JPH02212847A - 反転画像の作製方法 - Google Patents
反転画像の作製方法Info
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- JPH02212847A JPH02212847A JP1319085A JP31908589A JPH02212847A JP H02212847 A JPH02212847 A JP H02212847A JP 1319085 A JP1319085 A JP 1319085A JP 31908589 A JP31908589 A JP 31908589A JP H02212847 A JPH02212847 A JP H02212847A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F3/00—Colour separation; Correction of tonal value
- G03F3/10—Checking the colour or tonal value of separation negatives or positives
- G03F3/106—Checking the colour or tonal value of separation negatives or positives using non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, other than silicon containing compounds
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
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- Y10S522/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S522/913—Numerically specified distinct wavelength
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、光抑制剤を含む着色されたピールアパートエ
レメント(peel−apart element)を
用いる、反艦画像の作製方法に関するものである。さら
に詳細に本発明は、剥離することのできるカバーシート
i着色材と光抑制剤化合物とを含む光付着性層;粘着性
の本質的に非感光性の接続層;8よび支持体とから構成
されるピールアパート感光性エレメントを用いる、ネガ
または反転像のサーブリントプルーフを作成するための
方法に関するものである。
レメント(peel−apart element)を
用いる、反艦画像の作製方法に関するものである。さら
に詳細に本発明は、剥離することのできるカバーシート
i着色材と光抑制剤化合物とを含む光付着性層;粘着性
の本質的に非感光性の接続層;8よび支持体とから構成
されるピールアパート感光性エレメントを用いる、ネガ
または反転像のサーブリントプルーフを作成するための
方法に関するものである。
発明の背景
どのように現われるかを通常印刷する前に調べる!こめ
印刷業界で用いられている。プルーフは実際の印刷工程
に先立って、色分解の良否をチエツクするための安価な
方法を与えるものである。
印刷業界で用いられている。プルーフは実際の印刷工程
に先立って、色分解の良否をチエツクするための安価な
方法を与えるものである。
カラープルーフを作製するのに有用な多くの感光性エレ
メントが知られている。画像状の露光後、感光性のエレ
メントは有機溶剤により現像するか、または可溶性の画
像区域を洗い去るか、着色材により粘着性の画像区域を
トーニングするか、光付着性層をピールアパートするか
、あるいはこれらの方法を組み合わせるこ七により現像
される。カラープルーフ法のための有用な参考書は、M
ichael H,Bruno氏のrPrincip
les of Co1or ProoringJ GA
MACommunications、 1986である
。
メントが知られている。画像状の露光後、感光性のエレ
メントは有機溶剤により現像するか、または可溶性の画
像区域を洗い去るか、着色材により粘着性の画像区域を
トーニングするか、光付着性層をピールアパートするか
、あるいはこれらの方法を組み合わせるこ七により現像
される。カラープルーフ法のための有用な参考書は、M
ichael H,Bruno氏のrPrincip
les of Co1or ProoringJ GA
MACommunications、 1986である
。
透明な、未着色の、光重合性または光硬化性層は画像状
の露光後に、未露光区域に選択的に付着する着色材を付
与することにより現像することができるo Chu氏他
の米国特許第3,649.268号は、剥離しうる支持
体と光硬化性層とを有するエレメントが、(1)受像層
にラミネートされ、そして(2)再現される原画の色分
解原板を用いて、輻射線を受けた区域の粘着温度を選択
的に上昇させるため、活性輻射線に対し支持体を通じて
画像状に露光され、ついで(3)層から支持体が剥離さ
れ、そして層の外面が粉末状の材料、通常は着色ピグメ
ントまたはトナーで処理され(つまり微粉され)、これ
は層の粘着性の未露光区域にだけ付着し、それでポジ画
像が形成されるという方法を述べている。このトーニン
グされl;面に別のエレメントをラミネートし、違う色
分解原板によりこのエレメントを露光し、剥離し、そし
て対応する色調にトーニングすることにより、多色画像
を得ることができる。L5かしながら、この方法はポジ
または複製の画像の形成だけに限定され(すなわちピグ
メントの画像は露光のために用いたポジ原板の複製であ
る)、またそのために用途、特にネガまたは反転画像(
すなわち露光のために用いた原板上の画像に対して逆の
画像)を必要とするときは制限される。この方法はまた
画像は着色材を付与することにより現像をする必要があ
る。
の露光後に、未露光区域に選択的に付着する着色材を付
与することにより現像することができるo Chu氏他
の米国特許第3,649.268号は、剥離しうる支持
体と光硬化性層とを有するエレメントが、(1)受像層
にラミネートされ、そして(2)再現される原画の色分
解原板を用いて、輻射線を受けた区域の粘着温度を選択
的に上昇させるため、活性輻射線に対し支持体を通じて
画像状に露光され、ついで(3)層から支持体が剥離さ
れ、そして層の外面が粉末状の材料、通常は着色ピグメ
ントまたはトナーで処理され(つまり微粉され)、これ
は層の粘着性の未露光区域にだけ付着し、それでポジ画
像が形成されるという方法を述べている。このトーニン
グされl;面に別のエレメントをラミネートし、違う色
分解原板によりこのエレメントを露光し、剥離し、そし
て対応する色調にトーニングすることにより、多色画像
を得ることができる。L5かしながら、この方法はポジ
または複製の画像の形成だけに限定され(すなわちピグ
メントの画像は露光のために用いたポジ原板の複製であ
る)、またそのために用途、特にネガまたは反転画像(
すなわち露光のために用いた原板上の画像に対して逆の
画像)を必要とするときは制限される。この方法はまた
画像は着色材を付与することにより現像をする必要があ
る。
Dueber氏他の米国特許第4,477.556号の
開示を参考として挙げておくが、これは基体上にポジま
たはネガのいずれかのポリマ画像を形成しうる組成物と
方法とを述べている。この光重合性層は感光性の酸性0
−ニトロ芳香族化合物を含み、このものは重合−抑制性
のニトロソ芳香族化合物を発生させる。しかしながら、
Dueber氏他の現像法は、ドライ法というよりは液
体を使用するウォッシュアウト法であるという欠点を育
している。
開示を参考として挙げておくが、これは基体上にポジま
たはネガのいずれかのポリマ画像を形成しうる組成物と
方法とを述べている。この光重合性層は感光性の酸性0
−ニトロ芳香族化合物を含み、このものは重合−抑制性
のニトロソ芳香族化合物を発生させる。しかしながら、
Dueber氏他の現像法は、ドライ法というよりは液
体を使用するウォッシュアウト法であるという欠点を育
している。
Cohen氏とFan氏の米国特許第4.282,30
8号では、着色材によるトーニングの必要のないドライ
法により、反転着色画像を形成しうる光重合性エレメン
トが述べられている。このエレメントは上層から下Iこ
向けた順Jこ透明な剥離可能カバーシート、着色材を含
んでいる光付着性層、粘着性の非感光性有aI接続層、
および支持体とから構成されている。・カバーシートを
通じた活性輻射線Jこ対する画像状露光後、このエレメ
ントはそこに付着した光付着性層の露光された区域とと
もに、カバーシートをひきはがすことによりピールアパ
ートされ、かくしてカバーシート上にネガ画像が形成さ
れる。接続層から露光をされた光付着性層とカバーシー
トとをとり去るのに必要な剥離力は、未露光の光付着性
層からカバーシートをとり去るに要する剥離力の少なく
とも4倍である。露光がネガ画像、つまりネガの分解原
板を通じてなされ、モしてエレメントがピールアパート
されたとき、はがされたカバーシート上にはポジ画像が
、そして接続層上にはネガ画像が得られる。露光がポジ
画像、つまりポジの分解原板を通じてなされ、そしてエ
レメントがピールアパートされたとき、カバーシート上
lこはネガ画像が、そして粘着性の接続層上Iこはポジ
画像が得られる。ネガの多色プルーフを作るためには、
一連の適切に着色されたネガ画像が、お互の表面上に位
置決めの下にラミネートされる。
8号では、着色材によるトーニングの必要のないドライ
法により、反転着色画像を形成しうる光重合性エレメン
トが述べられている。このエレメントは上層から下Iこ
向けた順Jこ透明な剥離可能カバーシート、着色材を含
んでいる光付着性層、粘着性の非感光性有aI接続層、
および支持体とから構成されている。・カバーシートを
通じた活性輻射線Jこ対する画像状露光後、このエレメ
ントはそこに付着した光付着性層の露光された区域とと
もに、カバーシートをひきはがすことによりピールアパ
ートされ、かくしてカバーシート上にネガ画像が形成さ
れる。接続層から露光をされた光付着性層とカバーシー
トとをとり去るのに必要な剥離力は、未露光の光付着性
層からカバーシートをとり去るに要する剥離力の少なく
とも4倍である。露光がネガ画像、つまりネガの分解原
板を通じてなされ、モしてエレメントがピールアパート
されたとき、はがされたカバーシート上にはポジ画像が
、そして接続層上にはネガ画像が得られる。露光がポジ
画像、つまりポジの分解原板を通じてなされ、そしてエ
レメントがピールアパートされたとき、カバーシート上
lこはネガ画像が、そして粘着性の接続層上Iこはポジ
画像が得られる。ネガの多色プルーフを作るためには、
一連の適切に着色されたネガ画像が、お互の表面上に位
置決めの下にラミネートされる。
Tay1or氏の米国特許第4,489.154号、こ
の開示をここに参考に挙げておくが、これは着色材によ
るトーニングを必要としない、ドライ法によるサーブリ
ントプルーフの作製方法が述べられている。この方法は
剥離しうるカバーシート;着色材を含んだ光付着性層−
粘着性の本質的に非感光性の接続層;および支持体とか
ら構成される、ピールアパート感光性エレメントの画像
状露光を利用している。ポジ画像っまりポジ分解原板を
通じた活性輻射線露光をしてピールアパートした後で、
接続層上にポジに着色した光付着性画像が形成される。
の開示をここに参考に挙げておくが、これは着色材によ
るトーニングを必要としない、ドライ法によるサーブリ
ントプルーフの作製方法が述べられている。この方法は
剥離しうるカバーシート;着色材を含んだ光付着性層−
粘着性の本質的に非感光性の接続層;および支持体とか
ら構成される、ピールアパート感光性エレメントの画像
状露光を利用している。ポジ画像っまりポジ分解原板を
通じた活性輻射線露光をしてピールアパートした後で、
接続層上にポジに着色した光付着性画像が形成される。
この画像はつぎに基体に付着させられる。異なる色の層
でこの工程を繰り返すことにより、基体上に多色サーブ
リントプルーフ像を作ることができる。もし露光をネガ
像、つまりネガの分解原板を通じて行なうならば、カバ
ーシート上にポジに着色した光付着性画像が形成される
。この画像は基体に転写することができ、そして前述の
ようにこの方法を繰り返すことによりネガまたは反転サ
ーブリントプルーフとする、すなわち−組のネガ分解原
板からポジのプルーフを作ることができるが、露光工程
後のラミネーションから生ずる位置決め上の問題と画像
の歪みとのt;め、股にこれを行なうのは実用的ではな
い。
でこの工程を繰り返すことにより、基体上に多色サーブ
リントプルーフ像を作ることができる。もし露光をネガ
像、つまりネガの分解原板を通じて行なうならば、カバ
ーシート上にポジに着色した光付着性画像が形成される
。この画像は基体に転写することができ、そして前述の
ようにこの方法を繰り返すことによりネガまたは反転サ
ーブリントプルーフとする、すなわち−組のネガ分解原
板からポジのプルーフを作ることができるが、露光工程
後のラミネーションから生ずる位置決め上の問題と画像
の歪みとのt;め、股にこれを行なうのは実用的ではな
い。
ネガまたは反転サーブリントプルーフを作るだめの改良
された方法が要望されている。このような方法は着色材
の付与を必要とせず、また露光後のラミネーションを必
要としないドライ法でなければならない。また、ポジあ
るいはネガのサーブリントプル−フのいずれかを作るこ
とのできるエレメントを用いる、改良されたプルーフ作
製法を与えることが要望されている。
された方法が要望されている。このような方法は着色材
の付与を必要とせず、また露光後のラミネーションを必
要としないドライ法でなければならない。また、ポジあ
るいはネガのサーブリントプル−フのいずれかを作るこ
とのできるエレメントを用いる、改良されたプルーフ作
製法を与えることが要望されている。
発明の要点
本発明は以下に述べる順序の工程から構成される、ピー
ルアパート多層感光性エレメント上に、ネガまたは反転
画像を作製するための改良された方法を提供する、すな
わち: (1)上層から下層に向は次の順に、 (a)活性輻射線に対して透明な剥離することのできる
カバーシートと、 (b)エチレン系不飽和基をもつ光硬化性材料、0−ニ
トロ芳香族光抑制剤化合物、380nm以上の波長の活
性輻射線により活性化される遊離基発生性の光開始剤ま
たは光開始剤系、および着色材とをもつ光硬化性材料か
らなる光付着性層と、そして (c)本質的に非感光性の有機接続層、とからWI4成
されるピールアパート多層感光性エレメントを用意し、
ここで実質と約380nm以上の波長に限定された活性
輻射線に対する露光後、接続層(c)からその上の露光
をされた光付着性層(b)と共にカバーシート(a)を
とり去るのに要する剥離力が、未露光の光付着性層(b
)からカバーシート(a)をとり去るのに要する剥離力
の少なくとも4倍であり; (2)このピールアパート多層エレメントを画像をもつ
原板を通じて、実質上約200〜約380nrrrの波
長に限定した活性輻射線に露光し、これにより光付着性
層の輻射線の当った区域内に重合抑制剤が形成され; (3)このエレメント全体を、実質上約380nm以上
の波長に限定した活l!1:lII射線に露光し、これ
により工程(2)で露光をされなかった区域の光付着性
層が重合され; (4)光付着性層(b)からカバーシー)(a)ヲ剥1
1し、これにより工程(2)で露光をされた区域の光付
着性層を、用いた原板のネガまたは反転画像として接続
層(c)上に残留させる。
ルアパート多層感光性エレメント上に、ネガまたは反転
画像を作製するための改良された方法を提供する、すな
わち: (1)上層から下層に向は次の順に、 (a)活性輻射線に対して透明な剥離することのできる
カバーシートと、 (b)エチレン系不飽和基をもつ光硬化性材料、0−ニ
トロ芳香族光抑制剤化合物、380nm以上の波長の活
性輻射線により活性化される遊離基発生性の光開始剤ま
たは光開始剤系、および着色材とをもつ光硬化性材料か
らなる光付着性層と、そして (c)本質的に非感光性の有機接続層、とからWI4成
されるピールアパート多層感光性エレメントを用意し、
