JPS60218807A - 酸化物フエリ磁性体及びこれを用いる光磁気記録媒体 - Google Patents
酸化物フエリ磁性体及びこれを用いる光磁気記録媒体Info
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- JPS60218807A JPS60218807A JP7455884A JP7455884A JPS60218807A JP S60218807 A JPS60218807 A JP S60218807A JP 7455884 A JP7455884 A JP 7455884A JP 7455884 A JP7455884 A JP 7455884A JP S60218807 A JPS60218807 A JP S60218807A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明はキュリ一温度が低く、酸化や腐蝕がなく、従っ
て磁気特性の劣化のない酸化物7工リ磁性体、及び透明
基板、垂直磁気異方性磁性薄膜層、および反射層からな
る光磁気記録媒体において、該垂直磁気異方性磁性薄膜
層が上記酸化物フェリ磁性体からなり、かつレーザー光
による情報の記録再生が可能な光磁気記録媒体に関する
。
て磁気特性の劣化のない酸化物7工リ磁性体、及び透明
基板、垂直磁気異方性磁性薄膜層、および反射層からな
る光磁気記録媒体において、該垂直磁気異方性磁性薄膜
層が上記酸化物フェリ磁性体からなり、かつレーザー光
による情報の記録再生が可能な光磁気記録媒体に関する
。
従来、非晶質磁性層を有する配録媒体を用いて光磁気記
録を行うことが知られている。
録を行うことが知られている。
しかしながら、とtら非晶質磁性層は酸化され易く酸化
されると光磁気特性が劣化するために磁性層を形成した
直後にその上に保護層を設ける必要があシ、またこの保
護層のピンホールを完全に除去することは困難であるの
で製造上の難点がある。また、磁性膜作製時に真空中に
残存する酸素が磁性膜層中に多く取シ込まれるために記
録時の光熱によって酸化が促進し光磁気特性を劣化させ
る原因となる。また、酸化劣化のない磁性材料として六
方晶系M型フェライトがバブル材料として検討されてき
たが、この材料はキュリ一温度が450℃以上と高いた
めにレーザー光によって記録できる光磁気記録材料には
適用されていない。
されると光磁気特性が劣化するために磁性層を形成した
直後にその上に保護層を設ける必要があシ、またこの保
護層のピンホールを完全に除去することは困難であるの
で製造上の難点がある。また、磁性膜作製時に真空中に
残存する酸素が磁性膜層中に多く取シ込まれるために記
録時の光熱によって酸化が促進し光磁気特性を劣化させ
る原因となる。また、酸化劣化のない磁性材料として六
方晶系M型フェライトがバブル材料として検討されてき
たが、この材料はキュリ一温度が450℃以上と高いた
めにレーザー光によって記録できる光磁気記録材料には
適用されていない。
上記問題に鑑みて本発明はなされたものであって、その
目的はキュリ一温度が低く、酸化や腐蝕がなく且つ磁気
特性の劣化がなく、随気記録媒体に使用することによシ
、レーザー光によって記録再生が可能となる酸化物フェ
リ磁性体を提供することである。また、本発明の別の目
的はかかる酸化物フエIJ ffl性体を用いて、キュ
リ一温度が低く且つ半導体レーザーによって記録可能な
光磁気記録媒体を提供することである。
目的はキュリ一温度が低く、酸化や腐蝕がなく且つ磁気
特性の劣化がなく、随気記録媒体に使用することによシ
、レーザー光によって記録再生が可能となる酸化物フェ
リ磁性体を提供することである。また、本発明の別の目
的はかかる酸化物フエIJ ffl性体を用いて、キュ
リ一温度が低く且つ半導体レーザーによって記録可能な
光磁気記録媒体を提供することである。
上記目的を達成するために、本発明の酸化物フェリ磁性
体は一般式 %式%) (式中、MeはBa、SrおよびPbからなる群よシ選
ばれた少なくとも1種の元素であシ、MlはGaおよび
aからなる群よシ選ばれた少なくとも1種の元素でh’
)、MnはBi、4、Th、 Dy、Ho、 Ia、Y
、 co、 Zn、T1、se。
体は一般式 %式%) (式中、MeはBa、SrおよびPbからなる群よシ選
ばれた少なくとも1種の元素であシ、MlはGaおよび
aからなる群よシ選ばれた少なくとも1種の元素でh’
)、MnはBi、4、Th、 Dy、Ho、 Ia、Y
