JPH0221437A

JPH0221437A - 光メモリ素子の製造方法

Info

Publication number: JPH0221437A
Application number: JP17130688A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Katayama; 博之片山; Junichiro Nakayama; 純一郎中山; Kenji Ota; 賢司太田; Kazuhiro Kimura; 和博木村
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1988-07-08
Filing date: 1988-07-08
Publication date: 1990-01-24

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、光学的に情報の記録および再生、または消去
が可能な光メモリ素子の製造方法に関するものである。

〔従来の技術〕

レーザー光などの光ビームにて情報の記録および再生、
または消去ができる光メモリ素子として種々のものが知
られているが、なかでも、カード状の光メモリ素子であ
る光カードは、小型、軽量で持ち運びが便利な大記憶容
量の記録媒体として盛んに開発が行われている。

光カードは、例えば、第３図に示すように、フィルム基
板１の一方の面上に記録媒体層２が形成されたものであ
って、この記録媒体層２は、プレフォーマットパターン
３ａが形成されているクラストＮ３と、アンダレイヤー
層４とで構成されている。また、前記のフィルム基板１
の他方の面上および上記のクラスト層３上には、保護層
５・６がそれぞれ形成されており、さらに、保８１層６
上には傷防止用の表面硬化層７が被覆されてし）る。

（−して、このような光カードにおいて上記のプレフォ
ーマットパターン３ａは、フォトマスクラ用い、二重露
光→現像→かぶり処理→定着といった一連の工程を有す
る写真製版技術により形成するのが通例である。

また、光カードとしては、第４図に示すように、プレフ
ォーマットパターンを基板８の凹凸８ａ・・・として形
成したものが知られている。このような光カードを製造
するには、スタンピングプレスにより基板８の一方の面
上に凹凸８ａ・・・を形成した後、この凹凸８ａ・・・
上にスパッタリング法や蒸着法などにより記録層９を形
成し、次いで、この記録層９上に接着剤層１０を介在さ
せて保護板１１を貼付するとともに、上記基板８の他方
の面上に表面硬化層１２を形成する。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、前者の光カードにおける製造方法では、写真
製版技術自体が前述のように複雑な工程から成り立って
いることから、各工程での厳格な製品管理が必要となり
、生産の効率化が阻害されて光カードの低価格化が図れ
ないという問題を招来する。一方、後者の光カードにお
ける製造方法では、記録層９の形成をスパッタリング法
や１着法により行うため、かかる方法を行う際に発生す
る輻射熱などの影響によって、上記記録層９に先立って
形成されたプレフォーマットパターンの凹凸８ａ・・・
の形状が崩れ、信号の再生に態形舌を及ぼすという欠点
を有していた。

〔課題を解決するための手段〕

請求項第１項の発明にかかる光メモリ素子の製造方法は
、光学的に情報を記録する記録層および、光学的に一定
の情報を有するプレフォーマットパターンが形成されて
いる光メモリ素子の製造方法において、基板上に上記の
記録層を形成した後に、この記録層上に印刷インクの濃
淡でプレフォーマットパターンを形成することを特徴と
している。

また、請求項第２項の発明にががる光メモリ素子の製造
方法は、光学的に情報を記録する記録層および、光学的
に一定の情報を有するブレフォーマントパターンが形成
されている光メモリ素子の製造方法において、基板上に
上記の記録層を形成した後に、表面にプレフォーマット
パターンの凹凸を有する押型を上記の記録層上から圧接
させて上記の基板上にプレフォーマットパターンを転写
形成することを特徴としている。

〔作　用〕

請求項第１項の発明の構成によれば、プレフォーマット
パターンを印刷インクの濃淡で記録層上に形成するから
、かかるプレフォーマットパターンの形成を印刷インク
の塗布若しくは転写によって簡単に行うことができる。

よって、写真製版技術における複雑な工程を排除するこ
とができ、生産の効率化を促進して光メモリ素子の低価
格化を図ることができる。

また、請求項第２項の発明の構成においては、記録層を
形成した後に、表面にプレフォーマットパターンの凹凸
を有する押型を上記の記録層上から圧接させて上記の基
板上にプレフォーマットパターンを転写形成するから、
上記記録層のスパッタリング法や１着法による形成でプ
レフォーマットパターンの凹凸を崩されるはずがなく、
上記の基板上には形部れの無い高精度のプレフォーマッ
トパターンが形成されることになり、信号再生の信顛性
を向上することができる。