ここで実質と約380nm以上の波長に限定された活性
輻射線に対する露光後、接続層(c)からその上の露光
をされた光付着性層(b)と共にカバーシート(a)を
とり去るのに要する剥離力が、未露光の光付着性層(b
)からカバーシート(a)をとり去るのに要する剥離力
の少なくとも4倍であり; (2)このピールアパート多層エレメントを画像をもつ
原板を通じて、実質上約200〜約380nrrrの波
長に限定した活性輻射線に露光し、これにより光付着性
層の輻射線の当った区域内に重合抑制剤が形成され; (3)このエレメント全体を、実質上約380nm以上
の波長に限定した活l!1:lII射線に露光し、これ
により工程(2)で露光をされなかった区域の光付着性
層が重合され; (4)光付着性層(b)からカバーシー)(a)ヲ剥1
1し、これにより工程(2)で露光をされた区域の光付
着性層を、用いた原板のネガまたは反転画像として接続
層(c)上に残留させる。
このピールアパート多層感光性エレメントは、接続層(
C)に接着した除去可能な支持体(d)をさらに含むこ
とができる。前記の工程(2)の前に、この除去可能な
支持体はとり除かれ、そしてエレメントは受容基体に接
着される。
C)に接着した除去可能な支持体(d)をさらに含むこ
とができる。前記の工程(2)の前に、この除去可能な
支持体はとり除かれ、そしてエレメントは受容基体に接
着される。
さらに好ましいものは、この除去可能支持体がとり除か
れ、エレメントは受容基体に接着され、そして前記工程
(1)〜(4)が少なくとも1度、各回異なる着色材か
らなるピールアパート感光性ニレメン(・を用いて繰り
返され、これは前回のエレメントにその接続層(C)に
より接着され、そして対応する色分解厚板を通じて位置
合わせの下に露光され、これにより多色反転画像サーブ
リントが形成される。標準的な4色ブルーフを作るため
にはイエロ、マゼンタ、シアン、および黒の着色層が重
ね合わされる。
れ、エレメントは受容基体に接着され、そして前記工程
(1)〜(4)が少なくとも1度、各回異なる着色材か
らなるピールアパート感光性ニレメン(・を用いて繰り
返され、これは前回のエレメントにその接続層(C)に
より接着され、そして対応する色分解厚板を通じて位置
合わせの下に露光され、これにより多色反転画像サーブ
リントが形成される。標準的な4色ブルーフを作るため
にはイエロ、マゼンタ、シアン、および黒の着色層が重
ね合わされる。
本発明の好ましい具体例において、光付着性層は0−ニ
トロ芳香放光抑制剤、着色材、高分子有機バインダ、付
加重合しうるエチレン系の不飽和モノマ、および380
nm以上の波長の活性輻射線により活性化される、遊離
基発生性の付加重合開始剤または開始剤系を含んでいる
。
トロ芳香放光抑制剤、着色材、高分子有機バインダ、付
加重合しうるエチレン系の不飽和モノマ、および380
nm以上の波長の活性輻射線により活性化される、遊離
基発生性の付加重合開始剤または開始剤系を含んでいる
。
本発明のさらに好ましい具体例において、Pazos氏
の米国特許第4.198,242号の開示を参考にここ
に挙げておくが、そこでは光抑制剤化合物としては0−
ニトロ芳香族型が述べられている。好ましい光抑制剤は
6−ニトロベラトルアルデヒドおよびl−(1−(4−
(1,1−ジメチルエチル)−7エノキシ〕エチル)−
4,5−・ジメトキシ−2−二トロベンゼンである。本
発明のさらに好ましい具体例において、遊離基発生性の
開始剤系は2,4.5− トリアリールイミダゾールダ
イマ、水素供与体および可視光線増感剤とから構成され
る。好ましい可視光線増感剤には、Baui氏とHen
ry氏の米国特許第3.652.275号で示されたビ
ス(p−ジアルキルアミノベンジリジン)ケトン、およ
びDusber氏の米国特許第4.162.162号、
同じく同第4.268.667号と第4.351,89
3号で示されたアリーリチンアリールケトン類などが含
まれ、これらの開示をここに参考に挙げておく。特に好
ましい可視光線増感剤は、以下に定義するジメトキシ−
JDrとDBIとである。
の米国特許第4.198,242号の開示を参考にここ
に挙げておくが、そこでは光抑制剤化合物としては0−
ニトロ芳香族型が述べられている。好ましい光抑制剤は
6−ニトロベラトルアルデヒドおよびl−(1−(4−
(1,1−ジメチルエチル)−7エノキシ〕エチル)−
4,5−・ジメトキシ−2−二トロベンゼンである。本
発明のさらに好ましい具体例において、遊離基発生性の
開始剤系は2,4.5− トリアリールイミダゾールダ
イマ、水素供与体および可視光線増感剤とから構成され
る。好ましい可視光線増感剤には、Baui氏とHen
ry氏の米国特許第3.652.275号で示されたビ
ス(p−ジアルキルアミノベンジリジン)ケトン、およ
びDusber氏の米国特許第4.162.162号、
同じく同第4.268.667号と第4.351,89
3号で示されたアリーリチンアリールケトン類などが含
まれ、これらの開示をここに参考に挙げておく。特に好
ましい可視光線増感剤は、以下に定義するジメトキシ−
JDrとDBIとである。
発明の詳細な説明
本発明はネガまたは反転画像、さらに好ましくは多色サ
ーブリントプルーフを作製するためのドライ法である。
ーブリントプルーフを作製するためのドライ法である。
この方法はネガまたは反転画像のいずれかを作製しうる
、を用な予め着色されたピールアパート感光性エレメン
トを使用する。このピールアパートエレメントは剥離す
ることのできるカバーシート;着色材と光抑制剤とを含
む光付着性層:粘着性の本質的に非感光性の接続層;お
よび支持体とから構成されている。「ドライ法」は液体
を使用する必要のない方法のことを意味している。高品
質の画像を作ることのできるピールアパートエレメント
は、各種の層の層内および眉間の凝集力と付着力との複
雑なバランスを必要とする。かかるエレメントを達成す
ることは技術的に困難であり、光抑制剤/光開始剤系を
かかるエレメント中に導入でき、かつ反転画像を作製す
るために2種の異なる露光を用いうろことは、従来例示
されていなかっt;のである。
、を用な予め着色されたピールアパート感光性エレメン
トを使用する。このピールアパートエレメントは剥離す
ることのできるカバーシート;着色材と光抑制剤とを含
む光付着性層:粘着性の本質的に非感光性の接続層;お
よび支持体とから構成されている。「ドライ法」は液体
を使用する必要のない方法のことを意味している。高品
質の画像を作ることのできるピールアパートエレメント
は、各種の層の層内および眉間の凝集力と付着力との複
雑なバランスを必要とする。かかるエレメントを達成す
ることは技術的に困難であり、光抑制剤/光開始剤系を
かかるエレメント中に導入でき、かつ反転画像を作製す
るために2種の異なる露光を用いうろことは、従来例示
されていなかっt;のである。
このエレメントの唯一の感光性層である先付着性層は、
カバーシートおよび接続層との間の接薯性の関係が、活
性輻射線に対する露光により変化されるものの1つであ
り、露光後光付着性層の露光された区域は、接続層に対
するよりもカバーシートにより強く付着しそり、てカバ
ーシートとともに剥ぎ取られるが、これに反して光付着
性層の未露光区域は、カバーシートよりも接続層により
強く付着し接続層上に残留する。
カバーシートおよび接続層との間の接薯性の関係が、活
性輻射線に対する露光により変化されるものの1つであ
り、露光後光付着性層の露光された区域は、接続層に対
するよりもカバーシートにより強く付着しそり、てカバ
ーシートとともに剥ぎ取られるが、これに反して光付着
性層の未露光区域は、カバーシートよりも接続層により
強く付着し接続層上に残留する。
層の付着力と凝集力との関係は、本発明のエレメントを
特性化する際に有用であり、ここでA、はカバーシート
(1)と未露光の光付着性層(2)間の付着力であり;
A!は未露光の光付着性層(2)と粘着性の接続層(3
)間の付着力であり;そしてCは未露光の光付着性層(
2)の凝集力である。そこで、未露光の状態ではA+が
最小の値であり、エレメントはカバーシート/光付着性
層界面で剥離される。この力関係は次のように表わすこ
とができる: C>A+<<Ax エレメントの画像状露光Iこ際して、付着力と凝集力の
値に劇的な変化が生ずることが認められた。A−を光付
薯性層(2)の露光をされた区域(5)とカバーシート
(])間の付着力とし;A2本を露光をされた区域(5
)と粘着性の接続層(3)間の付着力とし;そして0京
を露光された区域(5)中の光付着性層の凝集力とする
。そこで、露光をされた状態のA−が最小の値であると
き、同時に未露光区域の凝集力Cの値は、露光をされた
区域(5)と未露光の区域(6)との間の界面で光付着
性層(2)がきれいに裂けるよう、またカバーシートが
剥ぎ去られるとき、露光をされた区域(5)が完全にと
り去られるように充分小さなものでなければならない。
特性化する際に有用であり、ここでA、はカバーシート
(1)と未露光の光付着性層(2)間の付着力であり;
A!は未露光の光付着性層(2)と粘着性の接続層(3
)間の付着力であり;そしてCは未露光の光付着性層(
2)の凝集力である。そこで、未露光の状態ではA+が
最小の値であり、エレメントはカバーシート/光付着性
層界面で剥離される。この力関係は次のように表わすこ
とができる: C>A+<<Ax エレメントの画像状露光Iこ際して、付着力と凝集力の
値に劇的な変化が生ずることが認められた。A−を光付
薯性層(2)の露光をされた区域(5)とカバーシート
(])間の付着力とし;A2本を露光をされた区域(5
)と粘着性の接続層(3)間の付着力とし;そして0京
を露光された区域(5)中の光付着性層の凝集力とする
。そこで、露光をされた状態のA−が最小の値であると
き、同時に未露光区域の凝集力Cの値は、露光をされた
区域(5)と未露光の区域(6)との間の界面で光付着
性層(2)がきれいに裂けるよう、またカバーシートが
剥ぎ去られるとき、露光をされた区域(5)が完全にと
り去られるように充分小さなものでなければならない。
得られる力の関係は以下のように表わされる:
C(A、本〉〉A8本く0本
これらの凝集力と付着力との総合効果は、エレメント表
面から180’の角度でカバーシートを剥離もしくは除
去するのに必要とされる力により、活性光の露光量とカ
バーシートの除去速度の関数として測定される。剥離力
はカバーシートの除去速度の増大とともに増加するが、
この増加は600インチ/分(1524cm/分)以上
の範囲で比較的に小さい。本発明のエレメントについて
代表的に露光をされた区域での剥離力、八−1は未露光
の区域のもの、島、よりも劇的に高く、すなわち少なく
とも4倍高くそして好ましく1けた異なっている。驚く
べきことに、これらのエレメントはまた画像の再現性と
階調とが、著るしく改良されることを示した。未露光の
状態において、カバーシートを除去するための剥離力は
非常に小さく、そして分離はカバーシートと光付着性層
との界面において発生し、剥離力は付着力^1に和尚し
ている。本発明で付着力A。
面から180’の角度でカバーシートを剥離もしくは除
去するのに必要とされる力により、活性光の露光量とカ
バーシートの除去速度の関数として測定される。剥離力
はカバーシートの除去速度の増大とともに増加するが、
この増加は600インチ/分(1524cm/分)以上
の範囲で比較的に小さい。本発明のエレメントについて
代表的に露光をされた区域での剥離力、八−1は未露光
の区域のもの、島、よりも劇的に高く、すなわち少なく
とも4倍高くそして好ましく1けた異なっている。驚く
べきことに、これらのエレメントはまた画像の再現性と
階調とが、著るしく改良されることを示した。未露光の
状態において、カバーシートを除去するための剥離力は
非常に小さく、そして分離はカバーシートと光付着性層
との界面において発生し、剥離力は付着力^1に和尚し
ている。本発明で付着力A。
は代表的に20g/インチ(7,9g/ c+m)以下
であり、一般的に5〜1.(h/インチ(1,97〜3
.949/CI+)の間である。露光に際して、誘導期
を過ぎると光重合または光硬化が始まり、そして露光と
ともに剥離力の値は急速に増加する。光付着性層の光重
合が不十分な中間的な露光で、分離は光付著性層中の中
間点で発生し良好な画像を与えない。しかしながら、適
切な露光のレベルで、この欠陥の位置は露光済みの光付
着性層と接続層間の界面に移動する。この点において剥
離力は高原に達し、その後の露光範囲に亘って実質的に
一定の値を維持する。この高原域での剥離力は付着力A
8京に相当する。本発明で付着力A−は代表的に80g
/インチ(31,59/ cm)以上で、好ましく10
0〜700y/インチ(39,4〜275.6g/cm
)の間である。このように露光対未露光エレメントの付
着力の比、すなわちA μ/ A tは少なくとも4で
、好ましく10−100またはこれ以上である。
であり、一般的に5〜1.(h/インチ(1,97〜3
.949/CI+)の間である。露光に際して、誘導期
を過ぎると光重合または光硬化が始まり、そして露光と
ともに剥離力の値は急速に増加する。光付着性層の光重
合が不十分な中間的な露光で、分離は光付著性層中の中
間点で発生し良好な画像を与えない。しかしながら、適
切な露光のレベルで、この欠陥の位置は露光済みの光付
着性層と接続層間の界面に移動する。この点において剥
離力は高原に達し、その後の露光範囲に亘って実質的に
一定の値を維持する。この高原域での剥離力は付着力A
8京に相当する。本発明で付着力A−は代表的に80g
/インチ(31,59/ cm)以上で、好ましく10
0〜700y/インチ(39,4〜275.6g/cm
)の間である。このように露光対未露光エレメントの付
着力の比、すなわちA μ/ A tは少なくとも4で
、好ましく10−100またはこれ以上である。
前述したように、高品質の画像を作るのに用いることの
できる、ピールアパート感光性エレメントは、そのエレ
メント中で要求される複雑す力のバランスを達成するの
が技術的に困難である。1つまたは数種の光抑制剤と光
開始剤または光開始剤系を用い、そしてここで開示した
ような異なる波長の放射線を使用する2段階のIf光で
、画像の反転プロセスがピールアパート多層システムで
達成できるということは従来知られていなかった。
できる、ピールアパート感光性エレメントは、そのエレ
メント中で要求される複雑す力のバランスを達成するの
が技術的に困難である。1つまたは数種の光抑制剤と光
開始剤または光開始剤系を用い、そしてここで開示した
ような異なる波長の放射線を使用する2段階のIf光で
、画像の反転プロセスがピールアパート多層システムで
達成できるということは従来知られていなかった。
本発明エレメントのカバーシートは、光付着性層の露光
をされそして光硬化された区域だけを伴って、エレメン
トの残部から剥離しうる(すなわち剥ぎとられることに
より除去される)ものでなければならない。このカバー
シートは好ましくは酸素不透過性で、かつエレメントが
カバーシートを通じて露光できるよう、活性輻射線に対
して透明なものである。カバーシートに好ましい材料は
ポリマ性のフィルムであり、特にポリエチレンテレフタ
レートのようなポリエステルフィルムである。ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリスチレン、またはポリエチレンあ
るいはボリプaピレンのようなポリオレフィンなどのフ
ィルムも使用することができる。光付着性層の露光をさ
れた区域が、カバーシートにより良く付着するようにさ
せるために、カバーシートの表面を変性することができ
、例えば、表面は静電放電または火炎処理のような表面
処理により、変性および/または極性の増加をすること
ができる。 0.0005インチ(0,013m+*)
の厚さヲモつポリエチレンテレフタレートフィルムの場
合、少なくとも0.025クーロン/ ft”(0,2
72クーロン/lりの静電放電が適している。しかしな
がらさらに強い処理を使用することもできる。
をされそして光硬化された区域だけを伴って、エレメン
トの残部から剥離しうる(すなわち剥ぎとられることに
より除去される)ものでなければならない。このカバー
シートは好ましくは酸素不透過性で、かつエレメントが
カバーシートを通じて露光できるよう、活性輻射線に対
して透明なものである。カバーシートに好ましい材料は
