JPH0221441A - 光磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

（産業上の利用分野） この発明は光磁気記録媒体に関するものであり、特に、
カー（にｅｒｒ）効果エンハンスメント（Ｅｎｈａｎｃ
ｅｍｅｎｔ）と保護特性とに優れた保護膜を具えた光磁
気記録媒体に関する。 （従来の技術） 光磁気記録媒体（以下、単に記録媒体と称する場合も有
る。）は、貫換えのできる磁性膜を具えた高茫度記録媒
体として、研究開発が活発に行なわれでいる。 このような記録媒体の磁性膜を構成する光磁気記録材料
の内でも、希土類金属と遷移金属との非晶質合金（以下
、単にＲＥ−ＴＭ金合金称する場合も有る。）は、磁化
方向が成膜面に対して垂直に配向した垂直磁化膜となる
こと、保磁力が数（にＯｅ）と大きいこと、スパッタ、
真空蒸着またはその他の被着技術で比較的容易に成膜が
可能であること等の点で、最も研究が道み、実用化が進
んでいる。 しかしながら、ＲＥ−ＴＭ金合金ら成る磁性膜は耐食性
が低く（例えば文献Ｉ：　「光磁気ディスク」（今村修
武監修、ｅｕ−リケブス発行、第４２７頁）参照）、シ
かも、磁気光学的な効果（カー（Ｋｅｒｒ）効果）が小
さいという欠点が有る。 そこで、種々の材料から成る保護膜でＲＥ−ＴＭ金合金
ら成る磁性膜を挟み、当該磁性膜の腐食を防ぐと共に、
光の多重反射を利用して見掛は上のカー（にｅｒｒ）回
転角を大きくする構造が知られている（前記文献工：第
１１９頁）。 以下、図面を参照して、上述した従来の光磁気記録媒体
につき説明する。 第５図は、保護膜を具えた記録媒体の一構成例を説明す
るため、概略的な断面により示す説明図である０図中、
断面を示すハツチングは一部省略する。 この第５図からも理解できるように、基板１１の表面に
保護膜１３ａ、磁性膜１５及び保護膜＋３ｂを順次形成
することによって記録媒体１７が構成される。 このうち、基板１１は例えばポリカーボネート樹脂、ガ
ラス、エポキシ樹脂またはその他任意好適な材料から成
り円板形状を有する。 また、保ＩＩ膜１３ａと＋３ｂとは、例えば５ｉＯ１Ｓ
ｉＯ□、／ＩｕＮ　、　Ｓｉ３Ｎ、　、Ａｕ５ｉＮ　、
　Ａｕ５ｉＯＮまたはその他の保護膜材料を被着させで
形成する。既に述べたように、この保護膜の被着は例え
ばスパッタ法、真空蒸着法またはその他の、保護膜を構
成する材料に応じた被着技術によって行なわれる。 ざらに、磁性膜１５は前述したＲＥ−ＴＭ金合金ら構成
され、このような合金として例えばＴｂ−Ｆｅ合金、Ｔ
ｂ−Ｃｏ合金、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ合金またはその他、希
土類金属と遷移金属との組み合わせが、種々、知られで
いる。 このような構造の記録媒体１７において、当該媒体１７
の読取り側に配設された保護膜１３ａはＣ／Ｎ比（Ｃａ
ｒｒｉｅｒ／Ｎｏ１ｓｅ　Ｒａｔｉｏ：搬送波対雑音比
）に影Ｗを及ぼす要因であるため、次のような条件を満
たすことか必要とされている。 ■見掛は上のカー回転角を高めるために屈折率の高い材
料であること ■書込みや読取りに使用される光の波長（通常、７５０
〜９００（ｎｍ）程度）においで透光性を有する材料で
あること ■媒体を使用する環境で、例えば水分等から磁性膜を保
護し得る耐食性材料であること また、保護膜＋３ｂは、少なくとも上述の■として示す
耐食性を満たす材料であれば、カー効果エンハンスメン
トをもたらす条件を欠く他の材料で構成しても良い。 このような記録媒体１７は、１　（ｕｎ）程度のスポッ
ト径に絞ったレーザビーム及び外部磁界を用いた熱磁気
書込み方式によって情報の書込みか行なわれ、前述した
垂直磁化膜であることから１０ａ（ビット／ａｍ２）と
いう極めて高９度な記録が可能である。また、原理的に
は、消去と再書込みとの繰り返しを無限回に近く行なう
ことかできるという優れた特色を有する。 （発明が解決しようとする課題） 上述１ノた従来技術の説明からも理解できるように、光
磁気記録媒体における保護膜の屈折率と透光性とは、情
報の書込み特性や読取り特性に大きく影響する。このう
ち屈折率についで考えれば、例えばアルミ系の保護膜材
料（例えば前述したＡＱ、Ｎ　、　Ａ［ＳｉＮ　、　Ａ
ｕ５ｉＯＮ）は屈折率ｎが２程度であり、周知の材料中
で比較的高い値を示す材料としで知られている。しかし
ながら、現在では、種々の情報機器の発達に伴なって記
録全席の向上が要求されており、従来周知の保護膜材料
が有する屈折率ではカー効果エンハンスメントが不充分
であるという問題が有る。 また、前述したように、磁性膜の読取り側に形成される
保護膜は、情報の書込みや読取りに使用される波長での
吸光係数ｋが小さいものであることが要求される。この
吸光係数には、上述した屈折率ｎを含む複素屈折率ｎ−
ｋｉ（ｉは虚数単位）として知ることができる、実際に
、従来周知の保護膜材料の吸光係数には、１０−１程度
の値を有するが、ざらに低い値とすることが望まれる。 しかしながら、屈折率ｎと吸光係数にとに関する要求を
満たし、かつ耐食性にも優れた保護膜材料が得られてい
ないという問題点が有った。 この発明の目的は、上述した従来の問題点に鑑み、上述
した種々の要求を満たす保護膜を具えた信頼性の高い光
磁気記録媒体と、当該媒体の製造に好適な方法とを提供
することに有る。 （課題を解決するための手段） この目的の達成を図るため、この出願の第一発明に係る
光磁気記録媒体によれば、基板上に、少なくとも、保護
膜と磁性膜とを具えで成る光磁気記録媒体において、 上述した保護膜が、チタン酸ストロンチウム系化合物（
ＳｒＴｉＯｘ）及びチタン酸バリウム系化合物（ＢａＴ
ｉＯｘ）　（但し、Ｘは２．７≦×≦３．０の値を表わ
す、）のうちから選ばれたいずれか一方の物質または双
方の混晶から成る ことを特徴としている。 また、この出願の第二発明に係る光磁気記録媒体の製造
方法によれば、基板上に、少なくとも、保護膜と磁性膜
とを具えて成る光磁気記録媒体を製造するに当り、 上述した保護膜を、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉ
Ｏ３）及びチタン酸バリウム（８ａＴｉＯ３）のうちか
ら選ばれたいずれか一方または双方から成る成膜用ター
ゲットと、チタン（Ｔｉ）または酸化チタン（ＴｉＯＹ
）（但し、Ｙは正数を表わす、）から成る組成調整用タ
ーゲットとを同時にスパッタして被着形成する ことを特徴としている。 ざらに、この出願の第三発明に係る光磁気記録媒体の製
造方法によれば、基板上に、少なくとも、保護膜と磁性
膜とを具えて成る光磁気記録媒体を製造するに当り、 上述した保護膜を、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉ
０３）及びチタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ：＋）のうち
から選ばれたいずれか一方または双方から成る成膜用タ
ーゲットを不活性ガスと酸素との混合雰囲気中でスパッ
タして被着形成する ことを特徴としている。 また、この出願の第四発明に係る光磁気記録媒体の製造
方法によれば、基板上に、少なくとも、保護膜と磁性膜
とを具えて成る光磁気記録媒体を製造するに当り、 上述した保護膜を、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉ
０３）及びチタン酸バリウム（８ａＴｉ０３）のうちか
ら選ばれたいずれか一方または双方から成る成膜用ター
ゲットと、チタン（Ｔｉ）または酸化チタン（ＴｉＣｈ
）　（但し、Ｙは正数を表わす。）から成る組成調整用
ターゲットとを、不活性ガスと酸素との混合雰囲気中で
同時にスパッタしで被着形成する ことを特徴としている。 尚、上述した第二発明、第三発明及び第四発明に係る方
法において、チタン酸ストロンチウムとチタン酸バリウ
ムとの双方から成る成膜用ターゲットとは、これら２つ
の物質が混晶として構成される成膜用ターゲットを用い
る場合と、各々の物質から成る合計２種類の成膜用ター
ゲットを同時に用いる場合とを包括的に表わしている。 （作用） この出願の第一発明に係る光磁気記録媒体によれば、上