、 co、 Zn、T1、se。
■n、 Sn、Oa、 C!r、 NiおよびGeから
なる群よシ選ばれた少なくとも1種の元素であシ、1<
x≦8、o<y≦6および1<X+7≦8で、mはMl
のイオン価数、nはMlHのイオン価数である)で表わ
されることを特体とする酸化物フェリ磁性体であシ、本
発明による光磁気記録媒体は透明基板上に上記一般式で
表わされる酸化物フエIJ ffl性体からなる垂直磁
気異方性磁性薄膜層、および該磁性薄膜層上に反射層を
設けて構成される。
なる群よシ選ばれた少なくとも1種の元素であシ、1<
x≦8、o<y≦6および1<X+7≦8で、mはMl
のイオン価数、nはMlHのイオン価数である)で表わ
されることを特体とする酸化物フェリ磁性体であシ、本
発明による光磁気記録媒体は透明基板上に上記一般式で
表わされる酸化物フエIJ ffl性体からなる垂直磁
気異方性磁性薄膜層、および該磁性薄膜層上に反射層を
設けて構成される。
必要によシ、該磁性薄膜層と該反射層の間に透明誘電層
を設けることもできる。
を設けることもできる。
本発明における磁性薄膜層を構成する酸化物フエIJ
磁性体は、従来の一般式MeFe + 2019型磁性
酸化物(例えばMeはBa、Srまたはpbである)は
キュリ一温度が400℃以上と゛ 高く光磁気メモリー
に適用できないことに着目して、キュリ一温度をよシ低
くして光磁気記録媒体に適用できるように改良されたも
のである。すなわち、本発明ではFeの1部をイオン半
径が小さく置換が容易な前記一般式における少なくとも
1つのMlの元素、即ちaもしくはGa、またはその両
者で置換してキュリ〒温度を下けるように意図されてい
る。
磁性体は、従来の一般式MeFe + 2019型磁性
酸化物(例えばMeはBa、Srまたはpbである)は
キュリ一温度が400℃以上と゛ 高く光磁気メモリー
に適用できないことに着目して、キュリ一温度をよシ低
くして光磁気記録媒体に適用できるように改良されたも
のである。すなわち、本発明ではFeの1部をイオン半
径が小さく置換が容易な前記一般式における少なくとも
1つのMlの元素、即ちaもしくはGa、またはその両
者で置換してキュリ〒温度を下けるように意図されてい
る。
MeFe 、20 、q型磁性酸化物中のFeをGaも
しくはAt、又はその両者で置換すると、そのキュリ一
温度は確かに降下するが、その保磁力(Hc)は高まり
、レーザー光による記録が困難となる。この欠点を解消
するために、磁性酸化物のFeの一部をさらに少なくと
も1つのMnの元素、即ち、Bi、Tb、・G+i、
Dy、 Ho、La、 Y、co、Zn、Ti、Sc、
Sn、Ca、In。
しくはAt、又はその両者で置換すると、そのキュリ一
温度は確かに降下するが、その保磁力(Hc)は高まり
、レーザー光による記録が困難となる。この欠点を解消
するために、磁性酸化物のFeの一部をさらに少なくと
も1つのMnの元素、即ち、Bi、Tb、・G+i、
Dy、 Ho、La、 Y、co、Zn、Ti、Sc、
Sn、Ca、In。
Or、Ni又はGeで置換して保磁力(Hc )を下げ
、かつ該磁性酸化物のファラデー回転角を含むli&気
特性及び光磁気特性の改良を計っている。
、かつ該磁性酸化物のファラデー回転角を含むli&気
特性及び光磁気特性の改良を計っている。
ここで、本発明の酸化物磁性体の代表的な例をあげれば
次のとお9である。
次のとお9である。
BaA#a 、Fe 、019、SrA/j)a4.5
Fe5Cz g、BaA$a 2 Ge 5 Fe 6
01q、BaAbes、7sFe60+v %PbA/
j)e 4.5Fe 5o 1 g 、Ba At2G
a 5 Fe 70 + g、SrA/!f)e3.7
5Fe60+t 、 5rLaGas、ysFe6ch
q %E3aGa5TbFe60 Ig、 BaGa
3DyFe601 g、5rGaTb5FeBO1g、
BaGa3DyFe601、BaYGa4Fe70+
? 、 BaGa3BiFeaO,g、5rGa4Bi
2Fe6019、BaGa4Bi2Fll160+9、
BaGaj550oFe70.g、 5rGa4In2
Fe6019〜BaGa3EfCJ8601 g 、B
aGa3ZnFe601 g、M 、BaAυe3Fe
701g、 PbAA)e sFe yo + r 、E3rl’J
f)e5 Fe 701g、BaGa’3G(14F8
6.301g 、BaGa3Bi2Fe701p、Ba
Ga4ZnFe 701g、 SrG、a5Sn 1.
