり1−5炭素原子を有するシアノアルキルを
表し、1−3弗素原子及びl−5炭素原子を有するフル
オロアルキルを表し、3−5炭素原子を有するアルケニ
ル又はアルキニルを表し、又はシクロヘキシルを表し、
又は R4とR・は結合している窒素原子と共に更にlないし
3の同−又は異なるアザ、オキサ又はチア成分を含み、
及びl−4炭素厚子を有する同−又は異なるアルキル基
によりモノ置換ないしトリ置換されていてもよい5−6
−又は7−員の複素環を表し、 R@は水素、メチル又は塩素を表し、及びQは硫黄又は
−〇H−CH−を表す、 上記lに記載の置換された2−フェニル−2,2−ジフ
ルオロエチルチオールカーボネート。
コキシカルボニルを表し、又は各アルキル成分光たり1
−5炭素原子を有する、アルコキシアルコキシカルボニ
ル又はアルキルチオアルコキシカルボニルを表し、又は
1−5炭素原子及び1−5の同−又は異なるハロゲン原
子を有するハロゲノアルコキシカルボニルを表し、又は
アルキル成分中に1−5炭素原子を有するシアノアルコ
キシカルボニルを表し、又はアルケン成分中に3又は4
炭素原子を有するアルケノキシ力ルボニルヲ表し、又は
シクロアルキル成分中に4−6炭素原子を有するシクロ
アルキルオキシカルボニルを表し、又はシクロアルキル
アルコキシ成分中に4−8炭素厚子を有するシクロアル
キルアルコキシ力ルボニルヲ表シ、 R2は水素を表し、又は1−4炭素原子を有するアル、
キルを表し又はフェニルを表し、又はR1及びR2は共
にブタジェン−1,4−ジイル残基を表し、 R3は1−3炭素原子を有するアルコキシを表し、又は
各アルキル成分光たりl−5炭素原子を有するアルコキ
シアルコキシを表すか又はアルキルチオアルコキシを表
し、又はl−5炭素原子及びl−5弗素原子を有するフ
ルオロアルコキシを表し、又はアルキル成分中に1−5
炭素原子を有するシアノアルコキシを表し、又は3又は
4炭素原子を有するアルケノキシを表し、又は3−5m
素原子を有するアルキノキシを表し、又は4−6炭素厚
子を有するシクロアルキルオキシを表し、又は4−8炭
素原子を有するシクロアルキルアルコキシを表し、又は
下記基 / \ 上式中 R6はl−5炭素原子を有するアルキルを表し、又は各
アルキル成分光たりl−5炭素原子を有するアルコキシ
アルキル又はアルキルチオアルキルを表し、又はアルキ
ル成分中に1−5炭素原子を有するシアノアルキルを表
し、又は1−3弗素原子及び1−5炭素原子を有するフ
ルオロアルキルを表し、各3−5炭素原子を有するアル
ケニル又はアルキニルを表し、又は3−6炭素原子を有
するシクロアルキルを表し、 R1は水素又は1−5炭素原子を有するアルキルを表し
、各アルキル成分光たり1−5炭素原子を有するアルコ
キシアルキル又はアルキルチオアルキルを表し、アルキ
ル成分光たり1−5炭素原子を有するシアノアルキルを
表し、1−3弗素原子及びl−5炭素原子を有するフル
オロアルキルを表し、3−5炭素原子を有するアルケニ
ル又はアルキニルを表し、又はシクロヘキシルを表し、
又は R4とR・は結合している窒素原子と共に更にlないし
3の同−又は異なるアザ、オキサ又はチア成分を含み、
及びl−4炭素厚子を有する同−又は異なるアルキル基
によりモノ置換ないしトリ置換されていてもよい5−6
−又は7−員の複素環を表し、 R@は水素、メチル又は塩素を表し、及びQは硫黄又は
−〇H−CH−を表す、 上記lに記載の置換された2−フェニル−2,2−ジフ
ルオロエチルチオールカーボネート。
3、式(I)において、
R1が水素、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル
、n−又はインプロポキシカルボニル、2.2−ジメチ
ルグロポキシカルポニル、2−メトキシエトキシカルボ
ニル、2−エトキシエトキシカルボニル、2−メチルチ
オエトキシカルボニル、2−エチルチオエトキシカルボ
ニル、2.2.2−1−リフルオロエトキシカルボニル
、シアノメトキシカルボニル、シアノエトキシカルボニ
ル オキシカルボニル、2−プロピニルオキカルボニル、1
.1−ジメチル−2−グロビニルオキシカルボニル、シ
クロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシ
カルボニル ロへキシルメトキシ力ルボニルヲ表し、R2が水素、メ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、sec.−ブチル、イソ−ブチル、tert.−ブ
チル又はフェニルを表し、 R1とR2が一緒になってブタジェン−1,4−ジイル
残基を表し、 R3がメトキシ−、エトキシ− n−又はインプロポキ
シ− sec.−ブトキシ− 2.2−ジメチルプロポ
キシ− 2−メトキシエトキシ− 2−エトキシエトキ
シ−2−メチルチオエトキシ2−エチルチオエトキシ−
2,2,2−トリフルオロエトキシ−、シアノメトキシ
−、シアノエトキシ−、アリルオキシ−、メタリルオキ
シ−2−プロピニルオキシ−1,l−ジメチル−2−プ
ロピニルオキシ−、シクロペンチルオキシ−シクロへキ
シルオキシ−又はシクロへキシルメトキシ−を表し、又
は下記の基 / \ R′ 上式中 R4はメチル、エチル、n−又はイソプロピル、2.2
−ジメチルプロピル、2−メトキシエチル、2−エトキ
シエチル、2−プロポキシエチル、3−メトキシプロピ
ル、3−エトキシプロピル、3−ブトキシプロピル、2
−メチルチオエチル、2−エチルチオエチル、2゜2.
2−)リフルオロエチル、2−シアンエチル、l−メチ
ル−1−シアノエチル、ω−シアノペンチル、アリル、
メタリル、2−プロピニル、l、l−ジメチル−2−7
’ロビニル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル又はシクロヘキシルを表し、 R1は水素、メチル、エチル、n−又はイソプロピル、
2.2−ジメチルプロピル、2−メトキシエチル、2−
エトキシエチル、2−プロポキシエチル、3−メトキシ
プロピル、3−エトキシプロピル、3−ブトキシプロピ
ル、2−メチルチオエチル、2−エチルチオエチル、2
,2.2−1リフルオロエチル、2−シアノエチル、l
−メチル−1−シアノエチル、ω−シアノペンチル、ア
リル、メタリル、2−プロピニル、1.1−ジメチル−
2−プロピニル又はシクロヘキシルを表し、 R4及びR1はそれらが結合している窒素原子と一緒に
なってピロリドン、ピペリジン、2−メチルピペリジン
、3−メチルピペリジン、4−メチルピペリジン、ヘキ
サヒドロ−1H−アゼピン、モルフォリン、2.6−ジ
メチルモルフォリン ルビペラジン又はNl−プロピルピペラジンを表し、 R1は水素、メチル又は塩素を表し、 Qは硫黄又は一CH−CH−を表す、 上記lに記載の置換された2−フェニル−2.2−ジフ
ルオロエチルチオールカーボネート。
、n−又はインプロポキシカルボニル、2.2−ジメチ
ルグロポキシカルポニル、2−メトキシエトキシカルボ
ニル、2−エトキシエトキシカルボニル、2−メチルチ
オエトキシカルボニル、2−エチルチオエトキシカルボ
ニル、2.2.2−1−リフルオロエトキシカルボニル
、シアノメトキシカルボニル、シアノエトキシカルボニ
ル オキシカルボニル、2−プロピニルオキカルボニル、1
.1−ジメチル−2−グロビニルオキシカルボニル、シ
クロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシ
カルボニル ロへキシルメトキシ力ルボニルヲ表し、R2が水素、メ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、sec.−ブチル、イソ−ブチル、tert.−ブ
チル又はフェニルを表し、 R1とR2が一緒になってブタジェン−1,4−ジイル
残基を表し、 R3がメトキシ−、エトキシ− n−又はインプロポキ
シ− sec.−ブトキシ− 2.2−ジメチルプロポ
キシ− 2−メトキシエトキシ− 2−エトキシエトキ
シ−2−メチルチオエトキシ2−エチルチオエトキシ−
2,2,2−トリフルオロエトキシ−、シアノメトキシ
−、シアノエトキシ−、アリルオキシ−、メタリルオキ
シ−2−プロピニルオキシ−1,l−ジメチル−2−プ
ロピニルオキシ−、シクロペンチルオキシ−シクロへキ
シルオキシ−又はシクロへキシルメトキシ−を表し、又
は下記の基 / \ R′ 上式中 R4はメチル、エチル、n−又はイソプロピル、2.2