ポリマ性のフィルムであり、特にポリエチレンテレフタ
レートのようなポリエステルフィルムである。ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリスチレン、またはポリエチレンあ
るいはボリプaピレンのようなポリオレフィンなどのフ
ィルムも使用することができる。光付着性層の露光をさ
れた区域が、カバーシートにより良く付着するようにさ
せるために、カバーシートの表面を変性することができ
、例えば、表面は静電放電または火炎処理のような表面
処理により、変性および/または極性の増加をすること
ができる。 0.0005インチ(0,013m+*)
の厚さヲモつポリエチレンテレフタレートフィルムの場
合、少なくとも0.025クーロン/ ft”(0,2
72クーロン/lりの静電放電が適している。しかしな
がらさらに強い処理を使用することもできる。
フィルムの火炎処理も良好な光付着性を与え、空気−ズ
ロバン炎を用いることができる。
ロバン炎を用いることができる。
カバーシートの厚みは広い範囲に亘って変えることがで
きるが、o、ooiインチ(0,025mm)またはこ
れ以下の厚みのフィルムが特に好ましい。
きるが、o、ooiインチ(0,025mm)またはこ
れ以下の厚みのフィルムが特に好ましい。
うすいカバーシートは、明確なエッヂをもつ良好な円形
の網点を形成する。その他、2〜98%網点解像(15
0線/インチのスクリーン使用)の階調範囲とカバーシ
ート剥離の高い速度、例えば9000インチ/分(22
,860cys1分)またはこれ以上、とかうすいカバ
ーシートの場合得られる。
の網点を形成する。その他、2〜98%網点解像(15
0線/インチのスクリーン使用)の階調範囲とカバーシ
ート剥離の高い速度、例えば9000インチ/分(22
,860cys1分)またはこれ以上、とかうすいカバ
ーシートの場合得られる。
このr階調範囲」とは最高網点サイズのパーセントとし
ての、解像しうる網点サイズの範囲を意味している。一
般的に、カバーシート剥離の高い速度は良好な賞の画像
を形成する。カバーシートは、静電放電または火炎処理
によって損われず、そのため裂けることなく剥離できる
ために充分な厚みをもつべきである。カバーシートは補
足的な処理あるいは接着性、強度、およびその他の性質
を改良するj;めの層などを付加することができる。
ての、解像しうる網点サイズの範囲を意味している。一
般的に、カバーシート剥離の高い速度は良好な賞の画像
を形成する。カバーシートは、静電放電または火炎処理
によって損われず、そのため裂けることなく剥離できる
ために充分な厚みをもつべきである。カバーシートは補
足的な処理あるいは接着性、強度、およびその他の性質
を改良するj;めの層などを付加することができる。
網点または線原板を通じ、活性輻射線に対してピールア
パート感光性エレメントを画像状に露光した後、光付着
性層は露光をされた区域において接続層に対するよりは
カバーシートにより強く付着し、そして未露光の区域に
おいてはカバーシートに対するよりは接続層により強く
付着する。光硬化性材料が光付着性層に使用される。か
かる材料は普通エチレン系不飽和基をもつ材料で構成さ
れ、これは活性輻射線に対する露光により分子量の増加
と、その結果カバーシートに対する接着性の増加が生じ
る。光重合をしうる良く知られたエチレン系不飽和材料
が好ましい。このような材料は、例えばChu氏他の米
国特許環3,649.268号中で述べられており、こ
の開示をここに参考に挙げておく。
パート感光性エレメントを画像状に露光した後、光付着
性層は露光をされた区域において接続層に対するよりは
カバーシートにより強く付着し、そして未露光の区域に
おいてはカバーシートに対するよりは接続層により強く
付着する。光硬化性材料が光付着性層に使用される。か
かる材料は普通エチレン系不飽和基をもつ材料で構成さ
れ、これは活性輻射線に対する露光により分子量の増加
と、その結果カバーシートに対する接着性の増加が生じ
る。光重合をしうる良く知られたエチレン系不飽和材料
が好ましい。このような材料は、例えばChu氏他の米
国特許環3,649.268号中で述べられており、こ
の開示をここに参考に挙げておく。
特に好ましいものは、高分子有機ポリマバインダと付加
重合しうるエチレン系不飽和モノマとからなる光重合性
組成物である。バインダは、ポリマに極性を付与する遊
離の酸性基を少なくトモ1.5モル%含む、酸性ポリマ
のような極性材料あるいは非極性材料であり、例えばB
urg氏他の米国特訂第3.060,023号; Ch
u氏他の米国特許!3,649,268号;およびco
l旨r氏他の米国特許環3.984.244号などで述
べられているような材料である。このモノマは遊離基で
開始され、連鎖伸長の付加重合をしうる、少なくとも1
個好ましくは2個またはこれ以上の末端エチレン系不飽
和基をもつもので、このモノマは好ましくある程度の極
性を有し、そしてバインダおよびカバーシートの極性表
面と親和性をもつものであるが、接続層中には実質的に
非拡教性のものである。
重合しうるエチレン系不飽和モノマとからなる光重合性
組成物である。バインダは、ポリマに極性を付与する遊
離の酸性基を少なくトモ1.5モル%含む、酸性ポリマ
のような極性材料あるいは非極性材料であり、例えばB
urg氏他の米国特訂第3.060,023号; Ch
u氏他の米国特許!3,649,268号;およびco
l旨r氏他の米国特許環3.984.244号などで述
べられているような材料である。このモノマは遊離基で
開始され、連鎖伸長の付加重合をしうる、少なくとも1
個好ましくは2個またはこれ以上の末端エチレン系不飽
和基をもつもので、このモノマは好ましくある程度の極
性を有し、そしてバインダおよびカバーシートの極性表
面と親和性をもつものであるが、接続層中には実質的に
非拡教性のものである。
有用と認められている酸性バインダは、コポリ(メチル
メタアクリレート/メタアクリル酸)およびポリ(メチ
ルビニルエーテル/無水マレイン酸)のモノエチルエス
テルを挙げることができ、このそれぞれは各種の割合で
共重合させることができる。このほか多くの極性ポリマ
とコポリマとが知られており、光重合性層のバインダと
して有用と認められている。エチレン系不飽和モノマに
関してを用と認められているものはPlambeck氏
の米国特許環2,760,863号; Cohen氏と
5choenthaler氏の米国特許環3.380.
831号;およびChamber氏とWoodvard
氏の米国特許環3,573.918号などで述べられた
ものである。これらは、例えばジペンタエリトリトール
アクリレート(テトラ50%とペンタ50%)、ペンタ
エリトリトールトリアクリレートとテトラアクリレート
、ペンタエリトリトールテトラアクリレートのポリプロ
ピレングリコール(50)エーテル、ポリエチレングリ
コール(200)ジメタアクリレート、ジペンタエリト
リトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ペンタエ
リトリトールトリアクリレートベータヒドロキシエチル
エーテル、ペンタエリトリトールテトラメタアクリレー
トのポリプロピレングリコール(550)エーテル、ペ
ンタエリトリトールテトラメタアクリレート、ポリプロ
ピレングリコール(425)ジメタアクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタアクリレート、およびトリ
メチロールプロパントリアクリレートのポリプロピレン
グリコール(340)エーテルなどが挙げられる。また
有用なものはエチレン系不飽和部分ヲ含むエポキシモノ
マで、例えば米国特許環3.66.1,576号と英国
特許筒1.006.587号で開示されたタイプのモノ
マである。
メタアクリレート/メタアクリル酸)およびポリ(メチ
ルビニルエーテル/無水マレイン酸)のモノエチルエス
テルを挙げることができ、このそれぞれは各種の割合で
共重合させることができる。このほか多くの極性ポリマ
とコポリマとが知られており、光重合性層のバインダと
して有用と認められている。エチレン系不飽和モノマに
関してを用と認められているものはPlambeck氏
の米国特許環2,760,863号; Cohen氏と
5choenthaler氏の米国特許環3.380.
831号;およびChamber氏とWoodvard
氏の米国特許環3,573.918号などで述べられた
ものである。これらは、例えばジペンタエリトリトール
アクリレート(テトラ50%とペンタ50%)、ペンタ
エリトリトールトリアクリレートとテトラアクリレート
、ペンタエリトリトールテトラアクリレートのポリプロ
ピレングリコール(50)エーテル、ポリエチレングリ
コール(200)ジメタアクリレート、ジペンタエリト
リトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ペンタエ
リトリトールトリアクリレートベータヒドロキシエチル
エーテル、ペンタエリトリトールテトラメタアクリレー
トのポリプロピレングリコール(550)エーテル、ペ
ンタエリトリトールテトラメタアクリレート、ポリプロ
ピレングリコール(425)ジメタアクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタアクリレート、およびトリ
メチロールプロパントリアクリレートのポリプロピレン
グリコール(340)エーテルなどが挙げられる。また
有用なものはエチレン系不飽和部分ヲ含むエポキシモノ
マで、例えば米国特許環3.66.1,576号と英国
特許筒1.006.587号で開示されたタイプのモノ
マである。
ここで定義されるように、光抑制剤はエチレン系不飽和
モノマの遊離基重合を、それ自体で抑制するものではな
いが、それが吸収する活性輻射線に対する露光に際して
、遊離基重合剤に変換される。
モノマの遊離基重合を、それ自体で抑制するものではな
いが、それが吸収する活性輻射線に対する露光に際して
、遊離基重合剤に変換される。
ある種のニトロ芳香族化合物で、そのニトロ基が水素保
持のアルファ炭素置換基に対して1−ルト位置にあるも
のは、ある種の光重合系番こおける遊離基重合を、それ
自体で著るしくおくらせまt;は阻止しないが、200
〜380nmの波長をもつ輻射線に露光することにより
、遊離基重合の抑制剤であるニトロソ芳香族体に光化学
的Iこ変換される。これらの化合物は、Pazos氏の
米国特許第4.198.242号およびDueber氏
他の米国特許第4.477.556号中で示されており
、これらの開示を参考に挙げておく。
持のアルファ炭素置換基に対して1−ルト位置にあるも
のは、ある種の光重合系番こおける遊離基重合を、それ
自体で著るしくおくらせまt;は阻止しないが、200
〜380nmの波長をもつ輻射線に露光することにより
、遊離基重合の抑制剤であるニトロソ芳香族体に光化学
的Iこ変換される。これらの化合物は、Pazos氏の
米国特許第4.198.242号およびDueber氏
他の米国特許第4.477.556号中で示されており
、これらの開示を参考に挙げておく。
これらの0−ニトロ芳香族化合物は長波長の輻射線によ
っては比較的に影響されなl/%、L、力1しながら、
ある種の輻射線感応性の遊離基開始剤は、特に適当な増
感剤の存在下1こ長波長の輻射線を吸収して、ニトロソ
芳香族抑制体濃度25ζ検知しうるほとない場合、重合
しうるモノマの重合を開始させるに充分なラジカルを発
生させる。
っては比較的に影響されなl/%、L、力1しながら、
ある種の輻射線感応性の遊離基開始剤は、特に適当な増
感剤の存在下1こ長波長の輻射線を吸収して、ニトロソ
芳香族抑制体濃度25ζ検知しうるほとない場合、重合
しうるモノマの重合を開始させるに充分なラジカルを発
生させる。
短い波長の輻射線での、ニトロ芳香族化合物の照射によ
り生成したこのニトロン化合物は、正常な遊離基開始性
の重合プロセスを妨害する。
り生成したこのニトロン化合物は、正常な遊離基開始性
の重合プロセスを妨害する。
そこで、1つまたはそれ以上のニトロ芳香族化合物の存
在下に、スペクトルの短かい波長域(200〜380n
+n)だけで照射されたときは重合が生じない。これは
ニトロ芳香族化合物が活性輻射線の大部分を吸収し、そ
のため開始性のラジカルが僅かしか生成しないためであ
る。光開始剤系により生成された、これらの僅かな開始
性ラジカルはニトロソ芳瞥族抑制剤と反応する。
在下に、スペクトルの短かい波長域(200〜380n
+n)だけで照射されたときは重合が生じない。これは
ニトロ芳香族化合物が活性輻射線の大部分を吸収し、そ
のため開始性のラジカルが僅かしか生成しないためであ
る。光開始剤系により生成された、これらの僅かな開始
性ラジカルはニトロソ芳瞥族抑制剤と反応する。
そこで、重合を効果的に開示しそして進行させる遊離基
は不十分な量しか得られない。本発明の組成物が約38
0nn+以上の波長の輻射線に露光されるとき、ニトロ
芳香族化合物は比較的影響されず、光開始剤系は開始性
ラジカルを形成するように作用する。これらのラジカル
は通常のように連鎖の伸長作用をし重合が発生する。
は不十分な量しか得られない。本発明の組成物が約38
0nn+以上の波長の輻射線に露光されるとき、ニトロ
芳香族化合物は比較的影響されず、光開始剤系は開始性
ラジカルを形成するように作用する。これらのラジカル
は通常のように連鎖の伸長作用をし重合が発生する。
200〜380nm範囲の活性輻射線での画像状の露光
の際に、重合開始性のフリーラジカルよりも多い重合抑
制剤を発生しなければならないから、200〜380n
m範囲の活性輻射線の大部分は光抑制剤化合物によって
吸収されなければならない。
の際に、重合開始性のフリーラジカルよりも多い重合抑
制剤を発生しなければならないから、200〜380n
m範囲の活性輻射線の大部分は光抑制剤化合物によって
吸収されなければならない。
これは200〜380nm範囲の活性輻射線を吸収せず
、また活性化もされない光開始剤系を用いるか、および
/または光抑制剤化合物と光開始剤系との相対的濃度を
調整し、そのため大部分の活性輻射線が光抑制剤化合物
により吸収されるようにするか、のいずれかにより達成
される。当業者にとって良く知られているように、大部
分の活性輻射線が光抑制剤化合物により吸収されること
を、確かとするに必要な光抑制剤化合物と光開始剤系と
の相対的濃度は、両者の分子吸光係数から計算すること
ができ、この係数値は普通の分光測光で求めることがで
きる。
、また活性化もされない光開始剤系を用いるか、および
/または光抑制剤化合物と光開始剤系との相対的濃度を
調整し、そのため大部分の活性輻射線が光抑制剤化合物
により吸収されるようにするか、のいずれかにより達成
される。当業者にとって良く知られているように、大部
分の活性輻射線が光抑制剤化合物により吸収されること
を、確かとするに必要な光抑制剤化合物と光開始剤系と
の相対的濃度は、両者の分子吸光係数から計算すること
ができ、この係数値は普通の分光測光で求めることがで
きる。
有用な0−ニトロ芳香族化合物は以下の一般式:
R’、!:R”とは同じでも異なっていても良いC8〜
。
。
のアルコキシ基;
Rsは水素またはCl−1のアルキル基;R4はC,〜
、のアルコキシ基、または21までのC9,のアルキル
基および/またはアルコキシ基で置換されたフェノキシ
基;またはR3とR4とは両者で−0となることができ
る。
、のアルコキシ基、または21までのC9,のアルキル
基および/またはアルコキシ基で置換されたフェノキシ
基;またはR3とR4とは両者で−0となることができ
る。
好ましい光抑制剤は6−ニトロベラトルアルデヒドおよ
びl −(1−(4−(1,1−ジメチルエチル)−フ
ェノキシ〕エチル) −4,5−ジメトキシ−2−二ト
ロベンゼンであり、それぞれ以下の構造を有している。
びl −(1−(4−(1,1−ジメチルエチル)−フ
ェノキシ〕エチル) −4,5−ジメトキシ−2−二ト
ロベンゼンであり、それぞれ以下の構造を有している。
この他の適当なニトロ芳香族化合物は、Pazos氏の
米国特許環4.198.242号明細書の第7欄、第3
1行から第9欄、第8行に表示されており、この開示を
ここに参考に挙げておく。
米国特許環4.198.242号明細書の第7欄、第3
1行から第9欄、第8行に表示されており、この開示を