5Fe501g、SSrGa4Ti2F8601゜ 次に、本発明を図面について説明する。
Fe5Cz g、BaA$a 2 Ge 5 Fe 6
01q、BaAbes、7sFe60+v %PbA/
j)e 4.5Fe 5o 1 g 、Ba At2G
a 5 Fe 70 + g、SrA/!f)e3.7
5Fe60+t 、 5rLaGas、ysFe6ch
q %E3aGa5TbFe60 Ig、 BaGa
3DyFe601 g、5rGaTb5FeBO1g、
BaGa3DyFe601、BaYGa4Fe70+
? 、 BaGa3BiFeaO,g、5rGa4Bi
2Fe6019、BaGa4Bi2Fll160+9、
BaGaj550oFe70.g、 5rGa4In2
Fe6019〜BaGa3EfCJ8601 g 、B
aGa3ZnFe601 g、M 、BaAυe3Fe
701g、 PbAA)e sFe yo + r 、E3rl’J
f)e5 Fe 701g、BaGa’3G(14F8
6.301g 、BaGa3Bi2Fe701p、Ba
Ga4ZnFe 701g、 SrG、a5Sn 1.
5Fe501g、SSrGa4Ti2F8601゜ 次に、本発明を図面について説明する。
本発明の光磁気記録媒体の層構成の一例を第1図に示す
、透明基板1上に磁性薄膜層2を設け、さらにこの上に
反射層3を順次設けたものである。透明基板としては石
英ガラス、パイレックスガラスなどを甲いることができ
る。磁性薄膜層2は本発明の上記酸化Q’l i+H性
体をスパッタリング法、蒸着法またはイオンビーム法等
によって透明基板1上に膜厚x、oooX 〜1oo、
oooK −c[lれる。
、透明基板1上に磁性薄膜層2を設け、さらにこの上に
反射層3を順次設けたものである。透明基板としては石
英ガラス、パイレックスガラスなどを甲いることができ
る。磁性薄膜層2は本発明の上記酸化Q’l i+H性
体をスパッタリング法、蒸着法またはイオンビーム法等
によって透明基板1上に膜厚x、oooX 〜1oo、
oooK −c[lれる。
反射膜層3としてはcu、g、ΔgX Au、’pt等
の金属膜またはTiN 、TaN等の窒化物などが用い
られ好ましくは200x〜5,000 K程度の厚さで
形成される。
の金属膜またはTiN 、TaN等の窒化物などが用い
られ好ましくは200x〜5,000 K程度の厚さで
形成される。
また、第2図に示すように、磁性薄膜2の上に透明誘電
層4を光磁気特性の向上すなわちファラデー回転角をエ
ンハンスメント効果によシ増大する目的で設けることが
できる。
層4を光磁気特性の向上すなわちファラデー回転角をエ
ンハンスメント効果によシ増大する目的で設けることが
できる。
この透明誘電層としては5i02 、SiO、TiO2
、Ti01Ce02等が用いられる。
、Ti01Ce02等が用いられる。
また、第3図に示すように、反射膜層3を保護するため
にプラスチック、TiN 、 5i5N4、TaN X
SiO2、SiO等の保護膜6を設けることもできる。
にプラスチック、TiN 、 5i5N4、TaN X
SiO2、SiO等の保護膜6を設けることもできる。
さらに、本発明の光磁気記録媒体には第3図に示すよう
に案内溝を有する案内層5を設けて記録、再生時のレー
ザー光をガイドすることもできる。この案内層5は磁性
薄膜層2上にTJ、Vポリマーを塗布した後凹凸の金型
を圧着し、硬化させた後金型を除去して得た凹凸プラス
チック策に反射膜層3をスパッタリング法または蒸着法
によって積層することによって作製することができる。
に案内溝を有する案内層5を設けて記録、再生時のレー
ザー光をガイドすることもできる。この案内層5は磁性
薄膜層2上にTJ、Vポリマーを塗布した後凹凸の金型
を圧着し、硬化させた後金型を除去して得た凹凸プラス
チック策に反射膜層3をスパッタリング法または蒸着法
によって積層することによって作製することができる。