−ジメチルプロピル、2−メトキシエチル、2−エトキ
シエチル、2−プロポキシエチル、3−メトキシプロピ
ル、3−エトキシプロピル、3−ブトキシプロピル、2
−メチルチオエチル、2−エチルチオエチル、2゜2.
2−)リフルオロエチル、2−シアンエチル、l−メチ
ル−1−シアノエチル、ω−シアノペンチル、アリル、
メタリル、2−プロピニル、l、l−ジメチル−2−7
’ロビニル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル又はシクロヘキシルを表し、 R1は水素、メチル、エチル、n−又はイソプロピル、
2.2−ジメチルプロピル、2−メトキシエチル、2−
エトキシエチル、2−プロポキシエチル、3−メトキシ
プロピル、3−エトキシプロピル、3−ブトキシプロピ
ル、2−メチルチオエチル、2−エチルチオエチル、2
,2.2−1リフルオロエチル、2−シアノエチル、l
−メチル−1−シアノエチル、ω−シアノペンチル、ア
リル、メタリル、2−プロピニル、1.1−ジメチル−
2−プロピニル又はシクロヘキシルを表し、 R4及びR1はそれらが結合している窒素原子と一緒に
なってピロリドン、ピペリジン、2−メチルピペリジン
、3−メチルピペリジン、4−メチルピペリジン、ヘキ
サヒドロ−1H−アゼピン、モルフォリン、2.6−ジ
メチルモルフォリン ルビペラジン又はNl−プロピルピペラジンを表し、 R1は水素、メチル又は塩素を表し、 Qは硫黄又は一CH−CH−を表す、 上記lに記載の置換された2−フェニル−2.2−ジフ
ルオロエチルチオールカーボネート。
4、式(1)において
R1が水素、エトキシカルボニル、イソプロポキシカル
ボニル、sec.−ブトキシカルボニル又はシクロペン
チルオキシカルボニルを表し、R1が水素、メチル、イ
ソプロピル又はフェニルを表し、 R3がエトキシ、インプロポキシ、sec.−ブトキシ
又はシクロペンチルオキシを表し、又は下記の基 / \ S R4はメチル又はメトキシエチルを表し、及びR6は水
素又はメチルを表し、又は R4とR5が共にペンタン−1.5−ジイルを表し、又
は3−オキサ−ペンタン−1.5−ジイルを表し、 R@は水素、メチル又は塩素を表し、 Qは硫黄又は−CH−CH−を表す、 上記lに記載の置換された2−フェニル−2.2−ジフ
ルオロエチルチオールカーボネート。
ボニル、sec.−ブトキシカルボニル又はシクロペン
チルオキシカルボニルを表し、R1が水素、メチル、イ
ソプロピル又はフェニルを表し、 R3がエトキシ、インプロポキシ、sec.−ブトキシ
又はシクロペンチルオキシを表し、又は下記の基 / \ S R4はメチル又はメトキシエチルを表し、及びR6は水
素又はメチルを表し、又は R4とR5が共にペンタン−1.5−ジイルを表し、又
は3−オキサ−ペンタン−1.5−ジイルを表し、 R@は水素、メチル又は塩素を表し、 Qは硫黄又は−CH−CH−を表す、 上記lに記載の置換された2−フェニル−2.2−ジフ
ルオロエチルチオールカーボネート。
5、式(I)において、
R1及びR1は共にブタン−1.5−ジイル残基を表し
、 R3はエトキシ、イソプロポキシ、sea.−ブトキシ
又はシクロペンチルオキシを表し、又は下記の基 / \ 上式中 上式中 R月よメチル又はメトキシエチルを表し、R6は水素、
メチル又は塩素を表し、又はR6とRaは共にペンタン
−1,5−ジイルを表し、又は3−オキサ−ペンタン−
1,5−ジイルを表し、 Raは水素、メチル又は塩素を表し、 Qは硫黄又は−CH−CH−を表す、 上記lに記載の置換された2−フェニル−2,2−ジフ
ルオロエチルチオールカーボネート。
、 R3はエトキシ、イソプロポキシ、sea.−ブトキシ
又はシクロペンチルオキシを表し、又は下記の基 / \ 上式中 上式中 R月よメチル又はメトキシエチルを表し、R6は水素、
メチル又は塩素を表し、又はR6とRaは共にペンタン
−1,5−ジイルを表し、又は3−オキサ−ペンタン−
1,5−ジイルを表し、 Raは水素、メチル又は塩素を表し、 Qは硫黄又は−CH−CH−を表す、 上記lに記載の置換された2−フェニル−2,2−ジフ
ルオロエチルチオールカーボネート。
6、−最大(1)