ここに参考に挙げておく。
遊離基発生系は、ニトロ芳香族化合物を遊離基重合の抑
制剤化合物に転位させることのない、約380〜800
nm範囲の波長をもつ活性輻射線を吸収しそして活性化
される。この「活性輻射線」とは、七ツマの重合を開始
するのに必要な、遊離基を作る活性な輻射線のことであ
る。この遊離基発生系は輻射線によって活性化されたと
き遊離基を直接供給するような、1個または数個の化合
物から構成されている。これはまた増感剤が放射線によ
り活性化された後に、遊離基が形成されるような複数の
化合物から構成することもできる。好ましくは遊離基発
生系は380以上〜約800r+mの範囲、さらに好ま
しくは約400〜約600nm間に、少なくとも50の
分子吸光係数の放射線吸収帯をもつ少なくとも1つの成
分を有している。
制剤化合物に転位させることのない、約380〜800
nm範囲の波長をもつ活性輻射線を吸収しそして活性化
される。この「活性輻射線」とは、七ツマの重合を開始
するのに必要な、遊離基を作る活性な輻射線のことであ
る。この遊離基発生系は輻射線によって活性化されたと
き遊離基を直接供給するような、1個または数個の化合
物から構成されている。これはまた増感剤が放射線によ
り活性化された後に、遊離基が形成されるような複数の
化合物から構成することもできる。好ましくは遊離基発
生系は380以上〜約800r+mの範囲、さらに好ま
しくは約400〜約600nm間に、少なくとも50の
分子吸光係数の放射線吸収帯をもつ少なくとも1つの成
分を有している。
好ましい開始剤系は米国特許環3.427.161号;
同第3,479.185号:同第3,549.367号
;同第4.311.783号;同第4.622.286
号;および同第3.784,557号中に述べられてい
るような2.4.5−トリフェニルイミダゾリルダイマ
類と水素供与体、およびこれらの混合物、可視光線増感
剤で増感されたものなどである。有用な2,4.5−
トリアリールイミダゾリルダイマ類はBau+n氏他の
米国特許環3,652.275号明細書の第5欄、第4
4行〜第7欄、第16行に述べられており、この開示を
ここに参考に挙げておく。特に好ましい光開始剤はCD
M−HABI、つまり2−(o−クロロフェニル)−4
,5−ヒス(m−メトキシフェニル)−イミダゾールダ
イブ; o−Cl2−HABI、つまりl、ビーヒイミ
タソール、2.2’−ビス(o−クロロフェニル)−4
,4’、5.5’−テトラフェニル−;およびTCIM
−HAB[、つまりIH−イミダゾール、2,5−ビス
(0−クロロフェニル)−4−(3,4−ジメトキシフ
ェニル〕−ダイブなどが含まれ、このそれぞれは水素供
与体とともに用いられる。
同第3,479.185号:同第3,549.367号
;同第4.311.783号;同第4.622.286
号;および同第3.784,557号中に述べられてい
るような2.4.5−トリフェニルイミダゾリルダイマ
類と水素供与体、およびこれらの混合物、可視光線増感
剤で増感されたものなどである。有用な2,4.5−
トリアリールイミダゾリルダイマ類はBau+n氏他の
米国特許環3,652.275号明細書の第5欄、第4
4行〜第7欄、第16行に述べられており、この開示を
ここに参考に挙げておく。特に好ましい光開始剤はCD
M−HABI、つまり2−(o−クロロフェニル)−4
,5−ヒス(m−メトキシフェニル)−イミダゾールダ
イブ; o−Cl2−HABI、つまりl、ビーヒイミ
タソール、2.2’−ビス(o−クロロフェニル)−4
,4’、5.5’−テトラフェニル−;およびTCIM
−HAB[、つまりIH−イミダゾール、2,5−ビス
(0−クロロフェニル)−4−(3,4−ジメトキシフ
ェニル〕−ダイブなどが含まれ、このそれぞれは水素供
与体とともに用いられる。
好ましい増感剤は以下の式のものである:ここで
R1,R2,およびR3は独立に水素またはci−sの
アルコキシ基; 2はCUtまたはC(CHs)t ; R4はH,CHsまたはメトキシ基; R1とR@はH; R’ R”lよ独立i:: CH、またはCHsCH
z; j>6イハR廖+ R@およびR’+R’は独
立ニー(CHz)*−まタハ−cCHりs−である。
アルコキシ基; 2はCUtまたはC(CHs)t ; R4はH,CHsまたはメトキシ基; R1とR@はH; R’ R”lよ独立i:: CH、またはCHsCH
z; j>6イハR廖+ R@およびR’+R’は独
立ニー(CHz)*−まタハ−cCHりs−である。
特に好ましい増感剤はジメトキシ−JDI、っまりIH
−インデン−1−オン、2,3−ジヒドロ−5,6−シ
メトキシー2− ((2,3,6,7−テトラヒドロ−
1,H,5H−ベンゾ(i、Dキノリジン−9−イル)
メチレン〕−;およびDBI、っまりIH−インデン−
1−オン、2.3−ジヒドロ−2〔(4−(ジエチルア
ミノ)−2−メチルフェニル)メチレン〕−でありそれ
ぞれ以下の構造を有している: CH,0 光開始剤と共に有効な増感剤にはメチレンブルーと米国
特許環3.554,753号;同第3.563.750
号;同第3,563.751号;同第3,647.46
7号;同第3.652.275号;同第4.162.1
62号−同第4.268,667号;同第4.351.
893号;同第4.454.21.8号;同第4.53
5.052号;および同第4.565.769号などに
示されたものが含まれる。
−インデン−1−オン、2,3−ジヒドロ−5,6−シ
メトキシー2− ((2,3,6,7−テトラヒドロ−
1,H,5H−ベンゾ(i、Dキノリジン−9−イル)
メチレン〕−;およびDBI、っまりIH−インデン−
1−オン、2.3−ジヒドロ−2〔(4−(ジエチルア
ミノ)−2−メチルフェニル)メチレン〕−でありそれ
ぞれ以下の構造を有している: CH,0 光開始剤と共に有効な増感剤にはメチレンブルーと米国
特許環3.554,753号;同第3.563.750
号;同第3,563.751号;同第3,647.46
7号;同第3.652.275号;同第4.162.1
62号−同第4.268,667号;同第4.351.
893号;同第4.454.21.8号;同第4.53
5.052号;および同第4.565.769号などに
示されたものが含まれる。
増感剤の好ましいグループには、Baum氏他の米国特
許環3.652,275号中で述べられたビス(p−ジ
アルキルアミノベンジリジン)ケトン類、およびDue
ber氏の米国特許環4,162.162号と同じく同
第4.268.667号と同第4.351.893号中
で述べられたアリーリチンアリールケトン類などが含ま
れ、この各開示をここに参考に挙げて8く。
許環3.652,275号中で述べられたビス(p−ジ
アルキルアミノベンジリジン)ケトン類、およびDue
ber氏の米国特許環4,162.162号と同じく同
第4.268.667号と同第4.351.893号中
で述べられたアリーリチンアリールケトン類などが含ま
れ、この各開示をここに参考に挙げて8く。
この他の有用な増感剤はDueber氏の米国特許環4
.162.162号via書の第6欄、第1行〜第65
行に表示されており、参考としてここに挙げておく。
.162.162号via書の第6欄、第1行〜第65
行に表示されており、参考としてここに挙げておく。
ホトポリマ組成物中で連鎖転移剤として有用な水素供与
化合物には2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メ
ルカプトベンゾチアゾールなどが含まれ、同様に各種の
タイプの化合物、例えば(a)エーテル類、(b)エス
テル類、(C)アルコール類、(d)アリル性またはベ
ンジル性の水素を含む化合物、例えばクメン、(e)ア
セタール類、(f)アルデヒド類、および(g)Mac
Lach tan氏の米国特許環3.390.996号
明細書の第12欄、第18行〜第58行中で述べられた
ようなアミド類、この記載を参考に挙げておく、などが
含まれる。好ましい連鎖転移剤は2−MBO12−メル
カプトベンゾオキサゾールである。
化合物には2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メ
ルカプトベンゾチアゾールなどが含まれ、同様に各種の
タイプの化合物、例えば(a)エーテル類、(b)エス
テル類、(C)アルコール類、(d)アリル性またはベ
ンジル性の水素を含む化合物、例えばクメン、(e)ア
セタール類、(f)アルデヒド類、および(g)Mac
Lach tan氏の米国特許環3.390.996号
明細書の第12欄、第18行〜第58行中で述べられた
ようなアミド類、この記載を参考に挙げておく、などが
含まれる。好ましい連鎖転移剤は2−MBO12−メル
カプトベンゾオキサゾールである。
光付着性層は普通イエロ、マゼンタ、シアンまたは黒の
いずれかに着色される。多くの着色材(ピグメントまた
は色素)が、光付着性層中に存在する他の成分と適合し
うるならば使用することができる。処方は普通ブルーフ
に際し特有のカラーバランスを生ずるように、層の特定
の順序について色調的にバランスするようにされる。ピ
グメントの透明性のようなファクタは、異なる色の層を
付与する際の順序に関係する。
いずれかに着色される。多くの着色材(ピグメントまた
は色素)が、光付着性層中に存在する他の成分と適合し
うるならば使用することができる。処方は普通ブルーフ
に際し特有のカラーバランスを生ずるように、層の特定
の順序について色調的にバランスするようにされる。ピ
グメントの透明性のようなファクタは、異なる色の層を
付与する際の順序に関係する。
適当な着色材は:
イエロ:クロモ7タル0イエロ3G (C,1,No、
ピグメントイエロ93) 、ホスタパームのイエロ3G
(C,1,No、ピグメントイエロ154) ;マゼ
ンタ:モナストラル[F]バイオレットR(C,I。
ピグメントイエロ93) 、ホスタパームのイエロ3G
(C,1,No、ピグメントイエロ154) ;マゼ
ンタ:モナストラル[F]バイオレットR(C,I。
No、ピグメントバイオレット19) 、2.9−ジメ
チルキナクリドン(C,i、 No、ピグメントレッ
ド122)、インドファスト0ブリリアントスカーレツ
トR6300(C,1,No、ピグメントレッド123
) ;シアン:モナストラル■ブルーG (C,1,N
o、ピグメントブルー15)、モナストシル0ブルー(
BT 383DXC,1,No、ピグメントブルー 1
5) 、モナストシル0ブルーG (BT 284D)
(C,l No、ヒゲメンドブルー15)、モナスト
ラル[F]グリーンGT(7510) (C,1,No
、ピグメントグリーン7):Lニラ−ベン■450CC
,1,,No、ピグメントブラック7)、ラーベン@1
035 (C,1,No、ピグメントブラック7)、エ
ルフテックス8 (C,1,No、ピグメントブラック
7)、エルフテックス■12(C:、1. No、ピグ
メントブラック7)、等である。
チルキナクリドン(C,i、 No、ピグメントレッ
ド122)、インドファスト0ブリリアントスカーレツ
トR6300(C,1,No、ピグメントレッド123
) ;シアン:モナストラル■ブルーG (C,1,N
o、ピグメントブルー15)、モナストシル0ブルー(
BT 383DXC,1,No、ピグメントブルー 1
5) 、モナストシル0ブルーG (BT 284D)
(C,l No、ヒゲメンドブルー15)、モナスト
ラル[F]グリーンGT(7510) (C,1,No
、ピグメントグリーン7):Lニラ−ベン■450CC
,1,,No、ピグメントブラック7)、ラーベン@1
035 (C,1,No、ピグメントブラック7)、エ
ルフテックス8 (C,1,No、ピグメントブラック
7)、エルフテックス■12(C:、1. No、ピグ
メントブラック7)、等である。
光付漕性層はまたピールアパートエレメントの機能の妨
げとならない限り、光重合性システム中で用いられてい
る通常の材料であるこの他の成分を含むことができる。
げとならない限り、光重合性システム中で用いられてい
る通常の材料であるこの他の成分を含むことができる。
当業者は特に実験をしなくても、このような成分の適否
を決めることができる。かかる成分には安定剤、ハレー
ション防止剤、光学増白剤、剥離剤、界面活性剤、塗布
助剤および可塑剤などが含まれる。
を決めることができる。かかる成分には安定剤、ハレー
ション防止剤、光学増白剤、剥離剤、界面活性剤、塗布
助剤および可塑剤などが含まれる。
通常光重合性組成物の保存安定性を増大させるために熱
重合抑制剤が存在させられる。有効な熱安定剤にはヒド
ロキノン、フェニドン、p−メトキシフェノール、アル
キルおよびアリール置換ヒドロキノン類とキノン類、t
−ブチルカテコール、ピロガロール、銅レジネート、ナ
フチルアミン、ベータナフトール、塩化第1銅、2.6
−ジーt−ブチルp−クレゾール、フェノチアジン、ピ
リジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、l’−ト
ルキノンおよびクロルアニルなどが含まれるe Paz
os氏の米国特許第4.168,982号中で述べられ
たジニトロソダイマ類も有効である。
重合抑制剤が存在させられる。有効な熱安定剤にはヒド
ロキノン、フェニドン、p−メトキシフェノール、アル
キルおよびアリール置換ヒドロキノン類とキノン類、t
−ブチルカテコール、ピロガロール、銅レジネート、ナ
フチルアミン、ベータナフトール、塩化第1銅、2.6
−ジーt−ブチルp−クレゾール、フェノチアジン、ピ
リジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、l’−ト
ルキノンおよびクロルアニルなどが含まれるe Paz
os氏の米国特許第4.168,982号中で述べられ
たジニトロソダイマ類も有効である。
光付着性層中に光学増白剤を加えることにより、ハレー
ション効果による像の歪みがなく、そしてエレメント各
成分による変色のない画像が形成される。本発明の方法
に有用な適当な光学増白剤は米国特許第2,784.1
83号;同第3.864,394号;および同第3,8
54.950号中で述べられたものが含まれる。本発明
の光重合性エレメント中で特に有効な光学増白剤は2−
(スチビル−4’) −(す7トー1’、2’、4.5
) −1,2,3−トリアゾール−2′−スルホン酸フ
ェニルエステルドアー(4,’−クロロー6′−ジエチ
ルーアミノ−l’、3’、5’−トリアジン−4′−イ
ル)アミノ−3−フェニルクマリンである。本発明に有
用な紫外線吸収材料は米国特許第3.854.950号
中で述べられている。
ション効果による像の歪みがなく、そしてエレメント各
成分による変色のない画像が形成される。本発明の方法
に有用な適当な光学増白剤は米国特許第2,784.1
83号;同第3.864,394号;および同第3,8
54.950号中で述べられたものが含まれる。本発明
の光重合性エレメント中で特に有効な光学増白剤は2−
(スチビル−4’) −(す7トー1’、2’、4.5
) −1,2,3−トリアゾール−2′−スルホン酸フ
ェニルエステルドアー(4,’−クロロー6′−ジエチ
ルーアミノ−l’、3’、5’−トリアジン−4′−イ
ル)アミノ−3−フェニルクマリンである。本発明に有
用な紫外線吸収材料は米国特許第3.854.950号
中で述べられている。
剥離剤として有効なことが認められた化合物はBaue
r氏の米国特許第4.326.010号中で述べられて
いる。好ましい剥離剤はポリカプロラクトンである。好
ましい界面活性剤は3M社により製造されている、液体
非イオン性フッ素界面活性剤フルオラド8FC43Qで
ある。ポリエチレンオキサイドが塗布助剤として一般に
用いられている。好ましい塗布助剤はポリオツクス@W
SRN3000で、これはMW 400,000のポリ
エチレンオキシドである。
r氏の米国特許第4.326.010号中で述べられて
いる。好ましい剥離剤はポリカプロラクトンである。好
ましい界面活性剤は3M社により製造されている、液体
非イオン性フッ素界面活性剤フルオラド8FC43Qで
ある。ポリエチレンオキサイドが塗布助剤として一般に
用いられている。好ましい塗布助剤はポリオツクス@W
SRN3000で、これはMW 400,000のポリ
エチレンオキシドである。
光付薯性層の塗布層は種々変えることができるが、20
〜1100I1/dIlffiの範囲(乾燥膜厚約0.