以下に比較例と共に実施例を掲けて本発明をさらに詳し
く説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
く説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
実施例1
石英ガラス基板上に予めスパッタリングによって510
2を膜厚1.oooXで付着させ、その上にBaA/J
ll)a4Fe70+ 9の組成よりなルター ケラト
を用いて、550℃の基板温度、0.3.mmTOrr
の酸素分圧および60 mm Torrの総ガス圧で2
5x/分の膜作製速度において膜厚10,000Xの磁
性薄膜を積層した。次に、この磁性薄膜の上にさらにU
反射膜を膜厚1.oooXで積層して本発明による光磁
気記録媒体/I61を作製した。
2を膜厚1.oooXで付着させ、その上にBaA/J
ll)a4Fe70+ 9の組成よりなルター ケラト
を用いて、550℃の基板温度、0.3.mmTOrr
の酸素分圧および60 mm Torrの総ガス圧で2
5x/分の膜作製速度において膜厚10,000Xの磁
性薄膜を積層した。次に、この磁性薄膜の上にさらにU
反射膜を膜厚1.oooXで積層して本発明による光磁
気記録媒体/I61を作製した。
この光磁気記録媒体のキュリ一温度は210℃でMSは
80 emu/cc XHcは4.5 KOeであり光
磁気記録媒体として良い特性であった。
80 emu/cc XHcは4.5 KOeであり光
磁気記録媒体として良い特性であった。
本発明によるこの光磁気記録媒体/I61にその表面に
対して垂直方向のl Q KOeの磁界をかけて、該記
録媒体の磁化の方向を一定にし、次に、上記磁化方向と
は反対方向の0.5 KOeの磁界をかけながら、透明
基板方向から出力10mW、波長s o o nmの半
導体レーザー光を媒体面約5・mWで、周波数I MH
zのパルスで照射して、該記録媒体の磁界の方向を反転
させて、該記録媒体上に記録を行なったところ、ビット
径約1 s、o o o 7yの記録ビットが得られた
。
対して垂直方向のl Q KOeの磁界をかけて、該記
録媒体の磁化の方向を一定にし、次に、上記磁化方向と
は反対方向の0.5 KOeの磁界をかけながら、透明
基板方向から出力10mW、波長s o o nmの半
導体レーザー光を媒体面約5・mWで、周波数I MH
zのパルスで照射して、該記録媒体の磁界の方向を反転
させて、該記録媒体上に記録を行なったところ、ビット
径約1 s、o o o 7yの記録ビットが得られた
。
実施例2
酸化物磁性体としてSrAυa4Fe70+9を使用す
る以外には実施例1と同様にして本発明による光磁気A
2を作製した。キュリ一温度は220℃、MSは1 t
) Oerou/cc’、 Hcは4.0xoe、&、
光磁気記録媒体として優れた特性であった。
る以外には実施例1と同様にして本発明による光磁気A
2を作製した。キュリ一温度は220℃、MSは1 t
) Oerou/cc’、 Hcは4.0xoe、&、
光磁気記録媒体として優れた特性であった。
実施例3
酸化物磁性体としてBaa2Ga3Fe601gを使用
する以外には実施例1と同様にして本発明による光磁気
記録媒体/I63を作製した。キュリ一温度は220℃
、Msは10 ’Oemu/cc 。
する以外には実施例1と同様にして本発明による光磁気
記録媒体/I63を作製した。キュリ一温度は220℃
、Msは10 ’Oemu/cc 。
Hcは4.0 KOeと、光磁気記録媒体として優れた
特性であった。
特性であった。
実施例4
酸化物磁性体としてBaGa4Bi2Fe601gを使
用する以外には実施例1と同様にして本発明による光磁
気記録媒体A4を作製した。キュリ一温度は200℃、
Msは50 emu/cc 、 Hcは3.、QKOe
と、光磁気記録媒体として優れた特性であった。
用する以外には実施例1と同様にして本発明による光磁