述した保護膜材料で記録媒体を構成することにより、屈
折率ｎが２．２以上、吸光係数ｋが０．０３以下となり
、ざらに従来の材料に比して耐食性の劣化をきたすこと
がない。 また、この出願の第二発明に係る光磁気記録媒体の製造
方法によれば、前述したように、成膜用ターゲットと組
成調整用ターゲットとを同時にスバ・ンタして保護膜を
形成することにより高い屈折率と低い吸光係数とを実現
することができ、ざらに耐食性の劣化を回避することが
できる。 これら特性のうち、特に、上述した吸光係数ｋについて
は、組成調整用ターゲットにおける酸素の占める割合を
大きくすることによって、当該係数ｋをＯとすることも
でき、実質的に透明な保護膜を実現することができる。 この製造方法の作用についでは、明らかではないが、組
成調整用クーゲットとして前述した構成のものを用いる
ことにより、成膜用ターゲットを構成する物質と、保護
膜としで被着された物質との間の化学量論的な組成のず
れが補償されると考えられる。 ざら１こ、この出願の第三発明に係る光磁気記録媒体の
製造方法によれば、前述したように、成膜用ターゲット
のみを、例えばアルゴンのような不活性ガスと酸素との
混合雰囲気中でスパッタして保護膜形成することにより
高い屈折率と低い吸光係数とを実現することができ、さ
らに耐食性の劣化を回避することができる。これら特性
のうち、特に、上述した吸光係数ｋ（ごついでは、混合
雰囲気中において酸素の占める割合を大きくすることに
よって、当該係数ｋＶｏとすることもでき、実質的に透
明な保護膜を実現することができる。 また、この出願の第四発明に係る光磁気記録媒体の製造
方法によれば、前述したように、成膜用クーゲットと組
成調整用ターゲットとを同時に、かっ例えばアルゴンの
ような不活性ガスと酸素との混合雰囲気中でスパッタし
て保護膜形成することにより高い屈折率と低い吸光係数
とを実現することができ、ざらに耐食性の劣化を回避す
ることができる。この第四発明に係る方法によれば、上
述した第二発明及び第三発明と同様に、組成調整用ター
ゲットにおいて酸素の占める割合や混合雰囲気中におい
て酸素の占める割合を大きくすることによって、吸光係
数に８０とすることかでき、実質的に透明な保護膜を実
現することができる。 （実施例） 以下、図面を参照して、この出願に係る発明の実施例に
つき説明する。尚、以下に説明する実施例は、この発明
の範囲の好ましい数値例、その他の条件で説明するが、
これらは単なる例示であって、この発明はこれら特定の
条件にのみ限定されるものではないことを理解されたい
、また、この実施例では、記録媒体の構造の一例としで
前述した第５図に示す構造を有する比較例及び実施例１
〜１８の、合計１９種類の記録媒体を作製して種々の特
性を測定し、比較検討した。これら試料についでの説明
の理解を容易とするため、各々の試料に係る記録媒体の
材料構成、被着条件及び特性評価の結果を第６９頁に別
表として記載する。 比１

【倒 く製造条件の説明〉 まず、この比較例に係る記録媒体では、従来周知のスパ
ッタ技術によって、ポリカーボネート樹脂から成る基板
１１の表面に一酸化ケイ素（Ｓｉｎ）から成る保護膜１
３ａを約８００（λ）の膜厚で被着形成する。この時の
成膜条件は、ＳｉＯのみがら成る直径１２６（ｍｍ）の
成膜用ターゲットを用い、投入電力が５００（Ｗ）　、
アルゴンのガス圧が３（ｍＴｏｒｒ）として行なった。 次に、チルどラム二鉄：コバルトの組成比が２２ニア０
：８（原子数の比）である磁性膜用のターゲットを用意
し、上述と同様なスパッタ条件により、保護膜１３ａの
表面に、約８００（人）の膜厚を以って磁性膜１５を被
着形成する。 続いて、前述した保護膜１３ａと同一の条件によって、
上述した磁性膜１５の表面に約１０００　（λ）の膜厚
で保護膜＋３ｔ）を被着形成し、比較例に係る記録媒体
を得た。 ＜　Ｃ／Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉このＣ／Ｎ
比の測定に当っては、上述した手順により、ポリカーボ
ネート樹脂基板上に作製された比較例に係る記録媒体を
試料とし、書込みに用いた光の波長８３０（ｎｍ）　、
回転数９００（ｒ、ｐ、ｍ、）、デユーティ−５０（％
）、記録周波数１．８５（ＭＨｚ）、記録パワー７　（
ｍＷ）で記録し、その後、読出しパワー１．６（ｍＷ）
　、バンド幅３０（にＨｚ）でＣ／Ｎ比の測定を行なっ
た。 その結果、比較例に係る記録媒体のＣ／Ｎ比は４４．０
（ｄＢ）であった。 く耐食性試験の手順と測定結果の説明〉耐食性試験では
、比較例に係る記録媒体に対して予め情報を書込み、こ
の記録媒体ｔ６０（”Ｇ）の温度で相対湿度ヲ８０（％
）とした条件（以下、単に耐食性試験条件と称する。）
で２００時間に亙って保持する。然る後、予め書込まれ
た情報が耐食性試験の後に損傷する割合（エラーレート
）を測定した結果と、上述したＣ７Ｎ比の測定結果とに
より、耐食性を評価した。 その結果、エラーレートは約１０−４程度であり、Ｃ／
Ｎ比は耐食性試験前の値と同じ４４．０（ｄＢ）であっ
た。 く複素屈折率の測定手順と結果〉 この測定では、前述した保護膜と同じ被着条件によって
シリコンウェハの表面に２０００　（λ）の膜厚でＳｉ
Ｏを被着させた試料を別途作製し、エリプソメーターを
用いて６３３（ｎｍ）の波長における複素屈折率ｎ−ｋ
ｉを測定した。 その結果、複素屈折率は１．９０−０．１０　ｉであっ
た。 次に、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）７ａ成
膜用ターゲツトとしで用いた場合の実施例１〜４に係る
記録媒体につき説明する。 罠庭拠］ く製造条件の説明〉 この実施例］に係る記録媒体では、従来周知のスパッタ
技術によって、ポリカーボネート樹脂がら成る基板１１
の表面に、保護膜１３ａｔ約８００（λ）の膜厚で被着
形成する。この時の成膜条件は、ＳｒＴｉＯ３のみから
成る直径１２６（ｍｍ）の成膜用ターゲットを用い、投
入電力が５００（Ｗ）　、アルゴンのガス圧が３　（ｍ
丁ｏｒｒ）として行なった。 次に、前述した組成を有する磁性膜用のターゲットを用
い、上述と同様なスパッタ条件によって、保護膜１３ａ
の表面に約８００（λ）の膜厚を以って磁性膜１５を被
着形成する。 続いて、前述した保護膜１３ａと同一の成膜条件によっ
て、上述した磁性膜１５の表面に約１０００（人）の膜
厚で保護膜＋３ｂを被着形成し、実施例］に係る記録媒
体を得た。 ＜Ｃ／Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例１
に係る記録媒体のＣ／Ｎ比測定に当っても、前述した比
較例と同一の手順により、ポリカーボネート樹脂基板上
に作製された実施例１に係る記録媒体を試料とし、書込
みに用いた光の波長８３０（ｎｍ）　、回転数９００（
乙ρ、ｍ、）、デユーティ−５０（％）、記録周波数１
．８５（ＭＨｚ）　、記録パワー７　（ｍＷ）で記録し
、その後、読出しパワー１．６（ｍＷ）　、バンド幅３
０（にＨｚ）でＣ／Ｎ比の測定を行なった。 その結果、実施例１に係る記録媒体のＣ／Ｎ比は４７．
５（ｄＢ）であった。 く耐食性試験の手順と測定結果の説明〉耐食性試験では
、実施例１に係る記録媒体に対して予め情報ＩＮＦ込み
、この記録媒体％６０（’Ｃ）の温度で相対湿度を８０
（％）とした比較例と同一の耐食′ｉ試験条件下で２０
０時間に亙って保持する、然る後、前述した情報の損傷
割合（エラーレート）の測定と、上述したＣ／Ｎ比の測
定とにより、耐食゛Ｉ！を評価した。 その結果、エラーレートは約１０１程度であり、Ｃ／Ｎ
比は耐食性試験前の値と同じ４７．５（ｄＢ）であった
。 〈複素屈折率の測定子ｊ＠と結果〉 この測定では、上述と同じ被着条件によって、シリコン
ウェハの表面に、保護膜を２０００　（λ）の膜厚て被
着させた試料を別途作製し、エリプソメーターを用いて
６３３（ｎｍ）の波長における複素屈折率ｎ−ｋｉを測
定した。 その結果、複素屈折率は２．２２−０．０２　ｉであっ
た。 大１８汁λ 〈製造条件の説明〉 この実施例２に係る記録媒体では、第２発明に係る方法