00006〜0.00033インチ−0,0015〜0
.0084寓罵)が良好な画質と階調域を与えることが
認められl;。
〜1100I1/dIlffiの範囲(乾燥膜厚約0.
00006〜0.00033インチ−0,0015〜0
.0084寓罵)が良好な画質と階調域を与えることが
認められl;。
バインダはモノマとの比率を広範囲に変えることができ
るが、一般に3:1〜1;3の範囲とずべきである。こ
のモノマはバインダと適合しうるものでなければならず
、またバインダについて溶剤ともなり、および/または
可塑剤的な作用をもたねばならない。モノマとバインダ
との選択および比率は、光付着性と硬度との要請に応じ
て定められる。適切な硬度を与えるために、モノマ濃度
は@成物から塗布された層が充分に硬くかつ非粘着性と
なるように普通低く維持される。
るが、一般に3:1〜1;3の範囲とずべきである。こ
のモノマはバインダと適合しうるものでなければならず
、またバインダについて溶剤ともなり、および/または
可塑剤的な作用をもたねばならない。モノマとバインダ
との選択および比率は、光付着性と硬度との要請に応じ
て定められる。適切な硬度を与えるために、モノマ濃度
は@成物から塗布された層が充分に硬くかつ非粘着性と
なるように普通低く維持される。
ニトロ芳香族化合物は、重合性化合物の1部当り約0.
004〜約0.7重量部の濃度で通常用いられる。個々
のケースでの好ましい量は、用いられた特定のモノマ/
遊離基発生系に依存するであろう。一般にニトロ芳香族
化合物の好ましい量は重合性化合物の1部当り約0,0
4〜約0.15重量部である。
004〜約0.7重量部の濃度で通常用いられる。個々
のケースでの好ましい量は、用いられた特定のモノマ/
遊離基発生系に依存するであろう。一般にニトロ芳香族
化合物の好ましい量は重合性化合物の1部当り約0,0
4〜約0.15重量部である。
200〜380nm範囲の活性輻射線による画像状の露
光の際に、重合開始性の遊離基より多い重合抑制剤を発
生させなければならないから、200〜380nm範囲
の活性輻射線は元押制剤化合物によって大部分吸収され
なければならない。これは200〜380nm範囲の活
性輻射線を吸収せず、また活性化もされない光開始剤系
を用いるか、および/または元押制剤化合物と光開始剤
系との相対的な濃度を調整し、そのため大部分の活性輻
射線が元押制剤化合物により吸収されるようにするか、
のいずれかにより達成される。当業者にとって良く知ら
れているように、大部分の活性輻射線が光抑制剤化合物
により吸収されることを、確かとするに必要な光抑制剤
化合物と光開始剤系との相対的濃度は、両者の分光吸収
係数から計算することができ、この係数値は普通の分光
測光で求めることができる。適当な組成物は通常重合性
化合物の1部当り約0.004〜約0.7重量部のニト
ロ芳香族抑制剤と、約o、ooi〜約10重量部の光開
始剤系とを含んでいる。当業者にとって照射がポリエチ
レンテレフタレートのカバーシート、支持体、またはホ
トマスクを通じて行われるとき、ポリエチレンテレフタ
レートはフィルタとして機能して、約320ni+以上
の活性輻射線だけが光硬化性層に当たるであろうことが
明らかである。
光の際に、重合開始性の遊離基より多い重合抑制剤を発
生させなければならないから、200〜380nm範囲
の活性輻射線は元押制剤化合物によって大部分吸収され
なければならない。これは200〜380nm範囲の活
性輻射線を吸収せず、また活性化もされない光開始剤系
を用いるか、および/または元押制剤化合物と光開始剤
系との相対的な濃度を調整し、そのため大部分の活性輻
射線が元押制剤化合物により吸収されるようにするか、
のいずれかにより達成される。当業者にとって良く知ら
れているように、大部分の活性輻射線が光抑制剤化合物
により吸収されることを、確かとするに必要な光抑制剤
化合物と光開始剤系との相対的濃度は、両者の分光吸収
係数から計算することができ、この係数値は普通の分光
測光で求めることができる。適当な組成物は通常重合性
化合物の1部当り約0.004〜約0.7重量部のニト
ロ芳香族抑制剤と、約o、ooi〜約10重量部の光開
始剤系とを含んでいる。当業者にとって照射がポリエチ
レンテレフタレートのカバーシート、支持体、またはホ
トマスクを通じて行われるとき、ポリエチレンテレフタ
レートはフィルタとして機能して、約320ni+以上
の活性輻射線だけが光硬化性層に当たるであろうことが
明らかである。
好ましい組成物は普通35〜45%のバインダ、35〜
45%のモノマ、1〜15%の着色材、1〜5%の2.
4.5− トリフェニルイミダゾリルダイマ、1〜2%
の連鎖移動剤、2〜4%の0−ニトロ芳香放光抑制剤化
合物、0.5〜1.0%の増感剤および0〜15%のそ
の他の成分を含んでいる。前記の%は重量によるもので
ある。
45%のモノマ、1〜15%の着色材、1〜5%の2.
4.5− トリフェニルイミダゾリルダイマ、1〜2%
の連鎖移動剤、2〜4%の0−ニトロ芳香放光抑制剤化
合物、0.5〜1.0%の増感剤および0〜15%のそ
の他の成分を含んでいる。前記の%は重量によるもので
ある。
接ぼ層は多数の材料から選択することができる。この接
続層は本質的に非感光性で粘着性の、またはいくらか軟
かな変形しうる有機材料である。接続層は多層のカラー
プルーフを作ることができるように、透明で本質的に無
色でなければならない。良好な保存安定性をもつエレメ
ントとするため、接続層に適した材料は光付着性層から
接続層中にモノマの拡散するのを阻止すべきである。こ
のような材料は樹脂、光付着性層のモノマが実質的に拡
散できないポリマ、接着剤組成物などから選ぶことがで
きる。特に好ましい材料は、−1部℃またはこれ以下の
2次転位点をもつエラストマ性のポリマおよびその混合
物で、これは元来粘着性であるかあるいは粘着化剤を受
は入れるものであり、そして前記の光付着性層中に非移
転性でかつ接続層に粘着性を与えるものである。天然お
よび合成のゴム型ポリマ類、例えばインブチレン、チオ
コールAにトリルゴム、ブチルゴム、塩素化ゴム、ブタ
ジェン、イソプレン、ポリ(ビニルイソブチルエーテル
)のポリマ類、およびブタジェンまたはスチレンと共重
合したイソプレンとネオブレン、シリコンエジストマ等
との種々の割合のランダム、テレブロックおよびブロッ
クコポリマ類を用いることができる。これらの材料によ
り、エレメント中での接続層に対する、光付着性層と支
持体間の安定な接着性のバランスが、サーブリント法に
よりカラープルーフを作る際に有用なエレメントについ
て達成される。
続層は本質的に非感光性で粘着性の、またはいくらか軟
かな変形しうる有機材料である。接続層は多層のカラー
プルーフを作ることができるように、透明で本質的に無
色でなければならない。良好な保存安定性をもつエレメ
ントとするため、接続層に適した材料は光付着性層から
接続層中にモノマの拡散するのを阻止すべきである。こ
のような材料は樹脂、光付着性層のモノマが実質的に拡
散できないポリマ、接着剤組成物などから選ぶことがで
きる。特に好ましい材料は、−1部℃またはこれ以下の
2次転位点をもつエラストマ性のポリマおよびその混合
物で、これは元来粘着性であるかあるいは粘着化剤を受
は入れるものであり、そして前記の光付着性層中に非移
転性でかつ接続層に粘着性を与えるものである。天然お
よび合成のゴム型ポリマ類、例えばインブチレン、チオ
コールAにトリルゴム、ブチルゴム、塩素化ゴム、ブタ
ジェン、イソプレン、ポリ(ビニルイソブチルエーテル
)のポリマ類、およびブタジェンまたはスチレンと共重
合したイソプレンとネオブレン、シリコンエジストマ等
との種々の割合のランダム、テレブロックおよびブロッ
クコポリマ類を用いることができる。これらの材料によ
り、エレメント中での接続層に対する、光付着性層と支
持体間の安定な接着性のバランスが、サーブリント法に
よりカラープルーフを作る際に有用なエレメントについ
て達成される。
接続層を塗布するための溶剤は、2つの層が同時に塗布
されるとき、光付着性層中にこの層の成分の移動を生じ
ない限り、何でも使用することができる。接続層の塗布
量は広い範囲で変えることができるが、一般に約40
ra g / d m ”の塗布量(約o、ooois
インチ−〇−0038mm−の乾燥厚みを与える)が適
当である。接続層は満足すべき結果により分散液、例え
ば水性分散液として塗布することもできる。
されるとき、光付着性層中にこの層の成分の移動を生じ
ない限り、何でも使用することができる。接続層の塗布
量は広い範囲で変えることができるが、一般に約40
ra g / d m ”の塗布量(約o、ooois
インチ−〇−0038mm−の乾燥厚みを与える)が適
当である。接続層は満足すべき結果により分散液、例え
ば水性分散液として塗布することもできる。
図面に示したように、エレメントは接12 層(3)に
除去可能な支持体(4)を有している。この支持体(4
)は必要なす度安定性をもち、かつ層(3)に対する適
切な接着性についてのその他の特性を有する、例えばA
llas氏の米国特許環2.779.684号中で述べ
られたような、写真用のポリエチレンテレフタレートが
適している。
除去可能な支持体(4)を有している。この支持体(4
)は必要なす度安定性をもち、かつ層(3)に対する適
切な接着性についてのその他の特性を有する、例えばA
llas氏の米国特許環2.779.684号中で述べ
られたような、写真用のポリエチレンテレフタレートが
適している。
前記エレメントの製造はいくつかの異なる方式で行うこ
とができる。例えば、光付着性層(2)がカバーシート
(1)上に塗布され;乾燥後、接続層(3)がこの上に
溶剤溶液で塗布され;最後に、乾燥後支持体(4)が層
(3)の表面にラミネートされる。接続層(3)のため
の溶剤は光付着性層(2)に溶解作用または有害な作用
をするものであってはならない。いま1つの方法は、カ
バーシート(1)上に光付着性層(2)を塗布し、そし
て支持体(4)上に接続層(3)を塗布し、この塗布さ
れた各層の乾燥後、両層(2)と(3)とは室温または
加温のもとに互に圧着してラミネートする。また層(2
)と(3)とがカバーシート(1)上にこの順に同時に
塗布され、ついで層(3)の外面に支持体(4)がラミ
ネートされる。これらのいずれの方法も、多層フィルム
の塗布の当業者に良く知られている。
とができる。例えば、光付着性層(2)がカバーシート
(1)上に塗布され;乾燥後、接続層(3)がこの上に
溶剤溶液で塗布され;最後に、乾燥後支持体(4)が層
(3)の表面にラミネートされる。接続層(3)のため
の溶剤は光付着性層(2)に溶解作用または有害な作用
をするものであってはならない。いま1つの方法は、カ
バーシート(1)上に光付着性層(2)を塗布し、そし
て支持体(4)上に接続層(3)を塗布し、この塗布さ
れた各層の乾燥後、両層(2)と(3)とは室温または
加温のもとに互に圧着してラミネートする。また層(2
)と(3)とがカバーシート(1)上にこの順に同時に
塗布され、ついで層(3)の外面に支持体(4)がラミ
ネートされる。これらのいずれの方法も、多層フィルム
の塗布の当業者に良く知られている。
通常の網ネガ色分解原板からサーブリントプルーフを作
るために、本発明の多層エレメントを用いる際には、除
去可能な支持体(4)はフィルムエレメントからとり除
かれ、その後除去可能支持体のないエレメントは受容基
体(7)に接着させられる。得られた複合構造体は網ネ
ガまたは線分解原板を用い、カバーシートを通じて元押
制剤化合物が感光する、例えば0−ニトロ芳香族化合物
の場合200〜380nmの活性輻射線によって露光さ
れ、かくして露光をされた区域に遊離基重合抑制体を形
成させる。ついで光開始剤系が感光性の、例えばアリリ
デンアリルケトンで増感された。 2.4.5−1−リ
フェニルイミダゾリルダイマを含む開始剤系の場合、3
80〜700nmの活性輻射線に全面露光され、かくし
て最初の画像状露光に際して活性輻射線が当たらなかっ
た区域で光重合を開始させる。
るために、本発明の多層エレメントを用いる際には、除
去可能な支持体(4)はフィルムエレメントからとり除
かれ、その後除去可能支持体のないエレメントは受容基
体(7)に接着させられる。得られた複合構造体は網ネ
ガまたは線分解原板を用い、カバーシートを通じて元押
制剤化合物が感光する、例えば0−ニトロ芳香族化合物
の場合200〜380nmの活性輻射線によって露光さ
れ、かくして露光をされた区域に遊離基重合抑制体を形
成させる。ついで光開始剤系が感光性の、例えばアリリ
デンアリルケトンで増感された。 2.4.5−1−リ
フェニルイミダゾリルダイマを含む開始剤系の場合、3
80〜700nmの活性輻射線に全面露光され、かくし
て最初の画像状露光に際して活性輻射線が当たらなかっ
た区域で光重合を開始させる。
この露光されたエレメントは、つぎに室温で丁度良い連
続的な速さで、エレメントからカバーシート(1)を剥
離することにより脱ラミネートし、画像状に露光をされ
た区域の着色した光付着性層を受容基体上に残留させる
。除去可能な支持体を除いた第2のエレメントを、この
ようにして作られた画像に付着させ、ネガの分解原板を
通じて露光し、全面露光をし、そして前述のようにして
脱ラミネートをする。この工程順序を異なった色に着色
したニレ、メントと、相当する色の分解厚板とを用いて
何回か繰り返すことができる。
続的な速さで、エレメントからカバーシート(1)を剥
離することにより脱ラミネートし、画像状に露光をされ
た区域の着色した光付着性層を受容基体上に残留させる
。除去可能な支持体を除いた第2のエレメントを、この
ようにして作られた画像に付着させ、ネガの分解原板を
通じて露光し、全面露光をし、そして前述のようにして
脱ラミネートをする。この工程順序を異なった色に着色
したニレ、メントと、相当する色の分解厚板とを用いて
何回か繰り返すことができる。
通常の網ポジ色分解原板からサーブリントを作るために
、本発明の感光性エレメントを用いる際には、フィルム
エレメントから除去可能支持体が除かれ、そしてこの除
去可能支持体のないエレメントが受容基体に接着させら
れる。得られた複合構造体はポジ分解原板を用い、カバ
ーシートを通じて光開始剤系が感光性でかつ元押制剤は