上式中
Raは水素、アルコキシカルボニル、アルコキシアルコ
キシカルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル、
ハロゲノアルコキシカルボニル、シアノアルコキシカル
ボニル、アルケノキシカルボニル、アルキノキシカルボ
ニル、及びシクロアルキルオキシカルボニルを表し、又
はシクロアルキルアルコキシカルボニルを表し、 R1は水素又はアルキルを表し、又はフェニルを表し、
又は R1とR2は共にブタジェン−1,4−ジイル残基を表
し、 Rsはアルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチ
オアルコキシ、フルオロアルコキシ、シアノアルコキシ
、アルケノキシ、アルキノキシ、シクロアルキルオキシ
及びシクロアルキルアルコキシを表し、又は下記基 / N \ Ra 上式中 Raはアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオア
ルキル、シアノアルキル、フルオロアルキル、アルケニ
ル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、 Rjは水素、アルキル、アルコキシアルキル、アルキル
チオアルキル、フルオロアルキル、シアノアルキル、ア
ルケニル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、又は R4とR’lよ結合している窒素原子と共に未置換の又
はR換された複素環式環を表し、そのアルキレン鎖が更
にヘテロ原子によって置換されていてもよく、 Raは水素、メチル又は塩素を表し、及びQは[又は−
〇H−CH−を表す、 の置換された2−フェニル−2,2−ジフルオロエチル
チオールカーボネートが、 a)下記−最大(II) の芳香族又はヘテロ芳香族ヒドロキシル化合物を、式(
III) 上式中 R6は上記と同じ意味を有し、 Xは脱離基を表す、 のアシル化剤と反応させること、又は b)式(…)の化合物を最初に第三有機塩基の存在にお
いてホスゲンと反応させ、得られる式(IV)上式中 Rl、 Rl、 R3及びQは上記と同じ意味を有し、
又はそのアンモニウム、アルカリ金属又はアルカリ土類
金属塩を表す、 上式中 Ra、R1、R1及びQは上記の意味を有する、のクロ
ロカルボニルオキシ−芳香族化合物又はクロロカルボニ
ルオキシ−へテロ芳香族化合物を次いで式(V) 上式中 R6は上記の意味を有する、 の2−フェニル−2,2−ジフルオロエチル−メルカプ
タンと有機又は無機塩基の存在において、及び溶剤及び
希釈剤の存在において反応させること、又は C)式(1)において R1はアルキル又はフェニルを表し、 Qは硫黄を表し、 R1は水素、メチル又は塩素を表し、及びR1及び−C
OR3が異なる残基を有するエステル基をである場合に
は、式(II a) R”はアルコキシカルボニル、アルコキシアルコキシカ
ルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル、ハロゲ
ノアルコキシカルボニル、シアノアルコキシカルボニル
、アルケノキシカルボニル、アルキノキシカルボニル、
シクロアルキルオキシカルボニル又はシクロアルキルア
ルコキシカルボニルを表し、 R1はアルキル又はフェニルを表し、及びRljはアル
コキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチオアルコキ
シ、フルオロアルコキシ、シアノアルコキシ、アルケノ
キシ、アルキノキシ、シクロアルキルオキシ又はシクロ
アルキルアルコキシを表す、 の4−ヒドロキシチオフェン誘導体を RitとCOR
”″が同一のエステル基を表すという条件下で、モル比
l:2のアルコール性アルカリ金属水酸化物水溶液を用
いて部分的に式(■b) 上式中 上式中 H7l及びR31は式(II a)の場合に指示された
意味を有する、 の2−カルボキシ−4−ヒドロキシ−5−カルボン酸エ
ステルに加水分解し、式(Ilb)の化合物を単離した
後に、第三有機塩基の存在において式%式% チオールカルボニルハライドと反応させ、式(VI)上