を通用して保護膜１３ａと＋３ｂとを被着形成し、磁！
膜１５の被着は既に述べたのと同一の材料、膜厚及び被
着条件で試料作製を行なった。 この保護膜の被着条件につき詳述すれば、まず、チタン
（Ｔｉ）から成る直径１２６（ｍｍ）の組成調整用ター
ゲットと、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）か
ら成る直径２５（ｍｍ）の成膜用ターゲットとを用意す
る。然る後、上述した組成調整用ターゲットの表面１こ
成膜用ターゲットを６枚＠コする。このように、被スパ
ツタ面において、組成調整用ターゲットの表面が成膜用
ターゲットにより覆われた状態で、これら２種頼のター
ゲットを同時にスパッタし、ポリカーボネート樹脂から
成る基板１１の表面に、保護膜１３ａを約８００（λ）
の膜厚で被着形成した。この時の成膜条件は、前述と同
様に、投入電力が５００（Ｗ）　、アルゴンのガス圧が
３（ｍＴｏｒｒ）としで行なった。 上述した説明からも理解できるように、この実施例２で
は、ＳｒＴｉＯ３から成る成膜用ターゲットが被スパツ
タ面に占める面積の割合を約９５（％）とし、Ｔｉから
成る組成調整用ターゲットか被スパツタ面に占める面積
の割合を約５（％）として保護膜の被着形成を行なった
。 ＜Ｃ／Ｎ比の測定子ｊ＠と測定結果の説明〉この実施例
２に係る記録媒体に閉じでも、比較例及び実施例］と同
一の条件でＣ／Ｎ比の測定を行なった。その結果、実施
例２に係る記録媒体のＣ／Ｎ比は４６．８（ｄＢ）であ
った。 〈耐食性試験の手順と測定結果の説明〉耐食性試験も比
較例及び実施例１と同一の耐食性試験条件下で２００時
間に亙って保持した後に行ない、前述した情報の損傷割
合（エラーレート）の測定と、上述したＣ／Ｎ比の測定
とにより、耐食性を評価した。 その結果、エラーレートは約１０−５程度であっ、Ｃ７
Ｎ比は耐食性試験前の値と同じ４６．８（ｄＢ）であっ
た。 〈複素屈折率の測定手順と結果〉 この実施例２に係る記録媒体の複素屈折率測定においで
も、シリコンウェハの表面１こ、上述と同じ被着条件に
よって２０００　（Ａ　）の膜厚で保護膜を被着させた
試料を別途作製し、比較例及び実施例１と同様にエリプ
ソ、メーターを用いで６３３（ｎｍ）の波長における複
素屈折率ｎ−ｋｉ％測定した。 その結果、複素屈折率は２．２３−０．０３　ｉであっ
た。 大】ｌ性ユ く製造条件の説明〉 この実施例３に係る記録媒体では、組成調整用ターゲッ
トに一酸化チタン（Ｔｉｅ）を用い、第一発明に係る方
法を適用して保護膜１３ａと１３１）とそ被着形成し、
磁性膜１５の被着は既に述べたのと同一の材料、膜厚及
び被着条件で試料作製を行なった。 この保護膜の被着条件につき詳述すれば、−酸化チタン
（Ｔｉｅ）から成る直径１２６（ｍｍ）の組成調整用タ
ーゲットと、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）
から成る直径２５（ｍｍ）の成膜用ターゲットとを用意
する。然る後、実施例２と同様に、被スパツタ面におい
で、組成調整用ターゲットの表面が６枚の成膜用ターゲ
ットにより覆われた状態で、これら２種類のターゲット
を同時（こスパッタし、ポリカーボネート樹脂から成る
基板１１の表面に、保護膜１３ａを約８００（Ａ）の膜
厚で被着形成した。この時の成膜条件は、前述と同一の
投入電力及びアルゴンガス圧として行なった。 上述した説明からも理解できるように、この実施例３で
は、５ｒＴｉ（ｈから成る成膜用ターゲットが被スパッ
ク面に占める面積の割合を約９５（％）とし、ＴｉＯか
ら成る組成調整用ターゲットが上述した面において占め
る割合を約５（％）として保護膜の被着形成を行なった
。 ＜　Ｃ／Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例
３に係る記録媒体に闇しても、比較例、実施例１及び実
施例２と同一の条件でＣ／Ｎ比の測定を行なった結果、
実施例３に係る記録媒体のＣ／Ｎ比は４７．５（ｄＢ）
であった。 く耐食性試験の手順と測定結果の説明〉前述した比較例
、実施例１及び実施例２と同一の耐食性試験条件で２０
０時間保持した復に、実施例３に係る記録媒体のエラー
レートの測定と、Ｃ／Ｎ比の測定とを行なった結果、エ
ラーレートは約１０−５程度であり、Ｃ／Ｎ比は耐食性
試験前の値と同し４７．５（ｄＢ）であった。 く複素屈折率の測定手順と結果〉 この実施例３に係る記録媒体の樗素屈折率測定において
も、シリコンウェハの表面に、上述と同じ被着条件で、
２０００　（Ａ　）の保護膜を被着させた試料を別途作
製し、比較例、実施例１及び実施例２と同様に測定した
結果、複素屈折率は２．２２−０．０２　ｉであった。 大】ｌ外圧 〈製造条件の説明〉 この実施例４に係る記録媒体では、組成調整用ターゲッ
トに二酸化チタン（Ｔｉ０２）を用い、第二発明に係る
方法を適用して保護膜１３ａと＋３ｂとを被着形成し、
磁性膜１５の被着は既に述べたのと同一の材料、膜厚及
び被着条件で試料作製を行なった。 この保護膜形成においでは、二酸化チタン（ＴｉＯ□）
を組成調整用ターゲットとして用いたことを除き、実施
例２及び実施例３と同一の投入電力及びアルゴンガス圧
として行なった。 上述した説明からも理解できるように、この実施例４で
は、ＳｒＴｉＯ３から成る成膜用ターゲットが被スパツ
タ面に占める面積の割合を約９５（％）とし、ＴｉＯ２
から成る組成調整用ターゲットが上述した面において占
める割合を約５（％）として保護膜の被着形成を行なっ
た。 ＜Ｃ１Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例４
に係る記録媒体に閉じても、比較例、実施例１〜３と同
一の条件でＣ／Ｎ比の測定を行なった結果、実施例４に
係る記録媒体のＣ／Ｎ比は４７．０（ｄＢ）であった。 く耐食性試験の手順と測定結果の説明〉前述した比較例
、実施例１〜３と同一の耐食性試験条件で２００時間保
持した後に、実施例４に係る記録媒体のエラーレートの
測定と、Ｃ／Ｎ比の測定とを行なった結果、エラーレー
トは約１０−５程度であり、Ｃ／Ｎ比は耐食性試験前の
値と同じ４７．０（ｄＢ）であった。 く複素屈折率の測定手順と結果〉 この実施例４に係る記録媒体の複素屈折率測定においで
も、シリコンウェハの表面に、上述と同じ被着条件で、
２０００　（λ）の保護膜を被着させた試料を別途作製
し、比較例、実施例１〜３と同様に測定した結果、複素
屈折率は２．２１であった、この説明からも理解できる
ように、実施例４に係る記録媒体の吸光係数ｋがＯとな
り、実質的に透明な保護膜を形成することができた。 続いて、チタン酸バリウム（８ａＴｉＯ３）を成膜用タ
ーゲットとして用いた場合の実施例５〜８に係る記録媒
体につき説明する。 犬】ｌ１互 〈製造条件の説明〉 この実施例５に係る記録媒体では、チタン酸バリウム（
ＢａＴｉＯ３）から成る直径１２６（ｍｍ）の成膜用タ
ーゲットを用いたこと以外は、実施例２と同一の積層関
係及び成膜条件で記録媒体を作製し、実施例５に係る記
録媒体を得た。 ＜　Ｃ／Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例
５に係る記録媒体のＣ／Ｎ比測定に当っても、前述した
比較例及び実施例１〜４に係る記録媒体と同一の手順に
より測定を行なつた結果、実施例５に係る記録媒体のＣ
／１１比は４８．０（ｄＢ）であった。 く耐食性試験の手順と測定結果の説明〉この実施例５に
係る記録媒体に関して、比較例及び実施例１〜４に係る
記録媒体と同一の耐食性試験条件下で２００時間に亙っ
て保持した後、前述したエラーレートの測定と、上述し
たＣ／Ｎ比の測定とにより、耐食性を評価した。 その結果、エラーレートは約１０−５程度であり、Ｃ／
Ｎ比は耐食性試験前の値と同じ４８．０（ｄＢ）であっ
た。 く複素屈折率の測定手順と結果〉 上述と同じ被着条件によって、シリコンウェハの表面に
、保護膜を２０００　（＾）の膜厚で被着させた実施例
５に係る試料を別途作製し、エリプソメーターを用いで
複素屈折率ｎ−ｋｉ＠測定した結果、複素屈折率は２．