気記録媒体A4を作製した。キュリ一温度は200℃、
Msは50 emu/cc 、 Hcは3.、QKOe
と、光磁気記録媒体として優れた特性であった。
実施例5
酸化物磁性体として5rGaaTbFe70+ 9を使
用する以外には実施例Iと同様にして本発明による光磁
気記録媒体/16.5を作製した。キュリ一温度は21
0℃、MSば7 Q emu/cc、 Hcは10.5
KOeと、光磁気記録媒体として優れた特性であった
。
用する以外には実施例Iと同様にして本発明による光磁
気記録媒体/16.5を作製した。キュリ一温度は21
0℃、MSば7 Q emu/cc、 Hcは10.5
KOeと、光磁気記録媒体として優れた特性であった
。
実施例6
酸化物磁性体としてBaGa 4 DyFe 7019
を使用する以外には実施例1と同様にして本発明による
光磁気記録媒体46を作製した。キュリ一温度は180
℃、Msは50 emu/cc 、 Hcはl KOe
と、光磁気記録媒体として優れた特性であった。
を使用する以外には実施例1と同様にして本発明による
光磁気記録媒体46を作製した。キュリ一温度は180
℃、Msは50 emu/cc 、 Hcはl KOe
と、光磁気記録媒体として優れた特性であった。
実施例7
酸化物磁性体としてBaGa3YFe BOI 9を使
用する以外には実施例1と同様にして本発明による光磁
気記録媒体/I67を作製した。キュリ一温度は210
℃、Meは100 emu/cc 、 Heは3 KO
eと、光磁気記録媒体として優れた特性であった。
用する以外には実施例1と同様にして本発明による光磁
気記録媒体/I67を作製した。キュリ一温度は210
℃、Meは100 emu/cc 、 Heは3 KO
eと、光磁気記録媒体として優れた特性であった。
比較例
ガラス基板上に、Tb/Fe−22/78の原子組成比
よりなる非晶質磁性膜をスパッタリング法により膜厚3
,00OLで積層しさらにこの上に保護膜として510
2を膜厚2.000大で積層して比較光磁気記録媒体を
作製した。
よりなる非晶質磁性膜をスパッタリング法により膜厚3
,00OLで積層しさらにこの上に保護膜として510
2を膜厚2.000大で積層して比較光磁気記録媒体を
作製した。
次に実施例1〜7および比較例において作製された光磁
気記録媒体をそれぞれ70℃、90%(RH)および2
00℃、常湿の環境下に400時間加速保存テストした
後の酸化劣化の有無を磁気特性について判定した。その
結果を以下の表に記載する。
気記録媒体をそれぞれ70℃、90%(RH)および2
00℃、常湿の環境下に400時間加速保存テストした
後の酸化劣化の有無を磁気特性について判定した。その
結果を以下の表に記載する。
(以下余白)
初期光磁気特性 加速保存テスト
m(eny6c) )b(KOa) 途(em4c)
Hc(KOs) Ms(e噌c) )b(KDe)卿1
11 80 4.5 80’ 5.0 85 45/)
0 久0 /l)o ¥0 //)J’ 41.0〃2
替晰 栂憎 袷向 〃3 100 4.0 100 4.0 110 4.
5#4 50 3.0 50 3.0 65 4.0〃
5 70.10.5 80 9.5 8511.0//
6 50 1.0 55 0.9. 45 1.217
100 3.0 90 2.5 100 4.0比較
例 150 2.0 200 0.5 250 0.7
実施例1〜7の記録媒体については加速保存テスト後も
殆んど磁気特性の劣化は生じなかったが、比較例のもの
については5i02保護層山にピンホーβしが存在しこ
れからの酸化および磁性膜層内の酸素による酸化の促進
によってHaが著しく低下した。
Hc(KOs) Ms(e噌c) )b(KDe)卿1
11 80 4.5 80’ 5.0 85 45/)
0 久0 /l)o ¥0 //)J’ 41.0〃2
替晰 栂憎 袷向 〃3 100 4.0 100 4.0 110 4.