〔請求項第１項の発明に係る実施例］本発明の一実施例を第１図に基づいて説明すれば、以下
の通りである。

本発明に係る製造方法により製造される光メモリ素子に
おいて、第１図（ｅ）に示すように、フィルム基板２１
上には光学的に情報を記録できる光記録ｊｉ２２が形成
されており、この光記録層２２上には印刷インク２３・
・・によるプレフォーマットパターンが形成されている
。プレフォーマットとは、光学的に一定の情報を有する
ものであってトラッキング用の案内溝、同期検出用のク
ロックピット列、および、ＩＤ情報を含んだプレピット
列などを含む概念である。そして、上記プレフォーマッ
トパターン上にはこれを覆うように、保護層２４が形成
されており、この保護層２４上および前記フィルム基板
２１上には傷防止用の表面硬化層２５・２６がそれぞれ
被覆されている。

かかる光メモリ素子を製造するには、同図（ａ）に示す
ように、フィルム基板２１の一方の面上に光記録層２２
をスパッタリング法や真空蒸着法などにより形成した後
、同図（ｂ）に示すように、印刷インク２３′・・・の
濃淡で形成されたプレフォーマットパターン像が形成さ
れている版盤２７を上記の光記録層２２上に圧着させ、
同図（Ｃ）に示すように、光記録層２２上に印刷インク
２３・・・の濃淡によるプレフォーマットパターンを転
写形成する。次いで、同図（ｄ）に示すように、上記の
プレフォーマットパターンを覆うように保護層２４を形
成した後、同図（ｅ）に示すように、この保護層２４上
および前記のフィルム基板２１の他方の面上に表面硬化
層２５・２６をそれぞれ形成する。

上記の構成によれば、プレフォーマットパターンを印刷
インク２３・・・の濃淡で光記録１２２上に形成するか
ら、かかるプレフォーマットパターンの形成を、上述の
ように、印刷インク２３′・・・の転写によって簡単に
行うことができる。よって、写真製版技術における複雑
な工程を排除することができ、生産の効率化を促進して
光カードの低価格化を図ることが可能となる。

なお、本実施例では、版盤２７に予め印刷インク２３′
・・・の濃淡像を形成しておいてこれを光記録層２２上
に圧着して転写しているが、この方法に限らず、予めプ
レフォーマットパターンに穿孔されたスクリーンを用意
しておき、これを光記録層２２上に介装した上で印刷イ
ンクを光記録層２２上に塗布するようにしても良いもの
である。かかる方法はプレグルーブパターンの形成にお
いて特に有用であり、光メモリ素子生産の時間短縮化を
一層促進することができる。

〔請求項第２項の発明に係る実施例〕本発明の一実施例を第２図に基づいて説明すれば、以下
の通りである。

本発明に係る製造方法により製造される光、ヤリ素子に
おいて、第２図（ｅ）に示すように、フィルム基板３１
上には光学的に情報を記録できる光記録層３２が形成さ
れており、この光記録層３２上には凹凸３３・・・によ
るプレフォーマットパターンが形成されている。そして
、上記プレフォーマットパターンを覆うように、保護層
３４が形成されており、この保ＸＩＪ’ｉ３４上および
前記フィルム基板３１上には傷防止用の表面硬化層３５
・３６がそれぞれ被覆形成されている。

かかる光メモリ素子を製造するには、同図（ａ）に示す
ように、フィルム基板３１の一方の面上に光記録層３２
をスパッタリング法や真空蒸着法などにより形成した後
、同図（ｂ）に示すように、表面に凹凸３３′を有し且
つ内部にヒータ３７ａを有する押型としてのスタンバ−
３７を、上記ヒータ３７ａで加熱しながら上記の光記録
層３２上から圧接させ、同図（ｃ）に示すように、フィ
ルム基板３１上に凹凸３３・・・によるプレフォーマッ
トパターンを転写形成する。次いで、同図（ｄ）に示す
ように、上記のブレフォーマントパターンを覆うように
保１１３４を形成した後、同図（ｅ）に示すように、こ
の保護層３４上および前記のフィルム基板３１の他方の
面上に表面硬化層３５・３６をそれぞれ形成する。