２５−０．０２　ｉであった。 医涜ｌ性旦 〈製造条件の説明〉 この実施例６では、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）
から成る直径２５（ｍｍ）の成膜用ターゲットを用いた
ことを除き、第二発明を利用した実施例２と同一の積層
間係及び成膜条件で記録媒体を作製した。 即ち、チタン（Ｔｉ）から成る直径１２６（ｍｍ）の組
成調整用ターゲットの表面に上述した成膜用ターゲット
を６枚載】した状態で、これら２種類のターゲットを同
時にスパッタして、保護膜１３ａを及び＋３ｂｔ被着形
成した。この時の成膜条件は、前述と同一の投入電力及
びアルゴンガス圧とした。 上述した説明からも理解できるように、この実施例６で
は、ＢａＴｉＯ３から成る成膜用ターゲットか被スパツ
タ面に占める面積の割合を約９５（％）とし、Ｔｉから
成る組成調整用ターゲットが被スパツタ面において占め
る割合を約５（％）として保護膜の被着形成を行なった
。 ＜Ｃ／Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例６
（こ係る記録媒体に闇しても、比較例及び実施例１〜５
と同一の条件でＣ／Ｎ比の測定を行なった結果、実施例
６に係る記録媒体のＣ／Ｎ比は４７．０（ｄＢ）であっ
た。 く耐食性試験の手順と測定結果の説明〉この実施例６に
係る記録媒体に関して、比較例及び実施例１〜５に係る
記録媒体と同一の耐食性試験条件下で２００時間に亙っ
て保持した後、前述したエラーレートの測定と、上述し
たＣ／Ｎ比の測定とにより、耐食性を評価した。 その結果、エラーレートは約１０−５程度であり、Ｃ／
Ｎ比は耐食性試験前の値と同じ４７．０（ｄＢ）であっ
た。 く複素屈折率の測定手順と結果〉 上述と同じ被着条件によって、シリコンウェハの表面に
、保護膜を２０００　Ｃ人）の膜厚で被着させた試料を
別途作製し、比較例及び実施例１〜５と同様に測定した
結果、複素屈折率は２．２７−０．０２　ｉであった。 スパッタ面に占める面積の割合を約５（％）として保護
膜の被着形成を行なった。 太五１江Ｌ 〈製造条件の説明〉 この実施例７では、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）
から成る直径２５（ｍｍ）の成膜用ターゲットを用いた
ことを除き、第二発明に係る方法を利用して実施例３と
同一の積層関係及び成膜条件で記録媒体を作製した。即
ち、−酸化チタン（Ｔｉｅ）から成る直径１２６　（ｍ
ｍ）の組成調整用ターゲットの表面に上述した成膜用タ
ーゲットを６枚装置した状態で、これら２種類のターゲ
ットを同時にスパッタして、保護膜１３ａ及び＋３ｂを
被着形成した。この時の成膜条件は、前述と同一の投入
電力及びアルゴンガス圧とした。 上４の説明からも理解できるように、この実施例７では
、ＢａＴｉＯｓから成る成膜用ターゲットが被スパツタ
面に占める面積の割合を約９５（％）とし、ＴｉＯから
成る組成調整用クーゲットが被＜　Ｃ／Ｎ比の測定手順
と測定結果の説明〉この実施例７に係る記録媒体に関し
ても、比較例及び実施例１〜６と同一の条件でＣ／Ｎ比
の測定を行なった結果、実施例７に係る記録媒体のＣ／
Ｎ比は４８．０（ｄＢ）であった。 〈耐食性試験の手順と測定結果の説明〉この実施例７に
係る記録媒体に関しで、比較例及び実施例１〜６に係る
記録媒体と同一の耐食性試験条件下で２００時間に亙っ
て保持した後、前述したエラーレートの測定と、上述し
たＣ／Ｎ比の測定とにより、耐食性を評価した。 その結果、エラーレートは約１０−５程度であり、Ｃ／
Ｎ比は耐食性試験前の値と同じ４８．０（ｄＢ）であっ
た。 〈複素屈折率の測定手順と結果〉 上述と同じ被着条件によって、シリコンウェハの表面に
、保護膜を２０００　（λ）の膜厚で被着させた試料を
別途作製し、エリプソメーターを用いて６３３（ｎｍ）
の波長にあける複素屈折率ｎ−ｋｉを測定した結果、複
素屈折率は２．２５−０．０２ｉであった。 犬】ｌ凱旦 く製造条件の説明〉 この実施例８では、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）
から成る直径２５（ｍｍ）の成膜用ターゲットを用いて
保護膜１３ａ及び＋３Ｅｌ形成したことを除き、実施例
４と同一の条件で記録媒体を作製した。即ち、−酸化チ
タン（ＴｉＯｚ）から成る直径１２６　（ｍｍ）の組成
調整用ターゲットの表面に上述した成膜用タゲットを６
枚ｉｎ！Ｉｔした状態で、これら２１Ｍ類のターゲット
を同時にスパッタし保護膜１３ａ及び１３ｂｔ被着形成
した。この時の成膜条件は、前述と同一の投入電力及び
アルゴンガス圧とした。 上述の説明からも理解できるように、この実施例８では
、ＢａＴｉ０．から成る成膜用ターゲットが被スパツタ
面に占める面積の割合を約９５（％）とし、ＴｉＯ□か
ら成る組成調整用ターゲットが被スパツタ面に占める面
積の割合を約５（％）として保護膜の被着形成を行なっ
た。 ＜　Ｃ／Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例
８に係る記録媒体に関しで、比較例及び実施例１〜７と
同一の条件でＣ／Ｎ比の測定を行なった結果、実施例８
に係る記録媒体のＣ／Ｎ比は４７．５（ｄＢ）であった
。 〈耐食性試験の手順と測定結果の説明〉前述した比較例
、実施例１〜７と同一の耐食性試験条件で２００時間保
持した後に、実施例８に係る記録媒体のエラーレートの
測定と、Ｃ／Ｎ比の測定とを行なった結果、エラーレー
トは約１０−’程度であり、Ｃ／Ｎ比は耐食性試験前の
値と同じ４７．５（ｄＢ）であった。 〈複素屈折率の測定手順と結果〉 この実施例８に係る記録媒体の複素屈折率測定においで
も、シリコンウェハの表面に、上述と同し被着条件及び
膜厚２０００　（人）で保護膜を被着させた試料を別途
作製し、比較例及び実施例１〜７と同様に測定した結果
、複素屈折率は２．２１であった。この説明からも理解
できるように、前述した実施例４に係る記録媒体と同様
に吸光係数ｋがＯとなり、実質的に透明な保護膜を実現
することかできた。 次に、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉ０３）とチタ
ン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）との双方を成膜用ターゲ
ットとして保護膜を形成した場合の実施例９〜実施例１
２につき説明する。 夾１１性旦 〈製造条件の説明〉 この実施例９では、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉ
Ｏ３）とチタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）と（組成比
１：１）の混晶から成る直径１２６（ｍｍ）の成膜用タ
ーゲットを用いて保護膜１３ａ及び１３Ｅｌ形成したこ
とを除き、従来周知のスパッタ技術を利用した実施例］
及び実施例５と同様な積層関係及び成膜条件で記録媒体
を作製した。この時の成膜条件は、前述と同一の投入電
力及びアルゴンガス圧とした。 ＜Ｃ／Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例９
に係る記録媒体に関しで、比較例及び実施例１〜８と同
一の条件でＣ／Ｎ比の測定を行なった結果、記録媒体の
Ｃ／Ｎ比は４８．０（ｄＢ）であった。 尚、この実施例９に係る光磁気記録媒体では、耐食性試
験を行なわなかった。 く複素屈折率の測定手順と結果〉 この実施例９に係る記録媒体の複素屈折率測定において
も、シリコンウェハの表面に、上述と同し被着条件及び
膜厚２０００　（λ）で保護膜を被着させた試料を別途
作製し、比較例及び実施例１〜８と同様に測定した結果
、複素屈折率は２，２４０．０２ｉであった。 医１■１」 〈製造条件の説明〉 この実施例１０では、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴ
ｉＯ３）から成る直径２５（ｍｍ）の成膜用ターゲット
とチタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）から成る直径２５