感光性でない、例えばアリリデンアリルケトンの場合3
80〜700nmの活性輻射線により露光され、かくし
て活性輻射線の当った区域に光重合を開始させる。
、本発明の感光性エレメントを用いる際には、フィルム
エレメントから除去可能支持体が除かれ、そしてこの除
去可能支持体のないエレメントが受容基体に接着させら
れる。得られた複合構造体はポジ分解原板を用い、カバ
ーシートを通じて光開始剤系が感光性でかつ元押制剤は
感光性でない、例えばアリリデンアリルケトンの場合3
80〜700nmの活性輻射線により露光され、かくし
て活性輻射線の当った区域に光重合を開始させる。
この露光されたエレメントは、つぎに室温で丁度良い連
続的な速さで、エレメントからカバーシート(1)を剥
離することにより脱ラミネートし、画像状に露光されな
かった区域の着色した光付着性層を受容基体上に残留さ
せる。除去可能な支持体を除いた第2のエレメントを、
このようにして作られた画像に付着させ、ポジ分解原板
を通じて露光し、そして前述のように脱ラミネートする
。この工程順序を多色プルーフを得るために何回か繰り
返すことができる。
続的な速さで、エレメントからカバーシート(1)を剥
離することにより脱ラミネートし、画像状に露光されな
かった区域の着色した光付着性層を受容基体上に残留さ
せる。除去可能な支持体を除いた第2のエレメントを、
このようにして作られた画像に付着させ、ポジ分解原板
を通じて露光し、そして前述のように脱ラミネートする
。この工程順序を多色プルーフを得るために何回か繰り
返すことができる。
平面でかつ好ましく平滑な基体まt;は受容体は、例え
ば陽極酸化したおよび/またはシリケート化されたアル
ミニウムが存在しうるかまたはプリント回路基板である
鋼(みがかれた)、例えば写真用のポリエチレンテレフ
タレートのようなフィルム、これはAlles氏の米国
特許第2.779,684号中で述べられたようにして
下引されていても良く;例えば1.C,1,アメリカ社
から販売されているメリネツクス@994のような、下
引をされた接着性の不透明ポリエチレンテレフタレート
フィルムベース、および例えばChamp ion製紙
製紙製社製ロメコート[F]不透明白色紙のような用紙
などである。
ば陽極酸化したおよび/またはシリケート化されたアル
ミニウムが存在しうるかまたはプリント回路基板である
鋼(みがかれた)、例えば写真用のポリエチレンテレフ
タレートのようなフィルム、これはAlles氏の米国
特許第2.779,684号中で述べられたようにして
下引されていても良く;例えば1.C,1,アメリカ社
から販売されているメリネツクス@994のような、下
引をされた接着性の不透明ポリエチレンテレフタレート
フィルムベース、および例えばChamp ion製紙
製紙製社製ロメコート[F]不透明白色紙のような用紙
などである。
元押制剤化合物および光開始剤系の吸収帯に重複する、
スペクトル領域の波長の光を与える通常の活性輻射線源
は、抑制剤の形成反応と光重合とを活性化させるために
どれも使用することができる。輻射線源は天然光または
人口光、単色光または多色光、コヒーレント光または非
コヒーレント光とすることができ、また効率を高くする
ため元押制剤および開始剤系の吸収帯の波長に近接させ
るべきである。
スペクトル領域の波長の光を与える通常の活性輻射線源
は、抑制剤の形成反応と光重合とを活性化させるために
どれも使用することができる。輻射線源は天然光または
人口光、単色光または多色光、コヒーレント光または非
コヒーレント光とすることができ、また効率を高くする
ため元押制剤および開始剤系の吸収帯の波長に近接させ
るべきである。
通常の光源には405.436および546r+m付近
に中心をもった、狭いまたは広い光の帯域を与える水銀
、金属付加およびアーク燈、ケイ光燈などが含まれる。
に中心をもった、狭いまたは広い光の帯域を与える水銀
、金属付加およびアーク燈、ケイ光燈などが含まれる。
コヒーレント光の光源はパルス化したキセノン、アルゴ
ンイオン、およびイオン化ネオンレーザであり、その放
射光は増感剤の可視域の吸収帯と一致するかまたはこれ
と重複する。
ンイオン、およびイオン化ネオンレーザであり、その放
射光は増感剤の可視域の吸収帯と一致するかまたはこれ
と重複する。
ネガの分解原板からサーブリントブルーフを作るため広
いスペクトル光の光源を用いるときは、最初の画像状露
光に際して、約380〜400na+のスペクトル範囲
の放射線をフィルタでとり出す必要がある。315〜3
80nmのスペクトル範囲の輻射線を透過し、そして4
00〜550nmのスペクトル範囲の輻射線を吸収する
ことのできるフィルタは、Looney氏の米国特許第
4.1.67.490号中で述べられている。このよう
なフィルタはイーアイ、デュポンデネモアーズ社製の、
ダイルクス0フレキシブルフィルタとして市場で入手す
ることができる。
いスペクトル光の光源を用いるときは、最初の画像状露
光に際して、約380〜400na+のスペクトル範囲
の放射線をフィルタでとり出す必要がある。315〜3
80nmのスペクトル範囲の輻射線を透過し、そして4
00〜550nmのスペクトル範囲の輻射線を吸収する
ことのできるフィルタは、Looney氏の米国特許第
4.1.67.490号中で述べられている。このよう
なフィルタはイーアイ、デュポンデネモアーズ社製の、
ダイルクス0フレキシブルフィルタとして市場で入手す
ることができる。
産業上の利用性
本発明の方法は、カラーサーブリントプルーフを作るた
めに、光付着性層をもつ予め着色されたピールアパート
エレメントを利用する乾式方法である。色分解ネガまた
はポジを通じて、抑制剤を発生する波長の光で画像状の
露光をした後、重合をする波長の全面露光をし、そして
前述のように多層感光性エレメントを剥離すると、2つ
の補完的な着色画像が1つはカバーシート上にいま1つ
は受容体シート上に形成される。光付着性層中に異なる
着色材が存在する感光性エレメントを用い、対応する色
分解原板を通じて露光するプロセスを3回まで繰り返す
ことにより、異なりjユ着色画像が3−または4−色の
サーブリントブルーフを作るため重ねて接着される。
めに、光付着性層をもつ予め着色されたピールアパート
エレメントを利用する乾式方法である。色分解ネガまた
はポジを通じて、抑制剤を発生する波長の光で画像状の
露光をした後、重合をする波長の全面露光をし、そして
前述のように多層感光性エレメントを剥離すると、2つ
の補完的な着色画像が1つはカバーシート上にいま1つ
は受容体シート上に形成される。光付着性層中に異なる
着色材が存在する感光性エレメントを用い、対応する色
分解原板を通じて露光するプロセスを3回まで繰り返す
ことにより、異なりjユ着色画像が3−または4−色の
サーブリントブルーフを作るため重ねて接着される。
本発明方法の有利な諸特性は、以下の各実施例を参照す
ることにより認められる。
ることにより認められる。
莢施例中の略号
黒ピグメント
クーベン■450. C,I、No、ピグメントブラ
ック7 o−C(2−HABI t、i’−ビイミダゾール、2.2′−ビス(o −ク
ロロフェニル) −4,4’、5.5’−テトラフェニ
ル; CAS 1707−68−2 シアンビグメント モナストラル■ブルーG (BT 383D) ; C
,I。
ック7 o−C(2−HABI t、i’−ビイミダゾール、2.2′−ビス(o −ク
ロロフェニル) −4,4’、5.5’−テトラフェニ
ル; CAS 1707−68−2 シアンビグメント モナストラル■ブルーG (BT 383D) ; C
,I。
No、ピグメントブルー15i1フタロシアニン
BI
IH−インデン−1−オン、2.3−ジヒドa−2−(
4−(ジエチルアミノ)−2−メチルフェニル〕メチレ
ン−; CAS 7目56−01−9ジメトキシ−JD
l 1M−インデン−1−オン、2,3−ジヒドロ−5,6
−シメトキシー2− ((2,3,8,7−テトラヒド
ローIH,5H−ベンゾ(i、j)キノリジン−9−イ
ル)メチレン)−;CASエルバサイト@2051 ポリ(メチルメタアクリレート)、UW−350,00
0 エボクリル■12 ビスフェノールAのエビクロヒドリン付加体のメタアク
リレートエステル C−430 フルオラド@FC430、液状非イオン性界面活性剤;
3M社製 マゼンタピグメント モナストラル■バイオレットR; C,1,No。
4−(ジエチルアミノ)−2−メチルフェニル〕メチレ
ン−; CAS 7目56−01−9ジメトキシ−JD
l 1M−インデン−1−オン、2,3−ジヒドロ−5,6
−シメトキシー2− ((2,3,8,7−テトラヒド
ローIH,5H−ベンゾ(i、j)キノリジン−9−イ
ル)メチレン)−;CASエルバサイト@2051 ポリ(メチルメタアクリレート)、UW−350,00
0 エボクリル■12 ビスフェノールAのエビクロヒドリン付加体のメタアク
リレートエステル C−430 フルオラド@FC430、液状非イオン性界面活性剤;
3M社製 マゼンタピグメント モナストラル■バイオレットR; C,1,No。
ピグメントバイオレット19
メリネツクス@944
ICIアメリカ社製の下引層をもつポリエステルシート
−MBO
2−メルカプトベンゾオキサゾール;2−ヘンジオキサ
ゾールチオール、 CA3メタアクリレート分散体 エルベロン@6037.ポリ(メチルメタアクリレート
/2−エチルへキシルアクリレートーデスモデュール@
N付加物;un−9,000 −NWA 6−ニドロベラトルアルデヒド;ベンズアルデヒド、4
.5−ジメトキシ−2−ニトロ−; CAS 2035
7−25−9 ポリオツクスWSRN 3000 ポリエチレンオキサイド、MW 400.000DNB ベンゼン、I−CI−(4−(1,1−ジメチルエチル
)−フェノキシ〕エチル) −4,5−ジメトキシ−2
−二トロー スカーレットピグメント インドファスト0ブリリアントスカーレツトR6300
; C,1,No、ピグメントレッド123ステレオン
@709 スチレン/ブタジェンランダムコポリマ、ファイアスト
ン社製 イエロピグメント クロモ7タル[F]イエロ3G; C,1,No、ピグ
メントイエロ93 着色した付着着性層をもつピールアパート感光性エレメ
ントが、以下のようにして作られた: ■1着色光付着性層 光重合性塗布組成物 塗布組成物は、表中に示された順序で各成分を400g
のメチレンクロリドに加え、次の成分を加えるまでの間
に、あるいは混合物が十分均一に分散するまで撹拌する
ことにより調製された。
ゾールチオール、 CA3メタアクリレート分散体 エルベロン@6037.ポリ(メチルメタアクリレート
/2−エチルへキシルアクリレートーデスモデュール@
N付加物;un−9,000 −NWA 6−ニドロベラトルアルデヒド;ベンズアルデヒド、4
.5−ジメトキシ−2−ニトロ−; CAS 2035
7−25−9 ポリオツクスWSRN 3000 ポリエチレンオキサイド、MW 400.000DNB ベンゼン、I−CI−(4−(1,1−ジメチルエチル
)−フェノキシ〕エチル) −4,5−ジメトキシ−2
−二トロー スカーレットピグメント インドファスト0ブリリアントスカーレツトR6300
; C,1,No、ピグメントレッド123ステレオン
@709 スチレン/ブタジェンランダムコポリマ、ファイアスト
ン社製 イエロピグメント クロモ7タル[F]イエロ3G; C,1,No、ピグ
メントイエロ93 着色した付着着性層をもつピールアパート感光性エレメ
ントが、以下のようにして作られた: ■1着色光付着性層 光重合性塗布組成物 塗布組成物は、表中に示された順序で各成分を400g
のメチレンクロリドに加え、次の成分を加えるまでの間
に、あるいは混合物が十分均一に分散するまで撹拌する
ことにより調製された。
可視光線に露光されるのを防ぐため、溶液はいずれも褐
色のびん中で調製されI;。表中の分量はすべてダラム
である。
色のびん中で調製されI;。表中の分量はすべてダラム
である。
@ ム 入 h7− \ ム 3区
乾燥されたフィルム(乾燥塗布量40mg/dmりが液
1〜8から作られた。これらのフィルムは、それぞれI
Y、 2M、 3C,4に、 5Y、 6M、 7G、
および8にと記号をつけ区別する。フィルムは2ミル(
0,05ミリ)のドクタナイフにより、メチレンクロリ
ド12%溶液から塗布された。フィルムは0.05り−
a 7 / ft” (0,544り−o 7 /m”
)テ静電放電(ED)により表面処理した、50ミクロ
ン厚みのポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布
をされた。塗布は5QOIITl以下の波長の光が試料
に届かないように、セーフライト光の下で行われた。
1〜8から作られた。これらのフィルムは、それぞれI
Y、 2M、 3C,4に、 5Y、 6M、 7G、
および8にと記号をつけ区別する。フィルムは2ミル(
0,05ミリ)のドクタナイフにより、メチレンクロリ
ド12%溶液から塗布された。フィルムは0.05り−
a 7 / ft” (0,544り−o 7 /m”
)テ静電放電(ED)により表面処理した、50ミクロ
ン厚みのポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布
をされた。塗布は5QOIITl以下の波長の光が試料
に届かないように、セーフライト光の下で行われた。
■、接続層
粘着性のエラストマ塗布組成物
塗布溶液は以下の各成分を互いに混合することにより調
製された: メチレンクロライド スチレン−イソプレン−ス チレンブロックコポリマ 63.70 スチレンーブタジエンコボ 30リマ 一ブロビオネートメタン 適切なドクタを用いて、この液は乾いたときに約120
mg/ di”の塗布量となるように、シリコン剥離加
工をした25ミクロン厚みの、ポリエチレンテレフタレ
ート支持シート上に塗布された。
製された: メチレンクロライド スチレン−イソプレン−ス チレンブロックコポリマ 63.70 スチレンーブタジエンコボ 30リマ 一ブロビオネートメタン 適切なドクタを用いて、この液は乾いたときに約120
mg/ di”の塗布量となるように、シリコン剥離加
工をした25ミクロン厚みの、ポリエチレンテレフタレ
ート支持シート上に塗布された。