5#4 50 3.0 50 3.0 65 4.0〃
5 70.10.5 80 9.5 8511.0//
6 50 1.0 55 0.9. 45 1.217
100 3.0 90 2.5 100 4.0比較
例 150 2.0 200 0.5 250 0.7
実施例1〜7の記録媒体については加速保存テスト後も
殆んど磁気特性の劣化は生じなかったが、比較例のもの
については5i02保護層山にピンホーβしが存在しこ
れからの酸化および磁性膜層内の酸素による酸化の促進
によってHaが著しく低下した。
実施例8
透明基板として使用する径120■の石英ガラス上に予
めスパッタリングによって、ZnOのC−軸配向膜を膜
厚500久で設け、次に、BaA7!Ga 5Fe A
019の組成のターゲット2枚を対向させ該ZnOc
−軸配向膜上にRf、マグネトロンスパッタリング法に
よって膜厚2o、oooXの磁性膜を積層した。次に、
トランクピッチ30,000AXmF)Rさ1,0OO
X、トラック幅10,000 ’hの金型と該磁性薄膜
層上にU、V、ポリマーを塗布し互に圧着し、石英ガラ
ス基板側よりU、V、照射硬化後、金型を除去した。こ
のU、V、[化凹凸上に反射膜としてAgを膜厚x、o
ooXでスパッタリングにより積層し、更にこの上に保
護膜としてメチルメタクリレートホリマーをスピンコー
ドで100μm付着させディスク状の本発明による光磁
気記録媒体A6.8を作製した。
めスパッタリングによって、ZnOのC−軸配向膜を膜
厚500久で設け、次に、BaA7!Ga 5Fe A
019の組成のターゲット2枚を対向させ該ZnOc
−軸配向膜上にRf、マグネトロンスパッタリング法に
よって膜厚2o、oooXの磁性膜を積層した。次に、
トランクピッチ30,000AXmF)Rさ1,0OO
X、トラック幅10,000 ’hの金型と該磁性薄膜
層上にU、V、ポリマーを塗布し互に圧着し、石英ガラ
ス基板側よりU、V、照射硬化後、金型を除去した。こ
のU、V、[化凹凸上に反射膜としてAgを膜厚x、o
ooXでスパッタリングにより積層し、更にこの上に保
護膜としてメチルメタクリレートホリマーをスピンコー
ドで100μm付着させディスク状の本発明による光磁
気記録媒体A6.8を作製した。
この光磁気記録媒体のキュリ一温度は205℃でMsは
70 emVcc 、Haは5.5KOeであり光磁気
記録媒体として良い特性であった。
70 emVcc 、Haは5.5KOeであり光磁気
記録媒体として良い特性であった。
本発明によるこの光磁気記録媒体46.8にその表面に
対して垂直方向の1QKOeの磁界をかけて、該記録媒
体の磁化の方向を一定にし、次に、上記磁化方向とは反
対方向の0.5KOeの磁界をかけながら、透明基板方
向から出力lQmW、波長800 nmの半導体レーザ
ー光を媒体面約5 mWで周波数I MH2のパルスで
照射して、該記録媒体の磁界の方向を反転させて、該記
録媒体上に記録を行なったところ、ビット径約x5.o
ooKの記録ビットが得られた。
対して垂直方向の1QKOeの磁界をかけて、該記録媒
体の磁化の方向を一定にし、次に、上記磁化方向とは反
対方向の0.5KOeの磁界をかけながら、透明基板方
向から出力lQmW、波長800 nmの半導体レーザ
ー光を媒体面約5 mWで周波数I MH2のパルスで
照射して、該記録媒体の磁界の方向を反転させて、該記
録媒体上に記録を行なったところ、ビット径約x5.o
ooKの記録ビットが得られた。
実施例9
酸化物磁性体としてBaGa3YFeBO1、を使用す
る以外には実施例8と同様にして磁性薄膜層を形成した
。この上にさらに透明誘電層として厚さ2,000久の
5i02層および厚さ3,000Xのa反射膜をスパッ
タリングにより順次形成させて本発明による記録媒体/
169を作製した。この光(−気記録媒体の磁気特性は
、キュリ一温度が210℃で、Msが80 emu7c
c 。
る以外には実施例8と同様にして磁性薄膜層を形成した
。この上にさらに透明誘電層として厚さ2,000久の
5i02層および厚さ3,000Xのa反射膜をスパッ
タリングにより順次形成させて本発明による記録媒体/
169を作製した。この光(−気記録媒体の磁気特性は
、キュリ一温度が210℃で、Msが80 emu7c
c 。
Hcが4.5 KOeと光磁気記録媒体として優れてい
た。
た。
上述のようにして構成された本発明の光磁気記録媒体は
、従来の非晶質磁性層を有する記録媒体に比較して酸化
安定性および光磁気特性が優れている点で大きな利点を
有する。
、従来の非晶質磁性層を有する記録媒体に比較して酸化
安定性および光磁気特性が優れている点で大きな利点を
有する。
第1図は本発明の光磁気記録媒体の基本構成を示す断面
図でありそして第2図および第3図は本発明の光磁気記
録媒体の別の構成を示す断面図である。 1・・・透明基板、2・・・磁性薄膜層、3・・・反射
層、4・・・透明誘電層、5・・・案内層、6・・・保
脛層。 特許出願人 株式会社 リ コ − 第 1 図 第 2 図 第 3 図 手続補正書(麓) 昭和59年8月30日 1、事件の表示 昭和59年特許願第74558号 2、発明の名称 酸化物フェリ磁性及びこれを用いる光磁気記録媒体3、
補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒143 東京都大田区中馬込−丁目3番6号名