（ｍｍ）の成膜用ターゲットとを用いて保護膜１３ａ及
び＋３ｂを形成したことを除き、第二発明を利用した実
施例３及び実施例７と同様な積層関係及び成膜条件で記
録媒体を作製した。Ｆ５ち、チタン（Ｔｉ）から成る直
径１２６（ｍｍ）の組成調整用ターゲットの表面に、上
述した５ｒＴｉ０３から成る成膜用クーゲットとＢａＴ
ｉＯ３から成る成膜用ターゲットとを、夫々３枚ずつ、
合計６枚載百した状態で、これら３種類のターゲットを
同時にスパッタし、保護膜１３ａ及び＋３ｂを被着形成
した。この時の成膜条件は、前述と同一の投入電力及び
アルゴンガス圧とした。 上述の説明からも理解できるように、この実施例１０で
は、５ｒＴｉ０３とＢａＴｉ０＋との夫々から成る成膜
用ターゲットが被スパツタ面に占める面積の割合の合計
を約９５（％）とし、Ｔｉから成る組成調整用ターゲッ
トが被スパツタ面に占める面積の割合を約５（％）とし
て保護膜の被着形成を行なった。 ＜Ｃ／Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例１
０に係る記録媒体に閉して、比較例及び実施例１〜９と
同一の条件でＣ／Ｎ比の測定を行なった結果、記録媒体
のＣ／Ｎ比は４７．０（ｄＢ）であった。 尚、この実施例１０に係る光磁気記録媒体では、上述し
た実施例９と同様に、耐食性試験を行なわなかった。 〈複素屈折率の測定手順と結果〉 この実施例１０に係る記録媒体の複素屈折率測定におい
ても、シリコンウェハの表面に、上述と同し被着条件及
び膜厚２０００　（λ）で保護膜を被着させた試料を別
途作製し、比較例及び実施例１〜９と同様に測定した結
果、複素屈折率は２．２６−０．０３　ｉであった。 医涜」（Ｕ く製造条件の説明〉 この実施例１１では、−酸化チタン（Ｔｉｅ）から成る
組成調整用ターゲットを用いたこと以外は、上述の実施
例１０と同一の積層関係及び成膜条件とし、第二発明に
係る方法を利用して記録媒体を作製した。即ち、−酸化
チタン（Ｔｉｅ）から成る直径１２６（ｍｍ）の組成調
整用ターゲットの表面に、５ｒＴｉＯｚから成る成膜用
ターゲットとＢａＴｉＯ３から成る成膜用ターゲットと
を、夫々３枚ずつ、合計６枚＠冒した状態で、これら３
種類のターゲットを同時にスパッタし、保護膜１３ａ及
び＋３ｂを被着形成した。この時の成膜条件は、前述と
同一の投入電力及びアルゴンガス圧とした。 上述の説明からも理解できるように、この実施例１１で
は、ＳｒＴｉＯ３とＢａＴｉＯ３との夫々から成る成膜
用ターゲットが被スパツタ面に占める面積の割合の合計
を約９５（％）とし、ＴｉＯから成る組成調整用ターゲ
ットが被スパツタ面に占める面積の割合を約５（％）と
して保護膜の被着形成を行なった。 ＜Ｃ／Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例１
１に係る記録媒体に関して、比較例及び実施例１〜１０
と同一の条件でＣ／Ｎ比の測定を行なった結果、記録媒
体のＣ／Ｎ比は４８．０（ｄＢ）であった。 〈耐食性試験の手順と測定結果の説明〉この実施例１１
では、前述した耐食性試験条件下で１０００時間（こ亙
って保持した後、記録媒体のエラーレートの測定と、Ｃ
／Ｎ比の測定とを行なった結果、エラーレートは約１０
−５程度であり、Ｃ／Ｎ比は耐食性試験前の値と同じ４
８．０（ｄＢ）であった。 〈複素屈折率の測定手順と結果〉 この実施例１１に係る記録媒体の複素屈折率測定におい
ても、シリコンウェハの表面に、上述と同し被着条件及
び膜厚２０００　（人）で保護膜を被着させた試料を別
途作製し、比較例及び実施例１〜１０と同様に測定した
結果、複素屈折率は２．２４−０．０２ｉであった。 英１■引４ く製造条件の説明〉 この実施例１２では、二酸化チタン（Ｔｉ０２）から成
る組成調整用ターゲットを用いたこと以外は、上述の実
施例１１と同一の積層関係及び成膜条件とし、第二発明
に係る方法を利用して記録媒体を作製した。即ち、二酸
化チタン（ＴｉＯ２）がら成る直径１２６（ｍｍ）の組
成調整用ターゲットの表面に、５ｒＴｉ（ｈから成る成
膜用ターゲットとＢａＴｉＯ３がら成る成膜用ターゲッ
トとを、夫々３枚ずつ、合計６枚載冒した状態で、これ
ら３種類のターゲットを同時にスパッタし、保護膜１３
ａ及び＋３ｂ％形成した。この時の成膜条件は、前述と
同一の投入電力及びアルゴンガス圧とした。 上述の説明からも理解できるように、この実施例１２て
は、５ｒＴｉ（ｈとＢａＴｉＯｓとの夫々から成る成膜
用ターゲットが被スパツタ面に占める面積の割合の合計
を約９５（％）とし、ＴｉＯ□から成る組成調整用ター
ゲットが被スパツタ面に占める面積の割合を約５（％）
として保護膜の被着形成を行なった。 ＜Ｃ／Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例１
２に係る記録媒体に関して、比較例及び実施例１〜１１
と同一の条件でＣ／Ｎ比の測定を行なった結果、記録媒
体のＣ／Ｎ比は４８．２（ｄＢ）であった。 〈耐食性試験の手順と測定結果の説明〉この実施例１２
では、実施例１１と同様に、前述した耐食性試験条件下
で１０００時間に亙って保持した後、記録媒体のエラー
レートの測定と、Ｃ／Ｎ比の測定とを行なった結果、エ
ラーレートは約１０−５程度であり、Ｃ／Ｎ比は耐食性
試験前の値と同じ４８．２（ｄＢ）であった。 〈複素屈折率の測定手順と結果〉 この実施例１２に係る記録媒体の複素屈折率測定におい
でも、シリコンウェハの表面に、上述と同し被着条件及
び膜厚２０００　（λ）で保護膜を被着させた試料を別
途作製し、比較例及び実施例１〜１１と同様に測定した
結果、複素屈折率は２．２２であった。この説明からも
理解できるように、前述した実施例４及び実施例８に係
る記録媒体と同様に吸光係数ｋが０となり、実質的に透
明な保護膜を実現することができた。 以下、上述した比較例の特性及び実施例１〜１２の特性
につき、別表を参照して詳細に検討する。 まず、Ｃ／Ｎ比につき比較すれば、この別表及び前述し
た説明からも理解できるように、比較例に係る記録媒体
が４４．０（ｄＢ）であるのに対して、実施例１〜１２
に係るいずれの記録媒体であってもＣ／Ｎ比の特性向上
が認められる。−例としで、これら実施例中でＣ／Ｎ比
の向上が最も低い実施例２では４６、８（ｄＢ）が得ら
れ、２．８（ｄＢ）向上した。また、実施例１２に係る
記録媒体では、当該特性値の向上が最も著しく、比較例
に比して４．２（ｄＢ）高い４８．２（ｄＢ）のＣ／Ｎ
比が得られた。 ざらに、耐食性試験の結果からも理解できるように、比
較例及び実施例１〜実施例８、実施例１１及び実施例１
２に係る記録媒体では、２００時間に亙る耐食性試験の
後のＣ／Ｎ比の低下は認められず、特に、実施例１１に
係る記録媒体と実施例１２に係る記録媒体とは、同し耐
食性試験条件を１０００時間に亙って保持した復であっ
てもＣ／Ｎ比の低下は認められなかった。 一方、既に述べたように、エラーレートの測定からは、
２００時間に亙って前述した耐食性試験条件に保持した
、比較例に係る記録媒体は約１０−４であった。これに
対して、実施例１〜実施例８、実施例１１及び実施例１
２に係る記録媒体では、比較例と同し条件下、約１０−
５程度の値が得られ、この発明に係る保護膜の材料構成
によって記録媒体の安定性が向上したことが理解できる
。ざらに、実施例１１に係る記録媒体と実施例１２に係
る記録媒体では、上述と同し耐食性試験条件を１０００
時間に亙って保持した後であっても約１０−５のエラー
レートが得られ、５ｒＴｉ０３とＢａＴｉＯ３との双方
を同時にスパッタしで得られた保護膜を具えることによ
り、記録情報の安定性は著しく向上することが理解でき
る。 また、複素屈折率ｎ−ｋｉのうちの屈折率ｎについて比
較すれば、比較例に係る試料の屈折率ｎが１．９０であ
るのに対して、実施例１〜１２に係る試料では、いずれ
の実施例でも屈折率ｎが２．２１以上であり、カー効果
エンハンスメントによっでＣ／Ｎ比が向上したことが理
解できる。 さらに、吸光係数ｋに関しては、比較例における吸光係
数ｋが０．１０であるのに比しで、いずれの実施例でも
著しい向上が認められ、特に、実施例４、実施例８及び