式中 R2+、R”及びR@は上記と同じ意味を有する、の化
合物を製造し、得られる式(Vl)の化合物を反応させ
て式(■) 上式中 R31、R31及びR1は上記と同じ意味を有する、の
酸クロリドを製造し、次いで最後の段階においてこれら
の化合物を有機塩基の存在において式%式%() 上式中 R1″はアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオ
アルキル、ハロゲノアルキル、シアノアルキル、アルケ
ニル、アルキニル、シクロ・アルキル又はシクロアルキ
ルアルキルを表す、のアルコールでエステル化すること
から成る方法によって製造される、置換された2−フェ
ニル−2,2−ジフルオロエチルチオールカーボネート
の製造方法。
キシカルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル、
ハロゲノアルコキシカルボニル、シアノアルコキシカル
ボニル、アルケノキシカルボニル、アルキノキシカルボ
ニル、及びシクロアルキルオキシカルボニルを表し、又
はシクロアルキルアルコキシカルボニルを表し、 R1は水素又はアルキルを表し、又はフェニルを表し、
又は R1とR2は共にブタジェン−1,4−ジイル残基を表
し、 Rsはアルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチ
オアルコキシ、フルオロアルコキシ、シアノアルコキシ
、アルケノキシ、アルキノキシ、シクロアルキルオキシ
及びシクロアルキルアルコキシを表し、又は下記基 / N \ Ra 上式中 Raはアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオア
ルキル、シアノアルキル、フルオロアルキル、アルケニ
ル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、 Rjは水素、アルキル、アルコキシアルキル、アルキル
チオアルキル、フルオロアルキル、シアノアルキル、ア
ルケニル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、又は R4とR’lよ結合している窒素原子と共に未置換の又
はR換された複素環式環を表し、そのアルキレン鎖が更
にヘテロ原子によって置換されていてもよく、 Raは水素、メチル又は塩素を表し、及びQは[又は−
〇H−CH−を表す、 の置換された2−フェニル−2,2−ジフルオロエチル
チオールカーボネートが、 a)下記−最大(II) の芳香族又はヘテロ芳香族ヒドロキシル化合物を、式(
III) 上式中 R6は上記と同じ意味を有し、 Xは脱離基を表す、 のアシル化剤と反応させること、又は b)式(…)の化合物を最初に第三有機塩基の存在にお
いてホスゲンと反応させ、得られる式(IV)上式中 Rl、 Rl、 R3及びQは上記と同じ意味を有し、
又はそのアンモニウム、アルカリ金属又はアルカリ土類
金属塩を表す、 上式中 Ra、R1、R1及びQは上記の意味を有する、のクロ
ロカルボニルオキシ−芳香族化合物又はクロロカルボニ
ルオキシ−へテロ芳香族化合物を次いで式(V) 上式中 R6は上記の意味を有する、 の2−フェニル−2,2−ジフルオロエチル−メルカプ
タンと有機又は無機塩基の存在において、及び溶剤及び
希釈剤の存在において反応させること、又は C)式(1)において R1はアルキル又はフェニルを表し、 Qは硫黄を表し、 R1は水素、メチル又は塩素を表し、及びR1及び−C
OR3が異なる残基を有するエステル基をである場合に
は、式(II a) R”はアルコキシカルボニル、アルコキシアルコキシカ
ルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル、ハロゲ
ノアルコキシカルボニル、シアノアルコキシカルボニル
、アルケノキシカルボニル、アルキノキシカルボニル、
シクロアルキルオキシカルボニル又はシクロアルキルア
ルコキシカルボニルを表し、 R1はアルキル又はフェニルを表し、及びRljはアル
コキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチオアルコキ
シ、フルオロアルコキシ、シアノアルコキシ、アルケノ
キシ、アルキノキシ、シクロアルキルオキシ又はシクロ
アルキルアルコキシを表す、 の4−ヒドロキシチオフェン誘導体を RitとCOR
”″が同一のエステル基を表すという条件下で、モル比
l:2のアルコール性アルカリ金属水酸化物水溶液を用
いて部分的に式(■b) 上式中 上式中 H7l及びR31は式(II a)の場合に指示された
意味を有する、 の2−カルボキシ−4−ヒドロキシ−5−カルボン酸エ
ステルに加水分解し、式(Ilb)の化合物を単離した
後に、第三有機塩基の存在において式%式% チオールカルボニルハライドと反応させ、式(VI)上
式中 R2+、R”及びR@は上記と同じ意味を有する、の化
合物を製造し、得られる式(Vl)の化合物を反応させ
て式(■) 上式中 R31、R31及びR1は上記と同じ意味を有する、の
酸クロリドを製造し、次いで最後の段階においてこれら
の化合物を有機塩基の存在において式%式%() 上式中 R1″はアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオ
アルキル、ハロゲノアルキル、シアノアルキル、アルケ
ニル、アルキニル、シクロ・アルキル又はシクロアルキ
ルアルキルを表す、のアルコールでエステル化すること
から成る方法によって製造される、置換された2−フェ
ニル−2,2−ジフルオロエチルチオールカーボネート
の製造方法。
7、少なくとも一種の上記l及び6に記載の式(I)の
置換された2−フェニル−2,2−ジフルオロエチルチ
オールカーボネートを含む、病害菌防除剤。
置換された2−フェニル−2,2−ジフルオロエチルチ
オールカーボネートを含む、病害菌防除剤。
8、病害菌の防除に上記l及び6に記載の式(I)の置
換された2−フェニル−2,2−ジフルオロエチルチオ
ールカーボネートを使用すること。
換された2−フェニル−2,2−ジフルオロエチルチオ
ールカーボネートを使用すること。
9、少なくとも一種の上記l及び6に記載の式(T)の
置換された2−7エニルー2,2−ジフルオロエチルチ
オールカーボネートを病害菌及び/又はその棲息地に作
用させる、病害菌の防除方法。
置換された2−7エニルー2,2−ジフルオロエチルチ
オールカーボネートを病害菌及び/又はその棲息地に作
用させる、病害菌の防除方法。
10、上記1及び6に記載の式(1)の置換された2−
フェニル−2,2−ジフルオロエチルチオールカーボネ
ートを増量剤及び/又は界面活性剤と混合する、病害菌
防除剤の製造方法。
フェニル−2,2−ジフルオロエチルチオールカーボネ
ートを増量剤及び/又は界面活性剤と混合する、病害菌
防除剤の製造方法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 上式中 R^1は水素、アルコキシカルボニル、アルコキシアル
コキシカルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル
、ハロゲノアルコキシカルボニル、シアノアルコキシカ
ルボニル、アルケノキシカルボニル、アルキノキシカル
ボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、又はシクロ
アルキルアルコキシカルボニルを表し、 R^2は水素又はアルキル、又はフェニルを表し、又は R^1とR^2は共にブタジエン−1,4−ジイル残基
を表し、 R^3はアルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキル
チオアルコキシ、フルオロアルコキシ、シアノアルコキ
シ、アルケノキシ、アルキノキシ、シクロアルキルオキ
シ、シクロアルキルアルコキシを表すか、又は下記基 ▲数式、化学式、表等があります▼ 上式中 R^4はアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオ
アルキル、シアノアルキル、フルオロアルキル、アルケ
ニル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、 R^5は水素、アルキル、アルコキシアルキル、アルキ