これらの接続、または接着性、層はそれぞれ9とlOと
いう記号が付された。この接着性層は、(9)は16%
メチレンクロリド溶液そして(10)は7.5%の溶液
から、それぞれ8ミルと14ミル(0,2ミリと0.3
5ミリ)のドクタナイ7により、シリコン剥離層ポリエ
ステル支持体とに約120INI/d+’の乾燥厚みが
得られるように塗布された。
いう記号が付された。この接着性層は、(9)は16%
メチレンクロリド溶液そして(10)は7.5%の溶液
から、それぞれ8ミルと14ミル(0,2ミリと0.3
5ミリ)のドクタナイ7により、シリコン剥離層ポリエ
ステル支持体とに約120INI/d+’の乾燥厚みが
得られるように塗布された。
+Y〜8にの各塗布フィルムの1部が、この2種の接着
層(9と10)の各々に室温でラミネートされ、感光性
層が塗布された50ミクロン厚みのEDfi理されたポ
リエステルと、接続または接着層が塗布され!;シリコ
ン剥離層ポリエステルとの間で、以下のフィルムサンド
インチ組立て体が作られた: IY−91Y−10 2M−92M−10 3G−93G−10 4に−94に−10 5Y−95Y−10 6M−96M−10 7G−97C−10 8に−98に−10 ネガプルーフ 実施例 l 工程l:試料4に一9フィルムを、イー、アイ。
層(9と10)の各々に室温でラミネートされ、感光性
層が塗布された50ミクロン厚みのEDfi理されたポ
リエステルと、接続または接着層が塗布され!;シリコ
ン剥離層ポリエステルとの間で、以下のフィルムサンド
インチ組立て体が作られた: IY−91Y−10 2M−92M−10 3G−93G−10 4に−94に−10 5Y−95Y−10 6M−96M−10 7G−97C−10 8に−98に−10 ネガプルーフ 実施例 l 工程l:試料4に一9フィルムを、イー、アイ。
デュポンデネモアーズ社製のクロマリン■ラミネータに
より、メリネツクス@994受容シートに230@F
(110℃)でラミネートした。ラミネーションに際し
て、シリコン剥離層ポリエステル支持体はとり除かれ、
そのため接著性層9は受容体にじかに接触している。以
下の各フィルムのラミネーションはすべてこのようにし
て行われた。
より、メリネツクス@994受容シートに230@F
(110℃)でラミネートした。ラミネーションに際し
て、シリコン剥離層ポリエステル支持体はとり除かれ、
そのため接著性層9は受容体にじかに接触している。以
下の各フィルムのラミネーションはすべてこのようにし
て行われた。
工程2:工程1で作ったラミネート構造体は、その上に
のせた所要のテスト画像の黒の分解ネガと共に、真空焼
枠中に入れられた。分解ネガの上に385nm以下の波
長の光だけを通すフィルタ(イー、アイ、デュポンデネ
モアーズ社製のグイルックス@7レキシプルフイルタ)
が置かれ、露光に先立って焼枠は真空にされた。この試
料は、試料の1約54インチ(約21.3cm)の5に
1高圧水銀蒸気燈(ホトポリマランプを備えた、イクス
ボジュアシステム社製のビオルックス[F]50025
)で210秒間露光された。
のせた所要のテスト画像の黒の分解ネガと共に、真空焼
枠中に入れられた。分解ネガの上に385nm以下の波
長の光だけを通すフィルタ(イー、アイ、デュポンデネ
モアーズ社製のグイルックス@7レキシプルフイルタ)
が置かれ、露光に先立って焼枠は真空にされた。この試
料は、試料の1約54インチ(約21.3cm)の5に
1高圧水銀蒸気燈(ホトポリマランプを備えた、イクス
ボジュアシステム社製のビオルックス[F]50025
)で210秒間露光された。
工程3:工程2の画像状露光後、グイルックス■フレキ
シブルフィルタは除かれ、試料は385nra以上だけ
を通過させるダイルックス■クリアリングフィルタを通
して、全面露光(つまり非画像状の)を与えた。この全
面露光は45〜180秒の範囲である。ダイルックスの
フィルタはイー、アイ、デュポンデネモアーズ社製のも
のである。
シブルフィルタは除かれ、試料は385nra以上だけ
を通過させるダイルックス■クリアリングフィルタを通
して、全面露光(つまり非画像状の)を与えた。この全
面露光は45〜180秒の範囲である。ダイルックスの
フィルタはイー、アイ、デュポンデネモアーズ社製のも
のである。
工程4:全面露光後、構造体は真空イーゼル上に置かれ
カバーシートを約aoooインチ/分(15240c+
m/分)の速さで剥離して用いた黒の分解原板を表現す
る高画質の黒色像を作った。
カバーシートを約aoooインチ/分(15240c+
m/分)の速さで剥離して用いた黒の分解原板を表現す
る高画質の黒色像を作った。
工程5:工程1の方法により、工程1〜4で作られた黒
色画像に試料IY−9がラミネートされた。予め形成さ
れた黒色画像にイエロの分解原板が位置決めの下に用い
られた他は、工程2〜4が繰り返された。
色画像に試料IY−9がラミネートされた。予め形成さ
れた黒色画像にイエロの分解原板が位置決めの下に用い
られた他は、工程2〜4が繰り返された。
工程6:工程1の方法により、工程1〜5で作られた2
色の画像に試料IM−9がラミネートされた。予め形成
されt;2色の画像にマゼンタの分解原板が位置決めの
下に用いられt;他は、工程2〜4が繰り返された。
色の画像に試料IM−9がラミネートされた。予め形成
されt;2色の画像にマゼンタの分解原板が位置決めの
下に用いられt;他は、工程2〜4が繰り返された。
工程7:工程lの方法により、工程1〜6で作られた3
色の画像に試料1G−9がラミネートされた。予め形成
された3色の画像にシアンの分解厚板が位置決めの下に
用いられた他は、工程2〜4が繰り返された。
色の画像に試料1G−9がラミネートされた。予め形成
された3色の画像にシアンの分解厚板が位置決めの下に
用いられた他は、工程2〜4が繰り返された。
工程8:保護をするために、工程1〜7で形成された4
色プルーフに、接着剤が塗られているポリエステルシー
トがラミネートされI;。ネガまたは反転画像に着色さ
れたサーブリントプルーフ(この場合、ネガ分解厚板と
の関係でポジ)が、かくして形成された。
色プルーフに、接着剤が塗られているポリエステルシー
トがラミネートされI;。ネガまたは反転画像に着色さ
れたサーブリントプルーフ(この場合、ネガ分解厚板と
の関係でポジ)が、かくして形成された。
衷1」L−又:二重
同様に着色されたネガまたは反転サーブリントブルーフ
を作るために、前記の8工程の手順を試料4に−10,
IY−10,2ト10および3G−10について用いる
ことができた。この他、(aに−9,5Y−9,6ト9
.7C−9)および(aに−10,5y−io、6ト1
0.7C−10)のフィルムセットについても、工程2
の画像状露光を51O秒とした以外、同じ手順を用いる
ことができた。全面露光の範囲は同じである。ボジプー
ルフ 実施例 5 工程l;試料4に−9をメリネツクス0994受容体シ
ートに230’F (110℃)でラミネートした。
を作るために、前記の8工程の手順を試料4に−10,
IY−10,2ト10および3G−10について用いる
ことができた。この他、(aに−9,5Y−9,6ト9
.7C−9)および(aに−10,5y−io、6ト1
0.7C−10)のフィルムセットについても、工程2
の画像状露光を51O秒とした以外、同じ手順を用いる
ことができた。全面露光の範囲は同じである。ボジプー
ルフ 実施例 5 工程l;試料4に−9をメリネツクス0994受容体シ
ートに230’F (110℃)でラミネートした。
ラミネーションに際して、シリコン剥離層ポリエステル
はとり除かれ、そのため接着性層9は受容体に直接接触
している。以下の各フィルムのラミネーションはすべて
このようにして行われる。
はとり除かれ、そのため接着性層9は受容体に直接接触
している。以下の各フィルムのラミネーションはすべて
このようにして行われる。
工程2:工程1で作ったラミネート構造体は、その上に
のせた所要のテスト画像の黒の分解ポジと共に、真空焼
枠中に入れられた。分解原板の上に385r++++以
上の波長の光だけを通すフィルタ(グイルックス0フレ
キシブルフイルタ)が置かれ、露光に先立って焼枠は真
空にされた。
のせた所要のテスト画像の黒の分解ポジと共に、真空焼
枠中に入れられた。分解原板の上に385r++++以
上の波長の光だけを通すフィルタ(グイルックス0フレ
キシブルフイルタ)が置かれ、露光に先立って焼枠は真
空にされた。
この試料は、試料の1約54インチ(約21.3cm)
の5kw高圧水銀蒸気燈(ホトポリマランプを備えた、
Exposure 5ysten+s社製のViolu
x@ 50025)でL80秒間露光された。
の5kw高圧水銀蒸気燈(ホトポリマランプを備えた、
Exposure 5ysten+s社製のViolu
x@ 50025)でL80秒間露光された。
工程3:露光後フィルタはとり除かれ、ラミネート構造
体は真空イーゼル上に置かれ、カバーシートを約600
0インチ/分(約)、5240c+m/分)の速さで剥
離して、使用した黒の分解原板を表現する高画質のポジ
像を作った。
体は真空イーゼル上に置かれ、カバーシートを約600
0インチ/分(約)、5240c+m/分)の速さで剥
離して、使用した黒の分解原板を表現する高画質のポジ
像を作った。
工程4:工程1の方法により、工程1〜3で作られj;
黒色画像に試料IY−9がラミネートされた。予め形成
された黒色画像にイエロの分解原板を位置決めの下に用
いた他は、工程2〜3が繰り返された。
黒色画像に試料IY−9がラミネートされた。予め形成
された黒色画像にイエロの分解原板を位置決めの下に用
いた他は、工程2〜3が繰り返された。
工程5:工程lの方法により、工程1〜4で作られた2
色の画像に試料IM−9がラミネートされた。予め形成
された2色の画像にマゼンタ分解原板が位置決めの下に
用いられた他は、工程2〜3が繰り返された。
色の画像に試料IM−9がラミネートされた。予め形成
された2色の画像にマゼンタ分解原板が位置決めの下に
用いられた他は、工程2〜3が繰り返された。
工程6:工程lの方法により、工程1〜5で作られた3
色の画像に試料1cm9がラミネートされた。予め形成
された3色の画像にシアンの分解原板が位置決めの下に
用いられた他は、工程2〜3が繰り返された。
色の画像に試料1cm9がラミネートされた。予め形成
された3色の画像にシアンの分解原板が位置決めの下に
用いられた他は、工程2〜3が繰り返された。
工程7:保護をするために、工程1〜6で形成された4
色プルーフに、接着剤が塗られたポリエステルシートが
ラミネートされた。ポジに着色されたサーブリントプル
ーフがかくして形成された。
色プルーフに、接着剤が塗られたポリエステルシートが
ラミネートされた。ポジに着色されたサーブリントプル
ーフがかくして形成された。
衷*@ 6−二り
同様に着色されたサーブリントプルーフを作るために、
前記の7エ程の手順を試料4に−10,1、Y −10
,2ト」0および3C−10について用いることができ
た。この他(aに−10,5Y−10,6M−10,7
C−10〕および(aに−9,5Y−9,6M−9,7
C−9)のフィルムセットについても、前と同じ手順を
用いることができる。画像露光はジメトキシ−JDIに
よる反応が、ポジ方式で用いるすべてのフィルムセット
に対して同じであるから実質上同じである。
前記の7エ程の手順を試料4に−10,1、Y −10
,2ト」0および3C−10について用いることができ
た。この他(aに−10,5Y−10,6M−10,7
C−10〕および(aに−9,5Y−9,6M−9,7
C−9)のフィルムセットについても、前と同じ手順を
用いることができる。画像露光はジメトキシ−JDIに
よる反応が、ポジ方式で用いるすべてのフィルムセット
に対して同じであるから実質上同じである。
実施例 9〜10
塗布溶液は前に述べI;ようにして以下の各成分から調
製された。塗布用溶剤としてはメチレンクロリドが用い
られ、約12重量%の固形分を含んでいる。以下の表中
の分量はすべてダラムである。
製された。塗布用溶剤としてはメチレンクロリドが用い
られ、約12重量%の固形分を含んでいる。以下の表中
の分量はすべてダラムである。
」よ−121314
エポクリル’3’12” 348.7 392.
3 348.7 348.7エルバサイト02051
2g1.3 278.0 281.7 173.3イエ
ロピグメント 40.8 マゼンタピグメント 113.8 スカーレットビグメ ント 32.6 シアンピグメント 黒ピグメント メタアクリレート分 散体 o−CQ HABI −MBO FC−430” ポリオツクス@ WSRN 10.2 26.4 11.4 6.6 4.62 74、■ 39.6 17.0 9.9 6.93 38.0 79.5 12.6 79.5 26.4 11.4 6.6 4.62 26.4 11.4 6.6 4.62 DNB [IB+ 19.80 29.70 19.80 19.803.
30 4.95 3.30 3.30メチレンクロ
リド中 75% メチレンクロリド中 10% 各溶液11−1.4から塗布フィルム(乾燥塗布量約3
0mg/dm″)が作られた。これらのフィルムをそれ
ぞれIIY、 12M、 13cおよび1.lKとして
区別する。この各フィルムは12インチの試験塗布機で
塗布された。各フィルムは0.05クーロン/ f t
”(0,544ク一ロン/m”)で静電放電(ED)
の表面処理をされた、50ミクロン厚みのポリエチレン
テレフタレート上に塗布された。塗布は5000二以下
の波長の光が試料に届かないように、セーフライト光の
下で行われた。
3 348.7 348.7エルバサイト02051
2g1.3 278.0 281.7 173.3イエ
ロピグメント 40.8 マゼンタピグメント 113.8 スカーレットビグメ ント 32.6 シアンピグメント 黒ピグメント メタアクリレート分 散体 o−CQ HABI −MBO FC−430” ポリオツクス@ WSRN 10.2 26.4 11.4 6.6 4.62 74、■ 39.6 17.0 9.9 6.93 38.0 79.5 12.6 79.5 26.4 11.4 6.6 4.62 26.4 11.4 6.6 4.62 DNB [IB+ 19.80 29.70 19.80 19.803.