実施例１２に係る試料では、吸光係数ｋが０となり、実
質的に透明な保護膜材料が被着されていることが理解で
きる。 これに加えて、別表からも理解できるよう（こ、例えば
実施例２〜４に係る３種類の記録媒体を比較すると、組
成調整用ターゲットに酸素が含有されでいる割合が大き
く成るにつれて吸光係数にの値が小さく成る傾向が見て
取れる。このような傾向は、実施例６〜８または実施例
１０〜１２における夫々の比較からも認められる。 また、実施例１と実施例２、実施例５と実施例６または
実施例９と実施例１０の、夫々の記録媒体に関する比較
から、第二発明に係る方法を利用して組成調整用ターゲ
ットにチタン（Ｔｉ）％用いることにより、屈折率ｎが
向上しているのが理解できる。 上述した比較例と実施例１〜１２との比較からも理解で
きるように、この出願の第二発明に係る方法により作製
された記録媒体では、各々の材料構成において組成調整
用ターゲットと同時に成膜用ターゲットをスパッタする
ことにより、従来の記録媒体に比して、優れた特性の記
録媒体が得られる。 保護膜１３ａ及び＋３ｂを形成したことを除き、チタン
酸ストロンチウム（ＳｒＴｉ０３）から成る直径１２６
（ｍｍ）の成膜用ターゲットを用いて実施例１と同様な
槓層閉係及び成膜条件で記録媒体を作製した。この時の
成膜条件は、前述と同一の投入電力とし、上述した混合
雰囲気のガス圧は３　（ｍＴｏｒｒ）とした。 次に、この出願の第三発明に係る方法の実施例として、
不活性ガスと酸素との混合雰囲気中で、成層用ターゲッ
トのみをスパッタして保護膜形成した場合の実施例１３
〜実施例１５に係る記録媒体につき説明する。尚、これ
ら第三発明に係る実施例では、前述した実施例９及び実
施例１０と同様に耐食性試験を行なわなかった。 火遊■（す く製造条件の説明〉 この実施例１３では、アルゴン８０（体積％）及び酸素
２０（体積％）の混合雰囲気中でスパッタして＜　Ｃ／
Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例１３に係
る記録媒体に間しで、比較例及び実施例１〜１２と同一
の条件でＣ／Ｎ比の測定を行なった結果、記録媒体のＣ
／Ｎ比は４７．６（ｄＢ）であった。 〈複素屈折率の測定手順と結果〉 この実施例１３に係る記録媒体の複素屈折率測定におい
ても、シリコンウェハの表面に、上述と同し被着条件及
び膜厚２０００　（λ）で保護膜を被着させた試料を別
途作製し、比較例及び実施例１〜１２と同様に測定した
結果、複素屈折率は２．２２であった。この説明からも
理解できるように、前述した実施例４、実施例８及び実
施例１２に係る記録媒体と同様に吸光係数ｋが０となり
、実質的に透明な保護膜を実現することができた。 太遊Ｕ 〈製造条件の説明〉 この実施例１４では、アルゴン８０（体積％）及び酸素
２０（体積％）の混合雰囲気中でスパッタして保護膜１
３ａ及び＋３ｂ＠形成したことを除き、チタン酸バリウ
ム（ＢａＴｉＯ３）から成る直径１２６（ｍｍ）の成膜
用ターゲットを用いた実施例５と同様な積層関係及び成
膜条件で記録媒体を作製した。 この時の成膜条件は、前述と同一の投入電力とし、上述
した混合雰囲気のガス圧は３　（ｍＴｏｒｒ）とした。 ＜　Ｃ／Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例
１４に係る記録媒体に閉じて、比較例及び実施例１〜１
３と同一の条件でＣ／Ｎ比の測定を行なった結果、記録
媒体のＣ／Ｎ比は４７．５（ｄＢ）であった。 〈複素屈折率の測定手順と結果〉 この実施例１４に係る記録媒体の複素屈折率測定におい
でも、シリコンウェハの表面に、上述と同し被着条件及
び膜厚２０００　（λ）で保護膜を被着させた試料を別
途作製し、比較例及び実施例１〜１３と同様に測定した
結果、複素屈折率は２．２１であった。この説明からも
理解できるように、前述した実施例４、実施例８、実施
例１２及び実施例１３に係る記録媒体と同様に吸光係数
ｋが０となり、実質的に透明な保護膜を実現することが
できた。 犬ｍゆ 〈製造条件の説明〉 この実施例１５では、アルゴン８０（体積％）及び酸素
２０（体積％）の混合雰囲気中でスパッタして保護膜１
３ａ及び＋３ｂを形成したことを除き、チタン酸ストロ
ンチウム（ＳｒＴｉＯ３）とチタン酸バリウム（ＢａＴ
ｉＯ３）と（組成比１：１）の混晶から成る直径１２６
（ｍｍ）の成膜用ターゲットを用いた実施例９と同様な
積層間係及び成膜条件で記録媒体を作製した。この時の
成膜条件は、前述と同一の投入電力とし、上述した混合
雰囲気のガス圧は３　（ｍＴｏｒｒ）とした。 ＜Ｃ／Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例１
５に係る記録媒体に関して、比較例及び実施例１〜１４
と同一の条件でＣ／Ｎ比の測定を行なった結果、記録媒
体のＣ／Ｎ比は４８．１（ｄＢ）であった。 実施例４、実施例８及び実施例１２〜１４に係る記録媒
体と同様に吸光係数ｋｆＪ＜ｏとなり、実質的に透明な
保護膜を実現することができた。 これら実施例１３〜１５に係る記録媒体の特性からも理
解できるように、この出願に係る第三発明の方法によれ
ば、不活性ガスと酸素との混合雰囲気中でスパッタして
保護膜を形成することにより、この出願の第二発明を利
用して二酸化チタン（ＴｉＯ７）を組成調整用ターゲッ
トに用いた場合とほぼ同様の複素屈折率が得られ、実質
的に透明な保護膜を形成し得る。 〈複素屈折率の測定手順と結果〉 この実施例１５に係る記録媒体の複素屈折率測定におい
でも、シリコンウェハの表面に、上述と同し被着条件及
び膜厚２０００　（人）で保護膜を被着させた試料を別
途作製し、比較例及び実施例１〜１４と同様に測定した
結果、複素屈折率は２．２３であった。この説明からも
理解できるように、前述した次に、この出願の第四発明
に係る方法の実施例としで、不活性ガスと酸素との混合
雰囲気中で、成膜用ターゲットと組成調整用ターゲット
とを同時にスパッタして保護膜形成した場合の実施例１
６〜実施例１８に係る記録媒体につき説明する。 尚、前述したように、第二発明に係る実施例からも理解
できるように、組成調整用クーゲットとしてチタン（Ｔ
ｉ）を用いて保護膜形成した場合には、屈折率の向上が
見られた。従って、この実施例では、組成調整用ターゲ
ットとして■ｌヲ用いると共に、第三発明に係る実施例
との比較を容易とする目的で、混合雰囲気がアルゴン８
０（体積％）及び酸素２０（体積％）の場合につき特性
測定を行なった。 医長上−ゆ 〈製造条件の説明〉 この実施例１６ては、アルゴン８０（体積％）及び酸素
２０（体積％）の混合雰囲気中でスパッタして保護膜１
３ａ及び＋３ｂを形成したことを除き、実施例２と同様
な積層間係及び成膜条件で記録媒体を作製した。即ち、
チタン（Ｔｉ）から成る直径＋２６（ｍｍ）の組成調整
用ターゲットと、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉ０
３）から成る直径２５（ｍｍ）の成膜用ターゲットとを
用意して、上述した組成調整用ターゲットの表面に成膜
用ターゲットを６枚截盲し、上述した混合雰囲気中で、
これら２種類のターゲットを同時にスパッタする。この
時の成膜条件は、前述と同一の投入電力とし、上述した
混合雰囲気のガス圧は３　（ｍＴｏｒｒ）とした。 ＜　Ｃ／Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例
１６に係る記録媒体に閉しで、比較例及び実施例１〜１
５と同一の条件でＣ／Ｎ比の測定を行なった結果、記録
媒体のＣ／Ｎ比は４７．５（ｄＢ）であった。 〈耐食性試験の手順と測定結果の説明〉この実施例１６
では、比較例及び実施例１〜８と同様に、前述した耐食
性試験条件下で２００時間に亙って保持した後、記録媒
体のエラーレートの測定と、Ｃ／Ｎ比の測定とを行なっ
た。 その結果、エラーレートは約１０−５程度であり、Ｃ／
Ｎ比は耐食性試験前の値と同じ４７．５（ｄＢ）であっ
た。 く複素屈折率の測定手順と結果〉 この実施例１６に係る記録媒体の複素屈折率測定におい
でも、シリコンウェハの表面に、上述と同し被着条件及