ルチオアルキル、フルオロアルキル、シアノアルキル、
アルケニル、アルキニル又はシクロアルキルを表すか、
又は R^4とR^5はそれらが結合している窒素原子と共に
未置換の又は置換された複素環式環を表し、そのアルキ
レン鎖が更にヘテロ原子によって置換されていてもよく
、 R^5は水素、メチル又は塩素を表し、及びQは硫黄又
は−CH=CH−を表す、 の置換された2−フェニル−2,2−ジフルオロエチル
チオールカーボネート類。 2、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 上式中 R^1は水素、アルコキシカルボニル、アルコキシアル
コキシカルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル
、ハロゲノアルコキシカルボニル、シアノアルコキシカ
ルボニル、アルケノキシカルボニル、アルキノキシカル
ボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、又はシクロ
アルキルアルコキシカルボニルを表し、 R^2は水素又はアルキルを表し、又はフェニルを表し
、又は R^1とR^2は共にブタジエン−1,4−ジイル残基
を表し、 R^3はアルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキル
チオアルコキシ、フルオロアルコキシ、シアノアルコキ
シ、アルケノキシ、アルキノキシ、シクロアルキルオキ
シ、シクロアルキルアルコキシを表すか、又は下記基 ▲数式、化学式、表等があります▼ 上式中 R^4はアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオ
アルキル、シアノアルキル、フルオロアルキル、アルケ
ニル、アルキニル又はシクロアルキルを表し、 R^5は水素、アルキル、アルコキシアルキル、アルキ
ルチオアルキル、フルオロアルキル、シアノアルキル、
アルケニル、アルキニル又はシクロアルキルを表すか、
又は R^4とR^5はそれらが結合している窒素原子と共に
未置換の又は置換された複素環式環を表し、そのアルキ
レン鎖が更にヘテロ原子によって置換されていてもよく
、 R^5は水素、メチル又は塩素を表し、及びQは硫黄又
は−CH=CH−を表す、 の置換された2−フェニル−2,2−ジフルオロエチル
チオールカーボネート類を製造する方法であつて、 a)下記一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 上式中 R^1、R^2、R^3及びQは上記と同じ意味を有す
か、又はそのアンモニウム、アルカリ金属又はアルカリ
土類金属塩を表す、 の芳香族又はヘテロ芳香族ヒドロキシル化合物を、式(
III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 上式中 R^6は上記と同じ意味を有し、 Xは脱離基を表す、 のアシル化剤と反応させるか、又は b)式(II)の化合物を最初に第三有機塩基の存在にお
いてホスゲンと反応させ、次いで得られる式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 上式中 R^1、R^2、R^3及びQは上記の意味を有する、
のクロロカルボニルオキシ−芳香族化合物又はクロロカ
ルボニルオキシ−ヘテロ芳香族化合物を、式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 上式中 R^6は上記の意味を有する、 の2−フェニル−2,2−ジフルオロエチル−メルカプ
タンと有機又は無機塩基の存在において、及び溶剤及び
希釈剤の存在において反応させるか、又は c)式( I )において R^2がアルキル又はフェニルを表し、 Qが硫黄を表し、 R^6が水素、メチル又は塩素を表し、及びR^1及び
−COR^3が異なる残基を有するエステル基である場
合には、式(IIa) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIa) 上式中 R^1’はアルコキシカルボニル、アルコキシアルコキ
シカルボニル、アルキルチオアルコキシカルボニル、ハ