称 (674) 株式会社 リコー 4、補正命令の日付(発送日) 昭和59年7月31日
5、補正の対象 明細書の「発明の名称」の欄 6、補正の内容 (1)明細書 第1、発明の名称の欄 「酸化物フェリ磁性体及びこれに用いる光磁気記録媒体
」を 「酸化物フェリ磁性体及びこれを用いる光磁気記録媒体
」と、補正する。
図でありそして第2図および第3図は本発明の光磁気記
録媒体の別の構成を示す断面図である。 1・・・透明基板、2・・・磁性薄膜層、3・・・反射
層、4・・・透明誘電層、5・・・案内層、6・・・保
脛層。 特許出願人 株式会社 リ コ − 第 1 図 第 2 図 第 3 図 手続補正書(麓) 昭和59年8月30日 1、事件の表示 昭和59年特許願第74558号 2、発明の名称 酸化物フェリ磁性及びこれを用いる光磁気記録媒体3、
補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒143 東京都大田区中馬込−丁目3番6号名
称 (674) 株式会社 リコー 4、補正命令の日付(発送日) 昭和59年7月31日
5、補正の対象 明細書の「発明の名称」の欄 6、補正の内容 (1)明細書 第1、発明の名称の欄 「酸化物フェリ磁性体及びこれに用いる光磁気記録媒体
」を 「酸化物フェリ磁性体及びこれを用いる光磁気記録媒体
」と、補正する。
Claims (2)
- (1)一般式 ”MIxM]IyFe I 2− (B
−X”? ) 0195 (式中、MeはBa、Srおよびpbからなる群よシ瑯
ばれた少なくとも1種の元素であシ、MiはGaおよび
aからなる群よシ選ばれた少なくとも1種の元素であシ
、MHはBi、Gd。 Tb、 Dy、Ho、La、Y、 Co、 ZnXTi
、 Sc。 ■nX Eln、Ca、C!r、NiおよびGeからな
る群より選ばれた少なくとも1種の元素であシ、1≦X
≦8.0忘y≦6および1怠x+y≦8で、mはM(の
イオン価数、nはMlHのイオン価数である)で表わさ
れる酸化物フェリ磁性体。 - (2) 透明基板、垂直磁気異方性磁性薄膜層および反
射層からなる光磁気記録媒体において、該垂直磁気異方
性磁性薄膜層が一般式 %式%) (式中、MeはBa、Srおよびpbからなる群より選
ばれた少なくとも1種の元素であり、M’iはGaおよ
びaからなる群より選ばれた少なくとも1種の元素であ
シ、MlはB1、GJTb、 Dy、 Ho、 La、
Y、 Co、 Zn、 Ti、Sc。 In、Sn、C!a、Or、NiおよびGeからなる群
よシ選ばれた少なくとも131の元素であり、1≦X≦
8、o4y≦6および14x+y≦8で、mはMlのイ
オン1曲数、nはMHのイオン価数である)で表わされ
る酸化物フェリ磁性体からなることを特徴とする、光磁
気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7455884A JPS60218807A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | 酸化物フエリ磁性体及びこれを用いる光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7455884A JPS60218807A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | 酸化物フエリ磁性体及びこれを用いる光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60218807A true JPS60218807A (ja) | 1985-11-01 |
Family
ID=13550676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7455884A Pending JPS60218807A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | 酸化物フエリ磁性体及びこれを用いる光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60218807A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4764436A (en) * | 1985-05-20 | 1988-08-16 | Research Development Corporation Of Japan | Iron-oxygen based perpendicular magnetized anisotropic thin film |
-
1984
- 1984-04-13 JP JP7455884A patent/JPS60218807A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4764436A (en) * | 1985-05-20 | 1988-08-16 | Research Development Corporation Of Japan | Iron-oxygen based perpendicular magnetized anisotropic thin film |
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