び膜厚２０００　（人）で保護膜を被着させた試料を別
途作製し、比較例及び実施例１〜１５と同様に測定した
結果、複素屈折率は２．２３であった。この説明からも
理解できるように、前述した実施例４、実施例８及び実
施例１２〜実施例１５に係る記録媒体と同様に吸光係数
ｋがＯとなり、実質的に透明な保護膜を実現することが
できた。 天上Ｉ引口 〈製造条件の説明〉 この実施例１７では、アルゴン８０（体積％）及び酸素
２０（体積％）の混合雰囲気中でスパッタして保護膜１
３ａ及び＋３ｂを形成したことを除き、実施例６と同様
な積層関係及び成膜条件で記録媒体を作製した。即ち、
チタン（Ｔｉ）から成る直径１２６（ｍｍ）の組成調整
用ターゲットと、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）か
ら成る直径２５（ｍｍ）の成膜用ターゲットとを用意し
て、上述した組成調整用ターゲットの表面に成膜用ター
ゲットを６枚装置し、上述した混合雰囲気中で、これら
２種類のターゲットを同時にスパッタする。この時の成
膜条件は、前述と同一の投入電力とし、上述した混合雰
囲気のガス圧は３　（ｍＴｏｒｒ）とした。 ＜　Ｃ／Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例
１７に係る記録媒体に関して、比較例及び実施例１〜１
６と同一の条件でＣ／Ｎ比の測定を行なった結果、記録
媒体のＣ／Ｎ比は４７．０（ｄＢ）であった。 く耐食性試験の手順と測定結果の説明〉この実施例１７
では、比較例及び実施例１〜８と同様に、前述した耐食
ａ試験条件下で２００時間に亙って保持した後、記録媒
体のエラーレートの測定と、Ｃ／Ｎ比の測定とを行なっ
た。 その結果、エラーレートは約１０−５程度であり、Ｃ／
Ｎ比は耐食性試験前の値と同じ４７゜０（ｄＢ）であっ
た。 く複素屈折率の測定手順と結果〉 この実施例１７に係る記録媒体の複素屈折率測定におい
でも、シリコンウェハの表面に、上述と同し被着条件及
び膜厚２０００　（λ）で保護膜を被若ざぜた試料を別
途作製し、比較例及び実施例１〜１６と同様に測定した
結果、複素屈折率は２．２５であった。この説明からも
理解できるように、前述した実施例４、実施例８及び実
施例１２〜実施例１６に係る記録媒体と同様に吸光係数
ｋがＯとなり、実質的に透明な保護膜を実現することが
できた。 火遊」１則 〈製造条件の説明〉 この実施例１８では、アルゴン８０（体積％）及び酸素
２０（体積％）の混合雰囲気中でスパッタして保護膜＋
３ａ及び＋３ｂを形成したことを除き、実施例１０と同
様な積層関係及び成膜条件で記録媒体を作製した。即ち
、チタン（Ｔｉ）がら成る直径１２６（ｍｍ）の組成調
整用ターゲットの表面に、チタン酸ストロンチウム（Ｓ
ｒＴｉ０３）から成る直径２５（ｍｍ）の成膜用ターゲ
ットと、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）から成る直
径２５（ｍｍ）の成膜用ターゲットとを、各々３枚ｒ装
置し、上述した混合雰囲気中で、これら３種類のターゲ
ットを同時にスパッタする。この時の成膜条件は、前述
と同一の投入電力とし、上述した混合雰囲気のガス圧は
３（ｍＴｏｒｒ）とした。 ＜Ｃ／Ｎ比の測定手順と測定結果の説明〉この実施例１
８に係る記録媒体に関して、比較例及び実施例１〜１７
と同一の条件でＣ／Ｎ比の測定を行なった結果、記録媒
体のＣ／Ｎ比は４７．９（ｄＢ）であった。 尚、この実施例１８に係る記録媒体では、耐食性試験を
行なわなかった。 く複素屈折率の測定手順と結果〉 この実施例１８に係る記録媒体の複素屈折率測定にあい
でも、シリコンウェハの表面に、上述と同し被着条件及
び膜厚２０００　（λ）で保護膜を被着させた試料を別
途作製し、比較例及び実施例１〜１７と同様に測定した
結果、複素屈折率は２．２４であった。この説明からも
理解できるように、前述した実施例４、実施例８及び実
施例１２〜実施例１７に係る記録媒体と同様に吸光係数
ｋｆＪ＜Ｏとなり、実質的に透明な保護膜を実現するこ
とができた。 以下、図面を参照して、この出願の第四発明に係る実施
例として、不活性ガスと酸素との混合雰囲気における酸
素の含有率を種々（こ変え、前述した成膜用ターゲット
と組成調整用ターゲットとを同時にスパッタし、これに
よって得られた試料の複素屈折率を測定した結果につき
説明する。 く試料の製造条件〉 この測定では、前述した比較例及び実施例１〜１８と同
様に、シリコンウェハの表面に２０００　（Ａ　）の膜
厚で保護膜材料を被着形成した試料を用いた。 この試料の製造条件につき詳述すれば、まず、前述の実
施例２で用いたのと同一の寸法を有する、チタン酸スト
ロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）から成る成膜用ターゲット
とチタン（Ｔｉ）から成る組成調整用ターゲットとを用
意する。然る後、アルゴンと酸素とから成るスバ・ｙタ
ガスにおいで酸素が占める割合を０〜５０（体積％）の
範囲内で種々に変え、このような被着雰囲気中において
、上述した組成調整用ターゲットと２ｆ！類の成膜用タ
ーゲットとを同時にスパッタして成膜を行なった。 尚、この際の被着条件は、投入電力を５００（Ｗ）、上
述した混合気体から成るスバ・ンタガスの圧力を３　（
ｍＴｏｒｒ）に統一しで行なった。 第１図及び第２図は、上述の製造条件により作製した各
々の試料につき、複素屈折率ｎ−ｋｉを測定した結果を
示す特性曲線図である。これら図において、第１図は、
縦軸に屈折率ｎ及び横軸に酸素含有率（体積％）８採っ
て示し、第２図は縦軸に吸光係数ｋ及び横軸に酸素含有
率（体積％）を採って示しである。 まず、第１図からも理解できるように、上述したスパッ
タガスにおける酸素含有率を高めでいくに従って、屈折
率ｎの減少傾向が認められた。 例えばスバ・ンタガスを酸素０（体積％）とした場合（
アルゴン１００（体積％）とした前述の実施例２１こ相
当）では屈折率ｎが２，２３であるのに対して、酸素５
０（体積％）とした場合には屈折率ｎが２．１程度にま
で減少した。 また、第２図から理解できるように、吸光係数ｋについ
ても同様の傾向が見られ、スパッタガス中の酸素含有率
が０（体積％）である実施例２に相当する試料では吸光
係数ｋが０．０３となった。 これに対して、酸素含有率を２０（体積％）とした混合
雰囲気でスパッタを行なった場合には吸光係数ｋがＯと
なるのが認められ、当該含有率を２０（体積％）よりも
大きな値としでも、Ｏを示すのが認められた。 次に、上述したチタン酸ストロンチウムの代わりに、チ
タン酸バリウムを成膜用ターゲットとしで、アルゴンと
酸素との含有率を極少でこ変えて得られた試料の複素屈
折率を測定した結果につき説明する。尚、試料の作製に
係る種々の条件は、上述したチタン酸ストロンチウム（
ＳｒＴｉ０３）の代わりにチタン酸バリウム（ＢａＴｉ
Ｏ３）７＆用いたことを除いて同一とし、シリコンウェ
ハの表面に２０００（λ）の膜厚で保護膜材料を被着し
て作製した試料を用いて測定を行なった。 第３図及び第４図は、前述した第１図または第２図と同
様に複素屈折率ｎ−ｋｉを測定した結果を示す特性曲線
図である。これら図において、菓３図は、縦軸に屈折率
ｎ及び横軸に酸素含有率（体積％）を採って示し、第４
図は縦軸に吸光係数ｋ及び横軸に酸素含有率（体積％）
を採って示しである。 まず、第３図からも理解できるように、このチタン酸バ
リウムを用いて混合雰囲気中で被着形成した試料におい
ても、上述したチタン酸ストロンチウムの場合と同様に
、スパッタガスにおける酸素含有率を高めるに従って、
屈折率ｎの減少傾向が認められた。例えばスパッタガス
を酸素Ｏ（体積％）とした場合（アルゴン１００（体積
％）とした前述の実施例６に相当）には屈折率ｎが２．
２７となった。これに対して、スパッタガスにおける酸
素含有率を５０（体積％）とした場合には、屈折率ｎか
２．１程度にまで減少した。 また、第４図から理解できるように、吸光係数ｋについ
でもチタン酸ストロンチウムと同様の傾向が見られ、ス
バ・シタガス中の酸素含有率がＯ（体積％）である試料