ロゲノアルコキシカルボニル、シアノアルコキシカルボ
ニル、アルケノキシカルボニル、アルキノキシカルボニ
ル、シクロアルキルオキシカルボニル又はシクロアルキ
ルアルコキシカルボニルを表し、 R^2’はアルキル又はフェニルを表し、及びR^3’
はアルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルキルチオア
ルコキシ、フルオロアルコキシ、シアノアルコキシ、ア
ルケノキシ、アルキノキシ、シクロアルキルオキシ又は
シクロアルキルアルコキシを表す、 の4−ヒドロキシチオフェン誘導体を、R^1’とCO
R^3’が同一のエステル基を表すという条件下で、モ
ル比1:2のアルコール性アルカリ金属水酸化物水溶液
を用いて部分的に式(IIb) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIb) 上式中 R^2’及びR^3’は式(IIa)の場合に指示された
意味を有する、 の2−カルボキシ−4−ヒドロキシ−5−カルボン酸エ
ステルに加水分解し、式(IIb)の化合物を単離した後
に、第三有機塩基の存在において式(III)の2−フェ
ニル−2,2−ジフルオロエチルチオールカルボニルハ
ライドと反応させ、式(VI)▲数式、化学式、表等があ
ります▼(VI) 上式中 R^2’、R^3’及びR^6は上記と同じ意味を有す
る、の化合物を製造し、得られる式(VI)の化合物を反
応させて式(VII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) 上式中 R^2’、R^3’及びR^6は上記と同じ意味を有す
る、の酸クロリドを製造し、次いで最後の段階において
これらの化合物を有機塩基の存在下に、式(VIII)R^
1”OH(VIII) 上式中 R^1”はアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチ
オアルキル、ハロゲノアルキル、シアノアルキル、アル
ケニル、アルキニル、シクロアルキル又はシクロアルキ
ルアルキルを表す、のアルコールでエステル化すること
から成る方法。 3、少なくとも一種の特許請求の範囲1項に記載の式(
I )の置換された2−フェニル−2,2−ジフルオロ
エチルチオールカーボネート類を含む病害菌防除剤。 4、病害菌の防除への特許請求の範囲1及び2項に記載
の式( I )の置換された2−フェニル−2,2−ジフ
ルオロエチルチオールカーボネート類の使用。 5、少なくとも一種の特許請求の範囲1項に記載の式(
I )の置換された2−フェニル−2,2−ジフルオロ
エチルチオールカーボネート類を病害菌及び/又はその
棲息地に作用させる病害菌の防除方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3842626 | 1988-12-17 | ||
| DE3842626.9 | 1988-12-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02212468A true JPH02212468A (ja) | 1990-08-23 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1324119A Pending JPH02212468A (ja) | 1988-12-17 | 1989-12-15 | 置換された2―フエニル―2,2―ジフルオロエチルチオールカーボネート、その製造方法及び病害菌防除用としての利用 |
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|---|---|
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4454131A (en) * | 1982-04-30 | 1984-06-12 | Ube Industries, Ltd. | Thiophene derivatives |
-
1989
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