上記の構成によれば、光記録層３２を形成した後に、表
面にプレフォーマットパターンの凹凸３３′・・・を有
するスタンバ−３７を上記の光記録層３２上から圧接さ
せて上記の基板３１上にプレフォーマットパターンを転
写形成するから、上記光記録ＩＪ３２のスパッタリング
法や蒸着法による形成でプレフォーマットパターンの凹
凸３３・・・を崩されるはずがなく、上記の基板３１上
には形成れの無い高精度のプレフォーマットパターンが
形成されることになり、信号再生の信頼性を向上するこ
とができる。

なお、前記両発明にかかる光メモリ素子の製造方法は、
光カードの製造に限られるものではなく、プレフォーマ
ットパターンを有する光ディスクや光テープなどにおい
ても当然に適用できるものテする・また、表面硬化層は
、フィルム基板および保護層の材質によっては必ずしも
必要なものでなく、また、片側のみの形成で済ませるこ
とも可能である。

〔発明の効果〕

請求項第１項の発明に係る光メモリ素子の製造方法は、
以上のように、光学的に情報を記録する記録層および、
光学的に一定の情報を有するプレフォーマットパターン
が形成されている光メモリ素子の製造方法において、基
板上に上記の記録層を形成した後に、この記録層上に印
刷インクの濃淡でプレフォーマットパターンを形成する
構成である。

これにより、従来必要であった写真製版技術における複
雑な工程を排除して生産の効率化を促進し、光メモリ素
子の低価格化を図ることができるという効果を奏する。

また、請求項第２項の発明に係る光メモリ素子の製造方
法は、光学的に情報を記録する記録層および、光学的に
一定の情報を有するプレフォーマットパターンが形成さ
れている光メモリ素子ノ製造方法において、基板上に上
記の記録層を形成した後に、表面にプレフォーマットパ
ターンの凹凸を有する押型を上記の記録層上から圧接さ
せて上記の基板上にプレフォーマットパターンを転写形
成する構成である。

これにより、上記記録層のスパッタリング法や蒸着法に
よる形成によってプレフォーマットパターンの凹凸を崩
されることがなく、基板上には型部れの無い高精度のプ
レフォーマットパターンが形成されることになるから、
信号再生の信頼性を向上できるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）ないしくｅ）は請求項第１項の発明に係る
一実施例を示すものであって、それぞれ光カード製造工
程の各段階を示す断面図、第２図（ａ）ないしくｅ）は
請求項第２項の発明に係る一実施例を示すものであって
、それぞれ光カード製造工程の各段階を示す断面図、第
３図および第４図はそれぞれ−Ｃの光カードを示す断面
図である。２１・３１はフィルム基板、２２・３２は光記録層、２
３は印刷インク、２４・３４は保護層、２７は版盤、３
３は凹凸、３７はスタンバ−（押型）である。第図（ａ）葛図（ｂ）鬼図（Ｃ）第図（ａ）第２図（ｂ）第１図（ｄ）纂図（ｅ）第２図（Ｃ）第図（ｄ）

Claims

【特許請求の範囲】１、光学的に情報を記録する記録層および、光学的に一
定の情報を有するプレフォーマットパターンが形成され
ている光メモリ素子の製造方法において、基板上に上記の記録層を形成した後に、この記録層上に
印刷インクの濃淡でプレフォーマットパターンを形成す
ることを特徴とする光メモリ素子の製造方法。２、光学的に情報を記録する記録層および、光学的に一
定の情報を有するプレフォーマットパターンが形成され
ている光メモリ素子の製造方法において、基板上に上記の記録層を形成した後に、表面にプレフォ
ーマットパターンの凹凸を有する押型を上記の記録層上
から圧接させて上記の基板上にプレフォーマットパター
ンを転写形成することを特徴とする光メモリ素子の製造
方法。