（実施例６に相当）では吸光係数ｋが０．０２となった
。これに対して、酸素含有率を２０（体積％）とした混
合雰囲気でスパッタを行なった場合には、チタン酸スト
ロンチウムの場合と同様に、吸光係数ｋが０となるのが
認められ、当該含有率を２０（体積％）よりも大きな値
としてもＯとなることが理解できる。 以上、この出願の発明に係る実施例につき、ｆ！々の条
件で作製した記録媒体を試料として詳細に説明した。こ
こで、上述した製造方法と、各製造方法により作製され
た保護膜の組成との関係につき説明する。 上述した実施例のうち、実施例］、実施例５及び実施例
９に係る記録媒体は、従来周知のスパッタリシグ技術に
より保護膜を被着形成して作製したものである。また、
これに加えて、この出願の方法発明により作製された記
録媒体においても、特性測定の結果から理解できるよう
に、実施例１〜１８に係る記録媒体（保護膜）では、は
ぼ同一の組成を有すると考えられる。これらの元素構成
において、例えばストロンチウム、バリウム及びチタン
といった金属元素については、例えばオージェ−効果を
利用した化学分析技術を用いて決定可能であるが、チタ
ン酸系の化合物の場合には、気体成分と成り易い酸素を
含む構成であるため、厳密な組成を決定することが難し
い。 しかしながら、例えば文献■：「誘電体部」（岡小天著
、第５５〜７７頁、現代工学社刊）からも理解できるよ
うに、例えばＭＯとＴｉＯｘ−＋との共融によりＭＴｉ
Ｇｘ（Ｍは金属元素）で表わされるチタン酸系の物質で
は、上述したＭＯが有する複素屈折率とＴｉＯｘ−＋が
有する複素屈折率との平均によって求めることかできる
。ざらに述べれば、上述したチタン酸系の物質ではＸの
値が３に近い程、吸光係数ｋかＯに近似することが知ら
れている。詳細に説明すると、−酸化チタン（Ｔｉｅ）
と上述した金属酸化物ＭＯとにより得られるチタン酸塩
は吸収を有する（吸光係数ｋが０でない）のに対しで、
二酸化チタン（Ｔｉ０２）と金属酸化物とにより得られ
るチタン酸塩は透明（吸光係数ｋが０）となることが知
られている。 このような光学的性質から、上述した実施例１〜１８に
係る保護膜の組成を計算すれば、上述したＸの値は２．
７≦×≦３．０となる。 以上、この発明の実施例につき詳細に説明したが、この
発明は上述した実施例にのみ限定されるものではないこ
と明らかである。 例えば、上述した実施例においては、この出願の方法発
明に係るスパッタカスとしてアルゴンを用いた場合につ
き説明したが、他の不活性ガスであっても同様の効果を
期待し得る。 また、実施例に係る記録媒体の構造として、第５図に示
す積層間係で構成したものを例示した。しかしながら、
この発明の光磁気記録媒体は、特定の積層関係によって
のみ効果が得られるものではなく、例えば反射膜または
その他の構成成分を付加して構成した場合であっても同
様の効果を得ることができる。 ざらに、上述した実施例では、Ｔｂ　−Ｆｅ　−Ｃｏか
ら成る磁性膜を用いた場合につき説明したが、これに限
定されるものではなく、種々のＲＥ−ＴＭ金合金用いる
ことができる。 これら材料、寸法、配ＭＳ係、数値的条件及びその他、
上述した特定の条件は、この発明の目的の範囲内で、任
意好適な設計の変更及び変形を行ない得ること明らかで
ある。 （発明の効果） 上述した説明からも明らかなように、この出願の第一発
明に係る光磁気記録媒体によれば、保護膜材料として、
チタン酸ストロンチウム系化合物（ＳｒＴｉＯｘ）及び
チタン酸バリウム系化合物（８ａＴｉＯｘ）（但し、Ｘ
は２．７≦Ｘ≦３，０の値を表わす、）のうちから選ば
れた一方の物質または双方の混晶を保護膜としで用いる
構成と成している。これがため、従来の保護膜材料を具
えた記録媒体に比して、高い屈折率と低い吸光係数とを
実現することができ、ざらに耐食性の劣化を来すことが
ない。 また、この出願の第二発明に係る光磁気記録媒体の製造
方法（こよれば、前述した所定の材料から成る成膜用タ
ーゲットと組成調整用ターゲットとを同時にスパッタし
て保護膜を被着形成することにより、第一発明に係る記
録媒体ｒ８容易に実現することができる。 ざらに、この出願の第三発明に係る光磁気記録媒体の製
造方法によれば、酸素を含む混合雰囲気中で前述した所
定の材料から成る成膜用ターゲットをスパッタして保護
膜形成することにより、第一発明に係る記録媒体を容易
に得ることができる。 これに加えて、この出願（こ係る第四発明の光磁気記録
媒体の製造方法によれば、上述した第二発明と第三発明
とを同時に適用することにより、第一発明に係る記録媒
体を容易に得ることができる。 従って、この出願に係る発明を適用することにより、優
れた特性を有する記録媒体を簡単かつ

【図面の簡単な説明】

第１図及び第３図は実施例を説明するため、縦軸に屈折
率ｎ、及び横軸にスパッタ雰囲気における酸素含有率を
、夫々採って示す特性曲線図、第２図及び第４図は実施
例を説明するため、縦軸に吸光係数ｋ、及び横軸にスパ
ッタ雰囲気における酸素含有率を、夫々採って示す特性
曲線図、 第５図は、従来の技術及び実施例を説明するため、光磁
気記録媒体の一構成例を概略的断面により示す説明図で
ある。 １１・・・・基板、１３ａ、１３ｂ・・・・・保護膜１
５・−・・磁性膜、１７・・・・光磁気記録媒体。 特 許 出 願 人 沖電気工業株式会社 酸素含有率（体積％） 実施例の説明図 酸素含有率（体積％） 実施例の説明図 第４図 酸素含有率（体積％） 酸素含有率（体積％） 実施例の説明図 第２図 従来の技術及び実施例の説明図 第５図

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上に、少なくとも、保護膜と磁性膜とを具え
   て成る光磁気記録媒体において、 前記保護膜が、チタン酸ストロンチウム系 化合物（ＳｒＴｉＯ＿ｘ）及びチタン酸バリウム系化合
   物（ＢａＴｉＯ＿ｘ）（但し、Ｘは２．７≦Ｘ≦３．０
   の値を表わす。）のうちから選ばれたいずれか一方の物
   質または双方の混晶から成る ことを特徴とする光磁気記録媒体。
2. （２）基板上に、少なくとも、保護膜と磁性膜とを具え
   て成る光磁気記録媒体を製造するに当り、前記保護膜を
   、チタン酸ストロンチウム （ＳｒＴｉＯ＿３）及びチタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ
   ＿３）のうちから選ばれたいずれか一方または双方から
   成る成膜用ターゲットと、チタン（Ｔｉ）または酸化チ
   タン（ＴｉＯ＿Ｙ）（但し、Ｙは正数を表わす。）から
   成る組成調整用ターゲットとを同時にスパッタして被着
   形成する ことを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。
3. （３）基板上に、少なくとも、保護膜と磁性膜とを具え
   て成る光磁気記録媒体を製造するに当り、前記保護膜を
   、チタン酸ストロンチウム （ＳｒＴｉＯ＿３）及びチタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ
   ＿３）のうちから選ばれたいずれか一方または双方から
   成る成膜用ターゲットを不活性ガスと酸素との混合雰囲
   気中でスパッタして被着形成する ことを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。
4. （４）基板上に、少なくとも、保護膜と磁性膜とを具え
   て成る光磁気記録媒体を製造するに当り、前記保護膜を
   、チタン酸ストロンチウム （ＳｒＴｉＯ＿３）及びチタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ
   ＿３）のうちから選ばれたいずれか一方または双方から
   成る成膜用ターゲットと、チタン（Ｔｉ）または酸化チ
   タン（ＴｉＯ＿Ｙ）（但し、Ｙは正数を表わす。）から
   成る組成調整用ターゲットとを、不活性ガスと酸素との
   混合雰囲気中で同時にスパッタして被着形成する ことを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。