30 4.95 3.30 3.30メチレンクロ
リド中 75% メチレンクロリド中 10% 各溶液11−1.4から塗布フィルム(乾燥塗布量約3
0mg/dm″)が作られた。これらのフィルムをそれ
ぞれIIY、 12M、 13cおよび1.lKとして
区別する。この各フィルムは12インチの試験塗布機で
塗布された。各フィルムは0.05クーロン/ f t
”(0,544ク一ロン/m”)で静電放電(ED)
の表面処理をされた、50ミクロン厚みのポリエチレン
テレフタレート上に塗布された。塗布は5000二以下
の波長の光が試料に届かないように、セーフライト光の
下で行われた。
ブタジェン/スチレンゴムステロン@709が、乾燥し
たとき約1201g/ d+a”の塗布量となるように
、25ミクロン厚みのシリコン剥離層をもつポリエチレ
ンテレフタレート支持体上に、約7.5%のメチレンク
ロリド溶液から塗布された。この接着層を15とする。
たとき約1201g/ d+a”の塗布量となるように
、25ミクロン厚みのシリコン剥離層をもつポリエチレ
ンテレフタレート支持体上に、約7.5%のメチレンク
ロリド溶液から塗布された。この接着層を15とする。
11Y−14にの各塗布フィルムの1部がこの接着層(
15)の1部に室温でラミネートされ、塗布されたフィ
ルムが接着した50ミクロン厚みのED処理ポリエステ
ルと、接着層が接着したシリコン剥離層ポリエステルと
の間で、以下のフィルムサンドインチ組立て体が作られ
た: 11Y−15.12M−15,13G−15,14に一
15前に示した方法に従って、ポジおよびネガの4色サ
ーブリントプルーフの両者がこれらの組立て体から作ら
れた。
15)の1部に室温でラミネートされ、塗布されたフィ
ルムが接着した50ミクロン厚みのED処理ポリエステ
ルと、接着層が接着したシリコン剥離層ポリエステルと
の間で、以下のフィルムサンドインチ組立て体が作られ
た: 11Y−15.12M−15,13G−15,14に一
15前に示した方法に従って、ポジおよびネガの4色サ
ーブリントプルーフの両者がこれらの組立て体から作ら
れた。
以上本発明の詳細な説明したが本発明はさらlこ下記の
実施態様によってこれを要約して示すことが出来る。
実施態様によってこれを要約して示すことが出来る。
l)ピールアパート多層感光性エレメント上にネガまた
は反転画像を形成するための方法において、次に述べた
順序の工程で: (1)上層から下層に向けて次の順に、(a)活性輻射
線に対して透明な剥離することのできるカバーシートと
、 (b)エチレン系不飽和基をもつ光硬化性材料、0−ニ
ドayft族光抑制剤化合物、380nm以上の波長の
活性輻射線により活性化される遊離基発生性の光開始剤
または光開始剤系、および着色材とをもつ光硬化性材料
からなる付着着性層と、そして (c)本質的に非感光性の有機接続層、とから構成され
る、ピールアパート多層感光性エレメントを用意し、こ
こで実買上約380no+以上の波長に限定された活性
輻射線に対する露光後、接続層(c)からその上の露光
をされた付着着性層(b)と共にカバーシート(a)を
とり去るのに要する剥離力が、未露光の付着着性層(b
)からカバーシート(a)をとり去るのに要する剥離力
の少なくとも4倍であり; (2)このピールアパート多層エレメントを画像をもつ
厚板を通じて、実質上約200〜約380nmの波長に
限定した活性輻射線に露光し、これにより付着着性層の
輻射線の当った区域内に重合抑制剤が形成され; (3)このエレメントの全体を、実質上約380nm以
上の波長に限定した活性輻射線に露光し、これにより工
程(2)で露光をされなかった区域の付着着性層が重合
され; (4)付着着性層(b)からカバーシート(a)金剥離
し、これにより工程(2)で露光をされた区域の付着着
性層を、用いた原板のネガまたは反転画像として接続層
(c)上に残留させる、 ことから構成される画像形成方法。
は反転画像を形成するための方法において、次に述べた
順序の工程で: (1)上層から下層に向けて次の順に、(a)活性輻射
線に対して透明な剥離することのできるカバーシートと
、 (b)エチレン系不飽和基をもつ光硬化性材料、0−ニ
ドayft族光抑制剤化合物、380nm以上の波長の
活性輻射線により活性化される遊離基発生性の光開始剤
または光開始剤系、および着色材とをもつ光硬化性材料
からなる付着着性層と、そして (c)本質的に非感光性の有機接続層、とから構成され
る、ピールアパート多層感光性エレメントを用意し、こ
こで実買上約380no+以上の波長に限定された活性
輻射線に対する露光後、接続層(c)からその上の露光
をされた付着着性層(b)と共にカバーシート(a)を
とり去るのに要する剥離力が、未露光の付着着性層(b
)からカバーシート(a)をとり去るのに要する剥離力
の少なくとも4倍であり; (2)このピールアパート多層エレメントを画像をもつ
厚板を通じて、実質上約200〜約380nmの波長に
限定した活性輻射線に露光し、これにより付着着性層の
輻射線の当った区域内に重合抑制剤が形成され; (3)このエレメントの全体を、実質上約380nm以
上の波長に限定した活性輻射線に露光し、これにより工
程(2)で露光をされなかった区域の付着着性層が重合
され; (4)付着着性層(b)からカバーシート(a)金剥離
し、これにより工程(2)で露光をされた区域の付着着
性層を、用いた原板のネガまたは反転画像として接続層
(c)上に残留させる、 ことから構成される画像形成方法。
2) ピールアパート多層感光性エレメントは、さらに
接続層(c)に接着している除去可能な支持体(d)を
有し、工程(2)の前にこの除去可能な支持体はとり除
かれ、そしてエレメントは受容基体に付着されるもので
ある、前項1記載の方法。
接続層(c)に接着している除去可能な支持体(d)を
有し、工程(2)の前にこの除去可能な支持体はとり除
かれ、そしてエレメントは受容基体に付着されるもので
ある、前項1記載の方法。
3)工程1〜4が少なくとも1度、各回異なる着色材か
らなるピールアパート感光性エレメントを用いて繰り返
され、これは前回のエレメントにその接続層(C)によ
り接着され、そして対応する色分解原板を通じて位置合
わせの下に露光され、これにより多色反転画像が形成さ
れるものである、前項夏記載の方法。
らなるピールアパート感光性エレメントを用いて繰り返
され、これは前回のエレメントにその接続層(C)によ
り接着され、そして対応する色分解原板を通じて位置合
わせの下に露光され、これにより多色反転画像が形成さ
れるものである、前項夏記載の方法。
4)イエロ、マゼンタ、シアンおよび黒にそれぞれ着色
された、4つのピールアパート感光性エレメントが、前
回のエレメントに任意の順に引き続き接着され、そして
対応する色の分解厚板を通じて位置合わせの下に露光さ
れて4色反転画像を形成させる前項3記載の方法。
された、4つのピールアパート感光性エレメントが、前
回のエレメントに任意の順に引き続き接着され、そして
対応する色の分解厚板を通じて位置合わせの下に露光さ
れて4色反転画像を形成させる前項3記載の方法。
5)各色分解原板はネガであり、形成される反転画像は
ポジである、前項3記載の方法。
ポジである、前項3記載の方法。
6)付着着性層は本質的に
(i) 1〜20重量%の清色材;
(ti)30〜55重量%の少なくとも1つの高分子有
機ポリマバインダ; (iii) 25〜50重量%の少なくとも1つの付
加重合しうるエチレン系の不飽和モノマ;(iv)
0.1=IO重量%の380nm以上の波長の活性輻射
線により活性化される、遊離基発生性の付加重合光開始
剤または光開始剤系;および (v) 前記エチレン系不飽和モノマの量を基準とし
て、0.004−0.07重量部のo−=トロ芳香旋光
抑制剤化合物、 から構成されるものである、前項1記載の方法。
機ポリマバインダ; (iii) 25〜50重量%の少なくとも1つの付
加重合しうるエチレン系の不飽和モノマ;(iv)
0.1=IO重量%の380nm以上の波長の活性輻射
線により活性化される、遊離基発生性の付加重合光開始
剤または光開始剤系;および (v) 前記エチレン系不飽和モノマの量を基準とし
て、0.004−0.07重量部のo−=トロ芳香旋光
抑制剤化合物、 から構成されるものである、前項1記載の方法。
7)光抑制剤化合物は以下の式の0−ニトロ芳香族化合
物である、前項6記載の方法。
物である、前項6記載の方法。
ここで
R1とR1とは同じでも異なっていても良いC3〜、の
アルコキシ基: R′は水素またはCl−6のアルキル基;R′はCl−
8のアルコキシ基、または2mまでのC4〜、のアルキ
ル基および/またはアルコキシ基で置換されたフェノキ
シ基;またはR3とR4とは両者で一〇となることがで
きる。
アルコキシ基: R′は水素またはCl−6のアルキル基;R′はCl−
8のアルコキシ基、または2mまでのC4〜、のアルキ
ル基および/またはアルコキシ基で置換されたフェノキ
シ基;またはR3とR4とは両者で一〇となることがで
きる。
8)光抑制剤化合物は4.5−ジメトキシ−2−二トロ
ベンズアルデヒドおよび1−(1−(4−ci、i−ジ
メチルエチル)−フェノキシフエチル)−4,5−ジメ
トキシ−2−二トロベンゼンからなる群より選ばれるも
のである、前項7記載の方法。
ベンズアルデヒドおよび1−(1−(4−ci、i−ジ
メチルエチル)−フェノキシフエチル)−4,5−ジメ
トキシ−2−二トロベンゼンからなる群より選ばれるも
のである、前項7記載の方法。
9〕 付着蒼性層は本質的に2.4.5− )リアリー
ルイミダゾールダイマ、水素供与体および可視光線増感
剤とから構成される、輻射線感応性の遊離基発生系を含
むものである、前項7記載の方法。
ルイミダゾールダイマ、水素供与体および可視光線増感
剤とから構成される、輻射線感応性の遊離基発生系を含
むものである、前項7記載の方法。
10) 2,4.5−トリアリールイミダゾールダイ
マはCDM−HABI、 o−Cl2−HABf、およ
びTCIM−HABIからなる群より選ばれるものであ
る、前項9記載の方法。
マはCDM−HABI、 o−Cl2−HABf、およ
びTCIM−HABIからなる群より選ばれるものであ
る、前項9記載の方法。
11)可視光線増感剤は以下の式のケトンである前項9
記載の方法。
記載の方法。
ここで
RI RglおよびRsは独立に水素またはC3〜。
のアルコキシ基;
ZはCH,またはC(CHs)s;
R4はH%cH3またはメトキシ基;
R1とR6はH;
RTとR’ ハm立1::cH,またハcHzGHz;
あルイハR’+R’8.l:びR’+R’ハ独立1
ニー(CHx)z−マタは−(CHよ)3−である。
あルイハR’+R’8.l:びR’+R’ハ独立1
ニー(CHx)z−マタは−(CHよ)3−である。
12)可視光線増感剤はジメトキシ−JDIおよびDB
iからなる群より選ばれるものである、前項11記載の
方法。
iからなる群より選ばれるものである、前項11記載の
方法。
*lAI!Iは、剥離することのできるカバーシート(
1,)、着色光付着性層(2)、接続層(3)、および
除去可能な支持体(4)とからw/を成される感光性エ
レメントを示している。 第1B図は、除去可能な支持体(4)を取り除いて、受
容基体(7)に接着させた第1A図の感光性エレメント
を示している。 gIC図は、カバーシート(1)が121!光、すなわ
ち前記の工程3)の380nm以上の波長の活性輻射線
に対する後露光、の後で取り敞かれつつある状態を示し
ている。光抑制剤が発生しなかった付着着性層(2)の
着色区域(5)、すなわち光硬化された区域はこれに付
着し、前記の工程3)での活性輻射線に対する全面露光
後に剥ぎ去られる。光抑制剤が発生させられた付着着性
層(2)の1色区域(6)は支持をされている接続層(
3)上に残留する。 第1D図は、サーブリントブルーフの第1の着色層(6
)、例えばイエロ、がカバーシート(1)の剥離後基体
(7)上に形成された状態を示している。 jglE図は、除去可能な支持体(4)を取り除いた第
2の感光性エレメントが、第1D図のエレメントに接着
された状態を示している。 第1F図は、第1A図で示しI;ような別個の感光性エ
レメントから作られた、3つの付加的な着色区域(10
)、(11)および(12)が、第1の着色区域(6)
、例えばイエロ、の上に引き続いて形成されて、基体(
7)上に4色のカラーサーブリントプルーフが作られた
状態を示している。 この3つの付加的な着色区域(]O)、(11)および
(12)は、例えばそれぞれマゼンタ、シアンおよび黒
である。保護層(13)が着色区域(12)にラミネー
トされている。 特許出願人 イー・アイ・デュポン・ド・ネモアース
費アンドーコンバニ 外2名
1,)、着色光付着性層(2)、接続層(3)、および
除去可能な支持体(4)とからw/を成される感光性エ
レメントを示している。 第1B図は、除去可能な支持体(4)を取り除いて、受
容基体(7)に接着させた第1A図の感光性エレメント
を示している。 gIC図は、カバーシート(1)が121!光、すなわ
ち前記の工程3)の380nm以上の波長の活性輻射線
に対する後露光、の後で取り敞かれつつある状態を示し
ている。光抑制剤が発生しなかった付着着性層(2)の
着色区域(5)、すなわち光硬化された区域はこれに付
着し、前記の工程3)での活性輻射線に対する全面露光
後に剥ぎ去られる。光抑制剤が発生させられた付着着性
層(2)の1色区域(6)は支持をされている接続層(
3)上に残留する。 第1D図は、サーブリントブルーフの第1の着色層(6
)、例えばイエロ、がカバーシート(1)の剥離後基体
(7)上に形成された状態を示している。 jglE図は、除去可能な支持体(4)を取り除いた第
2の感光性エレメントが、第1D図のエレメントに接着
された状態を示している。 第1F図は、第1A図で示しI;ような別個の感光性エ
レメントから作られた、3つの付加的な着色区域(10
)、(11)および(12)が、第1の着色区域(6)
、例えばイエロ、の上に引き続いて形成されて、基体(
7)上に4色のカラーサーブリントプルーフが作られた
状態を示している。 この3つの付加的な着色区域(]O)、(11)および
(12)は、例えばそれぞれマゼンタ、シアンおよび黒
である。保護層(13)が着色区域(12)にラミネー
トされている。 特許出願人 イー・アイ・デュポン・ド・ネモアース
費アンドーコンバニ 外2名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ピールアパート多層感光性エレメント上にネガまたは反
転画像を形成する方法において、次に述べる順序の工程
、すなわち: (1)上層から下層に向けて次の順に、 (a)活性輻射線に対して透明な剥離することのできる
カバーシートと、 (b)エチレン系不飽和基をもつ光硬化性材料、o−ニ
トロ芳香族光抑制剤化合物、380nm以上の波長の活
性輻射線により活性化される遊離基発生性の光開始剤ま
たは光開始剤系、および着色材とをもつ光硬化性材料か
らなる光付着性層と、そして (c)本質的に非感光性の有機接続層、 とから構成される、ピールアパート多層感光性エレメン
トを用意し、ここで実質上約380nm以上の波長に限
定された活性輻射線に対する露光後、接続層(c)から
その上の露光をされた光付着性層(b)と共にカバーシ
ート(a)をとり去るのに要する剥離力が、未露光の光
付着性層(b)からカバーシート(a)をとり去るのに
要する剥離力の少なくとも4倍であり; (2)このピールアパート多層エレメントを画像をもつ
原板を通じて、実質上約200〜約380nmの波長に
限定した活性輻射線に露光し、これにより光付着性層の
輻射線の当った区域内に重合抑制剤が形成され; (3)このエレメントの全体を、実質上約380nm以
上の波長に限定した活性輻射線に露光し、これにより工
程(2)で露光をされなかった区域の光付着性層が重合
され; (4)光付着性層(b)からカバーシート(a)を剥離
し、これにより工程(2)で露光をされた区域の光付着
性層を、用いた原板のネガまたは反転画像として接続層
(c)上に残留させる、ことから構成される上記の画像
を形成する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US282,642 | 1988-12-12 | ||
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